專(zhuān)利名稱(chēng)：在光學(xué)石版曝光時(shí)冷卻標(biāo)線板的方法以及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在遠(yuǎn)紫外光學(xué)石版工具中的標(biāo)線板的散熱。
現(xiàn)有技術(shù)在當(dāng)前的光學(xué)石版技術(shù)中，在基底上的原版圖案(亦稱(chēng)為標(biāo)線板)，系通過(guò)投射深紫外線光(DUV)穿透標(biāo)線板，或?qū)⑦h(yuǎn)紫外線反射離開(kāi)標(biāo)線板，且然后使該光線通過(guò)成像光學(xué)組件而落在晶片上，以至于將原版圖案復(fù)制在晶片上。欲將接近微米的圖案復(fù)制在晶片上時(shí)，其要求必須使晶片與標(biāo)線板相對(duì)于成像光學(xué)組件之間維持在精確的位置關(guān)系上。在DUV步驟以及掃描光學(xué)石版工具的情形時(shí)，標(biāo)線板通常通過(guò)真空方式而固定在標(biāo)線板臺(tái)座上，但是對(duì)于EUV工具來(lái)說(shuō)，真空被用于EUV傳導(dǎo)，所以使用靜電力來(lái)取代真空。介于標(biāo)線板與其臺(tái)座之間的機(jī)械界面一般稱(chēng)為夾頭。
一般來(lái)說(shuō)，標(biāo)線板因?yàn)槭艿狡毓庹丈涠軣?，?dǎo)致標(biāo)線板產(chǎn)生扭曲。對(duì)于大部分的DUV工具來(lái)說(shuō)，標(biāo)線板基底是低膨脹熔化的二氧化硅，且標(biāo)線板的溫度上升是通過(guò)以周?chē)髿庠鲞M(jìn)效果的熱傳機(jī)構(gòu)來(lái)限制住的，所以能夠?qū)⑸鲜霎a(chǎn)生的扭曲保持在可接受的程度內(nèi)。然而，對(duì)于EUV工具來(lái)說(shuō)，當(dāng)欲形成小于30nm的影像且在標(biāo)線板上的熱負(fù)載較大時(shí)，EUV標(biāo)線板一般都是接近零膨脹的材質(zhì)所制成的，例如超低膨脹玻璃。即使具有此項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)，考慮到真空環(huán)境及標(biāo)線板的低紅外線發(fā)射率，所以仍然需要冷卻作用來(lái)克服熱扭曲現(xiàn)象。
在傳統(tǒng)的EUV夾頭設(shè)計(jì)中，標(biāo)線板是通過(guò)靜電力而固持緊靠著一靜電卡鉗的疙瘩表面。可以在標(biāo)線板與卡鉗之間注入氣體，以便提升從標(biāo)線板到標(biāo)線板臺(tái)座的熱傳效果。也可以在靜電夾鉗后方的夾頭中之通道內(nèi)，助入循環(huán)的冷卻流體，以便限制溫度上升及所導(dǎo)致的扭曲。靜電夾鉗是被裝配到一堅(jiān)硬又接近零膨脹的結(jié)構(gòu)上，此結(jié)構(gòu)可以固持住標(biāo)線板臺(tái)座定位系統(tǒng)的度量衡參考軸。
為了達(dá)成所須的精度，所以標(biāo)線板臺(tái)座可以混合磁力漂浮，以便允許標(biāo)線板位置產(chǎn)生極精確的控制。標(biāo)線板臺(tái)座的磁力漂浮部是被稱(chēng)為短沖程臺(tái)座，且包含一低膨脹堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)、力量起動(dòng)器、度量衡參考軸及標(biāo)線板夾頭。短沖程模塊能夠與一沿著掃描軸移動(dòng)的長(zhǎng)沖程臺(tái)座產(chǎn)生反應(yīng)，短沖程臺(tái)座可以設(shè)計(jì)成具有一整體的夾頭，或是一個(gè)分離的夾頭模塊，以便從短沖程結(jié)構(gòu)移除。在任一種情形中，均相當(dāng)不希望使液體跑到短沖程臺(tái)座上，因?yàn)榱黧w所引入的震動(dòng)以及連接軟管的動(dòng)力特性會(huì)降低圖案的定位精度。冷卻的液體會(huì)跑到長(zhǎng)沖程臺(tái)座上，以便冷卻起動(dòng)器線圈，且由于磁力漂浮所提供的高度隔離，因此不會(huì)產(chǎn)生出太嚴(yán)重的問(wèn)題。
圖1是一傳統(tǒng)系統(tǒng)100，包括一短沖程臺(tái)座部102。短沖程臺(tái)座部102包括一標(biāo)線板104及一夾頭(組件108與112的組合)的薄前板106，此兩者是通過(guò)一氣體間隙106而分開(kāi)。水流過(guò)位于前板108″下方″的一熱移除區(qū)域110，在此熱移除區(qū)域110下方，設(shè)有夾頭的一堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)112。
標(biāo)線板104是放置在標(biāo)線板臺(tái)座上，包括用于精細(xì)定位的短沖程臺(tái)座(在下文中可互換地稱(chēng)為短沖程臺(tái)座或SS)，以及用于粗略定位的長(zhǎng)沖程臺(tái)座(未顯示于此圖形中)(在下文中可互換地稱(chēng)為長(zhǎng)沖程臺(tái)座或LS)。傳統(tǒng)地，這些臺(tái)座是連接在一起，且至少一個(gè)臺(tái)座是使用流體來(lái)進(jìn)行冷卻。在大部分的情形中，可以在標(biāo)線板與晶片之間使用光學(xué)組件，以便在曝光之前減少圖案且補(bǔ)償任何圖案的變形。對(duì)一連串圖案進(jìn)行曝光，以便制造出各種層，而用于在晶片上形成電子裝置。為了使制造出來(lái)的裝置能夠正確地運(yùn)作，圖案必須精確地覆蓋在上面而僅能有些微的偏差。這一點(diǎn)在遠(yuǎn)紫外光(EUV)系統(tǒng)尤其重要，因?yàn)楸恢圃斓难b置之特征尺寸甚至只有小于50nm的等級(jí)。因此，即使與每層圖案的正確位置只有小于10nm的偏移，都仍然會(huì)使晶片上的裝置無(wú)法使用。
在光學(xué)石版系統(tǒng)中，用于曝光的光線可以通過(guò)光學(xué)組件以及周?chē)鷼怏w來(lái)吸收。為了減少在EUV中的吸收效果，所以在真空中執(zhí)行曝光處理，且使用一反射性的標(biāo)線板。EUV的標(biāo)線板一般能夠反射掉百分之六十以下的入射光，光線與標(biāo)線板之間的交互作用(亦稱(chēng)為光化性熱負(fù)載)能夠使標(biāo)線板的溫度上升，因而導(dǎo)致標(biāo)線板上的圖案產(chǎn)生扭曲，且因此也使得在晶片上的復(fù)制圖案產(chǎn)生扭曲。這樣的扭曲現(xiàn)象在EUV系統(tǒng)中更為麻煩，因?yàn)槿缟纤?，在圖案的復(fù)制期間它僅允許相當(dāng)小的余隙。雖然在使用比EUV波長(zhǎng)更大的波長(zhǎng)來(lái)操作之其它系統(tǒng)中使用穿透性標(biāo)線板，這樣就較不會(huì)受到扭曲現(xiàn)象的影響，但是由于完全吸收的現(xiàn)象，仍使得這些系統(tǒng)無(wú)法與EUV光一起使用。
已經(jīng)研發(fā)了許多冷卻系統(tǒng)，以便補(bǔ)償由于曝光所導(dǎo)致的標(biāo)線板溫度上升。典型的冷卻系統(tǒng)系通過(guò)在長(zhǎng)及/或短沖程臺(tái)座中的通道內(nèi)循行液體，以保持臺(tái)座的冷卻，同時(shí)亦冷卻在短沖程臺(tái)座上的標(biāo)線板。然而，很不幸地，由于液體的持續(xù)流動(dòng)，冷卻系統(tǒng)會(huì)使臺(tái)座產(chǎn)生震動(dòng)，這樣的震動(dòng)會(huì)使曝光在晶片上的圖案變得模糊。即使將冷卻系統(tǒng)移動(dòng)到長(zhǎng)沖程臺(tái)座時(shí)，震動(dòng)也依然會(huì)透過(guò)長(zhǎng)沖程臺(tái)座與短沖程臺(tái)座之間的物理連接而傳遞。
因此，需要一種系統(tǒng)及方法，能夠控制在EUV工具中的標(biāo)線板的熱扭曲，而不需要使用液體冷卻過(guò)的標(biāo)線板夾頭。
因此，需要一種系統(tǒng)及方法，用以在短沖程臺(tái)座的一輻射連接裝置上提供足夠的表面積，以便允許從標(biāo)線板產(chǎn)生出有效的熱傳遞且通過(guò)短沖程臺(tái)座。而且，需要一種冷卻系統(tǒng)及方法，使得短沖程臺(tái)座能夠夾持住標(biāo)線板，且不需要任何通過(guò)短沖程臺(tái)座的液體流，且不需要使短沖程臺(tái)座連接到長(zhǎng)沖程臺(tái)座上，因而減少不想要的震動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一系統(tǒng)，包含第一臺(tái)座及第二臺(tái)座，第一臺(tái)座包括一輻射聯(lián)結(jié)器及冷卻部，而第二臺(tái)座是輻射式地連結(jié)到第一臺(tái)座上。第二臺(tái)座包括一基底接收裝置、連結(jié)到基底接收裝置的一均勻熱移除部，以及連結(jié)到均勻熱移除部之輻射聯(lián)結(jié)器。
本發(fā)明的其它實(shí)施例提供一種從基底散熱的方法。此方法能夠?qū)崃繌幕讉魉偷揭换捉邮昭b置，亦將熱量從基底接收裝置傳送至一均勻熱移除裝置。此方法亦將熱量從均勻熱移除裝置傳送至第一輻射聯(lián)結(jié)器。此方法亦將熱量從第一輻射聯(lián)結(jié)器傳送到第二輻射聯(lián)結(jié)器，然后以一冷卻系統(tǒng)將所傳送來(lái)的熱量發(fā)散出去。
本發(fā)明的其它實(shí)施例提供一種系統(tǒng)，用以接收、固持與控制基底的溫度。此系統(tǒng)包括一堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)，其具有大致上為零的熱膨脹系數(shù)(CTE)且拘束住基底。此系統(tǒng)亦包括一熱移除部，具有比堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)更大的CTE與熱傳導(dǎo)性，能夠?qū)⑦^(guò)多的熱量從基底移除。此系統(tǒng)亦包括用以將基底熱連結(jié)至熱移除部上之機(jī)構(gòu)，此系統(tǒng)亦包括熱隔離機(jī)構(gòu)，用以將熱移除部與堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)產(chǎn)生熱隔離，此系統(tǒng)亦包括接謝聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)，用以將熱移除部機(jī)械式地聯(lián)結(jié)到堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)上，此系統(tǒng)亦包括輻射機(jī)構(gòu)，用以將過(guò)多的熱量從熱移除部移開(kāi)。
上述實(shí)施例的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于它能夠?qū)⒒姿盏乃心芰?例如約12W)予以移除。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于基底能夠維持在一想要的中間溫度(例如大約22℃)。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于假如基底是一標(biāo)線板的話，則標(biāo)線板的平面內(nèi)(in-plane)扭曲，也就是標(biāo)線板圖案就會(huì)被局限于想要的公差內(nèi)(例如小于2nm，1nm＝1/1000mm＝1×10-9m)。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于假如基底是一標(biāo)線板的話，則標(biāo)線板的平面外(out-of-plane)扭曲，也就是標(biāo)線板圖案就會(huì)被局限于想要的公差內(nèi)(例如小于50nm)。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于基底的起初弓形彎曲會(huì)被壓扁(例如從1.5mm的弓形彎曲變成大約50nm的弓形彎曲)。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于此系統(tǒng)與方法能夠與高度真空環(huán)境兼容。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于此系統(tǒng)與方法能夠允許短沖程臺(tái)座與長(zhǎng)沖程臺(tái)座之間的相對(duì)移動(dòng)，其中短沖程臺(tái)座(例如精密或細(xì)微臺(tái)座)上頭安裝有一基底固持器(例如夾頭)，而長(zhǎng)沖程臺(tái)座(例如粗略或副臺(tái)座)能漂浮與推進(jìn)短沖程臺(tái)座。
上述實(shí)施例的另一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于此系統(tǒng)與方法能夠允許短沖程臺(tái)座與長(zhǎng)沖程臺(tái)座之間的相對(duì)移動(dòng)(例如工作間隙等)至一想要的距離(例如大約1.5mm)，以便用于光學(xué)石版工具設(shè)計(jì)。
以下，將參考


本發(fā)明的其它實(shí)施例、特色與優(yōu)點(diǎn)，以及本發(fā)明各種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)與操作。
對(duì)附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明包含于該說(shuō)明書(shū)中并形成該說(shuō)明書(shū)一部分的附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了圖解說(shuō)明，并且和說(shuō)明書(shū)一起進(jìn)一步解釋了本發(fā)明的原理，和使本領(lǐng)域的技術(shù)人員可實(shí)施和使用本發(fā)明。
圖1顯示傳統(tǒng)的標(biāo)線板固持系統(tǒng)；圖2顯示本發(fā)明實(shí)施例的標(biāo)線板固持系統(tǒng)；圖3與4顯示柵狀圖案，系用于本發(fā)明實(shí)施例中接觸標(biāo)線板的標(biāo)線板固持系統(tǒng)之突起；圖5是一熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版系統(tǒng)的一部分；圖6A、6B及6C是剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖6D是一熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與圖6A至6C的光學(xué)石版系統(tǒng)之一部分；圖7A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖7B是一熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與圖7A的光學(xué)石版系統(tǒng)之一部分；圖8A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖8B是一熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與圖8A的光學(xué)石版系統(tǒng)之一部分；圖9A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖9B顯示一輻射聯(lián)結(jié)器，系位于本發(fā)明實(shí)施例的標(biāo)線板固持系統(tǒng)之一部分內(nèi)；圖9C與9D是熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與圖9A的光學(xué)石版系統(tǒng)之一部分；圖10A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖10B是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖10C是一分解立體圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖10D是圖10C的局部放大圖；圖10E、10F、10G及10H是分解剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖10I與10J是熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與圖10A至10H的光學(xué)石版系統(tǒng)之一部分；圖11A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖11B是一分解剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)線板固持系統(tǒng)的一些部位；圖11C是一熱流圖，顯示在一標(biāo)線板內(nèi)的光吸收所產(chǎn)生的熱量，且通過(guò)標(biāo)線板與圖11A與11B的光學(xué)石版系統(tǒng)之一部分。
以下，將參考

本發(fā)明。在圖形中，相似的附圖標(biāo)記表示相同或功能類(lèi)似的組件。并且，附圖標(biāo)記中最左邊的數(shù)字表示該附圖標(biāo)記第一次出現(xiàn)的圖形。
對(duì)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明概要在整份說(shuō)明書(shū)中，標(biāo)線板被描述成一組件，受到本發(fā)明的系統(tǒng)與方法而冷卻。要知道的是此系統(tǒng)與方法可用于冷卻一固持于短沖程晶片臺(tái)座上的晶片，而同時(shí)曝光該晶片。同樣地，此系統(tǒng)與方法也可以用于冷卻一固持于短沖程標(biāo)線板臺(tái)座上的標(biāo)線板，而同時(shí)曝光該標(biāo)線板。因此，在整份說(shuō)明書(shū)中，標(biāo)線板一詞可與晶片或基底等詞互換，而不會(huì)背離本發(fā)明。為了方便起見(jiàn)，本發(fā)明之系統(tǒng)與方法的大部分?jǐn)⑹鼍y(tǒng)稱(chēng)標(biāo)線板。
不同實(shí)施例的系統(tǒng)與方法使在一短沖程臺(tái)座內(nèi)循環(huán)冷卻劑變得不需要，如此便消除了冷卻劑流過(guò)短沖程臺(tái)座時(shí)所產(chǎn)生的震動(dòng)。在覆蓋圖案于晶片上的期間，這些震動(dòng)對(duì)于一光學(xué)石版工具的光學(xué)石版性能是相當(dāng)有害的。此外，本發(fā)明實(shí)施例的系統(tǒng)與方法能通過(guò)在短沖程臺(tái)座內(nèi)維持固定的溫度與溫度變形，且不論在標(biāo)線板、晶片或基底上的光化熱負(fù)荷如何，防止短沖程臺(tái)座的熱引發(fā)變形中的變化。因此，由于對(duì)短沖程臺(tái)座的更精確位置控制，本發(fā)明的實(shí)施例能產(chǎn)生改進(jìn)的光學(xué)石版性能，而同時(shí)從標(biāo)線板上移除相當(dāng)大的光化熱負(fù)荷。這一點(diǎn)是通過(guò)以下步驟而完成的(1)傳導(dǎo)熱量，使其經(jīng)由標(biāo)線板、晶片或基底與短沖程臺(tái)座組件；(2)輻射式地傳熱，使其從短沖程臺(tái)座傳熱到長(zhǎng)沖程臺(tái)座；以及(3)使用一對(duì)流及冷卻系統(tǒng)，以便將熱量從長(zhǎng)沖程臺(tái)座發(fā)散出去。短沖程臺(tái)座可以從長(zhǎng)沖程臺(tái)座處以磁力漂浮起來(lái)，這樣的方式并無(wú)任何物理上的接觸，但是長(zhǎng)沖程臺(tái)座的移動(dòng)仍然可以控制短沖程臺(tái)座的移動(dòng)。通過(guò)不與長(zhǎng)沖程臺(tái)座產(chǎn)生物理上的接觸，短沖程臺(tái)座就不會(huì)受到流動(dòng)的冷卻劑在長(zhǎng)沖程臺(tái)座中所導(dǎo)致的震動(dòng)的影響。
在整份說(shuō)明書(shū)中，要知道的是″上″、″下″、″向前″、″向后″或任何其它方向性用語(yǔ)均為參考圖形而敘述的，且并非用以局限本發(fā)明系統(tǒng)的定位。
在整份說(shuō)明書(shū)中，從圖6B與10C中可以清楚看出，短沖程臺(tái)座(或SS)系指在曝光期間執(zhí)行晶片或標(biāo)線板的細(xì)微定位的臺(tái)座。此SS可相對(duì)于長(zhǎng)沖程臺(tái)座(或LS)漂浮，亦可圖6B與10C中清楚看出。在熱量經(jīng)由與本發(fā)明實(shí)施例相關(guān)的各種裝置而傳送到長(zhǎng)沖程臺(tái)座之后，LS則執(zhí)行大部分的冷卻。
A.整個(gè)系統(tǒng)與方法圖2顯示本發(fā)明實(shí)施例的一光學(xué)石版系統(tǒng)的一部位200，此部位200包括一基底(例如標(biāo)線板或晶片)202、一基底固持裝置或部(例如夾頭、靜電夾頭、堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)等類(lèi)似物)204、一均勻熱移除裝置或部(例如熱擴(kuò)散器或熱擴(kuò)散板)206，及一輻射聯(lián)結(jié)裝置或部(例如輻射聯(lián)結(jié)器)208。在一些實(shí)施例中，介于基底202與夾頭204之間，設(shè)有一熱聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)(例如填滿流體的一間隙)210。在一些實(shí)施例中，熱擴(kuò)散器206可以具有一延伸部位(例如熱分流器)212，其放置在通過(guò)短沖程結(jié)構(gòu)(未顯示與此圖)所形成的一開(kāi)口(例如細(xì)長(zhǎng)開(kāi)口)214中。因此，通過(guò)吸收了從標(biāo)線板202反射的光所產(chǎn)生的大部分熱量會(huì)通過(guò)熱擴(kuò)散器206而均勻地?cái)U(kuò)散開(kāi)來(lái)，且通過(guò)到細(xì)長(zhǎng)開(kāi)口214中的分流器212，以便通過(guò)輻射聯(lián)結(jié)器208而輻射式地傳送到長(zhǎng)沖程臺(tái)座(未顯示于此圖形中)，而不會(huì)進(jìn)入短沖程結(jié)構(gòu)內(nèi)。
在整份說(shuō)明書(shū)所敘述的各種實(shí)施例中，基底固持裝置可具有大致上為零的熱膨脹系數(shù)(CTE)，而熱移除裝置則具有比基底固持裝置更大的CTE及更大的熱傳導(dǎo)性。
在整份說(shuō)明書(shū)所敘述的各種實(shí)施例中，基底固持裝置204可以由低膨脹玻璃或陶瓷而制成，例如CORNING的超低膨脹玻璃、SCHOTT的Zerodur、或KYOCERA的Cordurite低膨脹陶瓷。在整份說(shuō)明書(shū)所敘述的各種實(shí)施例中，熱移除裝置206可以由氮化鋁、碳化硅、鋁、銅、銀或具有類(lèi)似特性的材質(zhì)制成。
在整份說(shuō)明書(shū)所敘述的各種實(shí)施例中，熱聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)210可以是一流體，例如氣體，其能夠被加壓至一壓力，高于環(huán)繞光學(xué)石版系統(tǒng)附近的氣體壓力。
圖3及4分別顯示本發(fā)明實(shí)施例的夾頭204之部位300與400。在使用期間，標(biāo)線板202可以靜電方式固持在夾頭204上，而停靠在短沖程結(jié)構(gòu)內(nèi)的支撐裝置(例如肋)304或404之一交叉點(diǎn)處的突起302或402上。突起302可以是呈現(xiàn)短粗圓柱體狀，大約5μm高且直徑1mm。突起302是用以標(biāo)線板變得平整而不會(huì)受到標(biāo)線板202與夾頭204之間陷入的顆粒而影響，介于突起302之間的凹陷區(qū)域能夠形成標(biāo)線板202與夾頭204之間的間隙，如此可容納相當(dāng)大的顆粒存在，例如大到5μm的顆粒。圖3中的部位300與圖4中的部位400，兩者之間的差異在于柵格之設(shè)計(jì)，其中部位300使肋304形成正方形的柵格設(shè)計(jì)，而部位400使肋404形成三角形的柵格設(shè)計(jì)。
突起302的間距是根據(jù)平面內(nèi)扭曲的最大值而決定的，間距是指相鄰?fù)黄?02或402之間的距離。為了掃描光學(xué)石版系統(tǒng)，標(biāo)線板202在Y方向(例如正交于圖2頁(yè)面)上受到加速，直到六倍重力加速度而達(dá)成高產(chǎn)量。標(biāo)線板202是以Z方向(例如與圖2頁(yè)面垂直的方向)上的力量靜電式地夾持在夾頭204上，摩擦力可以在Y方向上提供力量，但是因?yàn)楦吣Σ亮托枰邐A持力(例如大約10Kpa的夾持壓力)。這樣高的夾持壓力會(huì)導(dǎo)致標(biāo)線板202在突起302之間產(chǎn)生下垂與扭曲，因?yàn)槠渲胁o(wú)支撐點(diǎn)。這樣的下垂會(huì)導(dǎo)致標(biāo)線板202以及其上的圖案超過(guò)了可允許的扭曲極限，因此，這些條件便規(guī)定了突起302的定位。在一些實(shí)施例中，突起302可以間隔8.5mm以形成圖3的正方形柵格，或間隔12.5mm以形成圖4的三角形柵格。
當(dāng)標(biāo)線板202并未受到固持時(shí)(亦即受熱但并未被夾持)，標(biāo)線板202的熱膨脹將會(huì)超過(guò)最大設(shè)計(jì)規(guī)格達(dá)到三倍可允許公差以上。理想中，標(biāo)線板202會(huì)受到無(wú)限大的摩擦力而夾持在一相當(dāng)堅(jiān)硬不會(huì)膨脹的夾頭204上，然后熱膨脹與扭曲將大約只是可允許公差的四分之一而已。然而，不幸地，理想的情形只是理論而已。因此，以下的說(shuō)明將探討幾個(gè)實(shí)施例，包含一個(gè)低熱膨脹且堅(jiān)硬的夾頭204，試著盡可能地接近理想狀態(tài)。
圖5顯示流過(guò)本發(fā)明實(shí)施例的光學(xué)石版系統(tǒng)的部位的熱流500。在以下的說(shuō)明書(shū)中，將使用EUV作為光學(xué)石版系統(tǒng)的周?chē)h(huán)境來(lái)進(jìn)行探討。EUV一詞是指具有波長(zhǎng)等于或小于157nm的輻射線，包含但不局限于70至100nm之間的輻射線。要知道的是本發(fā)明的系統(tǒng)與方法可用于發(fā)散在光學(xué)石版系統(tǒng)中任何種類(lèi)光源所產(chǎn)生的熱量(包含波長(zhǎng)大于157nm的光線)。
從標(biāo)線板202反射的EUV光會(huì)使熱量被標(biāo)線板202本身所吸收，如502所示。熱量是從標(biāo)線板202經(jīng)由氣體間隙210傳送至一夾頭前板504，此部位可為夾頭204的一部位，且通過(guò)一熱傳導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)506。熱傳導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)506可以是任何已知的裝置或結(jié)構(gòu)，可將讓熱量從夾頭前板504傳導(dǎo)開(kāi)來(lái)，例如延伸部位(例如圖6A中的組件610及圖6B中的組件650)。熱傳導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)506通常是熱擴(kuò)散器206的一部分或者聯(lián)結(jié)至熱擴(kuò)散器。在通過(guò)了熱傳導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)506之后，熱量在508的位置被輻射式地傳送到一輻射聯(lián)結(jié)器510(稍后會(huì)詳細(xì)說(shuō)明)，此輻射聯(lián)結(jié)器是聯(lián)結(jié)至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)(未顯示，但稍后會(huì)詳細(xì)說(shuō)明)。輻射聯(lián)結(jié)器510使用在512處的對(duì)流經(jīng)由長(zhǎng)沖程臺(tái)座而將熱量傳送出去，此傳送出去的熱量經(jīng)由在514處的一循環(huán)冷卻物質(zhì)(例如冷卻劑)而產(chǎn)生冷卻，此循環(huán)冷卻物質(zhì)會(huì)循環(huán)通過(guò)長(zhǎng)沖程臺(tái)座。
實(shí)際上，輻射熱傳速率一般來(lái)說(shuō)較低，所以彌補(bǔ)這一點(diǎn)，可增加輻射表面積。用以移除來(lái)自?shī)A頭204的熱量所須的表面積一般來(lái)說(shuō)是根據(jù)輻射聯(lián)結(jié)器208的″折疊因子(folding factor)″而決定的，其中這些熱量是在EUV光曝射期間經(jīng)由輻射聯(lián)結(jié)器208通過(guò)標(biāo)線板202而產(chǎn)生的。折疊因子的定義如下折疊因子＝在耦合裝置中的輻射面積/標(biāo)線板的底面積在大部分的實(shí)施例中，所需要的折疊因子之范圍大約是12到17，熱負(fù)載可以決定折疊因子。使用此量值的折疊因子能減少在系統(tǒng)內(nèi)使用很冷的流體來(lái)冷卻長(zhǎng)沖程臺(tái)座輻射聯(lián)結(jié)器510。
可以使用幾種形式的輻射聯(lián)結(jié)器510。第一種形式的輻射聯(lián)結(jié)器510是一內(nèi)插入扁平翼片聯(lián)結(jié)器系統(tǒng)，其對(duì)于X方向上聯(lián)結(jié)器208與510之間的間隙增加相當(dāng)敏感，但是對(duì)于Y與Z方向上的相對(duì)移動(dòng)則不敏感，亦即平行于扁平翼片(例如圖6A中的組件610)的深度與長(zhǎng)度之方向上。因此，即使出現(xiàn)了很大的間隙(例如超過(guò)1mm的間隙)，內(nèi)插入扁平翼片聯(lián)結(jié)器系統(tǒng)也可以輕易產(chǎn)生很大的輻射表面積。另一種形式的輻射聯(lián)結(jié)器510是一孔內(nèi)裝入銷(xiāo)的聯(lián)結(jié)器系統(tǒng)，其在X與Y方向上對(duì)于聯(lián)結(jié)器208與510之間的間隙增加同樣地相當(dāng)敏感，對(duì)于孔內(nèi)裝入銷(xiāo)的聯(lián)結(jié)器系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，較難以很大的間隙產(chǎn)生大表面積，來(lái)容納長(zhǎng)沖程與短沖程臺(tái)座之間的相對(duì)移動(dòng)。然而，孔內(nèi)裝入銷(xiāo)的輻射聯(lián)結(jié)器510可以被制作得更加精巧，質(zhì)輕，且比內(nèi)插入扁平翼片聯(lián)結(jié)器系統(tǒng)更容易制造。以下討論的各種實(shí)施例系使用一種或其它種類(lèi)的聯(lián)結(jié)器510。實(shí)際上，要選擇哪一實(shí)施例配合特定應(yīng)用主要是根據(jù)熱負(fù)載、可允許的熱引發(fā)性扭曲，及冷卻劑溫度的可允許下限而決定的。以下的實(shí)施例其排列順序，是依照熱引發(fā)性扭曲抑制性能、熱負(fù)載容量及效率的遞增而排列的，當(dāng)然一般來(lái)說(shuō)也會(huì)與遞增的復(fù)雜性、重量與成本一致。
B.使用蜂巢狀肋透過(guò)分離的短沖程臺(tái)座聯(lián)結(jié)器傳熱的標(biāo)線板固持系統(tǒng)圖6A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中的短沖程臺(tái)座(SS)與長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)的一部位600。部位600包括一前板602，其聯(lián)結(jié)到突起604及肋606。在一些實(shí)施例中，肋606可以形成為蜂巢結(jié)構(gòu)。部位600亦包括一短沖程臺(tái)座輻射聯(lián)結(jié)器的扁平翼片610上。
圖6B是一部位620的側(cè)視圖，此部位620包含有本發(fā)明實(shí)施例的部位600。標(biāo)線板202的背部622是暫時(shí)地裝配至一短沖程臺(tái)座626的前側(cè)624上，標(biāo)線板202可以通過(guò)一內(nèi)建短沖程臺(tái)座626中的靜電夾鉗(未顯示)而暫時(shí)地聯(lián)結(jié)起來(lái)?？梢栽跇?biāo)線板202與靜電夾鉗之間導(dǎo)入低壓氣體，以便增進(jìn)其間的物理界面之熱傳導(dǎo)性，氣體的實(shí)施例可以是氬。在一些實(shí)施例中，熱量以相反于光化性熱負(fù)載的速率而添加至短沖程臺(tái)座626。如此一來(lái)，定義為光化性熱負(fù)載加上添加的熱負(fù)載之總熱負(fù)載，對(duì)于每個(gè)標(biāo)線板202及照明條件來(lái)說(shuō)就會(huì)大致上相等?？偀嶝?fù)載是經(jīng)由一具有厚度的短沖程臺(tái)座而傳導(dǎo)，且通過(guò)使用一輻射聯(lián)結(jié)系統(tǒng)632而從短沖程臺(tái)座626的背部628傳送到長(zhǎng)沖程臺(tái)座630上。通過(guò)在長(zhǎng)沖程臺(tái)座630中通道(例如導(dǎo)管、管、通道等)內(nèi)循環(huán)一冷卻流體634而移除總熱負(fù)載，此總熱負(fù)載是經(jīng)由長(zhǎng)沖程臺(tái)座630通過(guò)對(duì)流在位置633(圖6D)處所產(chǎn)生的。
將說(shuō)明本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施例，但是必須提供熱量至一光學(xué)石版系統(tǒng)的一些部位上。在操作時(shí)，絕無(wú)法達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，且控制系統(tǒng)的夾頭/標(biāo)線板的行為是相當(dāng)重要的，這一點(diǎn)在瞬變期間能夠使扭曲縮小化。為達(dá)此目的，通過(guò)添加與所吸收的光化熱相反比例的電熱就能將溫度或夾頭/標(biāo)線板部維持在一固定的熱負(fù)載或溫度上。如此可允許快速升溫至操作溫度，當(dāng)沒(méi)有光化性熱負(fù)載(例如交換標(biāo)線板)時(shí)，這一點(diǎn)是相當(dāng)理想且亦能防止短沖程臺(tái)座的過(guò)度溫降。
在包括有添加熱量的實(shí)施例中，聯(lián)結(jié)到短沖程臺(tái)座626上的一加熱裝置(例如電熱器)638可以產(chǎn)生熱量。在一些實(shí)施例中，電熱器638可以是一膜加熱器，大致上與標(biāo)線板202的底面尺寸相等，此加熱器位于短沖程臺(tái)座626的前表面624附近且相當(dāng)接近標(biāo)線板202的背側(cè)622。在一些實(shí)施例中，輸入到加熱器638內(nèi)的電子輸入可以通過(guò)聯(lián)結(jié)至一傳感器642的控制器640而控制。此控制器640可以使用向前饋進(jìn)法，包含以下步驟(1)使用傳感器642測(cè)量入射在標(biāo)線板202上的光化能量，以便偵測(cè)EUV光線的強(qiáng)度；(2)根據(jù)來(lái)自?xún)?chǔ)存區(qū)644中的儲(chǔ)存資料，測(cè)量或讀取標(biāo)線板202的平均吸收性；(3)通過(guò)將光化能量乘上平均吸收性，而計(jì)算光化熱負(fù)載；及(4)根據(jù)所計(jì)算出來(lái)的光化熱負(fù)載，而調(diào)整加熱器電流。在其它實(shí)施例中，可以使用反饋法通過(guò)控制器640而控制輸入到加熱器638內(nèi)的電子輸入，此包含使用安裝在短沖程臺(tái)座626上的至少一個(gè)溫度傳感器642。在其它實(shí)施例中，控制器640可以是Minco Products企業(yè)制造的HEATERSTAT型控制器640，刊載于Minco公司2000年5月發(fā)行的″Bulletin CT198″，其全文在此并入作為參考?？梢酝ㄟ^(guò)HEATERSTAT型控制器640來(lái)控制輸入到加熱器638的電子輸入，且可以使用加熱器(例如金屬箔加熱器)來(lái)用于加熱與溫度感測(cè)兩方面。在其它的實(shí)施例中，使用向前饋進(jìn)法與反饋法之組合的控制器640可以控制輸入到加熱器638的電子輸入。在其它的實(shí)施例中，并未添加熱量到短沖程臺(tái)座626上，所以便允許短沖程臺(tái)座626的溫度隨著光化性熱輸入而變化。
繼續(xù)參考圖6B，輻射聯(lián)結(jié)器632包括第一翼狀板646，其具有一基座板648及數(shù)個(gè)翼片650，這些數(shù)個(gè)翼片是垂直放置在基座板648上，翼狀板646是聯(lián)結(jié)到短沖程臺(tái)座626的背側(cè)上。輻射聯(lián)結(jié)器632亦包括第二翼狀板652，具有與第一翼狀板大致相同的幾何形狀，系聯(lián)結(jié)到長(zhǎng)沖程臺(tái)座630的前側(cè)654上。結(jié)構(gòu)620能使長(zhǎng)沖程臺(tái)座630維持與短沖程臺(tái)座626的對(duì)齊，以便使來(lái)自第一與第二翼狀板646與652的翼片能夠分別內(nèi)插而不會(huì)彼此相互接觸。
圖6C顯示本發(fā)明實(shí)施例的翼狀板646及/或652，翼狀板646/652各包括一熱釋放區(qū)662、熱擴(kuò)散器區(qū)664及翼片區(qū)665。在一實(shí)施例中，熱釋放區(qū)662具有許多銷(xiāo)668。熱釋放區(qū)662可以連結(jié)到SS結(jié)構(gòu)626或LS結(jié)構(gòu)630上，熱釋放區(qū)662由于材質(zhì)的不吻合而有助于減少熱應(yīng)變。例如，熱釋放區(qū)662允許具有低熱膨脹系數(shù)(CTE)的短沖程結(jié)構(gòu)626被裝配在一較高CTE的聯(lián)結(jié)器上，其裝配方式的撓性足夠以避免由于材質(zhì)不吻合、熱擴(kuò)散器區(qū)664及翼片區(qū)665所導(dǎo)致的過(guò)度熱應(yīng)變。每個(gè)銷(xiāo)662的尖端668可以被聯(lián)結(jié)到一各自臺(tái)座626及/或630上，這一點(diǎn)可通過(guò)使用熱環(huán)氧化物而達(dá)成。在一些實(shí)施例中，可使用一柔順材質(zhì)將翼狀板646及/或652聯(lián)結(jié)到各自的臺(tái)座626及/或630上，例如使用軟聚合體。在其它實(shí)施例中，能通過(guò)可變形軟焊圓柱將翼狀板646及/或652聯(lián)結(jié)到各自的臺(tái)座626及/或630上。在一些實(shí)施例上，翼狀板646及/或652可以由鋁制成，且涂敷上一層具有高紅外線發(fā)射率的材質(zhì)。在其它實(shí)施例中，翼狀板646及/或652可以由碳制成。在一些實(shí)施例中，翼狀板646及652兩者的底面積大約可以是相同的(例如大約200mm×200mm)。翼片665的大小大約是長(zhǎng)度200mm、高度25mm而厚度1mm。介于相鄰內(nèi)插翼片665之間的間隙可以是0.1mm到2mm。為了維持臺(tái)座626與630、馬達(dá)與軸承之間的對(duì)齊，可以使用一位置傳感器，用以一般的臺(tái)座定位與導(dǎo)引。因此，不需要添加任何額外或特殊用于結(jié)構(gòu)620的對(duì)齊裝置。
圖6D顯示流過(guò)包含部位600及620的一系統(tǒng)的熱流670。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置672處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板602、夾頭蜂巢606、包含銷(xiāo)662的界面674、即翼狀板646(例如SSIR聯(lián)結(jié)器)以傳導(dǎo)方式傳送。其次，透過(guò)在位置676處的輻射，熱量是從翼狀板646被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)上。最后，透過(guò)在位置633處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑634而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座652移開(kāi)。
C.使用蜂巢肋直接將熱輻射至長(zhǎng)沖程臺(tái)座聯(lián)結(jié)器的標(biāo)線板固持系統(tǒng)圖7A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中的短沖程臺(tái)座(底部，劃有并行線陰影的部位)及長(zhǎng)沖程臺(tái)座(頂部，未劃有并行線陰影的部位)的一部位700。部位700可以是一輻射聯(lián)結(jié)器或一孔內(nèi)裝入銷(xiāo)的輻射聯(lián)結(jié)器，部位700包括一前板702，其具有突起704與延伸部位(例如肋)706。在一些實(shí)施例中，肋706可以形成為蜂巢狀結(jié)構(gòu)。部位700亦包括一長(zhǎng)沖程臺(tái)座輻射聯(lián)結(jié)器708，其具有延伸部位(例如長(zhǎng)沖程臺(tái)座銷(xiāo)翼片)710及通道(亦即導(dǎo)管)712。一冷卻物質(zhì)(例如冷卻劑)714可流經(jīng)通道712，銷(xiāo)翼片710可以被放置在肋706之間所形成的正方形孔716內(nèi)。
圖7B顯示流過(guò)包含部位700的一系統(tǒng)的熱流720。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置722處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板702、以及肋(夾頭蜂巢)706以傳導(dǎo)方式傳送。其次，透過(guò)在位置724處的輻射，熱量是從肋706被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)708上。最后，透過(guò)在位置726處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑714而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
圖7A及7B所示的實(shí)施例的缺點(diǎn)在于翼片的效率很低，這是因?yàn)榉涑怖?06的傳導(dǎo)性很低。一般來(lái)說(shuō)，具有低CTE且適合制造如短沖程臺(tái)座的一熱穩(wěn)定結(jié)構(gòu)之材質(zhì)，亦具有很低的熱傳導(dǎo)性。當(dāng)用于熱傳時(shí)，低熱傳導(dǎo)性會(huì)導(dǎo)致很低的效率，就如以輻射翼片的情形。很低的翼片效率需要很高的折疊因子，才能達(dá)成足夠的輻射面積，無(wú)此有導(dǎo)致很厚重的結(jié)構(gòu)。而且，因?yàn)槭褂娩N(xiāo)翼片710，所以在短沖程臺(tái)座與長(zhǎng)沖程臺(tái)座之間的間隙716(圖7A)具有很高的靈敏性。因此，由于整個(gè)效率很差，所以這些實(shí)施例需要很冷的冷卻劑溫度，才能將標(biāo)線板202反射EUV光而吸收的可能最大功率12W予以發(fā)散出去。此外，因?yàn)橥ㄟ^(guò)短沖程臺(tái)座的熱路徑，于是產(chǎn)生出溫度梯度(亦即，較高的溫度靠近標(biāo)線板，而較低的溫度靠近聯(lián)結(jié)器)，如此導(dǎo)致了不均勻的扭曲、彎成弓形及翹曲。因此，由于標(biāo)線板固持裝置的扭曲，使得標(biāo)線板的熱引發(fā)性扭曲可能會(huì)超過(guò)可允許的限度。
D.使用中空熱分流器直接將熱輻射至長(zhǎng)沖程臺(tái)座聯(lián)結(jié)器的標(biāo)線板固持系統(tǒng)圖8A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中的短沖程臺(tái)座及長(zhǎng)沖程臺(tái)座之一部位800。部位800包括一前板802，其具有突起804與延伸部位(例如肋)806。在一些實(shí)施例中，肋806可以形成為蜂巢狀結(jié)構(gòu)。部位800亦包括聯(lián)結(jié)至一熱擴(kuò)散器板810的熱分流器808，此熱擴(kuò)散器板又是聯(lián)結(jié)到前板802上。部位800近一步包含一長(zhǎng)沖程臺(tái)座輻射聯(lián)結(jié)器812(例如IR聯(lián)結(jié)器)，其具有延伸部位(例如LS IR聯(lián)結(jié)器銷(xiāo)翼片)814及通道816，一冷卻物質(zhì)818可流經(jīng)此通道。
圖8B顯示流過(guò)包含部位800的一系統(tǒng)的熱流830。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置832處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板802、熱擴(kuò)散器810及熱分流器808以傳導(dǎo)方式傳送。其次，透過(guò)在位置834處的輻射，熱量是從分流器808被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)812上。最后，透過(guò)在位置836處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑818而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
相較于上述其它實(shí)施例，部位800相當(dāng)小巧且質(zhì)輕，但是卻難以達(dá)成良好的熱性能。熱擴(kuò)散器810在熱分流器808與前板802之間提供極佳的接觸，且亦增進(jìn)前板802的熱穩(wěn)定性。因于銷(xiāo)翼片的雙重使用，所以此結(jié)構(gòu)能夠?qū)τ谠诙虥_程臺(tái)座與長(zhǎng)沖程臺(tái)座之間的間隙820(圖8A)產(chǎn)生很高的靈敏性。對(duì)于工作間隙小于1.5mm之情形，標(biāo)線板202根據(jù)反射的EUV光所吸收之功率12W則需要相當(dāng)冷冷卻劑溫度。
此實(shí)施例相較于圖7A及7B的實(shí)施例，其改進(jìn)之處在于通過(guò)以相當(dāng)有效率的分流器來(lái)取代傳導(dǎo)肋，以便進(jìn)行通過(guò)短沖程臺(tái)座厚度的熱傳導(dǎo)。此實(shí)施例亦使大部分的熱量從蜂巢導(dǎo)引離開(kāi)，如此可大幅減少溫度梯度及其熱引發(fā)性扭曲。
E.使用獨(dú)立裝配至前板的熱分流器的標(biāo)線板固持系統(tǒng)圖9A是一剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中的短沖程臺(tái)座的一部位900。部位900包括一前板902，其具有突起904與延伸部位(例如肋)906。在一些實(shí)施例中，肋906可以形成為蜂巢狀結(jié)構(gòu)。部位900亦包括聯(lián)結(jié)至前板902的熱分流器908，部位900近一步包含一短沖程臺(tái)座輻射聯(lián)結(jié)器910(例如IR聯(lián)結(jié)器)，其具有延伸部位(例如扁平翼片)912。這些實(shí)施例亦可包括一長(zhǎng)沖程臺(tái)座，具有一輻射聯(lián)結(jié)器及一冷卻系統(tǒng)，為了方便起見(jiàn)并未顯示于圖形中。
圖9B顯示翼片922的一結(jié)構(gòu)，可用于本發(fā)明的各種實(shí)施例。當(dāng)翼片922被用在圖9A及圖10A至G所示的實(shí)施例時(shí)，根據(jù)短沖程臺(tái)座與長(zhǎng)沖程臺(tái)座之間所需的間隙而定，則所導(dǎo)致用于筆直扁平翼片的諧振頻率(例如約1kHz)可能會(huì)太低。為了增加硬度與諧振頻率(例如大于3kHz)，翼片922可以形成Z字形設(shè)計(jì)920，且翼片922的自由端924可通過(guò)一裝置926而區(qū)隔起來(lái)。
圖9C顯示流過(guò)包含部位900的一系統(tǒng)的熱流930。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置932處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板902、熱分流器908及聯(lián)結(jié)器(例如SS IR聯(lián)結(jié)器)910以傳導(dǎo)方式傳送。其次，透過(guò)在位置934處的輻射，熱量是從聯(lián)結(jié)器910被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)936上。最后，透過(guò)在位置938處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑940而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
部位900的一項(xiàng)缺點(diǎn)在于各自分流器908與前板902之間的有限接觸面積會(huì)產(chǎn)生過(guò)高的熱阻以及很差的平面內(nèi)溫度不均勻性(亦即冷溫度集中在分流器聯(lián)結(jié)至前板處)。然而，這項(xiàng)缺點(diǎn)可以通過(guò)以下方式減輕，就是在前板902背部上形成凹陷圖案以及在分流器的一端上形成配合的凸出圖案。
圖9D顯示流過(guò)包含一修改部位900的一系統(tǒng)的熱流950，此部位在聯(lián)結(jié)器910中具有一加熱裝置(例如電熱器)952。加熱裝置952其功能類(lèi)似于通過(guò)圖6A至6D所示的控制方法的加熱組件638。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置932處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板902、熱分流器908及聯(lián)結(jié)器(例如SS IR聯(lián)結(jié)器)910以傳導(dǎo)方式傳送。為了維持固定的熱負(fù)載，電熱器952是被放置在聯(lián)結(jié)器910附近或里面。如上所述，熱量相對(duì)于所吸收的光化熱而反比添加。其次，透過(guò)在位置956處的輻射，熱量是從聯(lián)結(jié)器910被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)936上。最后，透過(guò)在位置958處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑940而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
F.使用介于前板與熱分流器之間的熱擴(kuò)散器的標(biāo)線板固持系統(tǒng)圖10A及10B分別是一剖面圖與分解圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中一短沖程臺(tái)座的一部位1000。部位1000包括一前板1002，其具有第一突起1004與第二突起1006。部位1000亦包括具有孔1010的一均勻熱擴(kuò)散器(例如熱擴(kuò)散器板及熱擴(kuò)散裝置)1008。分流器1012是被聯(lián)結(jié)到熱聯(lián)結(jié)器板1008上，部位1000更包括一蜂巢結(jié)構(gòu)1014，其具有放置在孔1010內(nèi)的第一延伸部位(例如浮凸)1016及第二延伸部位1018。蜂巢結(jié)構(gòu)1014亦具有一溝紋(例如彈性體密封溝紋)1020，可容納一密封裝置(例如彈性體密封件)1022。固持裝置(帽蓋)1024是被聯(lián)結(jié)到蜂巢結(jié)構(gòu)1014上，以便將彈性裝置(例如壓縮彈簧)1026固持在分流器1012。用以將熱擴(kuò)散器1008維持在前板1002附近的壓縮彈簧1026是被壓縮而緊靠著延伸部位1028，當(dāng)彈簧1026是通過(guò)帽蓋1024而固持時(shí)，延伸部位可從分流器1012延伸。放置一聯(lián)結(jié)器基座板1030以便將密封裝置1022固持在溝紋1020內(nèi)，聯(lián)結(jié)器基座板1030包括延伸部位1032(例如SS IR聯(lián)結(jié)器翼片)，系用以從短沖程臺(tái)座將熱量輻射至長(zhǎng)沖程臺(tái)座上。
圖10C及10D分別是一分解圖與放大分解圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中一短沖程臺(tái)座的一部位1000及一部位1040。部位1040包括聯(lián)結(jié)器(例如LS IR聯(lián)結(jié)器)1042與通道(例如冷卻劑配件)1044。這些組件吸收了輻射熱，且通過(guò)循環(huán)經(jīng)通道1044的流體之對(duì)流，將這些熱從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。蜂巢結(jié)構(gòu)1014包括多孔1046，可容納分流器1012、彈簧1026及帽蓋1024。而且，圖10D顯示出如何通過(guò)開(kāi)口1010及帽蓋1024用的對(duì)孔1048來(lái)容納浮凸1016。
如圖10E所示，有五個(gè)主要界面A至E，必須要聯(lián)結(jié)在一起，且同時(shí)要將聯(lián)結(jié)起來(lái)的材質(zhì)不相等的材質(zhì)特性(例如CTE)所引起的扭曲及其它限制列入考慮，這些界面與其聯(lián)結(jié)的方式也可以應(yīng)用于其它的實(shí)施例。為了方便起見(jiàn)，這些組件在圖形中并未編上號(hào)碼。第一界面A是介于熱擴(kuò)散器1008與分流器1012之間。在一些實(shí)施例中，可以使用高溫焊銅或焊錫將這些組件聯(lián)結(jié)起來(lái)，以達(dá)成一穩(wěn)定的結(jié)合而不會(huì)受到后續(xù)粘接步驟所施加的溫度之影響。第二界面B是介于前板1002與蜂巢結(jié)構(gòu)1014之間。在一些實(shí)施例中，可以使用一中間溫度的焊料將這些組件聯(lián)結(jié)起來(lái)而不會(huì)影響現(xiàn)有界面A。第三界面C是介于蜂巢結(jié)構(gòu)1014與帽蓋1024之間。而且，在一些實(shí)施例中，可以使用一中間溫度的焊料將這些組件聯(lián)結(jié)起來(lái)，且以產(chǎn)生界面B之相同處理步驟。第四界面D是介于蜂巢結(jié)構(gòu)1014與聯(lián)結(jié)器基座板1030之間。在一些實(shí)施例中，可以使用一低溫焊料或環(huán)氧化物將這些組件聯(lián)結(jié)起來(lái)而不會(huì)影響先前形成的界面A、B與C。
參考圖10F至10H，且繼續(xù)參考圖10E，第五界面E是介于前板1002與熱擴(kuò)散器1008之間。不像所有先前的接口是聯(lián)結(jié)在相似的材質(zhì)上(例如低CTE對(duì)CTE，高CTE對(duì)高CTE)，界面E則是聯(lián)結(jié)到不相似的材質(zhì)(例如低CTE的夾頭前板聯(lián)結(jié)到高CTE的熱擴(kuò)散器)。因此，欲作為此界面，聯(lián)結(jié)材質(zhì)必須具有高熱傳導(dǎo)性，而允許以不同速率膨脹。
圖10F顯示用于前板1002與熱擴(kuò)散器1008之間的氣體。雖然可以使用氣體，但是仍然有幾個(gè)限制(1)氣體需要有非常平坦的吻合表面(例如在理想值5μm內(nèi)的平坦度)，才有良好的熱性能；(2)氣體在靜止?fàn)顟B(tài)下無(wú)法提供潤(rùn)滑，所以表面可能會(huì)粘在一起且當(dāng)膨脹時(shí)會(huì)彼此拖曳，因而產(chǎn)生扭曲；(3)彈性體密封件1022對(duì)于使氣體免于泄漏至真空是相當(dāng)必要的；及(4)氣壓對(duì)于溫度很敏感，且氣壓的變化可能會(huì)導(dǎo)致夾頭1002產(chǎn)生扭曲。
圖10G顯示一粘性材質(zhì)(例如液體或膏糊)，可用于前板1002與熱擴(kuò)散器1008之間。液體或膏糊比氣體稍微好一點(diǎn)，其原因在于(1)他們僅需要有適度平坦的吻合表面(例如在理想值50μm內(nèi)的平坦度)，就有良好的熱性能；(2)假如夠粘稠的話，他們?cè)陟o止?fàn)顟B(tài)下能夠提供潤(rùn)滑，所以表面可能會(huì)粘在一起且當(dāng)膨脹時(shí)會(huì)彼此拖曳，因而產(chǎn)生扭曲；(3)假如有夠低的局部壓力液體/膏糊的話(例如高真空級(jí)數(shù)脂肪)，則可以除去彈性體密封件1022；及(4)由于在夾頭內(nèi)部壓力的變化，所以?shī)A頭的扭曲可以忽略。
圖10H顯示一順從彈性片，可用于前板1002與熱擴(kuò)散器1008之間。此片材比氣體、液體或膏糊稍微好一點(diǎn)，其原因在于(1)他們僅需要有適度平坦的吻合表面，就有良好的熱性能；(2)由于片材能夠輕易變形而不需要在其它部位施加很大的橫向拖曳力，所以微粘著并不是問(wèn)題；(3)可以除去彈性體密封件1022；(4)由于在夾頭內(nèi)部壓力的變化，所以?xún)H有很少或全無(wú)夾頭扭曲的現(xiàn)象；(5)假如片材被粘接到前板1002與熱擴(kuò)散器1008的話，將他們保持在一起，則可以除去彈簧與帽蓋。
圖10I顯示流過(guò)包含部位1000與1040的一系統(tǒng)的熱流1060，EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置1062處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板1002、熱擴(kuò)散器1008、熱分流器1012及聯(lián)結(jié)器(例如SS IR聯(lián)結(jié)器)1064(包含聯(lián)結(jié)器基座板1030與翼片1032)以傳導(dǎo)方式傳送。其次，透過(guò)在位置1066處的輻射，熱量是從聯(lián)結(jié)器1064被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)1042上。最后，透過(guò)在位置1068處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑1070而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
圖10J顯示流過(guò)包含一修改部位1000與1040的一系統(tǒng)的熱流1080，此修改的部位包含一加熱裝置1082，系聯(lián)結(jié)至或位于熱過(guò)散器1008內(nèi)，其中加熱裝置1082其功能類(lèi)似于通過(guò)圖6B與9D所示的裝置。而且，加熱方式也類(lèi)似于圖6B與9D所示之方式。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置1062處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、夾頭前板1002、熱分流器1008及聯(lián)結(jié)器(例如SS IR聯(lián)結(jié)器)1064(包含聯(lián)結(jié)器基座板1030與翼片1032)以傳導(dǎo)方式傳送。使用加熱器1082于位置1084處輸入補(bǔ)償熱，以便將熱擴(kuò)散器維持在一固定溫度上。其次，透過(guò)在位置1086處的輻射，熱量是從聯(lián)結(jié)器1064被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)1042上。最后，透過(guò)在位置1088處的固定對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑1070而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
G.不具有前板且使用直接固持標(biāo)線板的熱擴(kuò)散器的標(biāo)線板固持系統(tǒng)圖11A及11B分別是一剖面圖與分解剖面圖，顯示本發(fā)明實(shí)施例光學(xué)石版工具中一短沖程臺(tái)座的一部位1100。部位1100包括一熱擴(kuò)散器板1102，其具有延伸部位(例如分流器)1104與孔動(dòng)1106。部位1100更包括一蜂巢結(jié)構(gòu)1108，其具有含尾端(例如突起)1112的細(xì)長(zhǎng)構(gòu)件1110及延伸部位1114。蜂巢結(jié)構(gòu)1108亦具有一溝紋(例如密封件容納溝紋)1116，可容納一密封裝置(例如彈性體密封件)1118及延伸部位(例如葉片聯(lián)結(jié)裝置)1120，此延伸部位是被聯(lián)結(jié)至葉片彎曲部位1122上。葉片彎曲部位1122亦聯(lián)結(jié)到延伸部位(例如葉片聯(lián)結(jié)裝置)1124，這些延伸部位是被聯(lián)結(jié)至一聯(lián)結(jié)基座板(例如SS IR聯(lián)結(jié)器基座板)1126及延伸部位(例如SS IR聯(lián)結(jié)器翼片)1128上，這些延伸部位又是延伸自基座板1126。
圖11C顯示流過(guò)包含一部位1100的一系統(tǒng)之熱流1140。EUV光線產(chǎn)生熱量，以便在位置1142處通過(guò)標(biāo)線板202所吸收。熱量是經(jīng)由標(biāo)線板202、氣體210、熱擴(kuò)散器1102、熱分流器1104及聯(lián)結(jié)器(例如SS IR聯(lián)結(jié)器)1144(包含聯(lián)結(jié)器基座板11126與翼片1128)以傳導(dǎo)方式傳送。其次，透過(guò)在位置1146處的輻射，熱量是從聯(lián)結(jié)器1044被傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座(LS)輻射聯(lián)結(jié)器(例如IR聯(lián)結(jié)器)1148上。最后，透過(guò)在位置1150處的對(duì)流，熱量通過(guò)冷卻劑1152而從長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)。
結(jié)論雖然已經(jīng)通過(guò)上述實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明，但是要知道的是上述實(shí)施例僅是用于說(shuō)明，并非用以局限本發(fā)明。對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不背離本發(fā)明的精神與范圍之前提下，仍然可以產(chǎn)生出許多形式上的變化與修改。因此，本發(fā)明所請(qǐng)求的范圍不應(yīng)該僅由上數(shù)說(shuō)明性的實(shí)施例來(lái)決定，而應(yīng)該由以下的權(quán)利要求來(lái)界定為是。
權(quán)利要求
1.一種裝置，其包括一長(zhǎng)沖程臺(tái)座，其包括一輻射聯(lián)結(jié)器及冷卻部，該冷卻部能將熱量從該長(zhǎng)沖程臺(tái)座移開(kāi)；及一短沖程臺(tái)座，其輻射式地聯(lián)結(jié)至該長(zhǎng)沖程臺(tái)座，該短沖程臺(tái)座包含一基底接收裝置，其在曝光處理期間固持一基底，且將熱量從該基底移開(kāi)；一均勻熱移除部，其聯(lián)結(jié)至該基底接收部，該均勻熱移除部能夠?qū)?lái)自該基底接收部所傳導(dǎo)的熱量移開(kāi)；及一輻射聯(lián)結(jié)器，其聯(lián)結(jié)至該均勻熱移除部，該輻射聯(lián)結(jié)器能夠?qū)崃繌脑摼鶆驘嵋瞥枯椛涫降匾瞥猎撻L(zhǎng)沖程臺(tái)座上。
2.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該短沖程臺(tái)座進(jìn)一步包含一加熱部，其將該短沖程臺(tái)座維持在一固定溫度上。
3.如權(quán)利要求1的裝置，進(jìn)一步包含一熱控制裝置，其聯(lián)結(jié)至該加熱部上。
4.如權(quán)利要求3的裝置，其中，該熱控制裝置是一向前饋進(jìn)控制裝置。
5.如權(quán)利要求3的裝置，其中，該熱控制裝置是一反饋熱控制裝置。
6.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該短沖程臺(tái)座是與該長(zhǎng)沖程臺(tái)座隔開(kāi)。
7.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該短沖程臺(tái)座能夠相對(duì)于該長(zhǎng)沖程臺(tái)座產(chǎn)生磁力漂浮。
8.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該長(zhǎng)沖程臺(tái)座的該冷卻部包括至少一部分的流體冷卻系統(tǒng)。
9.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底接收裝置包括一前板區(qū)。
10.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底接收裝置包括一突起陣列，以接觸該基底的表面。
11.如權(quán)利要求10的裝置，其中，該突起陣列形成一正方形柵格圖案。
12.如權(quán)利要求10的裝置，其中，該突起陣列形成一三角形柵格圖案。
13.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底接收裝置包括一前板區(qū)，其聯(lián)結(jié)至一突起陣列，以便接觸該基底的一表面。
14.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該均勻熱移除部包括多條肋，其聯(lián)結(jié)至該基底接收裝置上。
15.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該長(zhǎng)沖程臺(tái)座的該輻射聯(lián)結(jié)器包括數(shù)個(gè)翼片。
16.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該均勻熱移除部包括一熱擴(kuò)散器裝置。
17.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該均勻熱移除部包括一熱分流器裝置。
18.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該均勻熱移除部包括一熱擴(kuò)散器裝置及一熱分流器裝置。
19.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該短沖程臺(tái)座的該輻射聯(lián)結(jié)器包括數(shù)個(gè)翼片。
20.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底接收裝置包括一前板，且該均勻熱移除部包括一熱擴(kuò)散器裝置；該前板以一液體材質(zhì)聯(lián)結(jié)到該熱擴(kuò)散器裝置上。
21.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底接收裝置包括一前板，且該均勻熱移除部包括一熱擴(kuò)散器裝置；該前板以一膏糊材質(zhì)聯(lián)結(jié)到該熱擴(kuò)散器裝置上。
22.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底接收裝置包括一前板，且該均勻熱移除部包括一熱擴(kuò)散器裝置；該前板以一彈性材質(zhì)聯(lián)結(jié)到該熱擴(kuò)散器裝置上。
23.如權(quán)利要求1的裝置，其中，該基底是在一遠(yuǎn)紫外光學(xué)石版系統(tǒng)中的一反射性基底。
24.一種將熱量從基底發(fā)散出去的方法，其包括以下步驟將熱量從該基底傳送至一基底接收裝置上；將熱量從該基底接收裝置傳送至一均勻熱移除裝置上；將熱量從該均勻熱移除裝置傳送至第一輻射聯(lián)結(jié)器上；將熱量從該第一輻射聯(lián)結(jié)器輻射式地傳送至第二輻射聯(lián)結(jié)器上；及以一冷卻系統(tǒng)將輻射傳送過(guò)來(lái)的熱量予以移除。
25.如權(quán)利要求24的方法，進(jìn)一步包含以下步驟加熱該基底接收裝置，以便使基底維持在一固定溫度上。
26.如權(quán)利要求25的方法，進(jìn)一步包含以下步驟根據(jù)向前饋進(jìn)控制法來(lái)控制該加熱步驟。
27.如權(quán)利要求25的方法，進(jìn)一步包含以下步驟根據(jù)反饋控制法來(lái)控制該加熱步驟。
28.如權(quán)利要求25的方法，進(jìn)一步包含以下步驟根據(jù)向前饋進(jìn)與反饋控制法來(lái)控制該加熱步驟。
29.一種系統(tǒng)，其包括第一臺(tái)座，其包括一輻射聯(lián)結(jié)器及冷卻部；及第二臺(tái)座，其輻射式地聯(lián)結(jié)至該第一臺(tái)座，該第二臺(tái)座包括一基底接收裝置；一均勻熱移除部，系聯(lián)結(jié)至該基底接收裝置上，及一輻射聯(lián)結(jié)器，系聯(lián)結(jié)至該均勻熱移除部上。
30.一種用以接收、固持且控制基底溫度的裝置，該裝置包含一堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)，其具有大致為零的熱膨脹系數(shù)(CTE)，以便固持住該基底；一熱移除部，其具有比該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)更大的CTE與熱傳導(dǎo)性，以從該基底移除過(guò)多的熱量；熱聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)，其將該基底與該熱移除部形成熱聯(lián)結(jié)；熱隔離機(jī)構(gòu)，其將該熱移除部與該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)形成熱隔離；機(jī)械聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)，其將該熱移除部與該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)形成機(jī)械聯(lián)結(jié)；及輻射機(jī)構(gòu)，用以將過(guò)多熱量從該熱移除部移除開(kāi)來(lái)。
31.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)由超低膨脹玻璃制成。
32.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)由低膨脹陶瓷制成。
33.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該熱移除部由氮化鋁、碳化硅、鋁、銅及銀所構(gòu)成的群組中的至少一材質(zhì)制成。
34.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該熱聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)包含一流體，其被局限在基底與熱移除部之間的一狹窄空間內(nèi)。
35.如權(quán)利要求34的裝置，其中該流體是氣體。
36.如權(quán)利要求35的裝置，其中，該氣體被加壓至一壓力，其高于圍繞此裝置的氣體的周?chē)鷫毫Α?br> 37.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該熱隔離機(jī)構(gòu)包含至少部分的該熱移除部，其螺旋通過(guò)在該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)中的至少一孔。
38.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該機(jī)械聯(lián)結(jié)機(jī)構(gòu)包含至少兩個(gè)固定裝置。
39.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該輻射機(jī)構(gòu)包含一輻射聯(lián)結(jié)器，其包括聯(lián)結(jié)至第一臺(tái)座的第一部及聯(lián)結(jié)至第二臺(tái)座的第二部。
40.如權(quán)利要求39的裝置，其中，該第一與第二部包括多格大致平坦的內(nèi)插翼片。
41.如權(quán)利要求39的裝置，其中，該第一部包括至少一銷(xiāo)翼片，且該第二部包含具有多孔的一塊體，這些孔對(duì)應(yīng)于該銷(xiāo)翼片的位置。
42.如權(quán)利要求30的裝置，其中，該熱移除部包含一平面狀熱擴(kuò)散器，其大致上平行于基底的表面；及至少一熱分流器，其大致垂直于該平面狀熱擴(kuò)散器。
43.如權(quán)利要求30的裝置，其中該堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)具有至少三個(gè)突起，其以預(yù)定的點(diǎn)接觸該基底。
44.如權(quán)利要求42的裝置，其中，該熱擴(kuò)散器包括多孔，其對(duì)應(yīng)于該突起的位置。
45.如權(quán)利要求44的裝置，其中，該熱擴(kuò)散器聯(lián)結(jié)至一靜電夾頭，該夾頭包括多孔，其對(duì)應(yīng)于該突起的位置，該靜電夾頭將基底拖拉而緊靠該突起。
46.如權(quán)利要求45的裝置，其中，該靜電夾頭是一薄膜結(jié)構(gòu)，其被制造在該熱擴(kuò)散器的一表面上且面朝該基底。
47.如權(quán)利要求44的裝置，其中，該熱擴(kuò)散器聯(lián)結(jié)到一電熱器上，以將該熱擴(kuò)散器維持在一固定溫度上。
48.如權(quán)利要求47的裝置，其中，該電熱器是一薄膜電阻，其制造在該熱擴(kuò)散器的一表面上。
全文摘要
一種裝置與方法，能夠消除冷卻劑流經(jīng)短沖程臺(tái)座時(shí)所產(chǎn)生的震動(dòng)，且通過(guò)維持溫度與短沖程臺(tái)座內(nèi)的溫度扭曲成固定值，而不管入射在標(biāo)線板上的光化熱負(fù)載，藉此防止短沖程臺(tái)座的熱引發(fā)扭曲之變化。這是通過(guò)以下步驟而達(dá)成的(1)透過(guò)標(biāo)線板與短沖程臺(tái)座零件而傳熱；(2)將熱量從短沖程臺(tái)座輻射式地傳送至長(zhǎng)沖程臺(tái)座；及(3)使用對(duì)流及一冷卻系統(tǒng)，將熱量從長(zhǎng)沖程臺(tái)座發(fā)散出去。短沖程臺(tái)座可以從長(zhǎng)沖程臺(tái)座處磁力漂浮起來(lái)，這樣的方式?jīng)]有物理上的接觸，但是長(zhǎng)沖程臺(tái)座的移動(dòng)仍然可以控制短沖程臺(tái)座的移動(dòng)。通過(guò)與長(zhǎng)沖程臺(tái)座之間無(wú)物理上的接觸，短沖程臺(tái)座就不會(huì)受到流動(dòng)的冷卻劑所引起在長(zhǎng)沖程臺(tái)座中之震動(dòng)的影響。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1497357SQ20031010244
公開(kāi)日2004年5月19日 申請(qǐng)日期2003年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月20日
發(fā)明者圣地亞哥·德?tīng)柶瞻瑺柾? 丹尼爾·N·加爾伯特, 安德魯·W·邁克庫(kù)爾勞奇, 斯蒂芬·魯, 約斯特·J·奧滕斯, J 奧滕斯, N 加爾伯特, W 邁克庫(kù)爾勞奇, 魯, 圣地亞哥 德?tīng)柶瞻瑺柾?申請(qǐng)人:Asml控股股份有限公司