專利名稱：：顯示裝置用基板及其制造方法、以及液晶裝置及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及在顯示裝置中使用的顯示裝置用基板、該顯示裝置用基板的制造方法、使用了該顯示裝置用基板的液晶裝置及使用了該液晶裝置的電子設(shè)備。無源矩陣型液晶裝置，一般是通過將結(jié)構(gòu)為在基板上形成多個并行排列的顯示用電極及用于與各顯示用電極導(dǎo)電連接并施加電壓的配線的2個平板基板彼此相對地配置成使各基板上的顯示用電極相互構(gòu)成柵格狀而形成。另外，結(jié)構(gòu)為按附屬于各象素的方式形成薄膜二極管(ThinFilmDiode:TFD)的有源矩陣型液晶裝置，通過將作為一對基板的元件基板及對置基板彼此相對地配置而形成。在這種情況下，在上述元件基板上形成TFD、與該TFD連接的配線、及作為顯示用電極的的象素電極。此外，在上述對置基板上形成多個并行排列的顯示用電極、及用于與各顯示用電極導(dǎo)電連接并施加電壓的配線。上述元件基板及對置基板，相對地配置成使元件基板上的象素電極與對置基板上的顯示用電極相互重疊。在上述現(xiàn)有的液晶裝置中，伴隨著顯示的高清晰度化及盡可能減小顯示區(qū)域以外的區(qū)域的所謂畫面邊框狹窄化，與顯示用電極連接的配線變得越來越微細(xì)。最近以來，隨著這種配線的微細(xì)化，配線的電阻增加，而且從驅(qū)動電路施加的電壓在配線上的電壓降已達(dá)到不能忽視的程度。另外，在無源矩陣型液晶裝置中，大多采用STN(SuperTwistedNematic；超扭曲向列)型液晶，但這種液晶裝置的顯示特別易受驅(qū)動電壓細(xì)微變化的影響。此外，配線，與顯示用電極導(dǎo)電連接并連續(xù)地形成，通常由用作顯示用電極的透明導(dǎo)電膜、例如ITO(IndiumTinOxide；銦錫氧化物)膜構(gòu)成，并與顯示用電極同時形成。其結(jié)果是，顯示用電極與配線，通常形成為膜厚大致相等的透明導(dǎo)電膜?？墒牵渚€的線寬因如上所述的微細(xì)化而越來越細(xì)，為了減小該配線路徑上的電阻，應(yīng)考慮增加配線的膜厚。但是，為了增加配線的膜厚，將使膜形成所需的時間增加。此外，當(dāng)增加配線的膜厚時，與其同時形成的顯示用電極的膜厚也會增加，所以降低了顯示用電極的透光率。本發(fā)明，是鑒于上述問題而開發(fā)的，其目的是解決顯示裝置用基板上的以下3個課題中的至少一個，即減低配線上的電阻、增加顯示用電極的透光率、縮短形成顯示用電極及配線所需的時間(1)本發(fā)明的顯示裝置用基板，備有多個顯示用電極、及用于對上述多個顯示用電極施加電壓的多條配線，該顯示裝置用基板的特征在于上述配線，具有由與上述顯示用電極為同一層的透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。具有上述結(jié)構(gòu)的顯示裝置用基板，由于使配線為透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，所以，與僅以透明導(dǎo)電層形成配線的情況相比，可以減低配線的電阻。因此，采用了本顯示裝置用基板的液晶裝置，因配線上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。另外，由于不需要為減小配線電阻而增加透明導(dǎo)電層的膜厚，所以不會使大多是與配線的透明導(dǎo)電層同時形成的顯示用電極的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以提高顯示用電極的透光率。進(jìn)一步，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以減小用作顯示用電極及配線的透明導(dǎo)電層的厚度，所以能夠縮短形成顯示裝置用基板所需要的時間。(2)在結(jié)構(gòu)如以上第(1)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板上，上述顯示用電極，可以具有由透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。這樣，如使顯示用電極為透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，則與只用透明導(dǎo)電層形成的情況相比，可以減低顯示用電極的電阻。此外，由于不需要為減小顯示用電極的電阻而增加透明導(dǎo)電層的膜厚，所以可以提高顯示用電極的透光率。(3)在結(jié)構(gòu)如以上第(2)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板上，上述顯示用電極的上述金屬層，其寬度最好比上述透明導(dǎo)電層的寬度窄。按照這種結(jié)構(gòu)，幾乎不會使顯示的亮度降低，并可以減小顯示用電極的電阻。(4)在結(jié)構(gòu)如以上第(1)項(xiàng)或第(2)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板上，上述顯示用電極，可以具有上述透明導(dǎo)電層與上述金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，在這種情況下，在該層疊結(jié)構(gòu)的部分上，上述金屬層具有局部的開口。如將本結(jié)構(gòu)的顯示裝置用基板用作構(gòu)成液晶裝置的一對基板中的背面?zhèn)然?，則由于使光通過顯示用電極的開口部而另一方面則由顯示用電極的金屬層部分對光進(jìn)行反射，所以可以形成半透反射型液晶裝置。此外，由于在金屬層的開口部上也存在著由透明導(dǎo)電層形成的顯示用電極，所以在與開口部對應(yīng)的區(qū)域上不會對施加于液晶的電場造成干擾。(5)在結(jié)構(gòu)如以上第(1)項(xiàng)或第(4)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板上，上述配線，可以是從上述顯示用電極的端部起沿著上述基板的周緣圍設(shè)的配線。由于配線一般是沿基板周緣部的邊框區(qū)域敷設(shè)因而配線距離較長，所以，如像本發(fā)明這樣按照透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)形成配線，則在減小配線電阻上具有顯著的效果。(6)其次，本發(fā)明的液晶裝置，通過將液晶夾在一對基板之間而形成，該液晶裝置的特征在于通過將結(jié)構(gòu)如以上第(1)項(xiàng)至第(5)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板用作上述一對基板中的至少一個而構(gòu)成。按照所構(gòu)成的該液晶裝置，由于配線具有透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，所以與只用透明導(dǎo)電層形成配線的情況相比可以減小配線的電阻。因此，因配線上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。另外，由于不需要為減小配線電阻而增加透明導(dǎo)電層的膜厚，所以不會使大多是同時形成的多個顯示用電極的透明導(dǎo)電層的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以提高顯示用電極的透光率。進(jìn)一步，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以減小用作顯示用電極及配線的透明導(dǎo)電層的厚度，所以能夠縮短形成透明導(dǎo)電層所需要的時間。(7)其次，本發(fā)明的液晶裝置，其特征在于通過將液晶層夾在結(jié)構(gòu)如以上第(4)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板和與其相對配置的對置基板之間而構(gòu)成，并具有將上述金屬開口部用作光透射部的透射型顯示功能及將上述金屬層部分用作光反射部的反射型顯示功能。所構(gòu)成的該液晶裝置，由于使配線為透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，所以與僅以透明導(dǎo)電層形成配線的情況相比可以減低配線的電阻。因此，因配線上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。另外，由于不需要為減小配線電阻而增加透明導(dǎo)電層的膜厚，所以不會使大多是與配線的透明導(dǎo)電層同時形成的顯示用電極的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以提高顯示用電極的透光率。進(jìn)一步，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以減小用作顯示用電極基建配線的透明導(dǎo)電層的厚度，所以能夠縮短形成顯示裝置用基板所需要的時間。(8)其次，本發(fā)明的電子設(shè)備，其特征在于具有結(jié)構(gòu)如以上第(6)項(xiàng)或第(7)項(xiàng)所述的液晶裝置作為顯示單元。按照所構(gòu)成的該電子設(shè)備，可以得到具有顯示裝置的上述有關(guān)作用效果因而備有顯示質(zhì)量高的顯示單元的電子設(shè)備。(9)其次，本發(fā)明的顯示裝置用基板的制造方法，用于制造以上第(1)項(xiàng)～第(5)項(xiàng)中的任何一項(xiàng)所述的顯示裝置用基板，該制造方法的特征在于，包括在上述基板上形成上述透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電層形成工序；在上述透明導(dǎo)電層上層疊金屬層的金屬層層疊工序；同時刻蝕上述透明導(dǎo)電層及上述金屬層的刻蝕工序。按照所構(gòu)成的該制造方法，可以層疊透明導(dǎo)電層和金屬層，并通過一次刻蝕即可對透明導(dǎo)電層和金屬層形成圖案從而形成配線。(10)其次，本發(fā)明的顯示裝置用基板的制造方法，用于制造以上第(1)項(xiàng)～第(5)項(xiàng)中的任何一項(xiàng)所述的顯示裝置用基板，該制造方法的特征在于，包括在上述基板上形成上述透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電層形成工序；在上述透明導(dǎo)電層上層疊金屬層的金屬層層疊工序；用第1光致抗蝕劑膜同時刻蝕上述透明導(dǎo)電層及上述金屬層并形成圖案的第1刻蝕工序；通過對上述第1光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光和顯影而形成具有規(guī)定圖案的第2光致抗蝕劑膜并用第2光致抗蝕劑膜僅刻蝕上述金屬層并形成圖形的第2刻蝕工序。按照所構(gòu)成的該制造方法，利用通過對在第1刻蝕工序中使用的具有規(guī)定圖案的第1光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光和顯影而形成的第2光致抗蝕劑膜，按照第2刻蝕工序?qū)τ米黠@示用電極的部分金屬層進(jìn)行刻蝕并保留一部分，然后，除去光致抗蝕劑膜，即可形成備有使透明導(dǎo)電層和金屬層層疊的部分及僅透明導(dǎo)電層的部分的顯示用電極及配線的圖案。按照上述工序，只各進(jìn)行一次光致抗蝕劑膜的涂布和除去，就可以形成使金屬層和透明導(dǎo)電層局部層疊的圖案。與分別對透明導(dǎo)電層和金屬層形成圖案時必須各自進(jìn)行兩次光致抗蝕劑膜的涂布和除去的情況相比，可以大幅度地減少工序數(shù)。此外，可以層疊透明導(dǎo)電層和金屬層，并通過一次刻蝕即可對透明導(dǎo)電層和金屬層形成圖案并而形成配線。(11)在以上第(10)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板的制造方法中，其特征在于按照上述第2刻蝕工序?qū)ι鲜鲲@示用電極的上述金屬層進(jìn)行刻蝕，使其僅保留上述透明導(dǎo)電層的端部上的部分。按照所構(gòu)成的該制造方法，幾乎不會降低顯示的亮度，并能以大幅度減少工序數(shù)的方式對減小了電阻后的顯示用電極形成圖案。(12)在以上第(10)項(xiàng)所述的顯示裝置用基板的制造方法中，其特征在于按照上述第2刻蝕工序?qū)ι鲜鲲@示用電極的上述金屬層進(jìn)行刻蝕，使其在上述透明導(dǎo)電層上具有開口部。按照所構(gòu)成的該制造方法，能以很少的工序數(shù)制造具有以上第(4)項(xiàng)所述作用效果的顯示裝置用基板。(13)其次，本發(fā)明的液晶裝置，通過將液晶夾在一對顯示裝置用基板之間而構(gòu)成，該液晶裝置的特征在于其中一個顯示裝置用基板，具有多個象素電極、及按附屬于該各象素電極的方式形成的多個二端子型開關(guān)元件，另一個顯示裝置用基板，具有與上述多個象素電極相對設(shè)置的按條狀排列的多個顯示用電極、及與該顯示用電極連接的配線，上述多個顯示用電極包含透明的導(dǎo)電層，上述配線，具有由與上述顯示用電極為同一層的透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。這里，作為上述二端子型開關(guān)元件，例如可采用TFD(ThinFilmDiode；薄膜二極管)。(14)其次，本發(fā)明的液晶裝置，通過將液晶夾在一對顯示裝置用基板之間而構(gòu)成，該液晶裝置的特征在于其中一個顯示裝置用基板，具有多個象素電極、及按附屬于該各象素電極的方式形成的多個三端子型開關(guān)元件，另一個顯示裝置用基板，具有與上述多個象素電極相對設(shè)置的按條狀排列的多個顯示用電極、及與該顯示用電極連接的配線，上述多個顯示用電極包含透明的導(dǎo)電層，上述配線，具有由與上述顯示用電極為同一層的透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。這里，作為上述三端子型開關(guān)元件，例如可采用TFT(ThinFilmTransistor；薄膜晶體管)。圖1是以分解狀態(tài)表示本發(fā)明的液晶裝置的一實(shí)施形態(tài)的透視圖。圖2是以分解狀態(tài)表示圖1所示液晶裝置的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖。圖3是表示構(gòu)成圖1所示液晶裝置的一個平板基板的平面圖。圖4是表示構(gòu)成圖1所示液晶裝置的另一個平板基板的平面圖。圖5是將平板基板上的1個顯示用電極和配線放大后示出的平面圖。圖6(A)是表示沿圖5的F-F線的配線的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖，圖6(B)是表示沿圖5的G-G線的顯示用電極的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖。圖7(A)～(E)是以平板基板的一部分為例示出平板基板的制造工序的斷面圖。圖8是表示本發(fā)明的電子設(shè)備的實(shí)施形態(tài)的圖，(A)表示攜帶式電話機(jī)，(B)表示手表，(C)表示攜帶式信息終端。圖9是以放大的形式表示圖4所示的平板基板上的1個顯示用電極和配線的改變例的平面圖。圖10是表示沿圖9的G-G線的顯示用電極的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖。圖11是表示電子設(shè)備的電控制系統(tǒng)的一例的框圖。圖12是以分解狀態(tài)表示本發(fā)明的液晶裝置的另一實(shí)施形態(tài)的主要部分的透視圖。圖13是表示圖12液晶裝置的主要部分的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖。圖14是圖12的液晶裝置中使用的1個TFD的透視圖。圖15是表示圖12的液晶裝置的外觀形狀的透視圖。圖16是表示構(gòu)成圖12的液晶裝置的顯示裝置用基板中的一個的平面圖。圖17是表示本發(fā)明的液晶裝置的又一實(shí)施形態(tài)的電路結(jié)構(gòu)的電路圖。圖18是圖17所示液晶裝置的主要部分的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖。圖19是表示圖17所示液晶裝置的外觀形狀的透視圖。圖20是表示實(shí)現(xiàn)作為圖17所示液晶裝置驅(qū)動方法的1H公用電壓擺動驅(qū)動法的驅(qū)動波形的圖。圖21是表示實(shí)現(xiàn)作為TFT式有源矩陣液晶裝置的一般驅(qū)動方法的半幀反轉(zhuǎn)驅(qū)動法的驅(qū)動波形的圖。圖22是表示為確認(rèn)閾值電壓的偏移量與動作時間的關(guān)系而進(jìn)行的測定的結(jié)果的曲線圖。以下，邊參照附圖邊對本發(fā)明的最佳實(shí)施形態(tài)進(jìn)行更具體的說明。(第1實(shí)施形態(tài))圖1是示意地表示本發(fā)明的用作顯示裝置的液晶裝置10的分解透視圖。而圖2是示意地表示圖1所示液晶裝置10的斷面結(jié)構(gòu)的斷面圖。如這兩個圖所示，液晶裝置10，備有用作顯示板的液晶板14、配置在液晶板14的背面?zhèn)鹊木哂袑?dǎo)光板44的背照燈單元40。此外，液晶裝置10，還具有用于保護(hù)液晶板14和背照燈單元40并保持規(guī)定位置關(guān)系的邊框構(gòu)件(圖中未示出)。在圖2中，液晶板14，通過將第1平板基板20與第2平板基板30彼此相對地配置而形成，并由分布在這兩個平板基板之間的間隔件(圖中未示出)使其相互間保持規(guī)定的間隔距離而相對配置。第1平板基板20，用作在由玻璃、合成樹脂等透明材料構(gòu)成的基板21的一個面上形成條狀顯示用電極22而構(gòu)成的顯示面?zhèn)鹊娘@示裝置用基板。另外，第2平板基板30，用作在由玻璃、合成樹脂等透明材料構(gòu)成的基板31的一個面上形成條狀顯示用電極32而構(gòu)成的顯示裝置用基板。第1平板基板20的顯示用電極22與第2平板基板30的顯示用電極32，以相互構(gòu)成柵格狀的形式相對配置，從而構(gòu)成所謂的無源矩陣型的液晶板。在該一對平板基板20和30的周緣配置密封材料19，使其從圖2的箭頭A的方向看去大致為矩形形狀，由該密封材料19將兩個平板基板20和30粘合在一起。在密封材料19的內(nèi)部混入粒子狀的上下導(dǎo)通材料26，并通過該導(dǎo)通材料26使第2平板基板30上的配線36與連接于第1平板基板20上的顯示用電極22的配線導(dǎo)電連接。由此，即可將從端子39輸入的電壓施加于顯示用電極22。通過設(shè)在密封材料19的一部分上的液晶注入口(圖中未示出)將液晶、例如STN型液晶18充填到由密封材料19包圍的第1平板基板20與第2平板基板30之間的間隙內(nèi)。在液晶注入處理完成后，用密封材料(圖中未示出)將該液晶注入口封死。將第1偏振片16配置在第1平板基板20的外側(cè)，將第2偏振片17配置在第2平板基板30的外側(cè)。此外，將相位差板12配置在第1偏振片16與第1平板基板20之間。該相位差板12，也可以配置在第2偏振片17與第2平板基板30之間或配置在第1平板基板20和第2平板基板30的兩邊。另外，液晶板14，在第2平板基板30的從第1平板基板20伸出的伸出區(qū)域38上備有多個端子39。圖1所示的配線基板64、例如撓性基板的對應(yīng)端子連接于各端子39。在配線基板64上裝有分別驅(qū)動液晶板14的顯示用電極22、32(參照圖2)的驅(qū)動用IC(圖中未示出)，通過將與該驅(qū)動用IC的輸出端子連接的配線基板64的端子與在第2平板基板30上形成的端子39連接，對各顯示用電極22、32施加驅(qū)動電壓。在該液晶板14上，供給在第1平板基板20上形成的多個顯示用電極22的各個電極的信號與供給第2平板基板30的顯示用電極32的各個電極的信號之間的電壓差，施加于液晶18，通過控制液晶分子的定向，使顯示為接通或斷開狀態(tài)。另外，也可以將驅(qū)動用IC的安裝區(qū)域設(shè)置在第1平板基板20或第2平板基板30上，以COG(ChiponGlass；玻璃襯底芯片)的方式將驅(qū)動用IC安裝在第1平板基板20或第2平板基板30上，并將信號或電壓通過撓性基板供給平板基板上的驅(qū)動用IC。另外，在圖2中，將一對平板基板20、30之間的距離畫得很寬，但這只是為了使圖示更加明確，實(shí)際上，一對相對配置的平板基板20、30僅相隔幾μm～幾十μm的狹小間隙。此外，還將第1偏振片16及相位差板12與第1平板基板20分開畫出，將第2偏振片17與第2平板基板30分開畫出，但實(shí)際上相位差板12是幾乎與第1平板基板20接觸的狀態(tài)，第2偏振片17是幾乎與第2平板基板30接觸的狀態(tài)，進(jìn)一步，第1偏振片16是幾乎與相位差板12接觸的狀態(tài)。另外，條狀的顯示用電極22、32只畫出了幾個，但實(shí)際上根據(jù)矩陣顯示的分辨能力分別設(shè)置為多個條狀電極。在圖1中，背照燈單元40，具有用作光源的熒光管50、導(dǎo)光板44、作為光漫射板的透鏡片42、背照燈固定框56及反射器60。通過連接部51將逆變器(圖中未示出)連接于熒光管50，并由該逆變器將規(guī)定電壓施加于熒光管50。導(dǎo)光板44，例如由透明的合成樹脂構(gòu)成，將用作光源的熒光管50配置成幾乎與其端面45接觸的狀態(tài)。來自熒光管50的光從端面45進(jìn)入導(dǎo)光板44后在其內(nèi)部傳播，并從面向液晶板14的光出射面射出，從而對液晶板14的整個顯示區(qū)域進(jìn)行照明。導(dǎo)光板44，除液晶板14的基板伸出區(qū)域38外，具有與液晶板14的平面形狀大致對應(yīng)的平面形狀。導(dǎo)光板44，形成為其厚度在熒光管50一側(cè)較厚的楔狀斷面形狀。通過使導(dǎo)光板44具有這種形狀，可以使從導(dǎo)光板44射向液晶板14的光的光量在熒光管50的附近和離熒光管50較遠(yuǎn)的位置上均勻化。透鏡片42，配置在導(dǎo)光板44的正面?zhèn)龋ㄟ^使從導(dǎo)光板44射出的光漫射，將均勻的光照射在液晶板14的整個顯示區(qū)域上。另外，反射器60，除導(dǎo)光板44的一側(cè)外還覆蓋著熒光管50的周圍，用于使來自熒光管50的光向?qū)Ч獍?4反射。此外，在圖1中，所示出的熒光管50是在反射器60的外面，但實(shí)際上在組裝時是將熒光管50裝在反射器60的內(nèi)部。背照燈單元40的熒光管50由圖中未示出的逆變器供電。具體地說，該逆變器，例如將所輸入的5V直流電壓變換為250V、100kHz的交流電壓后供給熒光管50。另外，在結(jié)構(gòu)上也可以將LED用作光源以代替熒光管50，并將LED配置在導(dǎo)光板44的側(cè)面。背照燈固定框56備有底面部57，用于從背面?zhèn)裙潭ū痴諢魡卧?0。另外，背照燈固定框56，還具有從底面部57豎起設(shè)置的多個定位部58。這些定位部58，具有與導(dǎo)光板44的對應(yīng)端面46、47的形狀一致的形狀，而且形成為使其與導(dǎo)光板44的端面46、47相配合，由此可以將導(dǎo)光板44在與底面部57大致平行的面內(nèi)定位在規(guī)定位置。另外，多個定位部58，形成為分別覆蓋導(dǎo)光板44的端面中沒有配置熒光管50的端面46、47并大致與其貼緊的平面狀。并且，這些定位部58及底面部57的面向?qū)Ч獍?4的一側(cè)，形成為具有足夠的光反射率，所以能以高的效率利用來自熒光管50的光。此外，在背照燈固定框56上，還以構(gòu)成整體的方式形成上述反射器60。圖3是示意地表示從正面?zhèn)扔^察第1平板基板20的狀態(tài)的平面圖，將顯示用電極22等按透視后的狀態(tài)示出。而圖4是示意地表示從正面?zhèn)扔^察第2平板基板30的狀態(tài)的平面圖。在從顯示面?zhèn)扔^察圖1所示的液晶板14的狀態(tài)下，圖4所示的第2平板基板30與圖3所示的第1平板基板20重合，這兩個基板的位置關(guān)系，設(shè)定為使第2平板基板30的伸出區(qū)域38向第1平板基板20的外側(cè)伸出。此外，圖2示意地示出的液晶板14的斷面結(jié)構(gòu)，是沿著圖3和圖4所示的S-S線的斷面結(jié)構(gòu)。在圖3中，第1平板基板20，具有在基板21上按規(guī)定圖案形成的顯示用電極22及從各顯示用電極22延伸的配線24。該顯示用電極22，具有作為掃描電極或信號電極中的一個的功能。此外，配線24的端部，形成為用于連接上下導(dǎo)通材料26(參照圖2)的端子即焊盤25。在圖4中，第2平板基板30，具有顯示用電極32、配線34及配線36。多個顯示用電極32，在基板31上按規(guī)定圖案形成。該顯示用電極32，具有作為掃描電極或信號電極中的另一個的功能。配線34，從各顯示用電極32延續(xù)，并沿著基板31的周緣部敷設(shè)，其一端延伸到第2平板基板30的伸出區(qū)域38并構(gòu)成端子39。伸出區(qū)域38，在平面視圖上是從相對配置的第1平板基板20伸出的區(qū)域。配線36的一個端部37，形成為用于連接上下導(dǎo)通材料26的連接端子即焊盤，并通過上下導(dǎo)通材料26將在第1平板基板20上形成的作為配線24的端部的連接端子的焊盤25與上述焊盤37相互導(dǎo)電連接。該上下導(dǎo)通材料26，如圖2所示是混入密封材料19內(nèi)的導(dǎo)電性粒子。此外，配線36的另一個端部，也延伸到伸出區(qū)域38并形成輸入端子39。各端子39，作為配線34、36的一部分而形成，并與對應(yīng)的顯示用電極22、32導(dǎo)通。此外，第1平板基板20的顯示用電極22，通過在第1平板基板20上形成的配線24、上下導(dǎo)通材料26、在第2平板基板30上形成的配線36與對應(yīng)的輸入端子39連接。在圖3中，在形成顯示用電極22等的基板21的表面上涂布例如由聚酰亞胺構(gòu)成的覆蓋顯示用電極22等的定向膜(圖中未示出)，進(jìn)一步，按規(guī)定角度對該定向膜進(jìn)行研磨處理。此外，在圖4中，在形成顯示用電極32等的基板31的表面上涂布例如由聚酰亞胺構(gòu)成的覆蓋顯示用電極32等的定向膜(圖中未示出)，進(jìn)一步，按規(guī)定角度對該定向膜進(jìn)行研磨處理。圖5是以放大的形式示意地表示第2平板基板30上的1個顯示用電極32和從該顯示用電極32延伸的配線34的平面圖。此外，圖6(A)示意地示出沿圖5的F-F線的配線34的斷面結(jié)構(gòu)，圖6(B)示意地示出沿圖5的G-G線的顯示用電極32的斷面結(jié)構(gòu)。在圖5中，在顯示用電極32及配線34上畫有斜線的區(qū)域72，表示其表面是由鋁等低電阻金屬構(gòu)成的金屬層。在顯示用電極32上沒有畫斜線的區(qū)域70，表示其表面是由ITO(IndiumTinOxide；銦錫氧化物)等透明導(dǎo)電膜構(gòu)成的透明導(dǎo)電層。從圖6(A)和圖6(B)可以清楚地看出，配線34及顯示用電極32，通過將由ITO構(gòu)成的透明導(dǎo)電層70與電阻低于該透明導(dǎo)電層70的金屬層72層疊在一起而形成。此外，在顯示用電極32上，透明導(dǎo)電層70在顯示用電極32的的整個寬度上形成，但金屬層72則以遠(yuǎn)比透明導(dǎo)電層70的寬度窄的寬度在透明導(dǎo)電層70的寬度方向的一個邊緣部上形成。另一方面，在配線34上，透明導(dǎo)電層70及金屬層72都是按配線34的整個寬度延伸，因而以彼此大致相同的寬度形成。按照這種方式，一般來說，可以充分地減小按遠(yuǎn)比顯示用電極32細(xì)的寬度形成的配線34的電阻。此外，圖中雖未示出，但在第2平板基板30上形成的另一配線36，也可以具有與圖6(A)所示的配線34相同的結(jié)構(gòu)，即透明電極層70與金屬層72以大致相同的寬度層疊在一起的結(jié)構(gòu)。另外，在與圖4所示的第2平板基板30相對配置的圖3所示的第1平板基板20上形成的配線24及顯示用電極22，也可以與圖5和圖6所示的配線34及顯示用電極32一樣，具有由ITO等構(gòu)成的透明導(dǎo)電層70與由鋁等構(gòu)成的金屬層72的層疊結(jié)構(gòu)。如上所述，在本實(shí)施形態(tài)的第1平板基板20和第2平板基板30、即顯示裝置用基板上，圖3中的配線24及圖4中的配線34和配線36，具有透明導(dǎo)電層70與金屬層72的層疊結(jié)構(gòu)，所以，與只用透明導(dǎo)電層70形成這些配線24、34、36的情況相比，可以減小這些配線24、34、36的電阻。因此，采用了本實(shí)施形態(tài)的平板基板20、30的液晶裝置10，因配線上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。進(jìn)一步，由于不需要為減小顯示用電極22、32的電阻而增加透明導(dǎo)電層70的膜厚，所以能提高顯示用電極22、32的透光率。此外，在顯示用電極22、32上，透明導(dǎo)電層70在顯示用電極22等的整個寬度上形成，但金屬層72按遠(yuǎn)比透明電極層70的寬度窄的寬度形成，所以幾乎不會因金屬層的存在而使顯示的亮度降低。并可以減小顯示用電極22、32的電阻。另外，在圖3的第1平板基板20上，由于配線24的長度短，所以也可以只用由ITO構(gòu)成的透明導(dǎo)電膜70形成配線24及顯示用電極22。此外，對于圖4的配線36，由于其長度短，所以也可以只用由ITO構(gòu)成的透明導(dǎo)電膜70形成?？墒?，在圖3中，構(gòu)成顯示用電極22的透明導(dǎo)電膜70，大多與構(gòu)成配線24的透明導(dǎo)電膜70同時形成。此外，在圖4中，構(gòu)成顯示用電極32的透明導(dǎo)電膜70，大多與構(gòu)成配線34、36的透明導(dǎo)電膜70同時形成。在本實(shí)施形態(tài)中，由于配線24、34、36具有透明導(dǎo)電層70與金屬層72的兩層結(jié)構(gòu)，所以不需要為減小配線24、34、36的電阻而增加透明導(dǎo)電層70的膜厚，因此，不會使與配線24的透明導(dǎo)電層70同時形成的顯示用電極22的透明導(dǎo)電層70及與配線34和配線36的透明導(dǎo)電層70同時形成的顯示用電極32增加到超過必要的厚度。因此，與只增加透明導(dǎo)電層70的厚度從而減小配線24、34、36的電阻的情況相比，可以提高圖3的顯示用電極22及圖4的顯示用電極32的透光率。進(jìn)一步，在本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置用基板中，與只增加透明導(dǎo)電層70的厚度從而減小圖3的配線24及圖4的配線34、36的電阻的情況相比，可以減小用作圖3的顯示用電極22及配線24的透明導(dǎo)電層70的厚度，并可以減小用作圖4的顯示用電極32及配線34、36的透明導(dǎo)電層70的厚度，所以能夠縮短形成平板基板20、30所需要的時間。以下，舉出一種實(shí)施形態(tài)說明圖3所示的第1平板基板20和圖4所示的第2平板基板30的制造方法。在第1平板基板20和第2平板基板30上層疊透明導(dǎo)電層和金屬層而制成的顯示用電極及配線，其制造方法包含以下各種工序，即透明導(dǎo)電層形成工序，金屬層層疊工序、第1光致抗蝕劑膜形成工序、第1刻蝕工序、第2光致抗蝕劑膜形成工序、第2刻蝕工序。另外，在示意地說明第2平板基板30的制造工序的斷面圖即圖7(A)～圖(E)中，圖7(A)表示透明導(dǎo)電層形成工序及金屬層層疊工序，圖7(B)表示第1光致抗蝕劑膜形成工序，圖7(C)表示第1刻蝕工序，圖7(D)表示第2光致抗蝕劑膜形成工序，圖7(E)表示第2刻蝕工序。此外，在圖7(A)～圖(E)中，左邊表示顯示用電極32的的制造工序，右邊表示配線34的制造工序。并且，僅分別各示出一個顯示用電極32及配線34的制造工序，但實(shí)際上可以同時形成多個。首先，在圖7(A)所示的透明導(dǎo)電層形成工序中，通過濺射等在例如由玻璃等透明材料構(gòu)成的基板31上形成例如由ITO構(gòu)成的透明導(dǎo)電層70。然后，在該圖7(A)所示的金屬層層疊工序中，在透明電極層70上層疊例如由鋁構(gòu)成的金屬層72。接著，在圖7(B)所示的第1光致抗蝕劑膜形成工序中，通過涂布光致抗蝕劑膜、并進(jìn)行曝光和顯影而形成具有與顯示用電極32及配線34的圖案對應(yīng)的規(guī)定圖案的第1光致抗蝕劑膜74。下一步，在圖7(C)所示的第1刻蝕工序中，用第1光致抗蝕劑膜74對透明導(dǎo)電層70及金屬層72同時進(jìn)行刻蝕，從而按照顯示用電極32及配線34的平面視圖上的形狀將其形成圖案。然后，在圖7(D)所示的第2光致抗蝕劑膜形成工序中，在形成顯示用電極32的區(qū)域上，對金屬層72上留下的第1光致抗蝕劑膜74再次進(jìn)行曝光和顯影，從而形成將透明導(dǎo)電層70的形成區(qū)域的光致抗蝕劑膜除去后的具有規(guī)定圖案的第2光致抗蝕劑膜76。此外，在形成第2光致抗蝕劑膜76的過程中，在形成配線34的區(qū)域上保留原有的光致抗蝕劑膜。接著，在圖7(E)所示的第2刻蝕工序中，用第2光致抗蝕劑膜76僅對與顯示用電極32對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)的金屬層72的一部分進(jìn)行刻蝕并形成圖案。該刻蝕以與第1刻蝕工序不同的刻蝕速率進(jìn)行，從而僅刻蝕金屬層72的一部分，對透明導(dǎo)電層70幾乎不進(jìn)行刻蝕。最后，例如通過拋光處理將第2光致抗蝕劑膜76除去，從而形成圖6(A)和圖6(B)所示的配線34及顯示用電極32。如上所述，按照本實(shí)施形態(tài)的平板基板制造方法，利用通過對在圖7(C)所示的第1刻蝕工序中使用過的具有規(guī)定圖案的第1光致抗蝕劑膜74再次進(jìn)行曝光和顯影而形成的第2光致抗蝕劑膜76，按照圖7(E)所示的第2刻蝕工序?qū)?gòu)成顯示用電極32的部分的金屬層72進(jìn)行刻蝕并保留一部分，然后將第2光致抗蝕劑膜76除去，從而可以形成具有透明導(dǎo)電層70及寬度很細(xì)的金屬層72的顯示用電極32。按照上述工序，只各進(jìn)行一次光致抗蝕劑膜的涂布和除去，即可形成具有寬度很細(xì)的金屬層72的顯示用電極32。與分別對透明導(dǎo)電層70和金屬層72形成圖案時必須各自進(jìn)行兩次光致抗蝕劑膜的涂布和除去的情況相比，可以大幅度地減少工序數(shù)。另外，按照本實(shí)施形態(tài)的平板基板制造方法，通過將透明導(dǎo)電層70和金屬層72層疊在一起并對其進(jìn)行一次刻蝕并形成圖案，即可形成配線34。在以上的說明中，以第2平板基板30的顯示用電極32及配線34為例說明了本發(fā)明的平板基板的制造方法，但對于配線36，也可以按照與配線34相同的工序，形成由透明導(dǎo)電層70與金屬層72的層疊結(jié)構(gòu)構(gòu)成的配線。此外，對于圖3所示的第1平板基板20的顯示用電極22及配線24，雖然顯示用電極及配線的圖案不同，但可以按照與第2平板基板30相同的制造方法形成。另外，在本實(shí)施形態(tài)中，如圖6(B)所示，構(gòu)成顯示用電極32的透明導(dǎo)電層70上的金屬層72，僅沿著透明導(dǎo)電層70的端部配置，但如果在顯示用電極的透光率方面不存在任何問題，則金屬層72的配置位置也可以不是透明導(dǎo)電層70的端部，例如可以在中央部附近。(第2實(shí)施形態(tài))在上述第1實(shí)施形態(tài)中，舉例說明了用平板基板即顯示裝置用基板形成透射型液晶裝置的情況。與此不同，在本實(shí)施形態(tài)中，在采用結(jié)構(gòu)為顯示用電極的金屬層具有切縫的平板基板代替第1實(shí)施形態(tài)中的一個平板基板、例如第2平板基板30這一點(diǎn)上與第1實(shí)施形態(tài)不同。在除此之外的各個方面，與第1實(shí)施形態(tài)的結(jié)構(gòu)相同，因而將這些方面的有關(guān)說明省略。此外，在各圖中，對與第1實(shí)施形態(tài)的情況相同的元件標(biāo)以與第1實(shí)施形態(tài)相同的符號。圖9是示意地表示在本實(shí)施形態(tài)中使用的第2平板基板80的平面圖，該圖與第1實(shí)施形態(tài)中的圖5相對應(yīng)。而圖10示出沿圖9的G-G線的斷面結(jié)構(gòu)，該圖與第1實(shí)施形態(tài)中的圖6(B)相對應(yīng)。在本實(shí)施形態(tài)中，通過采用第2平板基板80代替第1實(shí)施形態(tài)中的第2平板基板30，形成半透反射型的液晶裝置。在該第2平板基板80上，顯示用電極82，在其整個區(qū)域上具有透明導(dǎo)電層70與金屬層72的兩疊結(jié)構(gòu)，并在金屬層72上分布和設(shè)置著作為開口部的多個切縫。而且，作為金屬層72的材料，采用強(qiáng)反射材料，例如鋁、銅、銀或金。這樣，即使在金屬層72上設(shè)有切縫84的情況下，由于顯示用電極82在切縫84的區(qū)域上也具有透明導(dǎo)電層70，所以在切縫84的區(qū)域上仍能對液晶施加適當(dāng)?shù)碾妶?，而與切縫84的大小無關(guān)。在這種半透反射型液晶裝置的情況下，當(dāng)進(jìn)行透射型顯示時，來自第2平板基板80的背面?zhèn)鹊恼彰鞴?，可以通過在金屬層72上開有的切縫84透過第2平板基板80而使光入射到液晶層18，所以可以進(jìn)行透射型顯示。另一方面，當(dāng)進(jìn)行反射型顯示時，由于可以由金屬層72的表面對從與第2平板基板80相對配置的第1平板基板20側(cè)透過液晶層18的光進(jìn)行反射，所以可以進(jìn)行反射型顯示。在本實(shí)施形態(tài)中，無論是透射型顯示還是反射型顯示，如果切縫84的尺寸小，則仍可以通過金屬層72對液晶層18施加電壓。而當(dāng)將作為開口部的切縫84的尺寸加大時，在切縫的區(qū)域上就不是由金屬層72而是由透明導(dǎo)電層70驅(qū)動與該切縫區(qū)域相對的液晶層18。采用了本實(shí)施形態(tài)的平板基板80的液晶裝置10，因配線34及顯示用電極80上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。此外，由于使配線34及顯示用電極80具有透明導(dǎo)電層70與金屬層72的兩層結(jié)構(gòu)，所以不需要為減小配線34的電阻而增加透明導(dǎo)電層70的膜厚，而且也不會使大多是與配線34的透明導(dǎo)電層70同時形成的顯示用電極82的透明導(dǎo)電層70的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，可以提高顯示用電極82的透光率。進(jìn)一步，由于可以減小透明導(dǎo)電層70的厚度，所以能夠縮短形成平板基板80所需要的時間。另外，在本實(shí)施形態(tài)中，顯示用電極82的制造方法，與用圖7說明過的制造方法相同，也包含透明導(dǎo)電層形成工序、金屬層層疊工序、第1光致抗蝕劑膜形成工序、第1刻蝕工序、第2光致抗蝕劑膜形成工序及第2刻蝕工序等各種工序。因此，在用第1光致抗蝕劑膜74對透明導(dǎo)電層70及金屬層72同時進(jìn)行刻蝕后，通過對第1光致抗蝕劑膜74再次進(jìn)行曝光和顯影，形成第2光致抗蝕劑膜76的圖案，并刻蝕出金屬層72的切縫84的部分。(第3實(shí)施形態(tài))在上述實(shí)施形態(tài)中，舉例示出了將本發(fā)明應(yīng)用于無源矩陣型液晶裝置的情況，但本發(fā)明也可以應(yīng)用于采用了TFD等二端子型開關(guān)元件的有源矩陣型液晶裝置。這種有源矩陣型的液晶板，例如由中間夾有TN型液晶層的一對相對配置的基板即元件基板及對置基板構(gòu)成。其中，元件基板，例如，由按條狀排列的多條配線、沿著這些配線按每個象素設(shè)置的TFD及通過TFD與配線連接的由透明導(dǎo)電層構(gòu)成的象素電極形成。此外，與元件基板相對配置的對置基板，按條狀形成寬度較寬的顯示用電極，并使其與元件基板側(cè)的象素電極的排列相互交叉。上述元件基板和上述對置基板，使元件基板上的象素電極與對置基板上的顯示用電極彼此相對地配置并將液晶夾在中間而粘合在一起，并由此形成液晶裝置。在該液晶裝置中，元件基板上的配線及對置基板上的顯示用電極中的一個起著著掃描電極的作用，而另一個則起著信號電極的作用。在這種TFD方式的有源矩陣型液晶裝置中，由于也按照本發(fā)明通過由透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)形成在構(gòu)成對置基板的顯示用基板上形成的配線，所以能夠取得與已說明過的實(shí)施形態(tài)相同的作用效果。以下，用該TFD方式的有源矩陣型液晶裝置。圖12將采用了本發(fā)明的顯示裝置用基板的TFD方式的有源矩陣型液晶裝置的主要部分、特別是幾個象素部分放大后示出。該液晶裝置的總體結(jié)構(gòu)，例如可以按圖15所示設(shè)定。該液晶裝置1，是將二端子型有源元件即TFD(ThinFilmDiode；薄膜二極管)用作有源元件的有源矩陣方式的液晶裝置，亦即在工作方式上能夠有選擇地進(jìn)行采用自然光等外部光的反射顯示及采用照明裝置的透射顯示的半透反射型液晶裝置，并且是將液晶驅(qū)動用IC直接安裝在基板上的COG(ChiponGlass；玻璃襯底芯片)方式的液晶裝置。在圖15中，液晶裝置1，通過用密封材料3將第1平板基板2a和第2平板基板2b粘合并進(jìn)一步將液晶封入到由第1平板基板2a、第2平板基板2b及密封材料3圍出的間隙即單元間隙內(nèi)而形成。此外，在其中一個平板基板2a上的向另一個平板基板2b的外側(cè)伸出的基板伸出部38的表面上直接安裝著液晶驅(qū)動用IC4a及4b。第2平板基板2b是形成TFD的基板即元件基板，第1平板基板2a是與元件基板相對配置的對置基板。在第2平板基板2b的由密封材料3圍出的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)，以點(diǎn)陣狀的排列方式沿著行方向XX及列方向YY形成多個象素電極。此外，在第1平板基板2a的由密封材料3圍出的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)，形成條狀電極，并使該條狀電極與第2平板基板2b側(cè)的多個象素電極彼此相對地配置。由第1平板基板2a上的條狀電極與第2平板基板2b上的1個象素電極將液晶夾在中間的部分，形成1個象素，通過將多個這種象素在由密封材料3圍出的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)按點(diǎn)陣狀排列，形成顯示區(qū)域V。液晶驅(qū)動用IC4a及4b在多個象素內(nèi)的對置電極之間有選擇地施加掃描信號及數(shù)據(jù)信號，從而按每個象素控制液晶的定向。根據(jù)該液晶的定向控制對通過該液晶的光進(jìn)行調(diào)制，可以在顯示區(qū)域V內(nèi)顯示數(shù)字等圖象。圖12將液晶裝置1中構(gòu)成顯示區(qū)域V的多個象素中的幾個象素的斷面結(jié)構(gòu)放大后示出，而圖13則示出1個象素部分的斷面結(jié)構(gòu)。在圖12中，第1平板基板2a，具有由玻璃、塑料等形成的基板6a、在該基板6a的內(nèi)側(cè)表面上形成的光反射膜61、在該光反射膜61上形成的濾色器62、在該濾色器62上形成的透明的條狀顯示用電極63。在該顯示用電極63上形成如圖13所示的定向膜71a。對該定向膜71a進(jìn)行作為定向處理的研磨處理。顯示用電極63，例如由ITO(IndiumTinOxide；銦錫氧化物)等透明導(dǎo)電材料形成。與第1平板基板2a相對配置的第2平板基板2b，具有由玻璃、塑料等形成的基板6b、在該基板6b的內(nèi)側(cè)表面上形成的起著開關(guān)元件作用的作為有源元件的TFD(ThinFilmDiode；薄膜二極管)67、與該TFD67連接的象素電極69。在TFD67及象素電極69上形成如圖13所示的定向膜71b。對該定向膜71b進(jìn)行作為定向處理的研磨處理。象素電極69，例如由ITO(IndiumTinOxide；銦錫氧化物)等透明導(dǎo)電材料形成。屬于第1平板基板2a的濾色器62，在與第2平板基板2b側(cè)的象素電極69相對的位置上具有R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))或C(青)、M(深紅)、Y(黃)等各種顏色的色素單元62a，在與象素電極69不相對的位置上具有黑色掩模62b。在圖13中，第1平板基板2a與第2平板基板2b之間的間隔、即單元間隙，由在其中任何一個基板的表面上分散設(shè)置的球狀間隔件54保持尺寸，并在該單元間隙內(nèi)封入液晶L。TFD67，如圖13和圖14所示，由第1金屬層65、在該第1金屬層65的表面上形成的絕緣層66、在該絕緣層66上形成的第2金屬層68構(gòu)成。上述的TFD67，按照由第1金屬層/絕緣層/第2金屬層構(gòu)成的層疊結(jié)構(gòu)、即所謂的MIM(金屬-絕緣體-金屬)結(jié)構(gòu)構(gòu)成。第1金屬層65，例如由鉭單體、鉭合金等形成。在將鉭合金用作第1金屬層65時，在主成分的鉭內(nèi)添加例如鎢、鉻、鉬、錸、釔、鑭、鏑等屬于周期律表中第6～第8族的元素。第1金屬層65，與行配線79的第1層79a整體形成。該行配線79，夾在象素電極69之間按條狀形成，起著用于向象素電極69供給掃描信號的掃描線或用于向象素電極69供給數(shù)據(jù)信號的數(shù)據(jù)線的作用。絕緣層66，例如由以陽極氧化法氧化第1金屬層65的表面而形成的氧化鉭(Ta2O3)構(gòu)成。當(dāng)對第1金屬層65進(jìn)行陽極氧化時，行配線79的第1層79a的表面也同時被氧化，從而同樣形成由氧化鉭構(gòu)成的第2層79b。第2金屬層68，例如由Cr等導(dǎo)電材料形成。象素電極69，其一部分以與第2金屬層68的前端重疊的方式在基板6b的表面上形成。此外，在基板6b的表面上，在形成第1金屬層65及行配線的第1層79a之前，有時還用氧化鉭等形成基底層。其目的是，使第1金屬層65不會因淀積第2金屬層后的熱處理而從基底剝離，或不使雜質(zhì)擴(kuò)散到第1金屬層65內(nèi)。在圖12中，通過粘貼等將相位差板52a安裝在基板6a的外側(cè)表面上，進(jìn)一步，通過粘貼等將偏振片53a安裝在該相位差板52a上。此外，還通過粘貼等將相位差板52b安裝在基板6b外側(cè)表面上，進(jìn)一步，通過粘貼等將偏振片53b安裝在該相位差板53b上。當(dāng)例如采用STN(SuperTwistedNematic；超扭曲向列)型液晶時，通過該液晶的光有時會發(fā)生波長分散，因而在顯示圖象上發(fā)生著色現(xiàn)象。相位差板52a和52b，是用于將這種著色現(xiàn)象除去的光學(xué)各向異性體，例如可以由通過對聚乙烯醇、聚酯、聚醚酰胺、聚乙烯等樹脂進(jìn)行單軸延伸處理而形成的薄膜構(gòu)成。偏振片53a和53b，是具有相對于入射的自然光射出某一方向的直線偏振光的功能的光學(xué)元件，例如，可以通過將偏振層夾在TAC(三醋纖維素)的保護(hù)層之間而形成。偏振片53a和53b，通常配置成使彼此的透射偏振軸不同。光反射膜61，例如由鋁等具有光反射性的金屬形成，并在與屬于第2平板基板2b的各象素電極69對應(yīng)的位置、即與各象素對應(yīng)的位置上形成光透過用開口49。圖12的顯示用電極63，在圖15中沿列方向YY延伸，從而像圖16所示的配線24及焊盤25那樣向基板伸出部38伸出，并使焊盤25與基板伸出部38上的液晶驅(qū)動用IC4b的輸出端子導(dǎo)電連接。配線24，例如具有如圖6(A)所示的由透明導(dǎo)電層70及在其上層疊的金屬層72構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)。此外，根據(jù)需要，顯示用電極63，如圖6(B)所示，也具有由寬度較寬的透明導(dǎo)電層70及在其上層疊的寬度狹窄的金屬層72構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)。由于本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置1按如上的方式構(gòu)成，當(dāng)該液晶裝置1進(jìn)行反射型顯示時，在圖12中從觀察者側(cè)即第2平板基板2b側(cè)向液晶裝置1的內(nèi)部入射的外部光，通過液晶L后到達(dá)光反射膜61，并由光反射膜61反射而再次供給到液晶L。液晶L，由在象素電極69和條狀顯示用電極63之間施加的電壓、即掃描信號及數(shù)據(jù)信號按每個象素控制其定向，由此，即可按每個象素對供給到液晶L的反射光進(jìn)行調(diào)制，因此可以在觀察者側(cè)顯示文字、數(shù)字等圖象。另一方面，當(dāng)液晶裝置1進(jìn)行透射型顯示時，使配置在第1平板基板2a的外側(cè)的照明裝置、即所謂的背照燈59發(fā)光，該發(fā)出的光，通過偏振片53a、相位差板52a、基板6a、光反射膜61的開口49、濾色器62、顯示用電極63及定向膜71a后供給到液晶L。在這之后，以與反射型顯示的情況同樣的方式進(jìn)行顯示。如上所述，在本實(shí)施形態(tài)中，由于使與在對置基板2a上形成的顯示用電極63連接的配線24為透明導(dǎo)電層70與金屬層72的層疊結(jié)構(gòu)，所以，與只用透明導(dǎo)電層70形成配線24的情況相比，可以減小配線24的電阻。因此，液晶裝置1，因配線24上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。另外，由于不需要為減小配線24的電阻而增加透明導(dǎo)電層70的膜厚，所以不會使大多是與配線24的透明導(dǎo)電層70同時形成的顯示用電極63的透明導(dǎo)電層70的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，可以提高顯示用電極63的透光率。進(jìn)一步，與只通過增加透明導(dǎo)電層70的厚度而減小配線24的電阻的情況相比，可以減小用作顯示用電極63及配線24的透明導(dǎo)電層70的厚度，所以能夠縮短形成對置基板2a即顯示裝置用基板所需要的時間。(第4實(shí)施形態(tài))本發(fā)明也可以應(yīng)用于以附屬于每個象素的形式具有作為三端子型開關(guān)元件的TFT(ThinFilmTransistor；薄膜晶體管)的有源矩陣型液晶裝置。該液晶裝置。例如通過使形成有TFT的元件基板和與其相對配置的對置基板相互配置成中間夾有TN(TwistedNematic；扭曲向列)型等液晶層而形成。在上述元件基板上，例如形成相互交叉配置的掃描線及數(shù)據(jù)線、柵極連接于掃描線而源極連接于數(shù)據(jù)線的TFT、連接于TFT的漏極的由透明導(dǎo)電層構(gòu)成的象素電極。此外，在對置基板上，按條狀形成與水平方向的象素電極的排列重疊的寬度較寬的顯示用電極即公用電極。在該液晶裝置中，按每個象素行、即按每個水平掃描周期且按每個垂直掃描周期切換施加于顯示用電極的公用電壓的電平，從而對象素電極與顯示用電極之間的液晶進(jìn)行交流驅(qū)動。這種驅(qū)動方法，被稱為1H公用電壓擺動驅(qū)動。在這種TFT方式的有源矩陣型液晶裝置中，由于也按照本發(fā)明通過由透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)形成在構(gòu)成對置基板的顯示用基板上形成的配線，所以能夠取得與已說明過的實(shí)施形態(tài)同樣的作用效果。以下，用該TFT方式的有源矩陣型液晶裝置。圖17示出本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置的電路結(jié)構(gòu)。在該圖中，在有源矩陣區(qū)域110內(nèi)，按N行×M列配置象素TFT108，并形成與這些TFT的柵電極連接的N條掃描線、及與其源區(qū)連接的M(=m×n)條信號線。將模擬開關(guān)TFT(20-11～20-nm)連接于上述M條信號線。模擬開關(guān)TFT，將鄰接的m個作為1組而劃分為n組，模擬開關(guān)TFT(20-11、20-12～20-1m)是第1組，(20-21、20-22～20-2m)是第2組，………(20-n1、20-n2～20-nm)是第n組。而且，包含在同一組內(nèi)并相互鄰接的模擬開關(guān)TFT(20-11、20-12～20-1m)的柵電極，由第1配線22-1連接在一起。此外，同樣，各組(20-21、20-22～20-2m)………(20-n1、20-n2～20-nm)的模擬開關(guān)TFT的柵電極，分別由第1配線22-2………22-n連接在一起。另外，包含在不同的組內(nèi)并相互不鄰接的模擬開關(guān)TFT(20-11、20-21～20-n1)的源區(qū)，由第2配線24-1連接在一起。此外，同樣，模擬開關(guān)TFT(20-12、20-22～20-n2)………(20-1m、20-2m～20-nm)的源區(qū)，分別由第2配線24-2………24-m連接在一起。如上所述，將模擬開關(guān)TFT按每組m個劃分為n組，在由施加于第1配線的控制信號控制模擬開關(guān)TFT的導(dǎo)通·關(guān)斷的情況下，可以將信號線的端子數(shù)減少到1/n。即，當(dāng)沒有模擬開關(guān)TFT時，可以將已有的M條信號線的端子數(shù)減少到m(M/n)個。于是，數(shù)據(jù)驅(qū)動器，連接于m條第2配線24-2～24-m，因而可以減少數(shù)據(jù)驅(qū)動器的個數(shù)、端子數(shù)，從而能實(shí)現(xiàn)裝置的小型化及低成本化。在本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置中，最好將通過第2配線24-2～24-m供給模擬開關(guān)TFT20-11～20-nm的源區(qū)的輸入信號振幅設(shè)定在5V以下。按照這種方式，可以減小模擬開關(guān)TFT的閾值電壓的偏移量，由此，可以確?？煽啃圆⑻岣唢@示質(zhì)量。圖22示出對閾值電壓的偏移量與動作時間的關(guān)系的測定結(jié)果。假定選擇信號Vg=20V，并將負(fù)載電容C設(shè)定為與標(biāo)準(zhǔn)液晶板中的負(fù)載電容相等，即C=10pF左右。此外，將動作頻率f設(shè)定320kHz。在本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置中，設(shè)有劃分為n組的模擬開關(guān)TFT，從而減少了數(shù)據(jù)驅(qū)動器的個數(shù)或端子數(shù)，例如，減少到1/n，所以能使象素電極的充放電所容許的時間比正常情況短。為此，也提高了上述動作頻率f。施加了與供給模擬開關(guān)TFT的輸入信號相當(dāng)?shù)?0V振幅(即，Vd=10V)的矩形波信號時的閾值偏移特性，由“G”表示，施加了5V振幅(即，Vd=5V)的矩形波信號時由“H”表示。當(dāng)Vd=10V時，閾值電壓在200小時左右偏移1V。另一方面，當(dāng)使施加于模擬開關(guān)TFT的源區(qū)的輸入信號振幅為5V、即Vd=5V時，可在大約10000小時將閾值電壓的偏移量保持在1V以下。當(dāng)閾值電壓的偏移量大于1V時，對象素電極的數(shù)據(jù)寫入量是不夠的，即不能使象素電極達(dá)到所需的電位，因此，存在著使對比度降低等問題。特別是，例如當(dāng)模擬開關(guān)TFT的閾值電壓為1V左右時，閾值電壓如向負(fù)側(cè)偏移1V左右，模擬開關(guān)TFT將進(jìn)入耗盡模式，則即使模擬開關(guān)TFT為關(guān)斷狀態(tài)，也仍有電流漏泄，這將使顯示特性惡化。為使液晶裝置有足夠的可靠性，至少必須在大約1000小時以內(nèi)將閾值電壓的偏移量保持在1V以下，而最好是在幾千小時左右的時間內(nèi)保持在1V以下。當(dāng)Vd=10V時，如圖22所示，偏移量在200小時左右將大于1V，在1000小時將大于2V，所以存在著很難確保可靠性的問題。在本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置中，由于將模擬開關(guān)TFT的輸入信號振幅設(shè)定為5V以下，所以能夠緩和源區(qū)端部上的電場集中。因此，能夠在大約10000小時內(nèi)將閾值電壓的偏移量保持1V以下，所以能以足夠的安全系數(shù)確保可靠性。進(jìn)一步，由于將輸入信號振幅設(shè)定為5V以下，所以可以減小模擬開關(guān)TFT的擊穿電壓差，還能降低對液晶的DC施加電壓。另外，在圖22中，為了與Vd=10V的情況進(jìn)行適當(dāng)?shù)谋容^，還在Vd=5V的情況下按Vg=20V進(jìn)行了測定。但是，當(dāng)Vd=5V、即輸入信號的振幅為5V時，即使Vg=15V，也能確保與Vd=10V、Vg=20V時同樣的寫入性能。而且，在這種情況下，如圖22的“H”所示，閾值電壓的偏移量進(jìn)一步減小，可靠性提高。此外，為進(jìn)一步提高可靠性，最好是使Vd=3V以下。為提供參考，在圖22的“I”上同時記錄了Vd=5V、動作頻率為3kHz時的測定結(jié)果。其次，在本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置中，最好是用多晶硅或單晶硅在玻璃基板上將象素TFT與模擬開關(guān)TFT同時整體形成。當(dāng)對模擬開關(guān)TFT施加輸入信號而對象素電極的充放電在規(guī)定期間尚未完成時，將使顯示特性惡化，所以必須減小模擬開關(guān)TFT的導(dǎo)通電阻。特別是，在將模擬開關(guān)TFT劃分為n組而使數(shù)據(jù)驅(qū)動器的個數(shù)減少時，對減小導(dǎo)通電阻的要求更為嚴(yán)格。可是，非晶質(zhì)硅TFT、即非晶硅TFT，遷移率非常低，盡管可以應(yīng)用于象素TFT，但因上述導(dǎo)通電阻的問題實(shí)際上不可能應(yīng)用于模擬開關(guān)TFT。在本實(shí)施形態(tài)中，用遷移率比非晶質(zhì)硅高得多的多晶硅或單晶硅形成象素TFT和模擬開關(guān)TFT。因此，在實(shí)用上可以將象素TFT與模擬開關(guān)TFT在玻璃基板上整體形成。由于可以將象素TFT與模擬開關(guān)TFT在玻璃基板上整體形成，所以能使液晶裝置的外形尺寸小型化，并可以實(shí)現(xiàn)低成本化。以下，用圖18說明將象素TFT與模擬開關(guān)TFT整體形成的制造方法及器件結(jié)構(gòu)。首先，在玻璃基板130上淀積用于防止來自該玻璃基板130的雜質(zhì)的擴(kuò)散的基底絕緣膜132，然后淀積多晶硅薄膜134。為增加場效應(yīng)遷移率，必須提高該多晶硅薄膜134的結(jié)晶性。因此，用激光退火或固相生長法使多晶硅薄膜再結(jié)晶，或采用使非晶質(zhì)硅薄膜結(jié)晶后得到的多晶硅薄膜。將該多晶硅薄膜134按島狀形成圖案后，淀積柵極絕緣膜136。接著，例如用金屬形成柵電極138，然后，在整個表面上摻雜磷離子等雜質(zhì)。接著，形成層間絕緣膜(SiO2)140，用例如鋁構(gòu)成的金屬薄膜142形成信號線等，用ITO等透明導(dǎo)電膜形成象素電極144，并在形成鈍化膜146后，完成將象素TFT與模擬開關(guān)TFT整體形成的基板。對該基板進(jìn)行定向處理，并將進(jìn)行了同樣的定向處理后的對置基板135隔著幾μm的間隙與其相對配置，在該間隙內(nèi)封入液晶L后，即可制成液晶裝置。在對置基板135的液晶L一側(cè)的表面上，例如，如圖3所示，形成顯示用電極22，進(jìn)一步將來自外部電路的端子連接于從顯示用電極22延伸的配線24的焊盤25。另外，如圖6(A)所示，配線24，按照由透明導(dǎo)電層70與低電阻金屬層72構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)形成。并且，根據(jù)需要，如圖6(B)所示，顯示用電極22也按照由寬度較寬的透明導(dǎo)電層70及寬度較窄的低電阻金屬層72構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)形成。圖17所示的液晶裝置101，可以形成為例如圖19所示的外觀形狀。在圖19中，用虛線表示的部分，是顯示屏面即有源矩陣區(qū)域160。液晶材料，夾在濾色器基板162與TFT基板164之間。在區(qū)域166內(nèi)，配置模擬開關(guān)及其配線。數(shù)據(jù)驅(qū)動器170，用TAB(TapeAutomatedBonding；帶式自動粘結(jié))帶168安裝。而且，數(shù)據(jù)驅(qū)動器172及掃描驅(qū)動器174，也按同樣方式用TAB帶168安裝。在電路基板176上，設(shè)有用于向數(shù)據(jù)驅(qū)動器170、172及掃描驅(qū)動器174供給信號的配線、電容器等。此外，根據(jù)情況，也可以設(shè)置用于控制數(shù)據(jù)驅(qū)動器、掃描驅(qū)動器的控制電路。在圖19所示的實(shí)施形態(tài)中，將模擬開關(guān)TFT的個數(shù)在有源矩陣區(qū)域160的上側(cè)和下側(cè)各配置一半。為此，將圖17所示的M條信號線從上側(cè)和下側(cè)兩側(cè)按所謂的梳齒狀配線。此外，數(shù)據(jù)驅(qū)動器及掃描驅(qū)動器，安裝在結(jié)構(gòu)為濾色器基板162與TFT基板164粘合的液晶板的同一邊。按照這種結(jié)構(gòu)，本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置，可以使外形尺寸L3非常小，因此，適用于攜帶式電話機(jī)、攜帶式電子終端機(jī)之類的攜帶式設(shè)備。如上所述，在本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置101中，為能適當(dāng)?shù)乜刂颇M開關(guān)TFT的閾值電壓的偏移量，最好將供給模擬開關(guān)的源區(qū)的輸入信號振幅設(shè)定在5V以下。但是，在這種情況下，如采用通常的驅(qū)動方法，則存在著如下的問題。圖21示出進(jìn)行半幀反轉(zhuǎn)動驅(qū)動的通常驅(qū)動波形。由于液晶必須進(jìn)行交流驅(qū)動，所以必須使施加于信號線的信號Vs以規(guī)定電位Vc為中心按每個規(guī)定周期進(jìn)行極性反轉(zhuǎn)。因此，如圖21所示，Vs的振幅非常寬。另外，由于在通常的TN液晶中必須施加±5V左右的電壓，所以Vs的振幅也必須在10V左右。為補(bǔ)償象素TFT變?yōu)殛P(guān)斷狀態(tài)時產(chǎn)生的擊穿電壓，施加于對置電極的電位Vcom應(yīng)為比Vs的中心電位Vc低ΔV的電位。這里，建立了ΔV的的平均值=Vc-Vcom的關(guān)系。在圖21所示的驅(qū)動波形中，Vs的振幅必須大到10V左右。因此，模擬開關(guān)TFT的輸入信號振幅也必須加大，因而就不能使輸入信號的振幅就在5V以下。因此，在本實(shí)施形態(tài)中，如圖20所示，進(jìn)行使施加于對置電極的電位的相對于上述輸入信號的極性按每一水平掃描周期反轉(zhuǎn)的驅(qū)動(以下，將該這種驅(qū)動方法稱為1H公用電壓擺動驅(qū)動)。在圖21中，使Vs的極性以Vc為中心按每個半幀進(jìn)行反轉(zhuǎn)，但在1H公用電壓擺動驅(qū)動中，由于使Vcom的極性按每一水平掃描周期反轉(zhuǎn)，所以無需進(jìn)行Vs的極性反轉(zhuǎn)。因此，可以減小Vs的振幅。按照這種方式，可以在保持顯示質(zhì)量的同時將模擬開關(guān)TFT輸入信號設(shè)定在5V以下。進(jìn)一步，可以降低數(shù)據(jù)驅(qū)動器的動作電壓并能以耐壓5V的制造工藝形成，因而可以實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)驅(qū)動器的小型化、低耗電量化、低成本化。按照這種1H公用電壓擺動驅(qū)動法，既能提高模擬開關(guān)TFT的可靠性，又能降低數(shù)據(jù)驅(qū)動器的動作電壓等。此外，在圖20中，為防止擊穿電壓造成的惡劣影響，建立了ΔV的的平均值=Vs的平均值-Vcom的關(guān)系。如上所述，在本實(shí)施形態(tài)中，在圖18所示的對置基板135上形成圖3所示的條狀顯示用電極22。另外，與顯示用電極22連接的配線24，具有如圖6(A)所示的透明導(dǎo)電層70與金屬層72的層疊結(jié)構(gòu)。因此，與只用透明導(dǎo)電層70形成配線24的情況相比，可以減小配線24的電阻。所以，因配線24上的電壓降而導(dǎo)致液晶裝置的顯示質(zhì)量降低的可能性很小。另外，由于不需要為減小配線24的電阻而增加透明導(dǎo)電層70的膜厚，所以不會使大多是與配線24的透明導(dǎo)電層70同時形成的顯示用電極63的透明導(dǎo)電層70的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，可以提高顯示用電極63的透光率。進(jìn)一步，與只通過增加透明導(dǎo)電層70的厚度而減小配線24的電阻的情況相比，可以減小用作顯示用電極63及配線24的透明導(dǎo)電層70的厚度，所以能夠縮短形成對置基板2a即顯示裝置用基板所需要的時間。(第5實(shí)施形態(tài))圖8(A)、(B)、(C)示出將圖1所示的液晶裝置1、圖15所示的液晶裝置1或圖17所示的液晶裝置101用作顯示裝置的電子設(shè)備的實(shí)施形態(tài)，圖8(A)示出攜帶式電話機(jī)88，在其正面的上方具有液晶裝置10等。圖8(B)示出手表92，在其本體的正面中央具有液晶裝置10等用作顯示部。圖8(C)示出攜帶式信息終端96，備有由液晶裝置10等構(gòu)成的顯示部和輸入部98。以上的各電子設(shè)備，例如，如圖11所示，除了具有液晶裝置10等以外，在結(jié)構(gòu)上還包含由顯示信息輸出源86、顯示信息處理電路87、時鐘發(fā)生電路89等各種電路以及向這些電路供電的電源電路91等構(gòu)成的顯示信號生成部93。例如，在圖8(C)所示的攜帶式信息終端96的情況下，在顯示部上，通過供給由顯示信號生成部93根據(jù)從輸入部91輸入的信息等生成的顯示信號形成顯示圖象。另外，作為裝有本實(shí)施形態(tài)的液晶裝置10的電子設(shè)備，不限于攜帶式電話機(jī)、手表、攜帶式信息終端，還可以考慮筆記本式計(jì)算機(jī)、電子記事簿、尋呼機(jī)、臺式式電子計(jì)算器、POS終端、IC卡、小型光盤播放機(jī)等各種電子設(shè)備。(其他實(shí)施形態(tài))以上，列舉最佳實(shí)施形態(tài)說明了本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于該實(shí)施形態(tài)，可以在權(quán)利要求范圍所述的發(fā)明范圍內(nèi)進(jìn)行各種變更。例如，在上述的各實(shí)施形態(tài)中，給出了透明導(dǎo)電層用ITO形成、金屬層用鋁形成的例。但是，形成透明導(dǎo)電層的材料，只要透光率高并具有足夠的導(dǎo)電性即可，例如，也可以是氧化錫或銀。此外，透明導(dǎo)電層也可以是既能進(jìn)行光透射又能進(jìn)行光反射的具有半透射功能的半透射膜。而形成金屬層的材料，只要具有導(dǎo)電性即可，例如，也可以是鉻、銅、銀或金等。另外，在上述各實(shí)施形態(tài)的液晶板上，也可以在一對基板中的一方的內(nèi)表面上形成濾色器并用作彩色顯示裝置。濾色器，在顯示用電極的下層形成。另外，在上述各實(shí)施形態(tài)中，作為液晶板，示出了STN型液晶板。但是，作為液晶板，不限于此，也可以采用TN(TwistedNematic；扭曲向列)型、賓主型、相變型、雙穩(wěn)態(tài)TN(Bi-stableTwistedNematic)型、強(qiáng)介質(zhì)型等各種型式的液晶板。此外，顯示用電極，也不限于條狀，可以是圖符等字符形狀。另外，在圖1所示的實(shí)施形態(tài)中，舉例示出了透射型的液晶裝置。但是，即使是反射型顯示裝置，本發(fā)明也可以應(yīng)用。在這種液晶裝置中，不使用背照燈單元，而是在背面?zhèn)扰渲梅瓷浒?、或?qū)@示用電極中的一個作為反射電極而形成。另外，本發(fā)明，不限定于上述的各實(shí)施形態(tài)，在本發(fā)明的要點(diǎn)的范圍內(nèi)或權(quán)利要求范圍的均等范圍內(nèi)可以實(shí)施各種變形。如上所述，按照本發(fā)明，由于使配線為透明導(dǎo)電層與金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，所以，與只用透明導(dǎo)電層形成的情況相比，可以減低顯示用電極的電阻。因此，采用了本發(fā)明的顯示裝置用基板的液晶裝置，因配線上的電壓降而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低的可能性很小。另外，由于不需要為減小配線電阻而增加透明導(dǎo)電層的膜厚，所以不會使大多是與配線的透明導(dǎo)電層同時形成的顯示用電極的透明導(dǎo)電層的膜厚增加到超過必要的厚度。因此，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以提高顯示用電極的透光率。進(jìn)一步，與只增加透明導(dǎo)電層的厚度從而減小配線電阻的情況相比，可以減小用作顯示用電極及配線的透明導(dǎo)電層的厚度，所以能夠縮短形成顯示裝置用基板所需要的時間。權(quán)利要求1．一種顯示裝置用基板，備有多個顯示用電極、及用于對上述多個顯示用電極施加電壓的多條配線，該顯示裝置用基板的特征在于上述配線，具有由與上述顯示用電極為同一層的透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置用基板，其特征在于上述顯示用電極，具有由透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。3．根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置用基板，其特征在于上述顯示用電極的上述金屬層，其寬度比上述透明導(dǎo)電層的寬度窄。4．根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的顯示裝置用基板，其特征在于上述顯示用電極，具有上述透明導(dǎo)電層與上述金屬層的層疊結(jié)構(gòu)，在該層疊結(jié)構(gòu)的部分上，上述金屬層具有局部的開口。5．根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任何一項(xiàng)所述的顯示裝置用基板，其特征在于上述配線，是從上述顯示用電極的端部起沿著上述基板的周緣圍設(shè)的配線。6．一種液晶裝置，通過將液晶夾在一對基板之間而形成，該液晶裝置的特征在于通過將權(quán)利要求1～5中的任何一項(xiàng)所述的顯示裝置用基板用作上述一對基板中的至少一個而構(gòu)成。7．一種液晶裝置，其特征在于通過將液晶層夾在權(quán)利要求4所述的顯示裝置用基板和與其相對配置的對置基板之間而構(gòu)成，并具有將上述金屬開口部用作光透射部的透射型顯示功能及將上述金屬層部分用作光反射部的反射型顯示功能。8．一種電子設(shè)備，其特征在于具有權(quán)利要求6或權(quán)利要求7所述的液晶裝置作為顯示單元。9．一種顯示裝置用基板的制造方法，用于制造權(quán)利要求1～5中的任何一項(xiàng)所述的顯示裝置用基板，該制造方法的特征在于，包括在上述基板上形成上述透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電層形成工序；在上述透明導(dǎo)電層上層疊金屬層的金屬層層疊工序；同時刻蝕上述透明導(dǎo)電層及上述金屬層的刻蝕工序。10．一種顯示裝置用基板的制造方法，用于制造權(quán)利要求1-5中的任何一項(xiàng)所述的顯示裝置用基板，該制造方法的特征在于，包括在上述基板上形成上述透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電層形成工序；在上述透明導(dǎo)電層上層疊金屬層的金屬層層疊工序；用第1光致抗蝕劑膜同時刻蝕上述透明導(dǎo)電層及上述金屬層并形成圖案的第1刻蝕工序；通過對上述第1光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光和顯影而形成具有規(guī)定圖案的第2光致抗蝕劑膜并用所述第2光致抗蝕劑膜僅刻蝕上述金屬層并形成圖案的第2刻蝕工序。11．根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置用基板的制造方法，其特征在于按照上述第2刻蝕工序?qū)ι鲜鲲@示用電極的上述金屬層進(jìn)行刻蝕，使其僅保留上述透明導(dǎo)電層的端部上的部分。12．根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置用基板的制造方法，其特征在于按照上述第2刻蝕工序?qū)ι鲜鲲@示用電極的上述金屬層進(jìn)行刻蝕，使其在上述透明導(dǎo)電層上具有開口部。13．一種液晶裝置，通過將液晶夾在一對顯示裝置用基板之間而構(gòu)成，該液晶裝置的特征在于其中一個顯示裝置用基板，具有多個象素電極、及按附屬于該各象素電極的方式形成的多個二端子型開關(guān)元件，另一個顯示裝置用基板，具有與上述多個象素電極相對配置的按條狀排列的多個顯示用電極、及與該顯示用電極連接的配線，上述多個顯示用電極包含透明的導(dǎo)電層，上述配線，具有由與上述顯示用電極為同一層的透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。14．一種液晶裝置，通過將液晶夾在一對顯示裝置用基板之間而構(gòu)成，該液晶裝置的特征在于其中一個顯示裝置用基板，具有多個象素電極、及按附屬于該各象素電極的方式形成的多個三端子型開關(guān)元件，另一個顯示裝置用基板，具有與上述多個象素電極相對配置的按條狀排列的多個顯示用電極、與該顯示用電極連接的配線，上述多個顯示用電極包含透明的導(dǎo)電層，上述配線，具有由與上述顯示用電極為同一層的透明的導(dǎo)電層構(gòu)成的透明導(dǎo)電層與由電阻低于上述透明導(dǎo)電層的金屬構(gòu)成的金屬層的層疊結(jié)構(gòu)。全文摘要提供一種配線電阻小且顯示用電極的透光率高的平板基板及采用了該平板基板的液晶裝置。液晶板30,具有基板31、在基板31上并列形成的多個顯示用電極32、與在基板31上形成的顯示用電極32連接的多條配線34。顯示用電極32及配線34,具有透明導(dǎo)電層70與金屬層72的兩層結(jié)構(gòu)。顯示用電極32的金屬層72的寬度遠(yuǎn)比透明導(dǎo)電層70的寬度窄。文檔編號G02F1/1368GK1309320SQ01104730公開日2001年8月22日申請日期2001年2月19日優(yōu)先權(quán)日2000年2月18日發(fā)明者日向章二申請人:精工愛普生株式會社