專利名稱：薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合劑的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及薄膜和薄膜的制造方法以及薄膜用粘合劑，特別涉及在集成電路制造工序中的光刻工序使用的為防止在掩?；驑擞?以下簡稱為掩模等)上附著塵埃等使用的薄膜、薄膜的制造方法和薄膜用粘合劑。
背景技術：
為了獲得集成電路線幅的細微化，最好使用極短波長的曝光光源，在使用這樣短波長的紫外線時，纖維素等以前的薄膜被膜嚴重劣化，得不到充分的耐久性。因此，近年來，開始使用氟類聚合物形成的薄膜被膜，由于氟類聚合物的剝離性優(yōu)良，將以前的薄膜被膜粘接于薄膜框架時使用的環(huán)氧類粘合劑得不到實用的粘接力。另外，環(huán)氧類粘合劑對于短波長的紫外線不具有充分的耐光性。
為解決關于這樣的氟類聚合物形成的薄膜的粘合劑的問題，有人提出用與氟類有機物形成薄膜被膜同樣的氟類有機物形成的粘合劑粘接于薄膜框架形成的薄膜。(日本第67409/1994號發(fā)明專利申請公開公報)，但是，使用該現(xiàn)有的粘合劑，將氟類有機物溶解于溶劑的物質(zhì)涂敷在框架上后，需要風干3個小時，而且，將膜和粘合劑粘接時需要加熱至100℃以上。因此，存在在粘接工序中很花功夫，而且由于加熱產(chǎn)生框架等構件發(fā)生變形的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的主要目的是提供對短波長的紫外線具有充分的耐光性，且粘接時不需加熱，具有充分的粘接強度的粘接層的薄膜、薄膜的制造方法和薄膜用粘合劑。
按照本發(fā)明提供了薄膜，是具備薄膜被膜和支持前述薄膜被膜的薄膜框架的薄膜，其特征在于，前述薄膜被膜是通過含有氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體的粘接層粘接于前述薄膜框架上的。
另外，按照本發(fā)明提供了薄膜的制造方法，它是具有薄膜被膜和支持前述薄膜被膜的薄膜框架的薄膜的制造方法，其特征在于，具有使用含有氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體的粘合劑將前述薄膜被膜粘接于前述薄膜框架上的工序。
另外，按照本發(fā)明提供了薄膜用粘合劑，它是粘接薄膜被膜和支持前述薄膜被膜的薄膜框架的薄膜用粘合劑，其特征在于，含有氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體。
由于通過作為將薄膜被膜粘接于薄膜框架的粘合劑使用含有紫外線硬化型氟類單體的產(chǎn)品，進行紫外線照射使氟類粘合劑聚合硬化，可將薄膜粘接于薄膜框架上，因此可簡化工序，粘接時不需加熱，而且可有效防止對薄膜被膜的損傷。另外，粘合劑中，由于不僅含有紫外線硬化型氟類單體，而且含有氟類聚合物，因此可進一步提高粘合劑的粘接強度。作為將薄膜粘接于薄膜框架的粘接層，含有氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體，因此對于短波長的紫外線具有耐光性。
用上述粘合劑粘接的薄膜被膜優(yōu)選是氟類聚合物形成的。將氟類聚合物形成的薄膜被膜粘接于薄膜框架時，如果使用含有氟類聚合物和紫外線硬化型單體的上述粘合劑，可提高氟類聚合物形成的薄膜被膜的粘接性。
粘合劑中含有的氟類聚合物優(yōu)選是下式(4)、(5)和(6)所示的結構單元形成的共聚物。
-C2F4- …(4)[化23]-C3H6- …(5)[化24]-C2H2F2- …(6)粘接層中使用的氟類聚合物的優(yōu)選分子量是達到極限粘度[η]＝0.20～0.80(dl/g)的分子量。另外，[η]的測定條件是溶劑為THF、溫度為30℃。如極限粘度[η]過高(分子量高)，粘接膜時，粘合劑在框架上的展開變差，很難形成外觀好的粘接。相反，如極限粘度[η]過低(分子量低)，硬化后的粘合劑強度降低，由于膜的張力使得粘接層變形。
更優(yōu)選的該共聚物是下式(7)所示的1，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物，[η]＝0.30～0.45(dl/g)[化25]-(C2F4)a-(C3H6)b-(C2H2F2)c- …(7)(條件是，a、b、c分別是正整數(shù))。
作為將薄膜被膜粘接于薄膜框架中使用的粘接劑中優(yōu)選的含有的紫外線硬化型氟類單體，優(yōu)選氟類單體的(甲基)丙烯酸酯或含有羥基的氟類單體，可優(yōu)選使用選自下式(1)、(2)或(3)中的1種以上的單體。
[化20] [化21] (條件是，式中R1、R4分別獨立地是氫或甲基，R2、R3分別獨立地是氫或羥基，Rf是含氟基團，l，m，n分別是1至8的整數(shù)。)粘合劑中含有的氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體的優(yōu)選比例是，在上述通式(2)所示的單丙烯酸酯氟類單體時，氟類聚合物∶紫外線硬化型氟類單體＝1∶0.25～0.5(重量比)，在上述通式(3)、(4)所示的二丙烯酸酯氟類單體的情況，氟類聚合物∶紫外線硬化型氟類單體＝1∶0.25～3(重量比)。如果氟類單體過多，粘接強度變低，相反，如果過少，在貼膜時粘合劑在框架上的展開變差，很難得到外觀良好的粘接。
在將薄膜被膜粘接于薄膜框架中使用的粘合劑中優(yōu)選含有的紫外線硬化型氟類單體中，在下述通式(1)中 (條件是，式中R1是氫或甲基，R2是氫或羥基，Rf是含氟基團，1是整數(shù)。)所示的紫外線硬化型氟類單體中，優(yōu)選1是1～8的整數(shù)。另外，作為含氟基團Rf，優(yōu)選可列舉-(CF2)CF3，-(CF2)7CF3，-(CF2)3CF3，-(CF2)2CF(CF3)2，-(CF3)2，-(CF2)3CF2H，-(CF2)9CF3，-(CF2)8CF(CF3)2等，具體可列舉下列氟類單體。
[化28] [化29] [化30] [化33]CH2＝CH-CO2-CH2-CH2-(CF2)9CF3[化34] [化35]CH2＝CH-CO2-CH2(CF2)4CH2OH[化36] [化37]CH2＝CH-CO2-(CH2)6-(CF2)5CF3 [化39]CH2＝CH-CO2-CH2-(CF2)5CF2H[化40]CH2＝CH-CO2-(CH2)6(CF2)3CF3[化41] 在將薄膜被膜粘接于薄膜框架中使用的粘合劑中優(yōu)選含有的紫外線硬化型氟類單體中，在下述通式(2)中[化42] (條件是，式中R1、R4分別獨立地是氫或甲基，R2、R3分別獨立地是氫或羥基，Rf是含氟基團，m、n是整數(shù)。)所示的紫外線硬化型氟類單體中，優(yōu)選m是1～8的整數(shù)，n是1～8的整數(shù)。另外，作為含氟基團Rf，優(yōu)選可列舉-CF2-，-(CF2)2-，-(CF2)4-，-(CF2)6-，-(CF2)8-，-CFCF3-，-(CF2)2CFCF3-，-(CF2)4CFCF3-，-(CF2)6CFCF3-等，具體可列舉下列氟類單體。
CH2＝CH-CO2-CH2-(CF2)2-CH2-CO2-CH＝CH2[化44]CH2＝CH-CO2-CH2-(CF2)4-CH2-CO2-CH＝CH2[化45]CH2＝CH-CO2-CH2-(CF2)6-CH2-CO2-CH＝CH2[化46]CH2＝CH-CO2-CH2-(CF2)8-CH2-CO2-CH＝CH2[化47]CH2＝CH-CO2-(CH2)n-(CF2)4-(CH2)m-CO2-CH＝CH2(n，m1～3)[化48]CH2＝C(CH3)-CO2-(CH2)n-(CF2)4-(CH2)m-CO2-CH＝CH2(n，m1～3)[化49]CH2＝C(CH3)-CO2-(CH2)n-(CF2)4-(CH2)m-CO2-C(CH3)＝CH2(n，m1～3)[化50]CH2＝CH-CO2-CH(OH)-(CF2)4-(CH)n-CO2-CH＝CH2(n1～3)
在將薄膜被膜粘接于薄膜框架中使用的粘合劑中優(yōu)選含有的紫外線硬化型氟類單體中，在下述通式(3)中[化51] (條件是，式中R1、R4分別獨立地是氫或甲基，R2、R3分別獨立地是氫或羥基，Rf是含氟基團，m，n是整數(shù)。)所示的紫外線硬化型氟類單體中，優(yōu)選m是1～8的整數(shù)，n是1～8的整數(shù)。另外，作為含氟基團Rf，優(yōu)選可列舉-(CF2)CF3，-(CF2)7CF3，-(CF2)3CF3，-(CF2)2CF(CF3)2，-(CF3)2，-(CF2)3CF2H，-(CF2)9CF3，-(CF2)8CF(CF3)2等，具體可列舉下列氟類單體。
[化53] [化54] [化56] 在將薄膜被膜粘接于薄膜框架中使用的粘接劑中，除了上述氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體，還可并用光引發(fā)劑或敏感劑，由此可通過紫外線迅速進行聚合硬化的同時，可通過提高聚合度來提高粘接強度。
作為光引發(fā)劑，優(yōu)選可使用2.2二乙氧苯乙酮，嗒蔞庫阿(ダロキュア)1173(Ciba Specialty Chemicals K.K制)，衣路咖庫阿(ィルガキュア)369(Ciba Specialty Chemicals K.K制)，衣路咖庫阿819(CibaSpecialty Chemicals K.K制)，衣路咖庫阿1700(Ciba SpecialtyChemicals K.K制)，衣路咖庫阿1850(Ciba Specialty Chemicals K.K制)，衣路咖庫阿184(Ciba Specialty Chemicals K.K制)。
作為敏感劑，可優(yōu)選使用苯偶因，苯偶因乙基醚，苯偶因丙基醚。
(薄膜被膜)在薄膜中使用的薄膜被膜，優(yōu)選由氟類聚合物形成的，具體地可列舉旭硝子(株)制的氟類聚合物(商品名CYTOP)或，杜邦公司制的氟類單體(商品名特氟綸AF)等。
從氟類聚合物制備薄膜被膜的方法，可將上述氟類聚合物用氟類溶劑，全氟類有機溶劑，例如，全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟(2-丙基四氫呋喃)、全氟氫化呋喃、全氟辛烷等溶解至0.1至20重量％，優(yōu)選0.3至10重量％的濃度后，可進行其本身公知的流延制膜法，例如旋轉(zhuǎn)涂層法、刮刀涂層法等，在一般玻璃板等平滑基體表面流延樹脂溶液形成膜，可通過熱風或紅外線照射等手段干燥除去殘存溶劑。形成的膜厚度可通過改變?nèi)芤赫扯然蚧宓男D(zhuǎn)速度等容易地改變，通常設定在0.05至10μm的范圍，以使相對于所用光源的波長透過率高。
另外，薄膜被膜本身除了由氟類聚合物形成的以外，也可使用在從硝基纖維素等以前公知的薄膜被膜材料形成的膜中層壓氟類聚合物形成防反射層的薄膜被膜。
此時，即使在與粘合劑接觸的部分是氟類聚合物形成的薄膜被膜，也顯示具備氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體的上述粘合劑的優(yōu)秀的粘接性，可得到與氟類聚合物形成的薄膜被膜粘接時同樣的效果。
(薄膜框架)作為薄膜框架，以前公知的所有產(chǎn)品都可使用，可優(yōu)選使用鋁、鋁合金、不銹鋼等金屬制的產(chǎn)品或合成樹脂制的，或陶瓷制的產(chǎn)品。
另外，本發(fā)明的薄膜，可在薄膜框架的一側通過前述粘接劑鋪設薄膜被膜，在另一側涂敷粘合劑，或通過粘貼雙面膠等安裝在掩模等上。
具體實施例方式
(實施例1)(薄膜被膜的制備)將具有環(huán)狀全氟醚基的全氟化氟類樹脂塞特普(サィトツプ)(旭硝子(株)制商品名)溶解于氟類溶劑IL-263(全氟三烷基胺(化學式(CnF2n+1)3N)(トクヤマ(株)制商品名)制備6重量％的溶液，用旋轉(zhuǎn)涂層法制成0.8μm的膜。
(粘合劑的制備)向1，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物(旭硝子(株)制)(極限粘度[η]＝0.30～0.45(dl/g))中加入醋酸丁酯、2-(全氟辛基)乙基丙烯酸酯(R-1820ダィキンフアィンケミカル研究所(株)制商品名)溶解。之后，加入作為光引發(fā)劑的嗒蔞庫阿1173(Ciba SpecialtyChemicals K.K制)、衣路咖庫阿369(Ciba Specialty Chemicals K.K制)、2.2二乙氧苯乙酮(和光純藥(株)制)進行調(diào)整。組成參見表1。
(薄膜的制做)在鋁合金制的薄膜框架上(縱149mm×橫122mm，高5.8mm，寬2mm)，用外徑2.0mmφ/內(nèi)徑1.0mmφ的涂敷針以16秒/5滴左右的吐出量，20mm/秒的涂敷速度在薄膜框架粘接面上涂敷粘合劑。
涂敷完成60秒后，裝載制成的薄膜被膜后，在UV照射裝置(東芝ラィテツク(株)制；M2000L/81N(80W/cm)光譜范圍220～600nm)照射90秒硬化粘合劑。接著，用切割機將薄膜框架外側多余的膜切斷制成薄膜。
(薄膜被膜的粘接強度、外觀評價、耐光性評價)使用外徑1.0mmφ/內(nèi)徑0.65mmφ的針，從距離薄膜表面10mm，角度65°，使用壓力0.2Mpa的大氣以約2mm/秒的速度順著粘接膜的薄膜框架內(nèi)側進行噴射評價(外部膨脹評價)。同樣地，從距離薄膜里面10mm，角度45°，使用壓力0.2Mpa的大氣以約2mm/秒的速度順著粘接薄膜的薄膜框架內(nèi)側進行噴射評價(內(nèi)膨脹評價)。另外，在熒光燈和顯微鏡下觀察外觀進行評價。另外，使用ArF激光(波長193nm，1(mJ/cm2)/pulse，500Hz)對粘接面進行3000J照射，評價耐光性。結果如表1所示。
表1評價結果1

*1 1，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物*2 1173嗒蔞庫阿1173，369衣路咖庫阿369，二乙氧基苯乙酮2.2二乙氧基苯乙酮*3 用ArF激光(1mJ 500Hz)對粘接面照射3000J進行評價從表1的結果可知，使用前述粘合劑向薄膜框架涂敷粘合劑后，用紫外線照射可很快獲得框架與膜之間的強力，且可得到外觀也漂亮的粘接。另外，耐光性也好。
另外，表1的“外觀評價”中的“膜面疤痕無問題”是指，從外觀上可看到使用上沒問題的輕微疤痕的情況。沒有記載“膜面疤痕無問題”的評價的產(chǎn)品，指確認完全沒有疤痕。另外，“膜面無異常”是指沒有膜的變色等異常，是對膜本身有無影響的評價。這些評價在下面表2中也相同。
另外，在下述實施例和比較例中，由于薄膜的制做，薄膜的粘接強度，外觀評價，與實施例1同樣進行，因此在下面的實施例、比較例中，省略關于這些項目的詳述。
(實施例2)(粘合劑的制備)向1，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物(旭硝子(株)制)中加入醋酸丁酯、1H，1H，5H八氟戊基丙烯酸酯(R-5410ダィキンフアィンケミカル研究所(株)制商品名)溶解。之后，加入作為光引發(fā)劑的嗒蔞庫阿1173(Ciba Specialty Chemicals K.K制)、衣路咖庫阿369(Ciba Specialty Chemicals K.K制)、2.2二乙氧苯乙酮(和光純藥(株)制)進行調(diào)整。組成參見表2。
(薄膜的制做)在鋁合金制的薄膜框架上(縱149mm×橫122mm，高5.8mm，寬2mm)，用外徑2.0mmφ/內(nèi)徑1.0mmφ的涂敷針以16秒/5滴左右的吐出量，20mm/秒的涂敷速度在薄膜框架粘接面上涂敷粘合劑。
涂敷完成60秒后，粘貼制成的薄膜被膜后，在UV照射裝置(東芝ラィテツク(株)制；M2000L/81N(80W/cm)光譜范圍220～600nm)照射90秒硬化粘合劑。接著，用切割機將薄膜框架外側多余的膜切斷制成薄膜。
(薄膜粘接強度、外觀評價、耐光性評價)前述粘合劑的評價結果如表2所示。
表2評價結果2

*1 1，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物*2 1173嗒蔞庫阿1173，369衣路咖庫阿369，二乙氧基苯乙酮2.2二乙氧基苯乙酮*3 用ArF激光(1mJ 500Hz)對粘接面照射3000J進行評價從表2的結果可知，使用前述粘合劑向薄膜框架涂敷粘合劑后，用紫外線照射可很快獲得框架與膜之間的強力，且可得到外觀也漂亮的粘接。
(實施例3)(粘合劑的制備)將2，2，3，3，4，4，5，5-八氟己烷-1，6二醇(A-7412ダィキンフアィンケミカル研究所(株)制商品名)酯化，合成2，2，3，3，4，4，5，5，-八氟已烷-1，6二丙烯酸酯(以下稱為DR7412)。之后，向1，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物(旭硝子(株)制)中加入乙酸乙酯、合成的DR7412使之溶解。之后，加入作為光引發(fā)劑的嗒蔞庫阿1173(Ciba Specialty Chemicals K.K制)、衣路咖庫阿369(Ciba Specialty Chemicals K.K制)、2.2二乙氧苯乙酮(和光純藥(株)制)進行調(diào)整。組成參見表3。
(薄膜的制做)在鋁合金制的薄膜框架上(縱149mm×橫122mm，高5.8mm，寬2mm)，用外徑2.0mmφ/內(nèi)徑1.0mmφ的涂敷針以16秒/5滴左右的吐出量，20mm/秒的涂敷速度在薄膜框架粘接面上涂敷粘合劑。
涂敷完成60秒后，粘貼制成的薄膜被膜后，在UV照射裝置(東芝ラィテツク(株)制；M2000L/81N(80W/cm)光譜范圍220～600nm)照射90秒硬化粘合劑。接著，用切割機將薄膜框架外側多余的膜切斷制成薄膜。
(薄膜粘接強度、外觀評價、耐光性評價)前述粘合劑的評價結果如表3所示。
表3評價結果3

*11，1-二氟乙烯·四氟乙烯·丙烯共聚物*21173嗒蔞庫阿1173，369衣路咖庫阿369，二乙氧基苯乙酮2.2二乙氧基苯乙酮*3用ArF激光(1mJ 500Hz)對粘接面照射3000J進行評價從表3的結果可知，使用前述粘合劑向薄膜框架涂敷粘合劑后，用紫外線照射可很快獲得框架與膜之間的強力，且可得到外觀也漂亮的粘接。
(比較例1)(粘合劑的制備)向非氟類單體的紫外線硬化型粘合劑3083((株)スリ-ボンド制商品名)中加入作為溶劑的醋酸丁酯制備。組成參見表4。
(薄膜的制做)在鋁合金制的薄膜框架上(縱149mm×橫122mm，高5.8mm，寬2mm)，用外徑0.7mmφ/內(nèi)徑0.3mmφ的涂敷針以30秒/5滴左右的吐出量，20mm/秒的涂敷速度在薄膜框架粘接面上涂敷粘合劑。
涂敷完成60秒后，粘貼制成的薄膜被膜后，在UV照射裝置(東芝ラィテツク(株)制；M2000L/81N(80W/cm)光譜范圍220～600nm)照射90秒硬化粘合劑。接著，用切割機將薄膜框架外側多余的膜切斷制成薄膜。
(薄膜粘接強度、外觀評價、耐光性評價)前述粘合劑的評價結果如表4所示。
表4評價結果4

*1 用ArF激光(1mJ 500Hz)對粘接面照射3000J進行評價從表4的結果可知，使用前述粘合劑，雖然外觀良好可迅速粘接，但是不能得到滿意的粘接強度。另外，在耐光性方面存在問題。
(比較例2)(粘合劑)使用絲哩本斗(スリ-ボンド)3013C((株)スリ-ボンド制商品名)制備薄膜。
(薄膜的制做)在鋁合金制的薄膜框架上(縱149mm×橫122mm，高5.8mm，寬2mm)，用外徑0.7mmφ/內(nèi)徑0.3mmφ的涂敷針以30秒/5滴左右的吐出量，20mm/秒的涂敷速度在薄膜框架粘接面上涂敷粘合劑。
涂敷完成60秒后，粘貼制成的薄膜被膜后，在UV照射裝置(東芝ラィテツク(株)制；M2000L/81N(80W/cm)光譜范圍220～600nm)照射90秒，之后，用120℃的熱風干燥器加熱硬化。接著，用切割機將薄膜框架外側多余的膜切斷制成薄膜。
(薄膜粘接強度、外觀評價、耐光性評價)前述粘合劑的評價結果如表5所示。
表5評價結果5

*1 用ArF激光(1mJ 500Hz)對粘接面照射3000J進行評價從表5的結果可知，使用前述粘合劑，為進行粘接需要高溫，結果對膜有損傷。而且，不能得到滿意的粘接強度。另外，在耐光性方面存在問題。
(比較例3)(粘合劑的制備)將塞特普(サィトツプ)CTX A型(旭硝子(株)制商品名)溶解于溶劑Ctsolv160(全氟三烷基胺(化學式(CnF2n+1)3N))(旭硝子(株)制商品名)，調(diào)整至濃度9重量％。
(薄膜的制做)在鋁合金制的薄膜框架上(縱149mm×橫122mm，高5.8mm，寬2mm)，用外徑2.0mmφ/內(nèi)徑1.0mmφ的涂敷針以16秒/5滴左右的吐出量，20mm/秒的涂敷速度在薄膜框架粘接面上涂敷粘合劑。
涂敷完成3小時風干，在130℃的電熱板上，裝載該鋁框架使得粘合劑涂敷面在上面，5分鐘后，將制成的膜裝載于粘合劑涂敷面進行粘接。接著，用切割機將薄膜框架外側多余的膜切斷制成薄膜。
(薄膜粘接強度、外觀評價)前述粘合劑的評價結果如表6所示。
表6評價結果6

*1 用ArF激光(1mJ 500Hz)對粘接面照射3000J進行評價從表6的結果可知，使用前述粘合劑，為進行粘接需要高溫，結果對膜有損傷。而且，為制做薄膜需要很多時間和操作。
按照本發(fā)明，提供了對于短波長的紫外線具有充分耐光性，且具有粘接時不需加熱的粘接層的薄膜，薄膜的制造方法和薄膜用粘合劑。
權利要求
1.含有氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體的粘合劑。
2.如權利要求1所述的粘合劑，其特征在于，氟類聚合物是由下式(4)、(5)、(6)所示結構單元形成的共聚物。[化4]-C2F4- …(4)[化5]-C3H6- …(5)[化6]-C2H2F2- …(6)
3.如權利要求1所述的粘合劑，其特征在于，前述紫外線硬化型氟類單體是選自下式(1)、(2)和(3)的1種以上的單體，[化1] [化2] [化3] (條件是，式中R1、R4分別獨立地是氫或甲基，R2、R3分別獨立地是氫或羥基，Rf是含氟基團，l，m，n分別是1至8的整數(shù))。
4.薄膜，是具備薄膜被膜和支持前述薄膜被膜的薄膜框架的薄膜，其特征在于，前述薄膜是通過使用權利要求1所述的粘合劑的粘接層粘接于前述薄膜框架上的。
5.薄膜的制造方法，是具有薄膜被膜和支持前述薄膜被膜的薄膜框架的薄膜的制造方法，其特征在于，具有使用權利要求1所述的粘合劑將前述薄膜被膜粘接于前述薄膜框架上的制造方法。
全文摘要
本發(fā)明是為了提供對于短波長的紫外線具有充分耐光性,且具有粘接時不需加熱的粘接層的薄膜,薄膜的制造方法和薄膜用粘合劑。本發(fā)明的薄膜是具備由氟類聚合物形成的薄膜被膜和支持該薄膜被膜的薄膜框架的薄膜,前述薄膜被膜是通過含有氟類聚合物和紫外線硬化型氟類單體的粘接層粘接于薄膜框架的。
文檔編號G03F1/14GK1361449SQ0114460
公開日2002年7月31日 申請日期2001年12月20日 優(yōu)先權日2000年12月27日
發(fā)明者倉田洋行, 松岡英登 申請人:三井化學株式會社