專利名稱：應(yīng)變穩(wěn)定型雙折射晶體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及雙折射晶體，特別涉及到一種溫度穩(wěn)定型的雙折射晶體，該晶體應(yīng)用于具有穩(wěn)定性、且與溫度無關(guān)的雙折射晶體干涉儀中。
背景技術(shù)：
干涉儀是許多重要的通信設(shè)備(包括interleaver、色散補(bǔ)償器和周期性濾波器)的基礎(chǔ)，干涉儀的基本原理是將連續(xù)光分成兩路光傳播，產(chǎn)生可能不同的傳播延遲，然后再將這兩路光合并。
如果光源的連續(xù)波長大于兩個光臂上的光程差，兩個光信號在輸出端的干涉可以靈敏地測量出兩個光臂上的傳播延遲差，如果輸入光源的頻率采用掃頻方式，那么，干涉儀將表現(xiàn)為周期性傳播，其頻率為V0=cn1l1-n2l2---(1)]]>其中c是自由空間中的光速，ni和li分別是兩個光臂i＝1，2上的折射率和物理光程，此頻率通常稱作干涉儀自由光譜區(qū)(FSR)。
為使工作穩(wěn)定，nili兩乘積的穩(wěn)定性應(yīng)比一個光波長的穩(wěn)定性要好得多，在光通信波段中，要求達(dá)到10nm量級以上的穩(wěn)定性，但此穩(wěn)定性很難維持。眾所周知的是，現(xiàn)有技術(shù)可以設(shè)計出能提供這種穩(wěn)定光程的雙折射晶體干涉儀(BCI)。
在由單軸雙折射晶體材料組成的干涉儀BCI中，這兩個(路徑)只是指通過該材料的兩束正交線偏振光的光程，由于其中一束偏振光為非尋常光，其折射率為ne，另一束為尋常光，其折射率為no，兩者光程差(也稱作遲差)記為Δnl，其中雙折射Δn等于具有正介電各向異性材料的ne-no的值，從下列方程式中可以得出干涉儀的FSRV0=cΔnl---(2)]]>由于l1＝l2＝l，是一個自動相等的值，只有雙折射Δn與晶體總長度l兩者的改變才能夠影響干涉儀的工作，實際上，溫度變化可以使這些特性都發(fā)生變化，在某種程度上，這些特性是通過沿著導(dǎo)光方向的熱光系數(shù)(實際上，是與no和ne相關(guān)的兩個熱光系數(shù)的差值)以及熱脹系數(shù)(CTE)這些物理參數(shù)來體現(xiàn)的。
對這種溫度相關(guān)性問題，Kuochou Tai及其同事在申請?zhí)枮镹o.09/476,034的專利中已經(jīng)提出了一個解決辦法，Kuochou Tai等人將兩個不同材料的晶體疊起來，使得雙晶體BCI與溫度無關(guān)，例如，適當(dāng)選擇釩酸釔(YVO4)晶體和金紅石(TiO2)晶體可以提供一種對于溫度和機(jī)械微擾都很穩(wěn)定的干涉儀。
然而，這種方法有幾個缺點。
首先，制造有足夠精度等長的兩個晶體是很困難的，為克服此局限，挑選幾對晶體使得兩者的結(jié)合具有所需的FSR。
其次，盡管選擇的晶體對具有所需的FSR并且溫度穩(wěn)定，但是它們并不恰好在重要的光頻區(qū)(國際電信聯(lián)盟的柵格)產(chǎn)生共振，為調(diào)整干涉儀的共振頻率，現(xiàn)有的做法是加一個石英薄片(厚度一般在180至210微米)，相應(yīng)地，每對晶體要經(jīng)過測量并且選擇合適的石英片來調(diào)節(jié)共振頻率。
最后，如果在裝配時一塊晶體相對于另一塊晶體旋轉(zhuǎn)，就可能改變有效長度和/或有效折射率(從而改變有效雙折射)，從而在FSR和溫度相關(guān)關(guān)系中引入不期望的變化。
本發(fā)明的目的是，提供一種應(yīng)用于熱穩(wěn)定的BCI中、并且能排除現(xiàn)有技術(shù)缺點的雙折射晶體，同時這一晶體的遲差與溫度無關(guān)。
本發(fā)明的另一個目的是，提供一種光學(xué)遲差系統(tǒng)，同時該系統(tǒng)應(yīng)用于穩(wěn)定且與溫度無關(guān)的BCI中，該BCI可以在interleaver周期性濾波器和/或色散補(bǔ)償器中使用。
發(fā)明概要本發(fā)明涉及一種穩(wěn)定的、對溫度不敏感的雙折射晶體干涉儀(BCI)，該干涉儀只使用一種晶體并且可以用interleaver周期性濾波器和/或色散補(bǔ)償器中，對比使用兩種晶體的BCI，使用一種晶體的光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)越性是其價格更便宜、更耐用、效果更好。
根據(jù)本發(fā)明公開了一種光學(xué)系統(tǒng)，它包括一塊有一個輸入端口和一個輸出端口的導(dǎo)光單軸雙折射材料，該材料在第一個溫度時會引起一次光的遲差；以及施加應(yīng)變裝置，該裝置用于給第一塊材料或光耦合到第一塊材料上的另一塊導(dǎo)光材料引入一個應(yīng)變，引入的應(yīng)變使第二次凈遲差至少在另一溫度維持與第一次遲差幾乎相等。
根據(jù)本發(fā)明，公開了一種補(bǔ)償雙折射材料的熱漂移的方法，包括如下步驟提供在第一個溫度時會引起一次光的遲差的一塊導(dǎo)光雙折射材料，以及通過在一塊導(dǎo)光雙折射材料或另一塊導(dǎo)光材料上施加一個應(yīng)力，來維持在另一個溫度時的凈遲差與第一次遲差幾乎相等。
根據(jù)本發(fā)明，還公開了另一種補(bǔ)償雙折射材料的熱漂移的方法，包括如下步驟提供在第一個溫度時有一次凈遲差的一種導(dǎo)光器件，此導(dǎo)光器件包括一塊雙折射材料；以及通過給該導(dǎo)光器件的至少一部分引入一個應(yīng)變，來維持該導(dǎo)光器件在另一個溫度時的凈遲差。
為方便起見，名詞“凈遲差”用在這里，指的是所需設(shè)備工作中的光譜范圍內(nèi)的凈或總遲差。
附圖簡述下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施例子進(jìn)行說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)的示意圖，該圖說明了用于熱穩(wěn)型雙折射晶體干涉儀(BCI)中的一塊YVO4晶體、一塊TiO2晶體以及一個SiO2片的布局；圖2a是根據(jù)本發(fā)明設(shè)計的用于熱穩(wěn)型BCI的一塊雙折射晶體的示意圖；圖2b是根據(jù)本發(fā)明設(shè)計的用于熱穩(wěn)型BCI的一塊雙折射晶體與一塊玻璃的示意圖；圖3是一個光學(xué)器件與一個裝配座緊密接觸的示意圖，該裝配座與該光學(xué)器件有不同的熱膨脹系數(shù)，并且提供了在光學(xué)器件中應(yīng)力引入的雙折射的裝置；圖3a是雙金屬裝配座與光學(xué)器件的截面圖4a與4b是根據(jù)本發(fā)明關(guān)于應(yīng)變(S)與溫度(T)的關(guān)系曲線圖；圖5是圖3中光學(xué)器件與裝配座的示意圖，通過改變光學(xué)器件與裝配座之間的一個相互作用長度，來改變應(yīng)力引入的雙折射量；圖5a是圖5中光學(xué)器件與裝配座的示意圖，其中光學(xué)器件相對于裝配座是可以移動的；圖5b是圖5中由兩種不同金屬組成的裝配座的示意圖。
發(fā)明的詳細(xì)說明參照圖1，該圖表示現(xiàn)有技術(shù)的一種光學(xué)系統(tǒng)，該系統(tǒng)應(yīng)用于有兩種雙折射晶體的雙折射晶體干涉儀(BCI)，其中一塊YVO4雙折射晶體10與一塊TiO2雙折射晶體20相鄰。為了使該系統(tǒng)具有預(yù)先給定的自由光譜區(qū)(FSR)并且能提供熱穩(wěn)定性，每一塊雙折射晶體的成分與長度都是有所選擇的。為了小幅度的調(diào)節(jié)干涉儀共振頻率，應(yīng)使一個石英(SiO2)片30與第二塊雙折射晶體20相鄰。如圖所示，光從左向右傳播，一個典型的例子是晶體的c軸位于與光路垂直的平面內(nèi)。
轉(zhuǎn)至圖2，根據(jù)本發(fā)明，該圖表示用于雙折射晶體干涉儀中的一種具有兩種具體實施裝置的光學(xué)系統(tǒng)100，并且該系統(tǒng)只使用一種雙折射晶體110，BCI的更高的溫度穩(wěn)定性及頻率調(diào)制可以利用彈光效應(yīng)來得到，其中通過在材料中引入一個應(yīng)變來改變材料的雙折射。在本發(fā)明中，通過給晶體或者被光耦合到晶體上的另一光學(xué)器件引入一個應(yīng)變來使雙折射晶體具有溫度穩(wěn)定性。
參照圖2a，一個如粗箭頭所示的與溫度相關(guān)的均勻應(yīng)變場以與光的傳播方向垂直的一個方向作用在一個單雙折射晶體110上，應(yīng)變場給晶體110的雙折射引入一個變化，并通過方程2修改干涉儀的自由光譜區(qū)(FSR)，對于某種依賴于無應(yīng)變的FSR的溫度，是有可能通過解決需要作為溫度的函數(shù)的一個應(yīng)變來補(bǔ)償這個變化，得到一個溫度穩(wěn)定型的BCI。
參照圖2b，溫度相關(guān)的均勻應(yīng)變場作用到一個單獨的補(bǔ)償片120上，為了得到一個補(bǔ)償?shù)那遗c溫度相關(guān)的FSR，補(bǔ)償片由一種各向同性的材料(比如一玻璃塊)制成，各向同性的玻璃塊120由于受應(yīng)變的影響而成為雙折射的材料，由這種微小的附加的雙折射所引起的遲差正好彌補(bǔ)了晶體的FSR的變化。
盡管這種具體實施裝置有引入另一個光學(xué)器件的缺點，但從靈活性角度來看，這一具體實施也具備了以下幾個優(yōu)點。
首先，由于玻璃塊120的唯一作用是彌補(bǔ)晶體的熱漂移，通過對玻璃塊120的材料與尺寸的選擇來達(dá)到最好的效果，這與圖2a中的具體實施例形成對比，通過方程1可以看出，該圖中晶體110的材料與長度受所需的FSK的限制。
其次，對于一個給定的應(yīng)變，由于引入的遲差與光通過的材料的長度成線性關(guān)系，補(bǔ)償片120的額外長度會產(chǎn)生共振頻率的額外漂移，大體上可以得出這么一個推論，通過增加玻璃的長度直到所需應(yīng)力的最大值處在可接受范圍內(nèi)，那么，這一具體實施例在任一溫度范圍內(nèi)都能給任何一種晶體提供補(bǔ)償。
最后，這個具體實施例的優(yōu)點是允許晶體110為一種無應(yīng)變晶體，從而減小造成晶體破碎或其它損壞的機(jī)率，另外，由于晶體110是一種無應(yīng)變晶體，晶體和/或溫度范圍的選擇是以效率為基礎(chǔ)，而不是以防止損壞為基礎(chǔ)。
如技術(shù)中所熟知的，由應(yīng)變引入的雙折射以很高的精確度與應(yīng)變成正比，在FSR內(nèi)的由溫度而引起的變化也幾乎與溫度成線性關(guān)系，因此，要求應(yīng)變隨溫度成線性變化以抵消FSR的溫度漂移。根據(jù)本發(fā)明的一種具體實施裝置，通過將如圖2a中的晶體110或如圖2b中的玻璃塊120限制在一個熱膨脹系數(shù)與晶體110或玻璃塊120不同的金屬裝配座中，就可以達(dá)到這個要求，因此，此具體裝置有利地提供了一個緊湊性良好而且自穩(wěn)定性很高的BCI。
參照圖3，該圖表示一個支持一種光學(xué)器件140的裝配座130，該器件要么是晶體110或者是玻璃片120，像圖3a中所示，裝配座130更適合由一種金屬或多種金屬的混合物來作為其組件，在裝置的所有工作和儲存溫度中此裝配座都與該光學(xué)器件緊密接觸，當(dāng)溫度改變時，光學(xué)器件140與金屬裝配座130的熱膨脹系數(shù)的差別在光學(xué)器件140中產(chǎn)生一個應(yīng)力，該應(yīng)力隨溫度成線性變化，正如所要求的那樣(即金屬裝配座相當(dāng)于一個施加應(yīng)變裝置)，設(shè)計一個雙或多金屬裝配座，使得作用于光學(xué)器件上作為溫度函數(shù)的應(yīng)力是金屬CTE與尺度加權(quán)平均的一個函數(shù)，就如所有材料的楊氏模量，盡管裝配座130描述為有三個面圍繞矩形的光學(xué)器件140，2個面或4個面也是可以的，有利的是，這種三個面的設(shè)計提供一個整塊的構(gòu)造使光學(xué)器件140容易放入其中，裝配座最好提供至少兩個相對平面以便在晶體中產(chǎn)生壓縮應(yīng)變。
為了產(chǎn)生均勻的雙折射以及減少那些容易損壞光學(xué)器件140的多余應(yīng)力，貫穿于器件140的應(yīng)變場最好是均勻的。為了進(jìn)行這種均勻的裝載，在裝配座與晶體之間隨機(jī)準(zhǔn)備一個薄的緩沖層，這一層襯墊隨著局部不均勻的應(yīng)力而變形，因而提高了光學(xué)器件140與裝配座130之間接觸的一致性。然而裝配座130的熱傳導(dǎo)最好較大以至于可以將裝配座內(nèi)的任一可能的溫度梯度最小化，而且這一溫度梯度將會通過裝配座產(chǎn)生晶體裝載的不均勻性，或者產(chǎn)生光學(xué)材料中溫度相關(guān)的遲差上的不一致性。
進(jìn)一步傾向于選擇方向不同于將其最小化的方向的應(yīng)變場，例如，當(dāng)所引入的應(yīng)力如圖2所示與光信號的方向垂直時，由于晶體與裝配座的熱膨脹，晶體中的剪切力更易于被控制。
為了減小裝配座130中光學(xué)器件140拐角附近的巨大的應(yīng)力，將光學(xué)器件的拐角隨意弄成圓形或進(jìn)行倒角。
依賴于光學(xué)器件140在應(yīng)變下的有效彈光系數(shù)的正負(fù)號，以及光學(xué)器件140的FSR隨溫度移動的正負(fù)號，光學(xué)器件140隨溫度線性增加或減少。
參照圖4a與4b，該圖表示應(yīng)變(S)對溫度(T)的依賴關(guān)系。圖4中斜率的符號可以通過比較光學(xué)器件140與裝配座130的熱膨脹系數(shù)的大小進(jìn)行計算，例如，如果裝配座的熱膨脹系數(shù)比光學(xué)器件的熱膨脹系數(shù)大，應(yīng)力則會隨溫度的增加而減少(圖4a)，反之，如果裝配座的熱膨脹系數(shù)比光學(xué)器件的熱膨脹系數(shù)小，應(yīng)力將隨溫度的增加而增加(圖4b)。
如圖4所示，預(yù)裝載設(shè)定在室溫(用星號標(biāo)記)，這樣就超過了裝置的儲存溫度范圍，應(yīng)力決不會超過材料的損傷域值或者減小到0以下，后者將導(dǎo)致裝配座130與光學(xué)器件140分離。這種預(yù)裝載還有一個重要性質(zhì)，即調(diào)節(jié)BCI的共振頻率，類似于現(xiàn)有技術(shù)中的石英片30，在沒有溫度變化的情況下，為達(dá)到在給定應(yīng)力下共振頻率的最大改變，將光學(xué)器件140與裝配座130的相互方位排列在適宜于產(chǎn)生最大有效彈光系數(shù)的方向上是很有利的，此系數(shù)可以由普通的技術(shù)人員通過各種可能的方向進(jìn)行計算，為了使光學(xué)器件140與裝配座130產(chǎn)生最大的應(yīng)力，調(diào)整光學(xué)器件140的方向與引入應(yīng)力的方向最大程度一致性是較為理想的。當(dāng)然，這些考慮對于通常為各向同性的材料如玻璃塊120并不重要。
參照圖5，此圖表示另一種調(diào)節(jié)應(yīng)力引入的雙折射的方法。在此具體裝置中，通過滑動裝配座130對光學(xué)器件140的有效相互作用長度進(jìn)行調(diào)節(jié)(由于施加應(yīng)力在遲差中的變化δ(Δn·Li)與相互作用長度成正比，結(jié)合應(yīng)用于裝配座的應(yīng)變而進(jìn)行的適當(dāng)設(shè)計，可以提供另一種裝置，來調(diào)節(jié)初始總遲差，用于調(diào)節(jié)晶體長度的制造公差，以及調(diào)節(jié)隨溫度變化的遲差的斜率，用于調(diào)節(jié)材料的性質(zhì)變化)，裝配座的設(shè)計最好是為了避免施加的應(yīng)變場中的任何非均勻性，而應(yīng)變場施加在與裝配座直接接觸的光學(xué)部件的外圍部分，例如，如圖5a所示，相對于整個裝配座，移動光學(xué)器件140以改變相互作用長度。此外如圖5b所示裝配座可以由兩種或多種金屬構(gòu)成，光學(xué)器件在光的傳播方向上相對于裝配座的運動，就改變了器件與各種金屬的相對接觸面積，進(jìn)而改變了外加的應(yīng)力，尤其是如圖5b所示的雙金屬裝配座并不局限于圖5所示的具體裝置，可以選擇上述任何一種具體實施裝置中所描述的裝配座，其中需要提供兩種或多種金屬以使應(yīng)力的作用處于平均狀態(tài)。
有利的是，根據(jù)本發(fā)明設(shè)計的應(yīng)變穩(wěn)定型BCI的光學(xué)部件很少，因而降低了材料的成本、裝配時間以及光學(xué)插損，同時增加了可靠性，通過加一個石英片以獲得所需FSR與共振頻率，來排除測量一堆兩種類型的晶體以及挑選合適的晶體的必要，從而極大地降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜程度。
另外，本發(fā)明提供了一種設(shè)置共振頻率的方法(在名義上的工作溫度對應(yīng)用的(預(yù)裝載)應(yīng)變進(jìn)行連續(xù)調(diào)節(jié)并固定的設(shè)備)，與數(shù)目有限的石英片所提供離散的調(diào)節(jié)相比，該方法更為準(zhǔn)確與精確，由于調(diào)節(jié)在裝備的晶體上進(jìn)行，現(xiàn)在這個裝置與方法也消除了由裝備引起的FSR中的錯誤。
此外，本發(fā)明還提供了對BCI相關(guān)溫度的一個更為精確的控制方法。由于本發(fā)明的溫度彌補(bǔ)是通過光學(xué)器件與其裝配座的相對熱膨脹來進(jìn)行控制的，通過這些膨脹的重復(fù)性來限制穩(wěn)定性，由于晶體、玻璃與金屬材料的合成可以充分重復(fù)，故系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性便可得到精確控制。相反，雙晶體BCI通過其長度的制造公差來設(shè)定其熱穩(wěn)定性，這還沒有切入技術(shù)的要領(lǐng)。
盡管本發(fā)明描述的是使用壓縮性應(yīng)變，對于一個技術(shù)熟練者，會很明顯地知道拉力(有彈性的)或剪切力能產(chǎn)生同樣的效果。例如，拉力更適合于非常薄的補(bǔ)償片(如一個塑料薄片)。
類似地，本發(fā)明還公開了一種方法。通過在晶體或各向同性材料中導(dǎo)入應(yīng)力來改變BCI的相關(guān)溫度，然后材料在應(yīng)力下雙折射性質(zhì)會變?nèi)?，顯然這些概念可以結(jié)合其它的溫度穩(wěn)定性或共振頻率調(diào)制技術(shù)。
最好通過在橫穿光的傳播路徑的方向上施加一個應(yīng)力來引入應(yīng)變。然而也可以在其它的方向施加。名詞“應(yīng)力”用在此處是指當(dāng)一個物體或其一部分推、拉、壓另一個物體或該物體的一部分、或前者有擠壓、扭曲后者的趨勢時，產(chǎn)生的一個力，盡管在垂直于光的傳播方向的一個軸上加一個應(yīng)力是最方便的，也可以在兩垂直的方向施加一個應(yīng)力，或通過適當(dāng)?shù)难b備給光傳播的平行方向上施加一個應(yīng)力。相應(yīng)地，施加應(yīng)變裝置包括能夠?qū)?yīng)力作用于晶體110或玻璃塊120上的任何設(shè)備，例如，使用壓電傳感器施加應(yīng)力到光學(xué)器件140上的這種施加應(yīng)變有源裝置是可行的。
此處描述的所有物理效應(yīng)的簡單線性膨脹將導(dǎo)致應(yīng)力隨溫度成線性變化的需要，然而通過適當(dāng)?shù)剡x擇材料，可以獲得更為復(fù)雜、非線性的功能。有利的是，此非線性可以用于BCI產(chǎn)生FSR隨溫度的所需的變動。另一方面，物理參數(shù)(如彈光效應(yīng)、熱膨脹系數(shù)或塑性)的非線性變化可以互相平衡以獲得更高程度的溫度補(bǔ)償。
有利地是，此處描述的具體裝置中，施加應(yīng)變裝置是無源裝置，并且這種包括溫度穩(wěn)定型晶體的光學(xué)系統(tǒng)缺乏任何外部反饋回路。另一優(yōu)越性是，在給定的溫度范圍與在所需的設(shè)備工作的光譜范圍內(nèi)，施加應(yīng)變無源裝置提供了導(dǎo)光器件(如雙折射晶體或與玻璃塊的結(jié)合物)的一個充分恒定的凈遲差。
當(dāng)然，在不偏離本發(fā)明的精神與范圍的前提下，可以考慮許多其它的具體裝置。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)系統(tǒng)，它包括一塊帶有一個輸入端口和一個輸出端口的導(dǎo)光雙折射材料，該材料在第一個溫度時會引起一次光的遲差；以及施加應(yīng)變裝置，該裝置用于給第一塊材料或光耦合到第一塊材料上的另一塊導(dǎo)光材料引入一個應(yīng)變，引入的應(yīng)變使第二次凈遲差至少在另一溫度維持與第一次遲差幾乎相等。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中施加應(yīng)變裝置是一種無源裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中施加應(yīng)變裝置包括一個與第一塊或第二塊材料相接觸的器件，該器件和與其物理接觸的材料塊有不同的熱膨脹系數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中施加應(yīng)變裝置和與之接觸的材料塊可以相對移動來改變相互作用長度Li。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中該器件是一個支撐材料塊并與其三個面相接觸的裝配座。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)系統(tǒng)，還包括在裝配座和與之接觸的材料塊之間的一個用于提供均一應(yīng)變的緩沖層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中第二塊導(dǎo)光材料是各向同性的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其中至少在第一塊或第二塊導(dǎo)光材料中至少有兩個相當(dāng)平整的相對面，其中施加應(yīng)變裝置包括與至少這兩個相對面密切接觸的一個裝配座，該裝配座用于在至少第一塊或第二塊導(dǎo)光材料中引入一個壓縮應(yīng)變。
9.一種補(bǔ)償雙折射材料的熱漂移的方法，包括如下步驟提供在第一個溫度時會引起一次光的遲差的一塊導(dǎo)光雙折射材料；以及通過在一塊導(dǎo)光雙折射材料或另一塊導(dǎo)光材料上施加一個應(yīng)力，來維持在另一個溫度時的凈遲差與第一次遲差幾乎相等。
10.一種補(bǔ)償雙折射材料的熱漂移的方法，包括如下步驟提供在第一個溫度時有一次凈遲差的一種導(dǎo)光器件，此導(dǎo)光器件包括一塊雙折射材料；以及通過給該導(dǎo)光器件的至少一部分引入一個應(yīng)變，來維持該導(dǎo)光器件在另一個溫度時的凈遲差。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于穩(wěn)定的、溫度不敏感的雙折射晶體干涉儀(BCI)中的光學(xué)系統(tǒng)。該光學(xué)系統(tǒng)包括:一塊有輸入和輸出端口的導(dǎo)光雙折射材料,該材料在所需的設(shè)備工作的光譜范圍內(nèi)的一個溫度時有一次凈遲差;以及施加應(yīng)變裝置,該裝置用于給第一塊材料或光耦合到第一塊材料上的另一塊導(dǎo)光材料引入一個應(yīng)變,引入的應(yīng)變可以維持該凈遲差與在另一個溫度時的凈遲差幾乎相等。對比使用兩種晶體的BCI,使用一種晶體的光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)越性是其價格更便宜、更耐用、效果更好。
文檔編號G02B5/30GK1369720SQ0113545
公開日2002年9月18日 申請日期2001年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2000年10月10日
發(fā)明者羅伯特·R·麥克利奧德, 亞當(dāng)·科恩 申請人:Jds尤尼費斯公司