專利名稱：基板裝配裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種貼合液晶等的基板的裝置，特別涉及在減壓室內分別使貼合的基板相對地進行保持，使間隔變狹窄并適用于貼合的液晶顯示板等的裝配的基板裝配裝置。
在該液晶的密封過程中，日本特開2000-284295號公報中提出的方法是，不設置注入口地把密封劑涂畫成封閉的圖形的一個基板上滴下液晶，在真空室內把另一塊基板配置在該基板上，使上下基板接近并貼合。
在上述日本特開2000-284295號公報的原有技術中，把真空中的基板的保持做成，把下側基板載置在平坦的載物臺上，而上側基板在大氣狀態(tài)下由負壓吸引吸附，當成為規(guī)定的真空狀態(tài)時，用由靜電力產生的靜電吸附保持基板。可是，最近，有尺寸為1m×1m以上的大型基板，同時基板厚度也具有從3mm變到2mm、1mm的薄型化的傾向，為此，在把基板吸附保持在加壓板(上板)上時，基板在中央部撓曲，基板中央部的基板和加壓板的間隔變大，把基板從基板輸入機構過渡到加壓板上時，存在不能保持基板的情況發(fā)生。特別在保持大畫面的基板時，由于在基板的中央部形成定向膜和TFT等，只能用基板的周邊部支持，防止基板的撓曲是困難的。另外，即使可以保持，在基板上也會產生殘留應力，在基板的位置合適的標記位置偏移的狀態(tài)下進行保持。另外，當保持輸送基板的機械手的指部變長且保持基板時，由于頂端一側撓曲，同樣機械手頂端側的基板和加壓板的間隔變大，不能吸附基板。為此，對于大型基板，如果不解決上述問題，就不能夠進行正確的貼合。
為了達到上述目的，在本發(fā)明的基板裝配裝置中，備有用于做成減壓環(huán)境的室、把一個基板保持在上述室內且能上下移動的加壓板(上側板)、與保持在上述加壓板上的基板相對并空出間隔保持另一個基板的基板保持板(下側板)；驅動上述基板保持板并進行上述一個基板與另一個基板的位置符合，上下驅動上述加壓板使基板之間的間隔變狹窄，由設置在上述基板的任何一個上的粘接劑在減壓環(huán)境中進行貼合，在上述加壓板上備有用于保持基板的負壓的多個吸附孔，上述多個吸附孔中的在加壓板中央部附近和其周圍的吸附孔設置在備有上下移動機構的多個吸附襯墊上。
圖2是表示在基板輸入中使用的機械手的概要的圖。
圖3是說明在加壓板上設置的吸附襯墊的概略構成和基板產生撓曲時的保持方法的圖。
圖4是通過機械手的指部的撓曲修正基板撓曲的機構的說明圖。
圖5是用于保持本發(fā)明的撓曲基板的另一個構成的圖。
在

圖1中，基板裝配裝置由下室T1部和上室T2部構成。在上室T2部內，備有通過貫通上室T2的支承腳3和多個調整腳4可在上下方向上移動的上側板2(以后也有時稱作加壓板)。支承腳3由O型圈5而調整腳4由焊接波紋管6隔離、使上室T2內部不與大氣連通。上側板2的支承腳3和調整腳4固定在加壓基板7上。
再有，該加壓板7的中央部固定在中間基板8上。中間基板8被做成通過作動由安裝在頂架9上的驅動馬達10、減速器11和滾珠絲杠12構成的驅動機構，把滾珠花鍵軸導軌13作為導向機構，可以上下移動。另外，除滾珠花鍵軸導軌外由設置在臺架1上的支承柱支承頂架9。一端固定在加壓基板7上的各調整腳4的另一端側與由安裝在中間基板8上的驅動馬達14驅動的滾珠絲杠15連結。通過驅動由該驅動馬達14和滾珠絲杠15構成的上下調整機構并使力作用在加壓基板7上，可以在上側板2保持平坦的同時進行上下移動。
再有，上室T2備有與加壓基板7之間結合的連結機構，在使上室T2與下室T1分離時，使該連結機構動作并使加壓基板和上室T2成為一體，使驅動馬達10動作向上方升起。
另外，用于在室內進行基板的輸入·輸出的門閥16設置在上室T2的側面外壁一側。再在門閥16的相對向的上室側壁的位置上，設置電離器17，通過向基板表面吹送離子化超聲波氣體，可以進行基板的除電。再有，在室外側的門閥16的附近也設置電離器17a，由此，在開閥門的狀態(tài)下通過吹送離子化氣體可以提高基板的除電效果。
在上室T2的上面外壁上向室內凸出中心軸19地設置多個套筒構造的副導軌18。該中心軸19與設置在上側板2的外周的凸出部上的孔配合，可以進行上側板2的水平方向的調整，即，作為上側板2的水平調整機構的副導軌18和中心軸19進行動作。
在上室T2上設置多個基板標記觀測用的觀測窗。在該觀測窗內插入照相機的鏡筒21，由照相機識別設置在基板上的標記。照相機的鏡筒21設置在備有水平方向(X、Y方向)移動軸和垂直方向(Z方向)移動軸的移動載物臺上，該移動載物臺固定在上室T2上。再有，在上側板2的與上述觀測窗對應的位置上設置識別基板標記用孔。
在本實施例中，把照相機配置在室外，如果把該照相機直接安裝在上側板2上，可以把照相機靠近基板地配置，可以提高照相機對標記的識別精度，可以提高基板的位置符合精度。
再有，為了測量對基板的加壓力，在支承腳3的中間基板8和滾珠絲杠之間設置測力傳感器22。另外，在加壓基板7上的每一個調整腳上分別設置測力傳感器23，用于監(jiān)控，使驅動各調整腳4的馬達14在調整上側板的平坦度時不超負荷。
在下室T1內固定下側板24。該下側板24，若全表面與下室T1接合固定，當在減壓時下室T1變形的情況下，受其變形的影響，有平坦度偏移的危險，為此，只固定周邊部，使之不受下室T1的影響，另外，在下室T1的全周上配置后述的密封圈25，與上室T2接觸，且在門閥16關閉的狀態(tài)下構成內部密封的減壓室。
下室T1設置在由馬達26、未圖示的滾珠絲杠以及由回轉軸承27回轉驅動地構成的θ基板28上。為了連結θ基板28和下室T1，通過箱形構件，可以確保規(guī)定的空間。該空間用于在下室T1的下側安裝UV照射機構40、基板保持爪升降機構41和基板升降機構42。θ基板28經回轉軸承27安裝在Y板32上。另外，Y板32被設置成可以由馬達29在設置于X板33上的直線導軌上移動。再有，X板33被設置成可以通過驅動馬達30在設置于臺架1一側的線性導軌上移動。
另外，當使上室T2與下室T1接觸并構成減壓室時，為了使密封圈25的壓縮余量一定，在θ基板28的外周部上設置多個上室用的滾珠軸承34和帶調整機構的承受座35。用這些滾珠軸承34和承受座35調整上室T2的下降位置。
再有，在固定在裝置底座(臺架)1上的構件上設置多個θ基板28用的滾珠軸承37和帶調整機構的承受座38，使之支承θ基板28的外周部，使θ基板28不變形。用它們承受θ基板28的荷重。這樣，由于由室用的滾珠軸承34和θ基板用的滾珠軸承37兩部分承受上下室的周圍的荷重，可以減少室的變形。
在下室T1內設置多個用于標記識別的透過照明39，在下側板24的對應位置上開孔。再有，在下室T1內設置多個加壓·UV照射機構40，用于壓縮和固化UV粘接劑，使貼合的基板不產生偏移。再有，分別設置了在進行基板的輸入·輸出時，用于防止基板在寬度方向撓曲的保持爪升降機構41、防止機械手的撓曲以及前后方向的基板的撓曲的回轉升降銷和用于升降貼合的基板的基板升降機構43。
在下側板24上，設置孔，使加壓·UV照射機構40可以在下側板24內上下移動。再有，加壓·UV照射機構被做成可以兼做回轉升降銷。另外，在基板支承側分別設置槽(切口部)，使基板升降機構43可以上下移動。做成在基板輸入及輸出時，可以使該基板升降機構43動作并可以在基板下面?zhèn)炔迦霗C械手。為了把下側板24固定在下室T1內，這些孔或者槽可以只設置最小余量。
再有，加壓·UV照射機構40、保持升降機構41和基板升降機構42分別具有貫通下室T1的上下移動機構，但在下室T1和這些上下移動機構部之間設置了O型圈，由此，做成保持氣密的構造。
由減壓狀態(tài)的上側板2形成的上側基板的保持機構，可以是由靜電卡盤形成的電氣保持機構或者由粘接材料形成的物理保持機構的任何一種。在由靜電卡盤進行電氣保持時，通過切斷外加電源，在一定的除電時間后上升上側板2，可以中斷由上側板2產生的保持。另外，在由粘接材料進行保持時，通過設置把上側基板機械地壓附在下側的基板上的多個銷子，在把銷子壓附在下側的狀態(tài)下只上升上側板2，可以中斷上側的基板的保持。
另一方面，由減壓狀態(tài)的下側板24形成的下側基板保持機構，也同樣可以是備有由靜電卡盤進行電氣保持的靜電吸附機構的方法或者備有由粘接材料進行物理保持的粘接保持機構的方法的任何一種。上側板2和下側板24的吸附方法的裝配，最好是把上側板2和下側板24都做成靜電卡盤，或者把上側板2或下側板24的其中之一做成靜電卡盤而把另一個做成粘接材料，這樣，在具有成為基準的平坦部的板之間進行組裝就變得容易了，因此，可以均勻地貼合上下基板。再有，在本實施例中，也可以兼用由負壓進行吸附的吸引吸附機構和由靜電進行靜電吸附的靜電吸附機構。
減壓室內的減壓，通過設置在上下任何一個室內的未圖示的排氣口連接到真空閥和干燥泵或者渦輪分子泵的真空泵上來進行。另外，室內的充氣是通過未圖示的設置在上下任何一個室內的閥導入氮等惰性氣體或者大氣來進行的。為了減少室內水分的附著和縮短室內減壓的時間，充入的氣體最好是水分子含量少的氮等惰性氣體。
作為使用以上本發(fā)明的基板裝配裝置的一個例子，用可把減壓室分成二部分的結構進行了說明，但是不限于本例的構成，也可以是把減壓室做成一體的裝置。如果是通過把一個基板保持在上側板并在該狀態(tài)下把上側板移動到保持另一個基板的下側板一側(縮小基板間隔)來使基板相互貼合的裝置，也可以使用本發(fā)明。
圖2是表示用于輸入基板裝配裝置的機械手的手部的構造的圖，圖3表示加壓板的吸附襯墊部中的基板吸附的模式圖。
在圖2中，機械手的手部從臂部52開始設置多個支承基板60的指部51，在該指部51上設置多個吸附襯墊53。該吸附襯墊53在頂端部設置吸附孔，由負壓可以吸附基板60。該指部51的吸附襯墊53可以上下移動，根據保持的基板60的倒角數，使與液晶顯示部的表面接觸的部分的吸附襯墊53預先退避到不與基板面接觸的位置上。為此，如圖2(b)所示，在一倒角的基板60的情況下，在設置在中央部的指上的吸附襯墊53之中，中央部的吸附襯墊53b退避到不與基板面接觸的位置上，用周邊部的吸附襯墊53a支承基板60。
為此，如圖2(b)所示，基板被支承成中央部凹下。在該狀態(tài)下用設置在加壓板(上板)2上的吸引孔由負壓進行吸引吸附時，負壓不作用在基板60的中央部上，有基板60不能保持在上板2上的情況發(fā)生。另外，即使能保持，基板的吸附也變得不均勻，局部大的吸引力作用在基板上，也成為造成貼合時精度降低的一個原因。因此，在本實施例中，如圖3(a)所示，在加壓板2的中央部附近設置多個能上下移動的吸附襯墊，使基板中央部能可靠地吸附在上板(加壓板)2上。
吸附襯墊由使其上下運動的氣缸55、由氣缸55進行伸縮的桿部57和頂端的襯墊部56構成。另外，桿部57雖未圖示，但是中空的，從那里供給負壓的空氣。在頂端的襯墊部56上設置與桿部57的中空部連通的孔。
在圖3(a)中雖然未圖示，但在加壓板2的基板吸附面上設置多個負壓的吸引吸附孔。用上述構成從機械手50上進行基板60的過度作業(yè)時，如圖3(b)所示，由加壓板2的負壓使吸引吸附機構動作，同時能上下動的吸附襯墊的桿部57只向基板一側伸出必需的量，在用襯墊部56保持基板60之后，通過把桿部57后退到上板2的基板保持面上，使之可靠地吸附在中央部附近的吸引吸附孔上。再有，當把加壓力作用在基板60上并進行貼合時，襯墊部56作為吸引吸附孔供給負壓。再有，襯墊部56用橡膠等彈性體構成，以便在與基板60接觸時不損傷基板60。
在本實施例中，桿部57的上下移動由氣缸進行，該驅動部在本實施例中安裝在減壓室T2的外側，但是也可以安裝在與加壓板的加壓面相反的側面上。另外，吸附襯墊的桿部57的伸出量可以通過預先測量基板的撓曲量，根據測定量改變抑制伸長的限位器的位置，使伸出量為規(guī)定量。作為驅動裝置，也可以使用馬達等，也可以在每塊輸入的基板上設置計量撓曲的傳感器，根據其計量結果來控制桿部57的伸出量。
以上，說明了在基板60的中央部發(fā)生撓曲時的作動機構，但是在用機械手50的多根指部51輸入基板60時，如果增大指部51的剛性，指部51變大，會阻礙機械手50的動作。為此，不能加大指部51的剛性。為此，在輸入大型基板時，如圖4所示，指部51的頂端部撓曲，加壓板2會發(fā)生不能由負壓吸附基板60的情況。為此，在室內設置在吸引吸附上基板60之前用于提升基板60的頂端部的具有修正爪的基板頂端修正機構70。該基板頂端修正機構70提供保持基板端部的基板端保持部71和用于提升機械手的指部51的指部保持部72?；宥吮３植?1設置在機械手的相鄰的指部之間，如圖4(a)所示，容易修正基板的指間的撓曲并容易吸附在加壓板2上。為此，不僅指部的頂端側，在臂部側也設置基板端保持部71。
在本圖中，在下側室T1中設置由氣缸進行上下的基板頂端修正機構70。從而，在機械手50的指部51撓曲時，使基板頂端修正機構70動作修正基板的撓曲，可以可靠地把基板60吸附在加壓板2上。
再有，代替設置基板頂端修正機構70，也可以與在先的實施例相同，在相當于機械手50的指部51頂端側的基板保持部的位置(室的基板輸入口側的相反側，即最里側的位置)的加壓板2上設置備有上下驅動機構的吸附襯墊。
圖5表示本發(fā)明的另一個實施例。在本實施例中被設置在加壓板2上的吸引吸附孔分成多個群(R1、R2、R3)，分別設置負壓源，使供給每群的負壓力可以改變，或者將一個負壓源分支，在中途的配管上設置調壓閥，可以調整壓力。
在圖5中，把吸引吸附孔分成了3個群R1、R2、R3，用負壓源分別加上A1和A2兩種負壓力。由于在基板60的中央部上，形成了液晶板的定向模等，所以基板由機械手兩側的吸附襯墊53支持運到裝配裝置內。為此，如圖5(a)所示，成為基板中央部撓曲并與加壓板2有距離的狀態(tài)。為此，首先在中央的吸引吸附孔R2上作用大的負壓力A1并吸附基板中央部(圖5(b))。其次，通過把比加在中央部上的負壓A1小的負壓力A2加在兩側的吸引吸附孔R1、R3上，可以把基板60在基板60不歪斜的狀態(tài)下吸附在加壓板2上(圖5(c))。在本實施例中，把吸附孔分成3個群的狀態(tài)作為例子進行了說明，但是通過分成更細的群并從基板中央部向基板端部緩慢地吸附，可以更高精度地吸附。另外，本動作是把用圖3說明的多個能上下運動的吸附襯墊56配置在加壓板2上，從中央向周圍順序吸引吸附來進行上拉，與此相對應，本動作也可以通過由加壓板2備有的多個吸引吸附孔進行吸附來實現(xiàn)。再有，雖然未圖示，但在加壓板上，為了防止基板裝配裝置的室內減壓時基板落下，除了上述的吸引吸附機構而外，還一起設置了粘接保持機構和靜電吸附機構。
下面，通過本發(fā)明的基板裝配裝置1對貼合液晶板的動作進行說明。
首先，把用粘接劑框狀地包圍液晶板的外周且涂覆成黑底狀或者接近黑底狀的上側基板，在進行翻轉使涂布了粘接劑的面成為下側的狀態(tài)下，載置在位于機械手的下側的一個指部上。另外，把預先在表面上涂覆了液晶的下側基板，在配置成液晶的滴下面成為上側的狀態(tài)下，搭載在位于上側的機械手的另一個指部上。這樣，在把二塊基板搭載在上下指部上的狀態(tài)下，機械手移動到貼合裝置跟前?；逖b配裝置1打開上室T2部的門閥16，機械手把處于下側的指部上的翻轉過的上側基板插入裝置內。
基板裝配裝置1下降上側板2，通過由負壓吸引吸附把翻轉的上側基板吸附保持在上側板2的下面。這時，在基板上有撓曲時，使基板頂端修正機構70和吸附襯墊一起動作，保持平坦。即，在基板上有撓曲時，通過把吸附襯墊從板面凸出到能吸附基板的位置上，當吸附襯墊吸附基板時，使吸附襯墊表面后退到上板面的位置，可以把基板平坦地保持在板面上。
再有，當把上側板的吸附孔分成多個群時，從中央部的吸附孔順序向端部側的吸附孔作用負壓，可以把基板平坦地保持成不會歪斜。
接下來，下側機械手一旦從基板裝配裝置1內后退，等待該后退的基板裝配裝置1用基板升降機構43和保持爪升降機構41把處于下側板24上已經貼合完了的液晶板向上方提升。在該狀態(tài)下，把下側機械手再次插入基板裝配裝置1內的液晶板下側，向上方抬起機械手之后，通過后退機械手把液晶板從基板裝配裝置1內取出到外部?；逖b配裝置1使基板升降機構43和保持爪升降機構41下降。
接下來，把處于上側的機械手上的預先涂覆了液晶的下側基板插入基板裝配裝置1內，基板裝配裝置1上升保持爪升降機構41，下側基板被上升，等機械手后退之后，把下側基板設置在下側板24上，吸引吸附下側基板。
接下來，下降垂直方向照相機的鏡筒21的移動軸測量上側基板的基板標記位置，用水平方向移動軸移動到上側基板的標記中心位置與照相機的鏡筒21的中心一致的位置上。接著，下降上側板2，由照相機的鏡筒21測量上側基板和下側基板的標記位置的偏差。通過用未圖示的升降機構上升滾珠軸承34，從而通過帶調整機構的承受座35使上室部T2上升，使密封圈25和上室部T2稍微接觸，或者不接觸(使上室的荷重不作用在密封圈25上)，驅動馬達26、馬達29、馬達30來驅動下室部T1。由此，下側板24與下室T1一起向XYθ方向水平移動，進行下基板和上基板的校準標記的粗定位。粗定位結束后，下降滾珠軸承34。接下來，當上下板用靜電卡盤吸附基板時，把電壓加到靜電卡盤上進行基板的吸附。在該狀態(tài)下，關閉門閥16，用真空泵在減壓室內進行減壓排氣。在減壓排氣過程中，上升上側板2，以便容易地排出上下基板之間的氣體。
當減壓室內成為規(guī)定的減壓狀態(tài)之后，再次下降上側板2，測量上下基板之間的位置偏差，通過驅動馬達26、馬達29、馬達30來驅動下室T1，向XYθ方向進行水平移動，進行下基板和上基板的校準標記的微定位。微定位結束之后，邊測量測力傳感器22的值邊下降上側板2，進行基板的加壓貼合。加壓力達到壓縮粘接劑的規(guī)定值之后，終止加壓，由加壓·UV照射機構40在基板的臨時固定的位置上邊加壓預先涂布的臨時固定用的UV粘接劑邊照射UV光，進行臨時固定，使基板的位置不發(fā)生偏移。
臨時固定結束之后，上升加壓·UV照射機構40。當上側板2利用靜電卡盤進行真空中的吸附時，切斷電壓，在停電待機幾分鐘之后上升上側板2。當上側板2利用粘附時，由多個銷子機械地把上側基板壓附在下側的基板上，在把銷子壓附在下側的狀態(tài)下，通過只上升上側板來中斷上側的基板的保持。
然后，通過設置在減壓室上的閥向減壓室內導入氮等惰性氣體或者空氣且對大氣開放。接下來，開放門閥16，進行基板的輸入和輸出。當在基板裝配裝置1的真空室內進行清洗等維護時，使安裝在上室部T2上的連結機構動作，把加壓基板7和上室部T2聯(lián)成一體，用驅動馬達10與上側板2一起向Z軸方向上升。由此，在把室開放的狀態(tài)下可以進行上下板的維護。如上所述，在本實施例中解決了在把大型基板保持在上側板上時，由于基板輸入時產生的基板撓曲，不能可靠地把基板保持在上側板上的問題，可以提高基板貼合的精度。
如上述說明的那樣，根據本發(fā)明的基板貼合裝置，在把基板輸入到裝置內時，特別是在把大型的上基板保持在上側板時，由于可以不受在基板上產生的撓曲的影響地可靠地把基板保持在規(guī)定的位置上，所以可以提高位置符合的精度，同時也可以縮短位置符合所需要的時間。
權利要求
1.一種基板裝配裝置，備有用于做成減壓環(huán)境的室、把一個基板保持在上述室內且能上下移動的加壓板、與保持在上述加壓板上的基板相對并空出間隔保持另一個基板的基板保持板；驅動上述基板保持板并進行上述一個基板與另一個基板的位置符合，上下驅動上述加壓板使基板之間的間隔變狹窄，由設置在上述基板的任何一個上的粘接劑在減壓環(huán)境中進行貼合，其特征在于，在上述加壓板上備有用于保持基板的負壓的多個吸附孔，上述多個吸附孔中的在加壓板中央部附近和其周圍的吸附孔設置在備有上下移動機構的多個吸附襯墊上。
2.如權利要求1所述的基板裝配裝置，其特征在于，上述多個吸附襯墊設置在加壓板中央部附近。
3.如權利要求1或2所述的基板裝配裝置，其特征在于，在與上述加壓板的基板輸入口相反一側的端部一側設置多個吸附襯墊。
4.一種基板裝配裝置，備有用于做成減壓環(huán)境的室、把一個基板保持在上述室內且能上下移動的加壓板、與保持在上述加壓板上的基板相對并空出間隔保持另一個基板的基板保持板，驅動上述基板保持板并進行上述一個基板與另一個基板的位置符合，上下驅動上述加壓板使基板之間的間隔變狹窄，由設置在上述基板的任何一個上的粘接劑在減壓環(huán)境中進行貼合，其特征在于，根據把基板輸送到上述加壓板上的機械手的指部頂端側的撓曲量，在室內設置用于把基板上推到加壓板一側的基板頂端修正機構。
5.一種基板裝配裝置，備有用于做成減壓環(huán)境的室、把一個基板保持在上述室內且能上下移動的加壓板、與保持在上述加壓板上的基板相對并空出間隔保持另一個基板的基板保持板，驅動上述基板保持板并進行上述一個基板與另一個基板的位置符合，上下驅動上述加壓板使基板之間的間隔變狹窄，由設置在上述基板的任何一個上的粘接劑在減壓環(huán)境中進行貼合，其特征在于，為了吸引吸附在上述加壓板上，把多個吸引吸附孔分成3個以上的群，做成備有負壓源或調壓閥的構成，使每個群都可以改變吸附力。
6.權利要求1至5的任一項所述的基板裝配裝置，其特征在于，備有在上述室內減壓時用于保持上述基板的靜電吸附機構或者粘接保持機構。
7.一種基板裝配方法，在真空室內使2塊基板上下空開間隔并相對，由吸引吸附分別保持在上下板上，進行位置符合，通過使兩基板的間隔狹窄，由設置在任何一個基板上的粘接劑進行兩基板的貼合，其特征在于，當基板保持在上側板上時，從上述基板的中央部作用吸引吸附力。
8.一種基板裝配方法，在真空室內使2塊基板上下空開間隔并相對，由吸引吸附分別保持在上下板上，進行位置符合，通過使兩基板的間隔狹窄，由設置在任何一個基板上的粘接劑進行兩基板的貼合，其特征在于，當把基板保持在上側板上時，用從上述基板的中央部向周圍順序備有上下移動機構的吸附襯墊吸引吸附并進行上拉，使之吸附在上側板上。
全文摘要
一種基板裝配裝置，在加壓板(上板)2的中央部附近設置能上下伸縮的吸附襯墊，根據輸入的上基板的撓曲量拉伸吸附襯墊，負壓供給到設置在加壓板上的吸附孔的同時也供給到吸附襯墊，吸附基板之后，通過收縮吸附襯墊使吸附襯墊的頂端部位于加壓板的吸附面上，可以可靠地把基板保持在加壓板上。從而可以解決在把大型基板輸入貼合裝置內并把上基板保持在加壓板上時，當基板產生撓曲時存在不能可靠地保持基板的問題。
文檔編號G02F1/1339GK1469171SQ0313865
公開日2004年1月21日 申請日期2003年5月29日 優(yōu)先權日2002年7月19日
發(fā)明者中山幸德, 村山孝夫, 平井明, 八幡聰, 夫 申請人:日立產業(yè)有限公司