專利名稱：無堿鋁硼硅酸鹽玻璃及其應用的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及無堿鋁硼硅酸鹽玻璃。本發(fā)明還涉及此種玻璃的應用。
在平面液晶顯示技術，例如在TN(扭曲向列型)/STN(超扭曲向列型)顯示器、有源矩陣液晶顯示器(MLCD)、薄膜晶體管(TFT)或等離子尋址液晶(PALC)等領域，對作為基材(襯底)的玻璃提出很高要求。除了高耐熱沖擊以及對平面顯示屏生產(chǎn)過程中所用侵蝕性化學品的優(yōu)良耐受性之外，該玻璃還應在寬光譜范圍(可見、紫外光)具有高透明度以及，為減輕重量，較低的密度ρ，優(yōu)選≤2.600mg/cm3。作為集成半導體電路如TFT顯示器(玻璃載芯片)基材使用，另外還要求與薄膜材料－非-或多晶硅－之間的熱匹配(α20/300約等于3.7×10-6K)并且不含堿金屬離子。然而從生產(chǎn)中帶來小于1000ppm的氧化鈉，就因鈉離子擴散到半導體層內(nèi)部所引起的一般“中毒”作用而言，則是可以容許的。
合適的玻璃應能夠大規(guī)模、高質(zhì)量、低成本地生產(chǎn)，例如按浮法或按拉制法。具體地說，采用拉制法生產(chǎn)薄(＜1mm)、無帶色條紋、低表面波浪的基材，要求玻璃具有高“析晶穩(wěn)定性”。基材在生產(chǎn)過程中的壓緊不利于半導體微結構，可通過如下方法應對，針對熱加工及形狀穩(wěn)定性，找出玻璃的溫度粘度特性依賴曲線，它應具有足夠高的玻璃化轉變溫度Tg，即，玻璃化轉變溫度Tg應至少是650℃，同時另一方面，熔融和“玻璃成形(起)始點”(VA)不應過高，即，VA≤1330℃。
對LCD(液晶顯示)顯示技術用玻璃基材的要求還描述在“AMLCD用玻璃基材性能及影響”中，作者J.C.Lapp，SPIE大會論文集，卷3014，特邀論文(1997)。
相應的要求原則上也適用于薄膜光電器件，尤其是以微晶硅(μc-Si)為基礎的。薄膜光電器件要在商業(yè)上勝過基于結晶硅晶片的高成本太陽能技術，一項重要的前提是要存在低廉的耐高溫基材。
目前，已知有2種涂布方法可用來生產(chǎn)基于結晶硅的薄膜太陽能電池。就高層質(zhì)量，和因此的高效和高沉積速率而言已證明尤其有利的一種方法是采用廉價三氯硅烷作為硅源的高溫CVD法。該方法建議直接沉積薄結晶硅層，并要求將適宜基材加熱到1000℃或更高。這樣的話，唯一合適的基材就只有比較昂貴的陶瓷、石墨、硅或類似材料。同樣昂貴的玻璃-陶瓷也正在討論之中。
作為上述方法的替代方案，正在研發(fā)低溫硅沉積方法，它允許使用較低廉的玻璃作為基材。這里，一種可能是在最高300℃的低溫沉積非晶硅，在隨后的步驟中，沉積的層進行再結晶，例如采用激光或分區(qū)熔融方法，從而形成部分結晶μc-Si。為防止玻璃板在加熱過程中的溫度下發(fā)生變形，需要一種與硅彼此熱匹配的具有非常高耐熱性的特殊玻璃，例如玻璃化轉變溫度Tg至少是650℃的玻璃。由于具有由非晶Si變?yōu)槎嗑i涂層的傾向，還希望TFT顯示技術用基材具有盡可能高的耐熱性。鑒于硅層的熱膨脹隨著其結晶度的提高而降低，該玻璃還具有非常低的膨脹系數(shù)α20/300，最高等于或小于3.0×106/K。
微晶硅技術目前正朝著這樣一種基材概念發(fā)展，即，將該支持材料做成太陽能電池的底板，且入射光不能穿透它。另外，朝向較低成本的“上基材”配置方式的發(fā)展(光穿過該基材，不需要蒙面玻璃)也不排除在外。為達到高效率，此時需要玻璃在可見光/紫外區(qū)具有高透明度，就是說，采用半透明玻璃-陶瓷，除了上述成本方面的原因之外，在這方面也證明是不利的。
就最后提到的用途(上基材)以及作為顯示器基材的所述用途而言，按諸如固體含雜及氣泡之類的疵點數(shù)量和大小衡量的玻璃質(zhì)量，具有重要影響，因為這類疵點有損玻璃的透明度。
因此，該玻璃可能的話應不含，或者至少含很少量氣泡和帶色條痕。特別是采用浮法加工的玻璃，要獲得非常澄清的玻璃只有克服很大困難才行，因為已知的澄清劑，如As2O3及Sb2O3，由于在浮法浴條件下它們?nèi)菀走€原而不能使用。
對燈泡用的玻璃也提出類似的要求鹵素燈玻璃必須基本不含堿金屬，因為堿金屬離子會中斷燈中鹵素的再生循環(huán)。該玻璃必須具有高熱穩(wěn)定性，因為燈泡在工作時通常處于高溫。另外，玻璃對析晶也必須充分穩(wěn)定，以便適合管拉制。當用作燈泡的燈泡外殼玻璃，且包含鉬成分作為電極或引線材料時，玻璃的熱膨脹還必須與鉬的熱膨脹(α20/300=5.0×10-6/K)相匹配，以便實現(xiàn)金屬與玻璃之間的氣密和無應力熔結。此種用途還要求玻璃具有盡可能低的氣泡含量。
以上所概述的復雜性能特征可由選自堿土金屬鋁硼硅酸鹽玻璃亞屬的硼硅酸鹽玻璃最好地滿足。市售供應的TFT和AMLCD用途玻璃也屬于這類玻璃。大量描述所述用途玻璃的專利說明也是已知的EP 672 629 A2及US 5，508，237描述了平板顯示器用鋁硅酸鹽玻璃。它們具有各種各樣的組成，各種各樣的熱膨脹系數(shù)。這些玻璃據(jù)稱不但可采用溢流熔融拉制法，而且可采用其他平板玻璃生產(chǎn)方法進行加工。然而，此種玻璃，尤其是熱膨脹系數(shù)與多晶硅相匹配的，將具有非常高的玻璃形成始點VA，這使得它們不適合浮法生產(chǎn)。玻璃的目測質(zhì)量將不會高，因為沒有指出有效，特別是與浮法相容的澄清方法。上面作為例子舉出的澄清劑Sb2O3和As2O3由于容易還原，均不適合浮法生產(chǎn)。這一點同樣適用于任選的玻璃成分Ta2O5和Nb2O5。同樣適用于下列專利說明中所描述的TFT顯示器用無堿玻璃US5，374，595，WO 98/270 19、EP 714 862 A1、EP 341 313 B1及JP 10-72237 A。JP 8-295530 A、JP-9-48632 A及JP 9-156 953 A也同樣無法有效地實施澄清。
一種類似，盡管較小的不足，還反映在WO 97/11919和WO97/11920公開的具有寬組成范圍的玻璃上，盡管其中提到SnO2，至少作為任選的澄清劑。
JP 10-139467 A描述了一類顯示器用高耐酸無堿玻璃，其中每種情況均以SnO2、TiO2及ZrO2作為任選成分，它們的總用量至少是0.1mol％。未給出有關澄清的進一步細節(jié)。
SnO2在無堿的堿土金屬鋁硼硅酸鹽玻璃熔體中的優(yōu)良澄清作用刊載于專利說明DE 196 17 344 C1和DE 196 03 698 C1中。文中提到的含錫玻璃不但具有作為TFT顯示器玻璃的良好的基本玻璃性能，而且還可生產(chǎn)出高質(zhì)量產(chǎn)品。待審查日本公開號JP 10-59741 A也描述了一種用SnO2-澄清的無堿玻璃，同樣由寬組成范圍原料制成。
已從專利說明DE 197 39 912 C1所描述的無鋅的鋁硼硅酸鹽玻璃的情況中發(fā)現(xiàn)，通過SnO2/CeO2氧化還原平衡，SnO2和CeO2的組合明顯超過SnO2的澄清作用。文中所述結晶-穩(wěn)定性非常好的玻璃既可采用浮法也可采用諸如微米片材下拉法或溢流熔融法之類各種方法在工業(yè)規(guī)模上生產(chǎn)和加工。
與此相對照，JP 10-130034 A和JP 10-114538 A指出As2O3+SnO2及Sb2O3+SnO2組合的特殊澄清作用。然而，與組合的SnO2/CeO2澄清作用不同，在界面及熱成形區(qū)存在相當大鉑材部件腐蝕的潛在危險。DE196 01 922 A1描述了一種含SnO-及ZrO2的無堿的堿土金屬鋁硼硅酸鹽玻璃，它具有非常高的結晶穩(wěn)定性，盡管單獨加入的話，據(jù)稱SnO和ZrO2具有促進結晶的傾向。
本發(fā)明的目的是提供一種玻璃，它具有高內(nèi)在玻璃質(zhì)量，在高溫下穩(wěn)定，具有良好熔融及加工性能，具有良好耐化學侵蝕性并具有介于2.8～5.0×10-6/K的熱膨脹系數(shù)α20/300。
該目的可由本專利權利要求1所描述的玻璃實現(xiàn)。該玻璃的應用載于權利要求7～9中。
該玻璃包含50～70wt％網(wǎng)絡形成物二氧化硅。其含量過低時，玻璃的耐化學性及耐熱性將受到損失。二氧化硅含量過高將增加高溫下熔體粘度，因此有害玻璃的熔融性能。其析晶傾向也將增加，尤其是可能出現(xiàn)二氧化硅以方英石形式結晶沉淀的情況。其含量優(yōu)選為53～68wt％，尤其優(yōu)選大于55～65wt％，更尤其優(yōu)選大于58wt％二氧化硅。
Al2O3含量可介于10～25wt％。含量過高對熱成形期間的加工溫度不利，因為玻璃形成始點VA將大大提高。含量過低會增加玻璃的結晶傾向并降低玻璃化轉變溫度Tg并從而降低玻璃的熱穩(wěn)定性。其含量優(yōu)選介于12～24wt％，尤其優(yōu)選大于14至23wt％。
B2O3同樣也是網(wǎng)絡形成物，在玻璃中的含量介于0.5～15wt％。含量過高將降低玻璃對酸的耐化學侵蝕性及熱穩(wěn)定性。含量過低，B2O3或硼酸的熔融簡化(melting-simplifying)作用則尚不明顯，因而結晶穩(wěn)定性將降低。其含量優(yōu)選3-13wt％，尤其是4-13wt％，尤其優(yōu)選介于5～11wt％。
堿土金屬氧化物總含量，以及究竟具體地加入一種，或優(yōu)選地，多種氧化物，可在較寬范圍內(nèi)變化，條件是熱膨脹應從α20/300=2.8×10-6/K到α20/300=5.0×10-6/K于是，該玻璃可包含0～10wt％氧化鎂、0～12wt％氧化鈣、0～12wt％氧化鍶及0～15wt％氧化鋇，其中這些氧化物的總和至少是8wt％，而最高26wt％，優(yōu)選介于8～24wt％，尤其優(yōu)選8～21wt％。更尤其優(yōu)選至少9wt％的堿土金屬氧化物含量。具體地說，就較低膨脹系數(shù)(α20/300≤4.0×10-6/K)的玻璃而言，優(yōu)選將堿土金屬氧化物總和限制在最高18wt％。為獲得在104dPas粘度下的低的溫度、良好熔融性能以及低密度，優(yōu)選采用輕質(zhì)氧化物氧化鎂和/或氧化鈣。優(yōu)選這兩種氧化物同時存在。每種的最高含量優(yōu)選為9wt％。氧化鎂最低含量優(yōu)選至少是0.5wt％。尤其優(yōu)選的是，氧化鈣含量是0.5～8wt％，且氧化鎂含量是3.3～8wt％。超過所指出的10～12wt％的含量，將降低耐化學侵蝕，尤其是對緩沖的氫氟酸溶液的，以及析晶穩(wěn)定性。最優(yōu)選氧化鎂的最低含量大于4wt％。
雖然采用盡可能少的不同堿土金屬氧化物有利于簡化間歇生產(chǎn)，但存在少量進一步的氧化物卻可提高玻璃的結晶穩(wěn)定性。特別是氧化鍶和氧化鋇，對熱和結晶穩(wěn)定性具有有利的影響。因此，優(yōu)選還存在氧化鍶。優(yōu)選存在最高9wt％的氧化鍶和12wt％氧化鋇。尤其優(yōu)選采用0.5～8wt％氧化鍶和最高10wt％附加的氧化鋇。
特別耐高溫的玻璃具有低B2O3含量，優(yōu)選小于5wt％，以及較高含量二氧化硅。高膨脹系數(shù)(α20/300≥4×10-6/K)玻璃具有較高含量堿土金屬氧化物，優(yōu)選最高25wt％。因此，尤其適合作為耐高溫玻璃，例如作為耐高溫燈泡玻璃，具有低B2O3含量，優(yōu)選甚至≤3wt％，以及較高氧化鍶，特別是高含量氧化鋇。因此，他們將具有較高密度。低膨脹系數(shù)(α20/300≤4.0×10-6/K)玻璃含有較少堿土金屬氧化物，優(yōu)選≤18wt％，優(yōu)選由最高7wt％氧化鎂、最高7wt％氧化鈣、最高7wt％氧化鍶以及最高5wt％氧化鋇組成，在這些類別中尤其優(yōu)選網(wǎng)絡形成物含量等于60±2wt％二氧化硅、17±2wt％氧化鋁及7.5±1.5％B2O3。
本發(fā)明的玻璃還可含有最高10wt％的氧化鋅，優(yōu)選最高5wt％氧化鋅。由于其具有類似于硼酸對粘度特性曲線的影響，故氧化鋅具有網(wǎng)絡-疏松作用。具體到浮法生產(chǎn)玻璃，氧化鋅含量優(yōu)選限制在較低含量(≤2wt％)或者根本不使用。
該玻璃可包含最高5wt％，優(yōu)選最高3wt％，最優(yōu)選最高2wt％ ZrO2。ZrO2可提高玻璃的耐熱。然而，不利的是其不足的溶解度，因而能導致含ZrO2的熔體殘渣，即所謂的鋯巢。因此，優(yōu)選不使用ZrO2，但例如由流料槽耐火材料的腐蝕所造成的最高約0.5wt％雜質(zhì)并不妨礙生產(chǎn)。
該玻璃可包含最高5wt％，優(yōu)選最高3wt％二氧化鈦。二氧化鈦可減少日曬作用效應的傾向。二氧化鈦含量大于5wt％時，由于與來自一般使用的原料中雜質(zhì)的Fe3+離子生成配合物，會導致色偏的發(fā)生。因此，優(yōu)選不使用二氧化鈦。
對本發(fā)明起關鍵作用的玻璃成分是MoO3。即使少量此種成分也能提高該高熔點鋁硼硅酸鹽玻璃的內(nèi)在質(zhì)量，即指，不含或低含量氣泡和條痕而言的高質(zhì)量。因此，該玻璃包含0.05～2wt％，優(yōu)選0.1～1.5wt％ MoO3。此種成分與諸如SnO2和/或As2O3之類其他成分的效力在實施例中做了說明。迄今為止，僅知道MoO3作為脫色劑，以極少量用于日用玻璃中(參見，Bulycheva等人“玻璃及陶瓷”卷55，第1～2期，1998，42頁起)。
由于MoO3的高效力，加入另外的澄清劑已不再需要了。除一般雜質(zhì)之外，此種玻璃不合As2O3、Sb2O3和SnO2，最后提到的成分的雜質(zhì)可能進入到玻璃中，例如在電加熱流料槽中通過電極材料的腐蝕進入。前面2種成分的被排除使得能夠采用浮法生產(chǎn)此種玻璃。
在不同類型生產(chǎn)玻璃的方法中，例如在拉制法中，該玻璃也可包含As2O3和/或Sb2O3，以便改善已經(jīng)很高的內(nèi)在質(zhì)量。不論采用何種加工方法，另外還可加入鹵化物、硫酸鹽和/或CeO2。
再有，該玻璃還可包含P2O5、Ga2O3、Gd2O3、Fe2O3、La2O3、Nb2O5和/或Ta2O5。例如就玻璃的結晶穩(wěn)定性而言，優(yōu)選用P2O5和Ga2O3。其他氧化物也可能對折射指數(shù)和耐化學侵蝕具有有利作用。
該玻璃還可包含氧化鉛和/或氧化鎘。然而，在采用浮法加工時，還應避免加入這類易還原成分。
成分CeO2、As2O3、Sb2O3、PbO、CdO、P2O5、Ga2O3、Gd2O3、Fe2O3、La2O3、Nb2O3、Ta2O5、鹵化物及硫酸鹽的總和，不應超過5wt％，以避免對玻璃特性中其余性能產(chǎn)生不利影響。
含MoO3玻璃的內(nèi)在質(zhì)量還可僅僅通過加入少許SnO2獲得進一步改善。因此，該玻璃可包含最高2wt％ SnO2。該玻璃優(yōu)選包含至少0.1wt％ SnO2和最高0.5wt％ SnO2。該含量過高時，在熱成形區(qū)域中當接觸到所使用的鉑時可能出現(xiàn)玻璃結晶或鉑的腐蝕。
該玻璃為無堿的。術語“無堿”在本文中是指它們基本上不含堿，即，它們可含少于1000ppm的雜質(zhì)。
MoO3在本發(fā)明玻璃中的作用遠超出澄清劑的作用它還能改善耐酸性(參見，實例A2和V4)以及日曬穩(wěn)定性。它還可改善析晶穩(wěn)定性。析晶極限上限(UDL)的降低可提高差值T4-UDL(參見，實例A7和V5)，這意味著加工范圍的拓寬。另外，它能提高鉬在接觸玻璃或接觸其熔體時的耐腐蝕能力。
實施例在1620℃的Pt/Ir坩堝中，由除不可避免雜質(zhì)之外基本無堿的傳統(tǒng)原料制備8種本發(fā)明玻璃(A1～A8)和5種對比玻璃。熔體在此溫度下澄清1.5h，轉移到感應加熱鉑坩堝中并在1550℃攪拌30分鐘，達到均勻。在倒入到預熱的模具中之前，該玻璃熔體在高溫爐內(nèi)、1580℃均化約30分鐘。
下面的表格中給出各種玻璃的組成(按氧化物計的重量百分率)及其主要性能。這些性能包括－密度ρ[g/cm3]－熱膨脹系數(shù)α20/300[10-6/K]－膨脹儀法(或拉伸法)玻璃化轉變溫度Tg[℃]，按DIN 52324－粘度等于104dPas的溫度(稱作T4[℃])－粘度等于102dPas的溫度(稱作T2[℃]，由Vogel-Fulcher-Tammann系數(shù)算出－耐鹽酸性，根據(jù)50mm×50mm×2mm各邊拋光的玻璃板經(jīng)5％濃度的鹽酸在95℃處理24h之后的重量損失(被除掉的物質(zhì)數(shù)值)[mg/cm2](稱作HCl[mg/cm2])－耐緩沖的氫氟酸，根據(jù)50mm×50mm×2mm各邊拋光的玻璃板經(jīng)10％濃度的NH4F·HF溶液在23℃處理20分鐘之后的重量損失(被除掉的物質(zhì)數(shù)值)[mg/cm2](稱作BHF[mg/cm2])－折射指數(shù)nd－析晶上限UDL[℃]，即液相線溫度－最大晶體生長速率Vmax[μm/h]－氣泡質(zhì)量；宏觀定性觀察O 氣泡數(shù)目極大- 大量氣泡+ 相當澄清
++ 基本無氣泡+++ 無氣泡表本發(fā)明玻璃(A)及對比玻璃(V)的組成(按氧化物計的百分率)及主要性能 n.m.=未測定free=無析晶續(xù)表 n.m.=未測定本發(fā)明玻璃具有下列優(yōu)越性能它們具有高玻璃內(nèi)在質(zhì)量。
它們具有高玻璃化轉變溫度，Tg大于650℃。這對于防止(玻璃在)生產(chǎn)期間以及作為基材在非晶硅層退火處理期間出現(xiàn)壓緊，具有重要意義。
它們在粘度為104dPas時的溫度最高1330℃，一般甚至低于1330℃，表明其加工范圍更有利于加工。另外，它們具有正的并且較大的差值T4-UDL。
它們具有良好析晶穩(wěn)定性。它們具有優(yōu)良耐化學侵蝕，正如其優(yōu)良耐酸性所證明的，這使得它們在平面顯示屏生產(chǎn)中對所用化學品具有足夠惰性。它們具有較低密度。
該玻璃具有高日曬穩(wěn)定性和高耐熱沖擊。它們具有低折射指數(shù)，這是高透明度必備的基本物理要求。
該玻璃可采用多種多樣的方法加工，例如不僅可采用各種各樣平板玻璃拉制法，如(微片材)下拉及上拉法，而且可采用管材拉制法，而且，若不加入As2O3、Sb2O3、PbO及CdO，則還可采用浮法。
該玻璃的熱膨脹系數(shù)α20/300介于2.8×10-6/K～5.0×10-6/K。
熱膨脹系數(shù)≤4.0×10-6/K的玻璃可與硅(非-、多-及微晶硅)的膨脹行為相匹配。由于具備這樣的特性，它們特別適合用作薄膜光電器件中的基材玻璃，尤其是以微晶硅為基礎的器件，以及用于顯示技術中，特別是TFT顯示器。由于它們具有較低堿土金屬含量，因而它們具有低密度(ρ≤2.600g/cm3)，這對于用在顯示器中以保持較輕的大圖象規(guī)格顯示器總重量，尤其有利。
由于玻璃化轉變溫度Tg≥715℃且熱膨脹系數(shù)α20/300介于4.0×106/K～5.0×10-6/K，因而該玻璃的熱膨脹與鎢和鉬的相匹配，并具有非常高的熱穩(wěn)定性，所以該玻璃非常適合用作用于鎢和鉬的密封玻璃和作為燈泡的玻璃外殼，尤其是，可用α20/300介于4.5×10-6/K～5.0×10-6/K的玻璃制作含鉬成分的燈泡，特別是燈泡溫度介于約550～640℃的燈泡。
權利要求
1．一種就無氣泡而言高質(zhì)量的無堿鋁硼硅酸鹽玻璃，其組成如下(按氧化物計的重量百分率)SiO250-70B2O30.5-15Al2O310-25MgO 0-10CaO 0-12SrO 0-12BaO 0-15同時MgO+CaO+SrO+BaO 8-26ZnO 0-10ZrO20-5TiO20-5SnO20-2MoO30.05-2。
2．權利要求1的鋁硼硅酸鹽玻璃，其特征在于具有如下組成(按氧化物計的重量百分率)SiO253-68B2O33-13Al2O312-24MgO 0.5-9CaO ≤9SrO ≤9BaO 0-12同時MgO+CaO+SrO+BaO 8-24ZnO 0-5ZrO20-3TiO20-3SnO20-2MoO30.1-1.5。
3．權利要求1或2的鋁硼硅酸鹽玻璃，其特征在于具有如下組成(按氧化物計的重量百分率)SiO2＞55-65B2O35-11Al2O3＞14-23MgO3.3-8CaO0.5-8SrO0.5-8BaO≤10同時MgO+CaO+SrO+BaO8-21ZnO0-5ZrO20-2TiO20-3SnO20-2MoO30.1-1.5 。
4．權利要求1～4中至少一項的鋁硼硅酸鹽玻璃，其特征在于，該玻璃包含至少大于4wt％氧化鎂。
5．權利要求1～3中至少一項的鋁硼硅酸鹽玻璃，其特征在于，該玻璃另外還包含總共最高5wt％一種或多種選自下列的成分CeO2、As2O3、Sb2O3、P2O5、PbO、CdO、Ga2O3、Gd2O3、Fe2O3、La2O3、Nb2O3、Ta2O5、鹵化物及硫酸鹽。
6．權利要求1～4中至少一項的鋁硼硅酸鹽玻璃，其特征在于，該玻璃包含至少0.1wt％ SnO2。
7．權利要求1～6中至少一項的鋁硼硅酸鹽玻璃，其膨脹系數(shù)α20/300介于2.8×10-6/K～5.0×10-6/K，玻璃化轉變溫度Tg大于650℃且在104粘度下的溫度≤1330℃。
8．權利要求1～7中至少一項的具有熱膨脹系數(shù)α20/300≤4.0×10-6/K的鋁硼硅酸鹽玻璃作為顯示技術領域中基材玻璃的應用。
9．權利要求1～7中至少一項的具有熱膨脹系數(shù)α20/300≤4.0×10-6/K的鋁硼硅酸鹽玻璃作為薄膜光電器件中基材玻璃的應用。
10．權利要求1～7中至少一項的具有熱膨脹系數(shù)α20/300介于4.0×10-6/K～5.0×10-6/K且玻璃化轉變溫度Tg≥715℃的鋁硼硅酸鹽玻璃作為燈泡外殼玻璃的應用。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種無堿鋁硼硅酸鹽玻璃,具有如下組成(按氧化物計的重量百分率):SiO
文檔編號G02F1/13GK1285325SQ00124048
公開日2001年2月28日 申請日期2000年8月21日 優(yōu)先權日1999年8月21日
發(fā)明者U·波伊徹爾特, T·普菲菲爾, P·布里克斯, H·雷默 申請人:肖特玻璃制造廠