專利名稱：負(fù)性作用可光成像底部抗反射涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及新型負(fù)性作用、可光成像且可水性顯影的抗反射涂料組合物和它們的通過在反射襯底和光刻膠涂層之間形成新型抗反射涂料組合物的薄層而用于圖像處理中的用途。這樣的組合物可特別用于由光刻技術(shù)，特別是要求采用深紫外輻射曝光的那些光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體器件。
背景技術(shù)：
光刻膠組合物用于微平版印刷工藝中用于制備微型化電子元件，如在計(jì)算機(jī)芯片和集成電路的制造中。一般情況下，在這些工藝中，首先向襯底材料，如用于制備集成電路的硅晶片涂覆光刻膠組合物膜的薄涂層。然后烘烤經(jīng)涂覆的襯底以蒸發(fā)光刻膠組合物中的任何溶劑和將涂層定影到襯底上。然后將襯底的經(jīng)烘烤和涂覆的表面在輻射下進(jìn)行成像式曝光。
此輻射曝光引起經(jīng)涂覆表面的曝光區(qū)域中的化學(xué)轉(zhuǎn)變?？梢姽?、紫外(UV)光、電子束和X射線輻射能是目前通常用于微平版印刷工藝的輻射類型。在此成像式曝光之后，采用顯影劑溶液處理經(jīng)涂覆的襯底以溶解和除去光刻膠的輻射曝光或未曝光區(qū)域。
有兩種類型的光刻膠組合物，負(fù)性作用的和正性作用的。當(dāng)將負(fù)性作用光刻膠組合物在輻射下成像式曝光時(shí)，曝光于輻射下的光刻膠組合物的區(qū)域變得較不溶于顯影劑溶液(如發(fā)生交聯(lián)反應(yīng))而光刻膠涂層的未曝光區(qū)域保持相對(duì)可溶于這樣的溶液。因此，采用顯影劑處理經(jīng)曝光的負(fù)性作用光刻膠導(dǎo)致除去光刻膠涂層的未曝光區(qū)域和在涂層中形成負(fù)像，由此暴露出位于下方的襯底表面的所需部分，在該襯底表面上沉積有光刻膠組合物。在正性作用光刻膠中，顯影劑除去曝光的部分。
半導(dǎo)體器件微型化的趨勢(shì)已導(dǎo)致使用對(duì)越來越低的輻射波長(zhǎng)敏感的新型光刻膠，和也導(dǎo)致使用高級(jí)多層體系以克服與這樣的微型化有關(guān)的困難。
高分辨率、化學(xué)放大的、深紫外(波長(zhǎng)為100-300nm)的正性和負(fù)性彩色光刻膠可用于構(gòu)成具有小于四分之一微米的幾何尺寸的圖像。目前主要有兩種深紫外(uv)曝光技術(shù)，這些技術(shù)在微型化中提供顯著的改進(jìn)，且這些是在248nm和193nm下發(fā)射輻射的激光器。其它波長(zhǎng)也可以使用，并期望更短的波長(zhǎng)，如157nm會(huì)在將來投入使用。這樣的光刻膠的例子在以下專利中給出并在此引入作為參考，US4,491,628、US5,069,997、US5,350,660、EP794,458和GB2,320,718。248nm的光刻膠通?；谌〈木哿u基苯乙烯和它的共聚物。另一方面，由于芳族化合物在193nm波長(zhǎng)下不透明，所以193nm曝光的光刻膠要求非芳族聚合物。一般情況下，將脂環(huán)族烴引入聚合物以通過消除芳族官能度代替耐蝕刻性。此外，在更低波長(zhǎng)下，從襯底的反射漸增地對(duì)光刻膠的平版印刷性能有害。因此，在這些波長(zhǎng)下，抗反射涂層變得關(guān)鍵。
高度吸收的抗反射涂層在光刻法中的使用是減少由光從高度反射襯底的背反射產(chǎn)生的問題的簡(jiǎn)單方法。背反射的兩個(gè)主要缺點(diǎn)是薄膜干涉效應(yīng)和反射刻痕。薄膜干涉引起駐波，當(dāng)光刻膠的厚度變化時(shí)，該駐波改變由光刻膠膜中總光強(qiáng)度變化引起的臨界線寬度尺寸，和當(dāng)位于下方的材料層的厚度改變時(shí)，該駐波在膜中的光強(qiáng)度改變。當(dāng)在包含能散射透過光刻膠膜的光的表面形態(tài)特征的襯底上將光刻膠形成圖案時(shí)，反射刻痕變得嚴(yán)重，導(dǎo)致線寬變化，和在極端情況下，形成具有完全光刻膠損失(對(duì)于正性光刻膠)或具有特征間橋接(負(fù)性光刻膠)的區(qū)域。
底部抗反射涂層的使用提供消除反射率的最好解決方案。將底部抗反射涂層涂覆在襯底上并然后在抗反射涂層的上方涂覆一層光刻膠。將光刻膠成像式曝光和顯影。然后在敞開區(qū)域中的抗反射涂層通常被蝕刻并因此將光刻膠圖案轉(zhuǎn)印到襯底上?，F(xiàn)有技術(shù)中已知的大多數(shù)抗反射涂層設(shè)計(jì)成能被干蝕。與光刻膠相比，抗反射膜的蝕刻速率需要相對(duì)高，使得蝕刻了抗反射膜而沒有出現(xiàn)蝕刻工藝期間抗蝕劑膜的過度損失。有兩種已知類型的抗反射涂層，無機(jī)涂層和有機(jī)涂層。然而，這兩種涂層迄今為止都已設(shè)計(jì)為通過干蝕除去。
無機(jī)類型的涂層包括膜如TiN、TiON、TiW并以30nm的范圍旋涂在有機(jī)聚合物上，并討論于如下文章中C.Nolscher等人，ProcSPIE，第1086卷，第242頁(yè)(1989)；K.Bather，H.Schreiber，Thinsolid films(薄固體膜)，200，93，(1991)；G.Czech等人，MicroelectronicEngineering(微電子工程)，21，第51頁(yè)(1993)。無機(jī)底部抗反射涂層要求精確控制膜厚度，膜的均勻性，特殊的沉積設(shè)備，在抗蝕劑涂覆之前的復(fù)雜粘合促進(jìn)技術(shù)，單獨(dú)的干蝕圖案轉(zhuǎn)印步驟，和用于脫除的干蝕工藝。干蝕的另一個(gè)非常重要的方面在于苛刻的蝕刻條件可能引起對(duì)襯底的損壞。
有機(jī)底部抗反射涂層是更優(yōu)選的和已經(jīng)由如下方式配制將染料加到聚合物涂料溶液中或向聚合物結(jié)構(gòu)中引入染料生色團(tuán)，但這些方式也需要干蝕到襯底。聚合物有機(jī)抗反射涂層是本領(lǐng)域已知的，如描述于EP583205中，并在此引入作為參考。據(jù)信這樣的抗反射聚合物本質(zhì)上是非常芳香性的，并因此具有太低的干蝕速率，特別是相對(duì)于用于193nm和157nm曝光的新型非芳族光刻膠，并因此對(duì)于成像和蝕刻是不期望的。此外，如果抗反射涂層的干蝕速率相似于或小于涂覆在抗反射涂層上方的光刻膠的蝕刻速率，則光刻膠圖案可能被損壞或可能不能被準(zhǔn)確轉(zhuǎn)印到襯底上。用于除去有機(jī)涂層的蝕刻條件也可能損壞襯底。因此，需要有機(jī)底部抗反射涂層，其不必特別為復(fù)合半導(dǎo)體類型襯底而被干蝕，該襯底對(duì)蝕刻損壞敏感。
本發(fā)明的新方法是使用吸收性可光成像的負(fù)性作用底部抗反射涂層，該涂層可以通過含水堿性溶液顯影，而不是通過干蝕除去。底部抗反射涂層的水性脫除消除了對(duì)涂層的蝕刻速率要求，減少了成本高的干蝕加工步驟和也防止由干蝕引起的對(duì)襯底的損壞。本發(fā)明的底部抗反射涂料組合物包含光活性化合物、交聯(lián)化合物和聚合物，該聚合物在曝光于與用于曝光表層負(fù)性光刻膠相同波長(zhǎng)的光時(shí)，可以在與用于將光刻膠顯影的相同顯影劑中成像。在另一個(gè)實(shí)施方案中，抗反射涂料組合物包含光活性化合物和聚合物，該聚合物在曝光之后改變極性或官能度使得它在含水堿性溶液中的溶解性從可溶性變化到不可溶。通過消除大量加工步驟，此方法極大地簡(jiǎn)化平版印刷工藝。由于抗反射涂層是光敏性的，抗反射涂層的脫除程度由潛光學(xué)圖像確定，這種圖像可以很好地描述抗反射涂層中剩余光刻膠圖像。
EP542008中公開的抗反射組合物是基于高度芳香性的聚合物，如線性酚醛清漆，聚乙烯基苯酚，聚乙烯基苯酚與苯乙烯或α-甲基苯乙烯的共聚物等。此外，此抗反射涂層不是可光成像的且必須干蝕。將可非必要地包含吸收性組分的涂層平面化是已知的并已經(jīng)用于將表面形態(tài)平面化和也防止反射。平面化層是相當(dāng)厚的和具有1或2微米的數(shù)量級(jí)。這樣的層描述于GB2135793、4557797和US4521274。然而必須將這些層干蝕或用有機(jī)溶劑，如甲基異丁基酮除去。在半導(dǎo)體工業(yè)中，通過水溶液除去涂層極大地優(yōu)于有機(jī)溶劑。
雙層光刻膠是已知的，如討論于US4863827中，但要求對(duì)于表層和底層光刻膠在兩種不同波長(zhǎng)下曝光，這使平版印刷的加工復(fù)雜化。
有許多公開了抗反射涂料組合物的專利，但這些涂層都完全固化以不溶于含水顯影劑溶液和必須通過干蝕除去。US5939236描述了包含聚合物，酸或熱酸產(chǎn)生劑，和光酸產(chǎn)生劑的抗反射涂層。然而此膜完全交聯(lián)以使得它不溶于堿性含水顯影劑溶液。此膜通過等離子體氣體蝕刻除去。其它抗反射涂層專利的例子有US5886102、6080530和US6251562。
US4910122公開了可水性顯影的抗反射涂層，然而整個(gè)膜的溶解度受烘烤條件控制。此抗反射涂層不是可光成像的，并因此，在膜中沒有清楚界定的可溶性區(qū)域和不可溶區(qū)域。抗反射涂層的溶解受烘烤條件控制并因此抗反射涂層對(duì)顯影劑規(guī)定濃度和顯影時(shí)間非常敏感。高規(guī)定濃度顯影劑和/或長(zhǎng)的顯影時(shí)間可能導(dǎo)致抗反射涂層的過度脫除。此涂層的分辨率受凹槽和光刻膠剝離的限制。
使用抗反射涂料使光刻膠成像的另一種方法公開于US5635333，然而，抗反射涂層不與光刻膠同時(shí)顯影。
US5882996描述了將雙波形花紋互連形成圖案的方法，其中使用可溶于顯影劑的抗反射涂層間隙層?？狗瓷渫繉釉趦蓚€(gè)光刻膠層之間形成，且具有優(yōu)選的厚度為300-700埃，折射率為1.4-2.0，并是水溶性的?？狗瓷渫繉硬皇强晒獬上竦那覜]有抗反射涂層化學(xué)的描述。
酸敏感抗反射涂層公開于US6110653，其中抗反射涂層通過加熱步驟交聯(lián)并隨后在酸存在下變?yōu)樗苄?。所述的抗反射涂層包含水溶性樹脂和交?lián)劑，但可以加入其它組分，如染料，光酸產(chǎn)生劑或胺堿。在本發(fā)明中，水溶性樹脂在曝光之前交聯(lián)，且如果組合物另外包含光酸產(chǎn)生劑，則樹脂在顯影之前不交聯(lián)。
本發(fā)明的新型抗反射組合物涉及可光成像、可水性顯影的、負(fù)性作用抗反射涂層，該涂層用與用于曝光負(fù)性光刻膠相同波長(zhǎng)的光成像，并因此在單一工藝步驟中成像式曝光。將它進(jìn)一步加熱，然后使用與光刻膠相同的顯影劑和與光刻膠同時(shí)顯影。單一曝光步驟和單一顯影步驟的結(jié)合極大地簡(jiǎn)化平版印刷工藝。此外，對(duì)于采用不包含芳族官能度的光刻膠，如用于193nm和157nm曝光的那些光刻膠的成像，可水性顯影的抗反射涂層是高度所需的。此新型組合物使得能夠達(dá)到從光刻膠到襯底的良好圖像轉(zhuǎn)印，和也具有良好的吸收特性以防止光刻膠中的反射刻痕和線寬度變化或駐波。此外，此新型抗反射涂層可以通過使用適當(dāng)?shù)母泄庑远O(shè)計(jì)以在任何成像波長(zhǎng)下用作抗反射涂層。另外，在抗反射涂層和光刻膠膜之間基本不存在互混?？狗瓷渫苛弦簿哂辛己玫娜芤悍€(wěn)定性和形成具有良好涂層質(zhì)量的薄膜，后者對(duì)于平版印刷是特別有利的。當(dāng)在成像工藝中與光刻膠一起使用抗反射涂層時(shí)，獲得清潔的圖像，而不引起對(duì)襯底的損壞。
發(fā)明概述本發(fā)明涉及一種負(fù)性、吸收性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑和堿溶性聚合物。本發(fā)明進(jìn)一步涉及使用這樣的組合物的方法。
本發(fā)明還涉及一種負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含交聯(lián)劑和堿溶性聚合物。本發(fā)明進(jìn)一步涉及使用這樣的組合物的方法。
本發(fā)明還涉及一種負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在含水堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含光酸產(chǎn)生劑和含水堿溶性聚合物，該聚合物在曝光時(shí)重排以變得不溶于含水堿性顯影劑。本發(fā)明進(jìn)一步涉及使用這樣的組合物的方法。
本發(fā)明還涉及一種負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在含水堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中抗反射涂料組合物包含含水堿溶性聚合物，該聚合物在曝光時(shí)重排以變得不溶于含水堿性顯影劑。本發(fā)明進(jìn)一步涉及使用這樣的組合物的方法。
本發(fā)明還涉及一種形成負(fù)像的方法，該方法包括a)在襯底上提供負(fù)性、底部、可光成像和可堿顯影的抗反射涂料組合物的涂層；b)提供表層光刻膠層的涂層；c)將表層和底層在相同波長(zhǎng)的光化輻射下成像式曝光；d)曝光后烘烤襯底；和e)采用含水堿性溶液將表層和底層顯影。
發(fā)明描述本發(fā)明涉及新型吸收性可光成像和可水性顯影的負(fù)性作用抗反射涂料組合物，該組合物包含光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑和堿溶性聚合物。本發(fā)明還涉及將這樣的新型組合物成像的新方法?？狗瓷浣M合物的吸收可以作為聚合物中的吸收性生色團(tuán)形式或作為添加劑染料形式。本發(fā)明還涉及將可光成像的抗反射涂料組合物成像的方法。本發(fā)明還涉及包含光活性化合物和聚合物的抗反射涂料組合物，該聚合物在曝光之后改變極性或官能度，使得它在含水堿中的溶解性從可溶性變化到不可溶。
將本發(fā)明的抗反射涂料組合物涂覆在襯底上且在負(fù)性光刻膠的下方，以防止光刻膠中從襯底的反射。此抗反射涂層可以用與表層光刻膠相同波長(zhǎng)的光而光成像，也可以用與典型地用于將光刻膠顯影的相同的含水堿性顯影溶液顯影。此新型抗反射涂料組合物包含堿溶性聚合物、交聯(lián)劑和光酸產(chǎn)生劑，或光活性化合物和聚合物，該聚合物在曝光之后改變極性或官能度，使得它在含水堿中的溶解性從可溶性變化到不可溶，并且將該組合物涂覆在反射襯底上且烘烤以除去涂料溶液的溶劑。為防止或最小化在層之間的互混程度，抗反射涂層的組分使得它們基本不溶于光刻膠的溶劑，該光刻膠涂覆在抗反射涂料的上方。然后將負(fù)性光刻膠涂覆在抗反射涂層的上方并烘烤以除去光刻膠溶劑。光刻膠的涂層厚度一般大于位于其下方的抗反射涂層。在曝光之前，光刻膠和抗反射涂層兩者都可溶于光刻膠的含水堿性顯影溶液。然后將此雙層體系在一個(gè)單一步驟中在輻射下成像式曝光，其中隨后在表層光刻膠和底部抗反射涂層兩者中都產(chǎn)生酸。在隨后的烘烤步驟中，酸引起在抗反射涂層中交聯(lián)劑和堿溶性聚合物之間的反應(yīng)，因此使曝光區(qū)域中的聚合物不溶于顯影溶液。隨后的顯影步驟溶解負(fù)性光刻膠和抗反射涂層兩者的未曝光區(qū)域，留下襯底為清楚的，用于進(jìn)一步的加工。
可用于本發(fā)明的新方法的新型抗反射涂料組合物包含光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑和聚合物。在本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施方案中，抗反射涂層包含光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑和堿溶性聚合物，該聚合物包含至少一種具有吸收性生色團(tuán)的單元。在本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施方案中，抗反射涂層包含光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑、染料和堿溶性聚合物。例如，吸收性生色團(tuán)可存在于聚合物中或作為組合物中的添加劑。在第三個(gè)實(shí)施方案中，抗反射涂料組合物包含交聯(lián)劑和堿溶性聚合物，并將吸收性生色團(tuán)引入聚合物或作為染料加入。在此情況下，在曝光步驟之后和在烘烤步驟期間抗反射涂層的交聯(lián)由光生酸從表層負(fù)性光刻膠擴(kuò)散入抗反射涂層引起。在第四實(shí)施方案中，抗反射涂料組合物由光活性化合物和聚合物組成，該聚合物在光解的光活性化合物存在下改變極性或官能度，使得其在曝光后在含水堿中的溶解性由可溶性變?yōu)椴豢扇?。吸收性可以是聚合物固有的或是由于加入的染料。在第五?shí)施方案中，抗反射涂料組合物由一種聚合物組成，該聚合物在酸化合物存在下改變極性或官能度，使得其在曝光后在含水堿中的溶解性從可溶性變?yōu)椴豢扇?。吸收性可以是聚合物固有的或是由于加入的染料。在這種情況下，在抗反射涂層中極性和官能度的改變是在曝光后和烘烤期間由光生酸從表層光刻膠擴(kuò)散入抗反射涂層中而引起。
抗反射涂層中的光酸產(chǎn)生劑和光刻膠中的光酸產(chǎn)生劑對(duì)相同波長(zhǎng)的光敏感，因此相同曝光波長(zhǎng)的光可引起在兩個(gè)層中都形成酸。選擇的抗反射涂層的光酸產(chǎn)生劑依賴于要使用的光刻膠。作為例子，對(duì)于193nm曝光而顯影的光刻膠，抗反射涂層的光酸產(chǎn)生劑在193nm下吸收；和這樣的光酸產(chǎn)生劑的例子有鎓鹽和羥基酰亞胺的磺酸酯，特別是二苯基碘鎓鹽、三苯基锍鹽、二烷基碘鎓鹽和三烷基锍鹽。設(shè)計(jì)用于與248nm曝光的光刻膠一起使用的抗反射涂料的光酸產(chǎn)生劑可以是鎓鹽，如二苯基碘鎓鹽、三苯基锍鹽和羥基酰亞胺的磺酸酯。對(duì)于在365nm下的曝光，光酸產(chǎn)生劑可以是重氮萘醌，特別是能夠產(chǎn)生強(qiáng)酸的2，1，4-重氮萘醌，該強(qiáng)酸可以與聚合物的酸不穩(wěn)定基團(tuán)反應(yīng)。肟磺酸酯、取代或未取代的萘二甲酰亞氨基三氟甲磺酸酯或磺酸酯也已知為光酸產(chǎn)生劑?？梢允褂迷谂c表層光刻膠相同波長(zhǎng)下吸收光的任何光酸產(chǎn)生劑?？梢允褂帽绢I(lǐng)域已知的光酸產(chǎn)生劑，如在如下文獻(xiàn)中公開的那些US5731386、US5880169、US5939236、US5354643、US5716756、DE3930086、DE3930087、德國(guó)專利申請(qǐng)P4112967.9，F(xiàn).M.Houlihan等人，J.Photopolym.Sci.Techn.，3259(1990)；T.Yamaoka等人，J.Photopolym.Sci.Techn.，3275(1990)；L.Schlegel等人，J.Photopolym.Sci.Techn.，3281(1990)或M.Shirai等人，J.Photopolym.Sci.Techn.，3301(1990)，并在此引入作為參考。抗反射涂層的曝光區(qū)域中產(chǎn)生的酸與包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)的聚合物反應(yīng)，以使得它可溶于顯影劑，并因此在襯底上產(chǎn)生正像而沒有干蝕步驟，并在此引入作為參考?？狗瓷渫繉拥钠毓鈪^(qū)域中產(chǎn)生的酸與包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)的聚合物反應(yīng)，以使得它可溶于顯影劑，并因此在襯底上產(chǎn)生正像而沒有干蝕步驟。
各種交聯(lián)劑都可用于本發(fā)明的組合物。可以使用在酸存在下可交聯(lián)聚合物的任何合適的交聯(lián)劑。可以使用本領(lǐng)域已知的任何交聯(lián)劑，如在US5886102和US5919599中公開的那些，且它們?cè)诖艘胱鳛閰⒖?。這樣的交聯(lián)劑的例子有蜜胺、羥甲基類、甘脲、羥烷基酰胺、環(huán)氧樹脂和環(huán)氧胺樹脂、封端的異氰酸酯，和二乙烯基單體。優(yōu)選蜜胺如六甲氧基甲基蜜胺和六丁氧基甲基蜜胺；甘脲，如四(甲氧基甲基)甘脲和四丁氧基甘脲；和芳族羥甲基類，如2，6-雙羥甲基對(duì)甲酚。其它交聯(lián)劑是叔二醇如2，5-二甲基-2，5-己二醇、2，4-二甲基-2，4-戊二醇、頻哪醇、1-甲基環(huán)己醇、四甲基-1，3-苯二甲醇和四甲基-1，4-苯二甲醇，和多元酚，如四甲基-1，3-苯二甲醇。
此新發(fā)明的聚合物包含至少一種如下單元該單元使聚合物可溶于含水堿性顯影溶液。此聚合物的一個(gè)功能是提供良好的涂層質(zhì)量和另一個(gè)功能是使得抗反射涂層從曝光到顯影改變?nèi)芙庑?。賦予堿溶解性的單體的例子有丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、馬來酰亞胺、噻吩、N-羥甲基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮。更多的例子有取代和未取代的磺苯基及其四烷基銨鹽的乙烯基化合物、取代和未取代的羥基羰基苯基及其四烷基銨鹽的乙烯基化合物，如甲基丙烯酸-3-(4-磺苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙基酯和它的四烷基銨鹽、甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙基酯和它的四烷基銨鹽、N-(3-羥基-4-磺苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四烷基銨鹽、N-(3-羥基-4-羥基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四烷基銨鹽，其中烷基是H和C1-C4基團(tuán)。
可以交聯(lián)的單體的例子有具有羥基官能度的單體如甲基丙烯酸羥乙酯，或在S.C.Fu等人，Proc.SPIE，第4345卷(2001)，第b751頁(yè)中描述的那些，具有縮醛官能度的單體，如在UK專利申請(qǐng)2354763A和US專利6322948B1中描述的那些，具有酰亞胺官能度的單體，和具有羧酸或酸酐官能度的單體，如在Naito等人，Proc.SPIE，第3333卷(1998)，第503頁(yè)中描述的那些。
優(yōu)選單體是丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、馬來酸酐、馬來酸、馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸-3-(4-磺苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙基酯和它的四氫銨鹽、甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙基酯和它的四氫銨鹽、N-(3-羥基-4-羥基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四氫銨鹽。更優(yōu)選的基團(tuán)是丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、馬來酸酐、馬來酸、馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮，甲基丙烯酸-3-(4-磺苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙基酯的四氫銨鹽。可以將堿溶性單體聚合以得到均聚物或如要求與其它單體聚合。其它單體可以是堿不溶性的，染料等。
在一個(gè)特定的實(shí)施方案中，抗反射涂層的聚合物包含至少一種堿溶性的單元和至少一種具有吸收性生色團(tuán)的單元。吸收性生色團(tuán)的例子有具有1-4個(gè)單獨(dú)或稠合環(huán)的烴芳族部分和雜環(huán)芳族部分，其中每個(gè)環(huán)中有3-10個(gè)原子。可以與包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)的單體聚合的具有吸收性生色團(tuán)的單體的例子有包含如下部分的乙烯基化合物取代和未取代的苯基、取代和未取代的蒽基、取代和未取代的菲基、取代和未取代的萘基、取代和未取代的雜環(huán)，該雜環(huán)包含雜原子如氧、氮、硫或其組合，如吡咯烷基、吡喃基、哌啶基、吖啶基、喹啉基。其它生色團(tuán)描述于US6114085、US5652297、US5981145、US5939236、US5935760和US6187506，這些生色團(tuán)也可以使用，并在此引入作為參考。優(yōu)選的生色團(tuán)是具有取代和未取代的苯基、取代和未取代的蒽基和取代和未取代的萘基的乙烯基化合物；和更優(yōu)選的單體是苯乙烯、羥基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、苯甲酸乙烯酯、4-叔丁基苯甲酸乙烯酯、乙二醇苯基醚丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基丙酯、丙烯酸-2-(4-苯甲?；?3-羥基苯氧基)乙酯、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、2-乙烯基萘、N-乙烯基鄰苯二甲酰亞胺、N-(3-羥基)苯基甲基丙烯酰胺、N-(3-羥基-4-硝基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺、N-(3-羥基-4-乙氧基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺、N-(2，4-二硝基苯基氨基苯基)馬來酰亞胺、3-(4-乙酰氨基苯基)偶氮-4-羥基苯乙烯、甲基丙烯酸-3-(4-乙氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-羥苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-硝基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯。
除包含堿溶性基團(tuán)和吸收性生色團(tuán)的單元以外，所述聚合物還可包含其它非吸收性、堿不溶性的單體單元，這樣的單元可提供其它所需的性能。第三單體的例子有-CR1R2-CR3R4-，其中R1-R4獨(dú)立地是H、(C1-C10)烷基、(C1-C10)烷氧基、硝基、鹵代、氰基、烷芳基、鏈烯基、二氰基乙烯基、SO2CF3、COOZ、SO3Z、COZ、OZ、NZ2、SZ、SO2Z、NHCOZ、SO2NZ2，其中Z是(C1-C10)烷基、羥基(C1-C10)烷基、(C1-C10)烷基OCOCH2COCH3，或R2和R4結(jié)合以形成一個(gè)環(huán)狀基團(tuán)如酸酐、吡啶或吡咯烷酮。
因此可以通過聚合包含堿溶性基團(tuán)的單體與包含吸收性生色團(tuán)的單體而合成所述聚合物?；蛘撸梢詫A溶性聚合物與提供吸收性生色團(tuán)的化合物反應(yīng)。最終聚合物中堿溶性單元的摩爾％可以為5-95，優(yōu)選30-70，更優(yōu)選40-60，和最終聚合物中吸收性生色團(tuán)單元的摩爾％可以為5-95，優(yōu)選30-70，更優(yōu)選40-60。也在本發(fā)明范圍內(nèi)的是，將堿溶性基團(tuán)連接到吸收性生色團(tuán)，或反之亦然，例如，具有取代和未取代的磺苯基及其四烷基銨鹽的乙烯基化合物、具有取代和未取代的羥基羰基苯基和它的四烷基銨鹽的乙烯基化合物，如甲基丙烯酸-3-(4-磺苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和它的四烷基銨鹽、甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和它的四烷基銨鹽、N-(3-羥基-4-磺苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四烷基銨鹽、N-(3-羥基-4-羥基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四烷基銨鹽，其中烷基是H和C1-C4基團(tuán)。
包含堿溶性基團(tuán)和吸收性生色團(tuán)兩者并適合于本發(fā)明的聚合物的例子有如下兩組物質(zhì)的共聚物N-甲基馬來酰亞胺、N-炔醇馬來酰亞胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、馬來酸酐、馬來酸、馬來酰亞胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸-3-(4-磺苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和它的四氫銨鹽、甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和它的四氫銨鹽、N-(3-羥基-4-羥基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四氫銨鹽中的至少一種，與苯乙烯、羥基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、苯甲酸乙烯酯、4-叔丁基苯甲酸乙烯酯、乙二醇苯基醚丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基丙酯、丙烯酸-2-(4-苯甲?；?3-羥基苯氧基)乙酯、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、2-乙烯基萘、N-乙烯基鄰苯二甲酰亞胺、N-(3-羥基)苯基甲基丙烯酰胺、N-(3-羥基-4-硝基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺、N-(3-羥基-4-乙氧基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺、N-(2，4-二硝基苯基氨基苯基)馬來酰亞胺、3-(4-乙酰氨基苯基)偶氮-4-羥基苯乙烯、甲基丙烯酸-3-(4-乙氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-羥苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-硝基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯中的至少一種。
抗反射涂料組合物的例子包含1)如下兩組物質(zhì)的共聚物乙酰氧基苯乙烯、羥基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯或其混合物中的至少一種，與馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、N-羥甲基馬來酰亞胺、乙烯醇、烯丙醇、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、噻吩、β-羥基-γ-丁內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸-2-甲基-2-金剛烷基酯、甲基丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯、甲羥戊酸內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯或其混合物中的至少一種，2)交聯(lián)劑如四(甲氧基甲基)甘脲和六烷氧基甲基蜜胺，3)光酸產(chǎn)生劑如九氟丁磺酸三苯基锍、九氟丁磺酸二苯基碘鎓、2，1，4-重氮萘醌，4)非必要地，一些添加劑如胺和表面活性劑，和5)溶劑或溶劑混合物如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚和乳酸乙酯。
一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案是羥基苯乙烯、苯乙烯和N-甲基馬來酰亞胺的聚合物，其中優(yōu)選馬來酰亞胺為30-70摩爾％，苯乙烯為5-50摩爾％和羥基苯乙烯為5-50摩爾％，更優(yōu)選馬來酰亞胺為40-60摩爾％，苯乙烯為10-40摩爾％和羥基苯乙烯為10-40摩爾％，和甚至更優(yōu)選苯乙烯和羥基苯乙烯各為20-30摩爾％。
本發(fā)明的第二實(shí)施方案涉及包含如下物質(zhì)的抗反射涂料組合物具有至少一種使聚合物可溶于含水堿性顯影溶液的單元的聚合物，染料，交聯(lián)劑和光酸產(chǎn)生劑。在此特定的發(fā)明中，抗反射涂層所必需的吸收不是由聚合物中的單元提供，而是由能在曝光波長(zhǎng)下吸收的添加劑的引入提供。此染料可以是單體染料、聚合物染料或兩者的混合物。這樣的染料的例子有取代和未取代的苯基、取代和未取代的蒽基、取代和未取代的菲基、取代和未取代的萘基、取代和未取代的雜環(huán)，該雜環(huán)包含雜原子如氧、氮、硫或其組合，如吡咯烷基、吡喃基、哌啶基、吖啶基、喹啉基?？梢允褂玫奈招跃酆衔锶玖鲜蔷哂幸陨狭谐龅奈招圆糠值木酆衔?，其中聚合物主鏈可以是聚酯、聚酰亞胺、聚砜和聚碳酸酯。優(yōu)選的染料中的一些是羥基苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯的共聚物，如在US6114085中公開的那些，和偶氮聚合物染料，如在US5652297、US5763135、US5981145、US5939236、US5935760和US6187506中公開的那些，所有這些文獻(xiàn)在此引入作為參考。
優(yōu)選如下物質(zhì)的單體或其均聚物或共聚物三苯基苯酚、2-羥基芴、9-蒽甲醇、2-甲基菲、2-萘乙醇、2-萘基-β-d-半乳吡喃糖苷氫化物、馬來酸的芐基甲羥戊酸內(nèi)酯酯、甲基丙烯酸-3-(4-磺苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和它的四氫銨鹽、甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和它的四氫銨鹽、N-(3-羥基-4-羥基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺和它的四氫銨鹽、苯乙烯、羥基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、苯甲酸乙烯酯、4-叔丁基苯甲酸乙烯酯、乙二醇苯基醚丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基丙酯、丙烯酸-2-(4-苯甲?；?3-羥基苯氧基)乙酯、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、2-乙烯基萘、N-乙烯基鄰苯二甲酰亞胺、N-(3-羥基)苯基甲基丙烯酰胺、N-(3-羥基-4-硝基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺、N-(3-羥基-4-乙氧基羰基苯基偶氮)苯基甲基丙烯酰胺、N-(2，4-二硝基苯基氨基苯基)馬來酰亞胺、3-(4-乙酰氨基苯基)偶氮-4-羥基苯乙烯、甲基丙烯酸-3-(4-乙氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-羥苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-硝基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯。
可用于此實(shí)施方案的聚合物的例子有如下兩組物質(zhì)的共聚物丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、馬來酸酐、噻吩、馬來酸、馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、N-乙烯基吡咯烷酮或其混合物，與甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯、甲基丙烯酸羥丙酯、苯乙烯、羥基苯乙烯或其混合物。
抗反射涂料組合物的例子包含1)如下兩組物質(zhì)的共聚物馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、乙烯醇、烯丙醇、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、噻吩、β-羥基-γ-丁內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸-2-甲基-2-金剛烷基酯中的至少一種，與甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸羥乙酯、甲基丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯、苯乙烯、羥基苯乙烯和甲羥戊酸內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯中的至少一種，2)染料，如三苯基苯酚，9-蒽甲醇，馬來酸的芐基甲羥戊酸內(nèi)酯酯，甲基丙烯酸芐酯、羥基苯乙烯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯和3-乙酰氨基苯基偶氮-4-羥基苯乙烯與甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸羥乙酯的聚合物，3)交聯(lián)劑，如四(甲氧基甲基)甘脲和六烷氧基甲基蜜胺，4)光酸產(chǎn)生劑，如九氟丁磺酸三苯基锍、九氟丁磺酸二苯基碘鎓、2，1，4-重氮荼醌，非必要地，4)一些添加劑如胺和表面活性劑，和5)溶劑或溶劑混合物，如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚和乳酸乙酯。
在本發(fā)明的第三實(shí)施方案中，非感光抗反射涂料組合物包含交聯(lián)劑和具有至少一種使聚合物為堿溶性的單元的聚合物?？梢允褂帽菊f明書中公開的聚合物。在抗反射涂料組合物中沒有光酸產(chǎn)生劑。在曝光步驟之后加熱雙層體系導(dǎo)致光生酸從表層負(fù)性光刻膠擴(kuò)散入抗反射涂層中，以引起抗反射涂層的交聯(lián)。在這樣的情況下，優(yōu)選抗反射涂料的特別薄的涂層?？梢允褂?00-150埃的涂層。
在本發(fā)明的第四實(shí)施方案中，抗反射涂料組合物包含光活性化合物和聚合物，該聚合物在光解光活性化合物存在下改變極性或官能度，使得在曝光之后它在含水堿中的溶解性從可溶性變化到不可溶。吸光度可以是聚合物固有的或由于加入的染料。從如下物質(zhì)合成第四實(shí)施方案的聚合物例如，在酸存在下改變官能度或極性的單體，如包含在酸存在下內(nèi)酯化的γ-羥基羧酸的單體，如在Yokoyama等人，Proc.SPIE，第4345卷，(2001)，第58-66頁(yè)，和Yokoyama等人，J.ofPhotopolymer Sci.and Techn.，第14卷，第3期，第393頁(yè)中描述的那些。這樣的單體的另一個(gè)例子是包含頻哪醇官能度的單體，如在S.Cho等人，Proc.SPIE，第3999卷，(2000)，pps.62-73中描述的那些。溶解性的變化不是由于交聯(lián)機(jī)理。
抗反射涂料組合物的例子包含1)如下兩組單體的共聚物乙酰氧基苯乙烯、羥基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯中的至少一種單體，與馬來酸酐或馬來酰亞胺和5-(2，3-二羥基-2，3-二甲基)丁基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯中的至少一種單體，2)光酸產(chǎn)生劑，如九氟丁磺酸三苯基锍、九氟丁磺酸二苯基碘鎓，非必要地，4)一些添加劑，如胺和表面活性劑，和5)溶劑或溶劑混合物如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚和乳酸乙酯。
抗反射涂料組合物的另一個(gè)例子包含1)如下兩組單體的共聚物乙酰氧基苯乙烯、羥基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯中的至少一種單體，與已經(jīng)用硼氫化鈉處理以減少聚合物中結(jié)合的酸酐變?yōu)棣?羥基酸的馬來酸酐中的至少一種單體，2)光酸產(chǎn)生劑，如九氟丁磺酸三苯基锍、九氟丁磺酸二苯基碘鎓，和非必要地，3)一些添加劑，如胺和表面活性劑，和4)溶劑或溶劑混合物如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚和乳酸乙酯。
在第五實(shí)施方案中，抗反射涂料組合物由一種聚合物組成，該聚合物在酸化合物存在下改變極性或官能度，使得在曝光之后它在含水堿中的溶解性從可溶性變化到不可溶。此聚合物相似于第四實(shí)施方案中描述的聚合物。吸光度可以是聚合物固有的或由于加入的染料。此組合物中有效地沒有光酸產(chǎn)生劑。在此情況下，在曝光步驟之后和在烘烤步驟期間抗反射涂層中極性和官能度的變化由光生酸從表層負(fù)性光刻膠擴(kuò)散入抗反射涂層而引起。溶解性的變化不是由于交聯(lián)機(jī)理。
抗反射涂料組合物的例子包含1)已經(jīng)用硼氫化鈉處理以減少聚合物中結(jié)合的酸酐變?yōu)棣?羥基內(nèi)酯的馬來酸酐降冰片烯中的至少一種單體的共聚物，2)染料，如三苯基苯酚，9-蒽甲醇，馬來酸的芐基甲羥戊酸內(nèi)酯酯、甲基丙烯酸芐酯、羥基苯乙烯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯和3-乙酰氨基苯基偶氮-4-羥基苯乙烯與甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸羥乙酯的聚合物，3)光酸產(chǎn)生劑，如九氟丁磺酸三苯基锍、九氟丁磺酸二苯基碘鎓和2，1，4-重氮萘醌，非必要地，4)一些添加劑，如胺，和5)溶劑或溶劑混合物，如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚和乳酸乙酯。
抗反射涂料組合物的另一個(gè)例子包含1)馬來酰亞胺或馬來酸酐和5-(2，3-二羥基-2，3-二甲基)丁基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯中的至少一種單體的共聚物，2)染料，如三苯基苯酚，9-蒽甲醇，馬來酸的芐基甲羥戊酸內(nèi)酯酯，甲基丙烯酸芐酯、羥基苯乙烯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯和3-乙酰氨基苯基偶氮-4-羥基苯乙烯與甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸羥乙酯的聚合物，3)光酸產(chǎn)生劑，如九氟丁磺酸三苯基锍、九氟丁磺酸二苯基碘鎓和2，1，4-重氮萘醌，非必要地，4)一些添加劑，如胺，和5)溶劑或溶劑混合物，如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚和乳酸乙酯。
可以使用任何已知的聚合方法，如開環(huán)易位聚合、自由基聚合、縮聚，使用金屬有機(jī)催化劑，或陽(yáng)離子或陽(yáng)離子共聚技術(shù)而合成所述聚合物。可以使用溶液、乳液、本體、懸浮聚合等合成所述聚合物。將本發(fā)明的聚合物聚合以得到具有重均分子量為約1,000-約1,000,000，優(yōu)選約2,000-約80,000，更優(yōu)選約4,000-約50,000的聚合物。如果重均分子量小于1,000時(shí)，則對(duì)于抗反射涂料不能獲得良好的成膜性能，和如果重均分子量太高時(shí)，則可能危害性能如溶解度、貯存穩(wěn)定性等。自由基聚合物的多分散性(Mw/Mn)，其中Mw是重均分子量和Mn是數(shù)均分子量，可以為1.5-10.0，其中可以通過凝膠滲透色譜測(cè)定聚合物的這些分子量。
選擇抗反射涂料的溶劑，使得它可以溶解抗反射涂料的所有固體組分，并也可以在烘烤步驟期間除去使得獲得的涂層不可溶于光刻膠的涂料溶劑中。此外，為保持抗反射涂料的整體性，抗反射涂料的聚合物也不可溶于表層光刻膠的溶劑。這樣的要求防止或最小化抗反射涂層層與光刻膠層的互混。典型地，丙二醇單甲基醚乙酸酯和乳酸乙酯是用于表層光刻膠的優(yōu)選溶劑。用于抗反射涂料組合物的合適溶劑的例子有環(huán)己酮、環(huán)戊酮、苯甲醚、2-庚酮、乳酸乙酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚、乙酸丁酯、γ-丁酰乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、甲基溶纖劑乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、丙酮酸乙酯、乙酸-2-甲氧基丁酯、2-甲氧基乙基醚，但優(yōu)選乳酸乙酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚或其混合物。一般優(yōu)選具有較低毒性程度和良好涂覆性能和溶解性的溶劑。
本發(fā)明的典型抗反射涂料組合物可包含最多至約15wt％的固體分，優(yōu)選小于8％，基于涂料組合物的總重量。固體分可包含0-25wt％光酸產(chǎn)生劑，40-99wt％聚合物，1-60wt％交聯(lián)劑，和非必要地5-95wt％染料，基于光刻膠組合物的總固體分含量。將固體組分溶于溶劑或溶劑混合物中，并過濾以除去雜質(zhì)。也可以通過技術(shù)，如經(jīng)過離子交換柱，過濾，和萃取工藝，而處理抗反射涂料的組分，以改進(jìn)產(chǎn)品的質(zhì)量。
可以加入其它組分以提高涂層的性能，如低級(jí)醇、表面流平劑、粘合促進(jìn)劑、消泡劑等。這些添加劑可以0-20wt％的水平存在。可以將其它聚合物，如線性酚醛清漆、聚羥基苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚丙烯酸酯加入到組合物中，條件是不會(huì)不利地影響性能。優(yōu)選此聚合物的數(shù)量保持在組合物總固體分的50wt％以下，更優(yōu)選20wt％，和甚至更優(yōu)選10wt％以下。
如使用橢圓光度法測(cè)量的本發(fā)明新型組合物的吸收參數(shù)(k)為約0.1-約1.0，優(yōu)選約0.15-約0.7。也優(yōu)化抗反射涂層的折射率(n)。k和n的最優(yōu)范圍的精確值依賴于使用的曝光波長(zhǎng)和施用的類型。典型地，對(duì)于193nm，優(yōu)選的k的范圍是0.2-0.75，對(duì)于248nm，優(yōu)選的k的范圍是0.25-0.8，和對(duì)于365nm，優(yōu)選的k的范圍是0.2-0.8?？狗瓷渫繉拥暮穸刃∮诒韺庸饪棠z的厚度。優(yōu)選抗反射涂層的膜厚度小于(曝光波長(zhǎng)/折射率)的數(shù)值，和更優(yōu)選它小于(曝光波長(zhǎng)/2倍折射率)的數(shù)值，其中折射率是抗反射涂層的折射率并可以采用橢率計(jì)測(cè)量?？狗瓷渫繉拥淖顑?yōu)膜厚度由曝光波長(zhǎng)，襯底，抗反射涂層和光刻膠兩者的折射率，和表層和底部涂層的吸收特性確定。由于底部抗反射涂層必須通過曝光和顯影步驟除去，所以通過避免其中抗反射涂層中沒有光吸收的光節(jié)或駐波而確定最優(yōu)膜厚度。對(duì)于193nm，優(yōu)選小于55nm的膜厚度，對(duì)于248nm，優(yōu)選小于80nm的膜厚度，和對(duì)于365nm，優(yōu)選小于110nm的膜厚度。
使用本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的技術(shù)，如浸漬、旋涂或噴涂將抗反射涂料組合物涂覆在襯底上。優(yōu)選的溫度范圍是約40℃-約240℃，優(yōu)選約70℃-約160℃。抗反射涂層的膜厚度為約20nm-約200nm。如本領(lǐng)域公知的那樣，確定最優(yōu)膜厚度，以在光刻膠中不會(huì)觀察到駐波。已經(jīng)意外地發(fā)現(xiàn)，對(duì)于此新型組合物，由于膜的優(yōu)異的吸收和折射率性能，可以使用非常薄的涂層。將涂層進(jìn)一步在熱板或?qū)α鱾鳠釥t上加熱足夠長(zhǎng)的時(shí)間，以除去任何殘余溶劑，并因此使抗反射涂層不溶解以防止在抗反射涂層和光刻膠層之間的互混。抗反射涂層在此階段還可溶于堿性顯影溶液中。
用含水堿性溶液顯影的負(fù)性光刻膠可用于本發(fā)明，條件是光刻膠和抗反射涂層中的光活性化合物在與用于光刻膠成像工藝相同的曝光波長(zhǎng)下吸收。將負(fù)性作用光刻膠組合物在輻射下成像式曝光，光刻膠組合物的曝光于輻射下的那些區(qū)域變得更不可溶于顯影劑溶液(如發(fā)生交聯(lián)反應(yīng))而未曝光的那些區(qū)域保持可溶于顯影劑溶液。因此，采用顯影劑處理經(jīng)曝光的負(fù)性作用光刻膠導(dǎo)致除去涂層的未曝光區(qū)域和在光刻膠涂層中形成負(fù)像。光刻膠分辨率定義為在曝光和顯影之后，光刻膠組合物可以高圖像邊緣銳度將其從光掩模轉(zhuǎn)印到襯底的最小特征。目前在許多制造應(yīng)用中，小于一微米數(shù)量級(jí)的光刻膠分辨率是必需的。此外，幾乎總是期望顯影的光刻膠壁輪廓接近垂直于襯底。在抗蝕劑的顯影和未顯影區(qū)域之間的這樣的分界轉(zhuǎn)變成掩模圖像到襯底上的精確圖案轉(zhuǎn)印。隨著微型化的推進(jìn)減小了器件上的臨界尺寸，這一點(diǎn)變得甚至更為關(guān)鍵。
包含如下物質(zhì)的負(fù)性作用光刻膠是本領(lǐng)域公知的線性酚醛清漆樹脂或聚羥基苯乙烯，交聯(lián)劑，和作為光活性化合物的醌-二疊氮化物化合物。典型地，通過在酸催化劑如草酸存在下，將甲醛和一種或多種多取代苯酚縮合而生產(chǎn)線性醛酚清漆樹脂。一般通過使多羥基酚類化合物與萘醌二疊氮化物酸或它們的衍生物反應(yīng)而獲得光活性化合物。如US5928837中所公開的，肟磺酸酯也已描述為用于負(fù)性光刻膠的光酸產(chǎn)生劑，并引入作為參考。這些類型的抗蝕劑的敏感性典型地為約300nm-440nm。
也可以使用對(duì)約180nm-約300nm的短波長(zhǎng)敏感的光刻膠。這些光刻膠正常地包含聚羥基苯乙烯或取代聚羥基苯乙烯衍生物，交聯(lián)劑，光活性化合物，和非必要地溶解性抑制劑。如下參考文獻(xiàn)例示使用的光刻膠類型并在此引入作為參考，Proc.SPIE，第3333卷(1998)、第3678卷(1999)、第3999卷(2000)、第4345卷(2001)。對(duì)于193nm和157nm曝光特別優(yōu)選包含非芳族聚合物，光酸產(chǎn)生劑，非必要地溶解性抑制劑，和溶劑的光刻膠。盡管可以在本發(fā)明抗反射涂料組合物的上方使用任何在193nm下敏感的光刻膠，但現(xiàn)有技術(shù)中已知的在193nm下敏感的光刻膠描述于如下參考文獻(xiàn)并在此引入，Proc.SPIE，第3999卷(2000)、第4345卷(2001)。一種這樣的負(fù)性光刻膠包含堿溶性氟化聚合物，光活性化合物，和交聯(lián)劑。此聚合物具有至少一種結(jié)構(gòu)1的單元， 其中Rf1和Rf2獨(dú)立地是全氟化或部分氟化的烷基，和n是1-8。負(fù)性光刻膠組合物包含聚[5-(2-三氟甲基-1，1，1-三氟-2-羥丙基)-2-降冰片烯]、四甲氧基甘脲、三氟甲磺酸三苯基锍和丙二醇單甲基醚乙酸酯。
然后將光刻膠的膜涂覆在抗反射涂層的上方并烘烤以基本除去光刻膠溶劑。然后成像式曝光該光刻膠和抗反射涂層雙層體系。在隨后的加熱步驟中，在曝光期間產(chǎn)生的酸反應(yīng)以交聯(lián)聚合物并因此使得它在顯影溶液中為堿不可溶性的。在未曝光的區(qū)域中，光刻膠和抗反射涂層可溶于顯影溶液。加熱步驟的溫度可以為110℃-170℃，優(yōu)選120℃-150℃。然后在含水顯影劑中將此雙層體系顯影以除去未曝光的光刻膠和抗反射涂層。顯影劑優(yōu)選是包含例如氫氧化四甲基銨的含水堿性溶液。該顯影劑可進(jìn)一步包含添加劑，如表面活性劑，聚合物，異丙醇，乙醇等。將光刻膠涂料和抗反射涂料涂覆和成像的方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的并對(duì)于使用的具體類型的光刻膠和抗反射涂層組合而優(yōu)化。然后可以通過集成電路制造工藝，例如金屬沉積和蝕刻，按要求進(jìn)一步加工經(jīng)成像的雙層體系。
對(duì)于所有的目的，以上提及的每篇文獻(xiàn)在此全文引入作為參考。如下的具體實(shí)施例將提供生產(chǎn)和利用本發(fā)明組合物的方法的詳細(xì)說明。然而，這些實(shí)施例無意于以任何方式限制或限定本發(fā)明的范圍并且不應(yīng)當(dāng)解釋為是在提供必須專有地采用以實(shí)踐本發(fā)明的條件、參數(shù)或數(shù)值。
實(shí)施例合成實(shí)施例1在250ml圓底燒瓶中放入9.10g(0.0812摩爾)N-甲基馬來酰亞胺，6.6g(0.041摩爾)乙酰氧基苯乙烯，4.3g(0.042摩爾)苯乙烯，0.4g偶氮二異丁腈和50g四氫呋喃。將反應(yīng)體系脫氣10分鐘并將反應(yīng)體系在攪拌下加熱到回流5小時(shí)。然后在攪拌下將反應(yīng)體系加入到600ml己烷中。在50℃下在真空下干燥沉淀出的聚(苯乙烯-乙酰氧基苯乙烯-N-甲基馬來酰亞胺)。
將5克的上述聚合物加入10g的40％含水N-甲胺和20g的N-甲基吡咯烷酮中。將此混合物在配有冷凝器的100ml圓底燒瓶中加熱并在70℃下攪拌3小時(shí)。然后在攪拌下將反應(yīng)體系加入到600ml的5％含水鹽酸中。將淤漿過濾并采用去離子(DI)水充分洗滌。在50℃下在真空下干燥聚合物。如通過凝膠滲透色譜測(cè)量的，此聚合物的重均分子量為48,200。聚合物涂層顯示的在193nm下的折射率和吸收分別為，n為1.599和k為0.644，其通過J.A.Woollam WVASE 32TM橢率計(jì)測(cè)量。
合成實(shí)施例2在250ml圓底燒瓶中放入9.10g(0.0812摩爾)N-甲基馬來酰亞胺，6.6g(0.041摩爾)乙酰氧基苯乙烯，4.3g(0.042摩爾)9-蒽甲醇的甲基丙烯酸酯(AMMA)，0.4g偶氮二異丁腈和60g四氫呋喃。將反應(yīng)體系脫氣并將反應(yīng)體系在攪拌下加熱到回流5小時(shí)。然后在攪拌下將反應(yīng)體系加入到600ml己烷中。在50℃下在真空下干燥沉淀出的聚(AMMA-乙酰氧基苯乙烯-N-甲基馬來酰亞胺)。
將5克的上述聚合物加入10g的40％含水N-甲胺和20g的N-甲基吡咯烷酮中。將此混合物在配有冷凝器的100ml圓底燒瓶中加熱并在70℃下攪拌3小時(shí)。然后在攪拌下將反應(yīng)體系加入600ml的5％含水鹽酸中。將淤漿過濾并用DI水充分洗滌。在50℃下在真空下干燥聚合物。
配制實(shí)施例1在99.98g雙丙酮醇中溶解1.27g由合成實(shí)施例1得到的聚合物，0.22g Cymel 303(CYTEC Corp.(West Paterson，N.J.)的產(chǎn)品)，0.01gFC-4430(氟代脂族聚合酯，由3M Corporation(St.Paul Minnesota)提供)和0.09g CGI 1325光酸產(chǎn)生劑(Ciba Corp.(Basel，瑞士)的產(chǎn)品)。通過0.2微米過濾器過濾此底部抗反射涂料配制劑。
配制實(shí)施例2在99.98g雙丙酮醇中溶解1.27g由合成實(shí)施例2得到的聚合物，0.22g Cymel 303，0.01g FC-4430(氟代脂族聚合酯，由3M Corporation(St.Paul Minnesota)提供)和0.09g CGI 1325光酸產(chǎn)生劑。通過0.2微米過濾器過濾該底部抗反射涂料配制劑。
配制實(shí)施例3如下制備兩種溶液溶液1在121.197g乳酸乙酯中加入2.052g由合成實(shí)施例1得到的聚合物，和0.113g的10％的Megafac R08(購(gòu)自Diappon Ink andChem(Mikawa，日本))在丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)中的溶液。
溶液2在119.038g乳酸乙酯中溶解2.527g聚(羥基苯乙烯-甲基丙烯酸酯)，3-(偶氮-4-N-乙酰苯胺)和1.048g PowderlinkN2702(CYTEC Corp.(West Paterson，N.J.)的產(chǎn)品)。
通過取120g“溶液1”和79g“溶液2”制備一種溶液。向此溶液中加入0.6g的50.86％的Cymel 303(CYTEC Corp.(West Paterson，N.J.)的產(chǎn)品)在PGMEA中的溶液，和18.011g的1.726％的CGI 1325在雙丙酮醇中的溶液。通過0.2微米過濾器過濾該底部抗反射涂料配制劑。
配制實(shí)施例4向20.055g的0.901％的由合成實(shí)施例1得到的聚合物在雙丙酮醇中的溶液中，加入0.068g的50％的Cymel 303在PGMEA中的溶液。通過0.2微米過濾器過濾此溶液。
配制實(shí)施例5將0.988g聚[5-(2-三氟甲基-1，1，1-三氟-2-羥丙基)-2-降冰片烯](Mw8,300，Mw/Mn＝1.69)，0.247g四甲氧基甘脲，0.013g三氟甲磺酸三苯基锍，0.122g的1wt％的氫氧化四丁基銨的丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)溶液和0.012g的10wt％的表面活性劑FC4430(氟代脂族聚合酯，由3M Corporation(St.Paul Minnesota提供)的PGMEA溶液，溶于8.62g PGMEA中以得到一種光刻膠溶液。使用0.2微米過濾器過濾該溶液。
平版印刷實(shí)施例1將由配制實(shí)施例1得到的底部抗反射涂料溶液涂覆在經(jīng)HMDS打底漆的6”硅晶片上直到300埃的均勻涂層。將底部抗反射涂層在90℃下輕烘烤60秒以獲得干燥聚合物膜。將由配制實(shí)施例5得到的負(fù)性光刻膠涂覆在帶有底部抗反射涂層的晶片的上方，以得到3,300埃厚的光刻膠層并在90℃下輕烘烤60秒。然后使用在石英二元掩模上的鉻，在193nm ISI微型步進(jìn)投影曝光機(jī)(0.6的數(shù)值孔徑和0.7的相干性)上曝光經(jīng)涂覆的晶片。二元掩模具有線和空白的圖案。在曝光之后，將晶片在150℃下曝光后烘烤60秒。在曝光后烘烤(PEB)之后立即將晶片用含水顯影劑AZ 300 MIF(購(gòu)自Clariant Corporation(Somerville，NJ))顯影60秒，采用DI水清洗15秒并旋轉(zhuǎn)干燥。通過掃描電鏡檢查所獲得的結(jié)構(gòu)，圖像沒有顯示出互混且分辨出0.4μm密集線而沒有駐波。
平版印刷實(shí)施例2采用557埃由配制實(shí)施例1得到的底部抗反射涂料溶液涂覆8英寸經(jīng)HMDS打底漆的硅晶片上。使用90℃的輕烘烤90秒。在此經(jīng)涂覆的晶片上形成3063埃的在配制實(shí)施例5中制備的負(fù)性光刻膠。將晶片在90℃下輕烘烤90秒。將兩次涂覆晶片在248nm DUV步進(jìn)投影曝光機(jī)上曝光8-48mJ/cm2。使用110℃/90秒的曝光后烘烤。然后使用單一的60秒膠泥AZ 300 MIF顯影該晶片。獲得清潔的圖像而沒有任何互混。
平版印刷實(shí)施例3將由配制實(shí)施例1得到的抗反射涂料涂覆在經(jīng)HMDS打底漆的6”硅晶片上以得到300埃的均勻涂層。將涂層在90℃下輕烘烤60秒。將負(fù)性i-線光刻膠AZN6010(購(gòu)自Clariant Corporation(Somerville，NJ)的產(chǎn)品)涂覆在抗反射涂層的上方，以生產(chǎn)1.0μm厚的光刻膠層并在90℃下烘烤60秒。使用365nm步進(jìn)和重復(fù)曝光工具采用線和空白圖案掩模曝光經(jīng)涂覆的晶片。使用110℃/90秒的曝光后烘烤。在PEB之后，立即將晶片采用AZ 300 MIF顯影60秒，采用DI水清洗15秒和旋轉(zhuǎn)干燥。通過掃描電鏡檢查所獲得的結(jié)構(gòu)，電鏡顯示對(duì)于密集1μm線清潔地形成圖像。
平版印刷實(shí)施例4將由配制實(shí)施例3得到的底部抗反射涂料涂覆在經(jīng)HMDS打底漆的6”硅片上以得到600埃的均勻涂層。將底部抗反射涂層在90℃下輕烘烤60秒。將負(fù)性i-線光刻膠AZNLOF5510(Clariant Corporation的產(chǎn)品)涂覆在施用的抗反射涂層的上方，以生產(chǎn)0.986μm厚的光刻膠層并在90℃下輕烘烤60秒。使用365nm步進(jìn)和重復(fù)曝光工具采用線和空白圖案掩模曝光經(jīng)涂覆的晶片。使用110℃/60秒的曝光后烘烤。在PEB之后，立即將晶片采用AZ 300 MIF顯影劑顯影120秒，采用DI水清洗15秒并旋轉(zhuǎn)干燥。清潔地形成所獲得的結(jié)構(gòu)。
平版印刷實(shí)施例5將由配制實(shí)施例4得到的抗反射涂料涂覆在經(jīng)HMDS打底漆的6”硅晶片上以得到300埃的均勻涂層。將底部抗反射涂層在90℃下輕烘烤60秒。將負(fù)性i-線光刻膠AZNLOF5510(AZ Corporation的產(chǎn)品)涂覆在施用的底部抗反射涂層的上方，以生產(chǎn)0.79μm厚的光刻膠層并在90℃下輕烘烤60秒。使用365nm步進(jìn)和重復(fù)曝光工具采用線和空白圖案掩模曝光經(jīng)涂覆的晶片。使用110℃/60秒的曝光后烘烤。在PEB之后，立即將晶片采用含水顯影劑，AZ 300 MIF顯影劑顯影120秒，采用DI水清洗15秒并旋轉(zhuǎn)干燥。對(duì)于密集0.7μm線清潔地形成所獲得的結(jié)構(gòu)。這是酸從光刻膠遷移以交聯(lián)底層的一個(gè)例子。
權(quán)利要求
1.一種負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含光酸產(chǎn)生劑、交聯(lián)劑和堿溶性聚合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其另外包含染料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的組合物，其中所述染料選自單體染料、聚合物染料以及單體染料和聚合物染料的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中所述染料選自包含如下部分的化合物取代和未取代的苯基、取代和未取代的蒽基、取代和未取代的菲基、取代和未取代的萘基、取代和未取代的雜環(huán)芳族環(huán)，該雜環(huán)芳族環(huán)包含雜原子，該雜原子選自氧、氮、硫或其組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中所述聚合物另外包含至少一種具有吸收性生色團(tuán)的單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的組合物，其中所述生色團(tuán)選自包含如下部分的化合物烴芳族環(huán)，取代和未取代的苯基，取代和未取代的蒽基，取代和未取代的菲基，取代和未取代的萘基，取代和未取代的雜環(huán)芳族環(huán)，該雜環(huán)芳族環(huán)包含雜原子，該雜原子選自氧、氮、硫或其組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中所述聚合物選自如下兩組物質(zhì)的共聚物乙酰氧基苯乙烯、羥基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸-9-蒽基甲酯、9-乙烯基蒽、甲基丙烯酸-3-(4-甲氧基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯和甲基丙烯酸-3-(4-羥基羰基苯基)偶氮乙酰乙酰氧基乙酯中的至少一種，與馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、N-炔醇馬來酰亞胺、乙烯醇、烯丙醇、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、噻吩、β-羥基-γ-丁內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸-2-甲基-2-金剛烷基酯、甲基丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯和甲羥戊酸內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中抗反射層的k值為0.1-1.0。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中抗反射層的厚度小于光刻膠的厚度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中抗反射涂料基本不溶于表層光刻膠的溶劑。
11.一種形成正像的方法，其包括a)在襯底上提供權(quán)利要求1的涂料組合物的涂層；b)提供表層負(fù)性光刻膠層；c)將表層和底層在相同波長(zhǎng)的光化輻射下成像式曝光；d)曝光后烘烤襯底，由此導(dǎo)致表層和底部涂層的曝光區(qū)域不溶于含水堿性顯影溶液；e)采用含水堿性溶液將表層和底層顯影。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其中抗反射涂料在曝光步驟之前可溶于含水堿性溶液和在顯影步驟之前在曝光區(qū)域中不可溶。
13.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其中曝光波長(zhǎng)為450nm-100nm。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中曝光波長(zhǎng)選自436nm、365nm、248nm、193nm和157nm。
15.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其中曝光后加熱步驟的溫度為110℃-170℃。
16.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其中含水堿性溶液包含氫氧化四甲基銨。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的方法，其中含水堿性溶液另外包含表面活性劑。
18.一種非感光、負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含交聯(lián)劑和堿溶性聚合物。
19.一種形成正像的方法，其包括a)在襯底上提供權(quán)利要求18的涂料組合物的涂層；b)提供表層負(fù)性光刻膠層；c)將表層和底層在相同波長(zhǎng)的光化輻射下成像式曝光；d)曝光后烘烤襯底，由此使酸從表層光刻膠擴(kuò)散入底部抗反射涂層中；和e)采用含水堿性溶液將表層和底層顯影。
20.一種形成負(fù)像的方法，其包括a)在襯底上提供負(fù)性、底部、可光成像并可堿顯影的抗反射涂料組合物的涂層；b)提供表層光刻膠層的涂層；c)將表層和底層在相同波長(zhǎng)的光化輻射下成像式曝光；d)曝光后烘烤襯底；和e)采用含水堿性溶液將表層和底層顯影。
21.一種負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在含水堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含光酸產(chǎn)生劑和含水堿溶性聚合物，該聚合物在曝光時(shí)重排以變得不溶于含水堿性顯影劑。
22.權(quán)利要求21的組合物，其中所述聚合物沒有交聯(lián)。
23.一種負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物，該組合物能夠在含水堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方，其中此抗反射涂料組合物包含含水堿溶性聚合物，該聚合物在曝光時(shí)重排以變得不溶于含水堿性顯影劑。
24.權(quán)利要求23的組合物，其中所述聚合物沒有交聯(lián)。
全文摘要
本發(fā)明涉及新型負(fù)性作用、可光成像且可水性顯影的抗反射涂料組合物和它們的通過在反射襯底和光刻膠涂層之間形成此新型抗反射涂料組合物的薄層而用在圖像處理中的用途。該負(fù)性、底部、可光成像的抗反射涂料組合物能夠在堿性顯影劑中顯影且其涂覆在負(fù)性光刻膠的下方。
文檔編號(hào)G03F7/09GK1615460SQ03802097
公開日2005年5月11日 申請(qǐng)日期2003年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月9日
發(fā)明者J·E·奧伯蘭德, R·R·達(dá)默爾, 李丁術(shù)季, M·O·尼瑟爾, M·A·圖卡伊 申請(qǐng)人:科萊恩金融(Bvi)有限公司