專利名稱:一種光學(xué)低通濾波器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)低通濾波器。
目前還未有單元像元素為矩形形狀的光學(xué)低通濾波器,故現(xiàn)有的光學(xué)低通濾波器并不適用于單元像元素為矩形形狀的陣列式光電成像器件,如用于CCD、CMOS的數(shù)碼相機(jī)、電腦眼、攝像機(jī)等圖像輸入設(shè)備來提高成像清晰度。
鑒于上述,本實(shí)用新型的目的是為提高陣列式光電成像器件的成像清晰度,而提供一種單元像元素為矩形形狀的光學(xué)低通濾波器。
本實(shí)用新型的光學(xué)低通濾波器,它是由三片石英晶片膠合而成,三片石英晶片的厚度分別為t1、t2、t3,光軸取向角θ和光軸面取向角φ依次為第一片θ=45°、φ=0°,第二片θ=45°、φ=45°,第三片θ=45°、φ=90°。所說的光軸取向角θ指石英晶片光軸與晶片表面的夾角,光軸面取向角φ指石英晶片光軸與晶片表面法線組成的平面與晶片的一邊LA的夾角。
由于三片石英晶片的光軸在空間取向不同,利用石英晶片的雙折射,一個點(diǎn)像入射光束通過第一晶片后,分成兩個點(diǎn)像光束,再通過第二晶片后,變成四個點(diǎn)像光束,這四個點(diǎn)像光束再通過第三晶片后,就變成八個點(diǎn)像光束。這樣,當(dāng)一個點(diǎn)像光束經(jīng)過本實(shí)用新型的光學(xué)低通濾波器,將變成八個點(diǎn)像光束,八個點(diǎn)像光束分布在一個矩形像元內(nèi),可用于消除陣列式光電成像器件(如CCD、CMOS)前高于光電成像器件空間頻率的物光束成份對成像的干擾,提高成像清晰度。
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
圖1是本實(shí)用新型構(gòu)成示意圖;圖2是八個點(diǎn)像光束分布示意圖。
參照
圖1,本實(shí)用新型的光學(xué)低通濾波器由三片厚度分別為t1、t2、t3,邊長分別為LA、LB的矩形石英晶片膠合而成,三片石英晶片的光軸取向角θ和光軸面取向角φ依次為第一片θ=45°、φ=0°,第二片θ=45°、φ=45°,第三片θ=45°、φ=90°。當(dāng)一個點(diǎn)像光束經(jīng)過該光學(xué)低通濾波器后,將變成八個點(diǎn)像光束。設(shè)陣列式光電成像器件的單個像元矩形尺寸為A×B(分別在LA、LB方向)。則八個點(diǎn)像光束在矩形A×B的分布如圖2所示,其中二個點(diǎn)(點(diǎn)1、點(diǎn)8)在矩形對頂角,四個點(diǎn)(點(diǎn)2、點(diǎn)7、點(diǎn)4、點(diǎn)5)分別在矩形四邊,另二點(diǎn)(點(diǎn)3、點(diǎn)6)在矩形內(nèi),通過選取適當(dāng)?shù)氖⒕穸龋拱它c(diǎn)分布滿足a+2b/2b=A]]>c+2/2b=B]]>式中a為1與2二點(diǎn)間的距離,b為2與4二點(diǎn)間的距離,點(diǎn)1至3與點(diǎn)2至4平行相等,c為1與5二點(diǎn)間的距離,點(diǎn)3至7、點(diǎn)2至6、點(diǎn)4至8與點(diǎn)1至5平行相等。
通常為降低成本,可使第二片晶片與第三片晶片的厚度相等。
試驗(yàn)表明,將表1所列的三片晶片膠合而成的光學(xué)低通濾波器,用于A=9.2μm,B=7.2μm的OV/7910CMOS圖像芯片,其八個出射光束在LA、LB兩個方向上均有很好的光學(xué)低通濾波效果。
表權(quán)利要求1.一種光學(xué)低通濾波器,其特征是由三片石英晶片膠合而成,三片石英晶片的厚度分別為t1、t2、t3,光軸取向角θ和光軸面取向角φ依次為第一片θ=45°、φ=0°,第二片θ=45°、φ=45°,第三片θ=45°、φ=90°。
2.按權(quán)利要求1所述的光學(xué)低通濾波器,其特征是第二片晶片與第三片晶片的厚度相等。
3.按權(quán)利要求1所述的光學(xué)低通濾波器,其特征是三片石英晶片的厚度分別為t1=1.05mm、t2=0.72mm、t3=0.72mm。
專利摘要本實(shí)用新型的光學(xué)低通濾波器由三片石英晶片膠合而成,三片石英晶片的厚度分別為t
文檔編號G02F1/01GK2457629SQ0026890
公開日2001年10月31日 申請日期2000年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2000年12月29日
發(fā)明者朱列偉, 倪旭翔, 陸祖康 申請人:浙江大學(xué)