專利名稱：光拾取調節(jié)器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是向CD、DVD(Digital Video Disc)記錄體寫入信息或讀取寫入信息所使用的光盤驅動器的光拾取調節(jié)器，尤其是指將物鏡插入物鏡支架后附著至線圈架，可以有效地防止物鏡熱損傷和由于振動與光盤發(fā)生沖突導致的損傷的一種光拾取調節(jié)器。
(2)背景技術一般，光拾取裝置利用激光判別記錄體表面的光學差異，讀取CD、DVD等記錄體的信息，或通過發(fā)生光學差異記錄信息，圖1是這種普通的光拾取裝置的示意圖。
與圖1所示相同，通常的光拾取裝置其構成包括發(fā)生激光光源的激光二極管10；在激光二極管10中發(fā)生的激光向任意角度入射時，使其按一定方向進行的正型三棱鏡11；根據入射通過正型三棱鏡的激光方向變化曲折方向的光斜杠(sprite)；將從光斜杠12中變換的激光進行平行調節(jié)的準直鏡13；將平行調節(jié)的光進行收集的物鏡14和聚焦的激光照射至光盤數(shù)據磁道，并檢測反射光的光檢測器15。
與上相同的光拾取裝置，為讀取或寫入光盤存儲的信息，通常光學體系的激光集中至物鏡14，照射至光盤。這時，為正確追蹤高速旋轉的光盤軌道，應繼續(xù)調節(jié)在物鏡14中焦距的激光位置，為此使用光拾取調節(jié)器。
現(xiàn)有的光拾取調節(jié)器與圖2所示相同，其構成包括，包含有物鏡20和線圈架21的物鏡驅動裝置24；支持物鏡驅動裝置24的構架23，形成有磁場的磁鐵22。
在這里，上面的物鏡驅動裝置24與圖3所示相同，其構成包括如下裝置集中激光的物鏡20；附著物鏡20的物鏡支架34形成的線圈架21；在物鏡20與光盤面入射的激光焦點相吻合的同時，根據光盤內信號軌道進行移動的驅動源調焦線圈30，跟蹤線圈31。
具有這種構成的現(xiàn)有光拾取調節(jié)器中，上面所說的線圈架21使磁鐵22和構架按一定的間隔設置，并根據認可的信號進行移動，上面所說的物鏡20附著在線圈架21時，根據透鏡支架34的物鏡引導面32與物鏡安裝面33上部連接。
具有上面構成的現(xiàn)有光拾取調節(jié)器根據光盤播放記錄操作時線圈認可的電子信號，調焦線圈30使依據物鏡20集中的激光點與光盤記錄面保持一致，使物鏡20進行上下移動，跟蹤線圈30將物鏡20進行左右移動，使集中的激光點正確地追蹤到光盤的磁道。
在這里，調焦調節(jié)信號認可的調焦線圈30和跟蹤調節(jié)電子信號認可的跟蹤線圈31中，依據電子阻抗發(fā)生電子阻抗熱量，另外，在電子信號認可的線圈中發(fā)生的電場和磁鐵22中發(fā)生的磁場相互作用而產生熱量，這種發(fā)生的熱量通過線圈架21傳達至物鏡20?，F(xiàn)有的光拾取調節(jié)器因為直接在線圈架21安裝了物鏡，所以存在物鏡20和線圈架21的接觸面積寬，發(fā)生的熱量傳達到物鏡20的問題。
這種熱量可以持續(xù)一段時間，或者高溫度如果傳達至物鏡20的話，對物鏡20可以造成損傷，光拾取調節(jié)器的功能也相對下降。更為詳細的說，就是物鏡20高溫持續(xù)的話，可以導致物鏡20發(fā)生擰曲變形，由此焦點不能相對應，或者完全不能對上，進而無法追蹤至光盤的磁道，使光調節(jié)器的性能變得很低。
最近隨著光盤小型化，低價的發(fā)展，有將線圈架21做小的傾向，所以線圈30.31中發(fā)生的熱量更容易的傳遞至物鏡20，因為光驅高倍速化，所以發(fā)生的熱量有增加的趨勢，由此在線圈30.31的周邊發(fā)生的熱量也更容易傳達至物鏡20，所以解決熱量傳送問題十分重要。
另外，在物鏡的管理和損傷時時，物鏡容易受到外部的沖擊而損傷，可容易受到物質的污染，在光驅驅動時由于振動或者沖擊而產生的光盤掉落可能沖擊到光盤與物鏡，對物鏡造成損傷。
(3)發(fā)明內容本發(fā)明為解決上面所存在的問題而提出，目的是提供一種即使持續(xù)地放出大量的熱量，物鏡也沒有損傷的光拾取調節(jié)器。
本發(fā)明的另外一個目的就是在物鏡管理和損傷時，防止物鏡受到來自外部的沖擊。
本發(fā)明其它的目的還包括，光驅驅動時防止物鏡與光盤發(fā)生沖突，起到保護物鏡的作用。
具有以上目的的本發(fā)明，附有物鏡的物鏡支架安裝于線圈架(bobbin)，減少熱量傳達線路，從而可以防止光拾取時發(fā)生的熱量對物鏡的損傷。
為此，本發(fā)明的光拾取調節(jié)器其構成包括在光盤半徑范圍內移動，固定用于發(fā)生磁場的磁鐵的構架；在構架內設置，依據跟蹤線圈和調焦線圈發(fā)生的磁場和磁鐵的磁場進行上下左右移動的線圈架；根據線圈架的移動一同移動的同時，聚焦激光，照射至光盤的物鏡；附著在線圈架的支架插入裝置中的支架安裝面上，在內側插入并固定物鏡的物鏡支架。
本發(fā)明的效果本發(fā)明的光拾取調節(jié)器減少了熱量傳導面積，配備有熱傳導率低的物鏡支架，即使發(fā)生持續(xù)地高溫也可以有效地防止物鏡受到物理損傷，保證其穩(wěn)定地運行。
為進一步說明本發(fā)明的上述目的、結構特點和效果，以下將結合附圖對本發(fā)明進行詳細的描述。
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圖1是普通的光拾取裝置的示意圖；圖2是現(xiàn)有光拾取調節(jié)器構造示意圖；圖3是圖2中光拾取調節(jié)器物鏡驅動部分的擴大示意圖；圖4是本發(fā)明光拾取調節(jié)器的物鏡驅動部的擴大示意圖；圖5是圖4的物鏡支架和物鏡結合關系更為詳細的上部說明圖；圖6是圖4的物鏡輔助支架和物鏡結合關系更為詳細的下部擴大示意圖；附圖中主要部分的符號說明
40線圈架41跟蹤線圈42調焦線圈 43支架引導面44支架安裝面45支架插入裝置46物鏡 47物鏡支架48物鏡支持裝置 49固定用突起部(5)具體實施方式
以下，參照所附的圖4，圖5和圖6，對本發(fā)明的光拾取調節(jié)器的實施方式進行詳細的說明。
圖4是本發(fā)明光拾取調節(jié)器物鏡驅動裝置的構成示意圖；在這里，線圈架40附著有調焦線圈42和跟蹤線圈41。根據認可的電子信號，發(fā)生動力，調焦線圈42將線圈架40進行上下方向的驅動，而跟蹤線圈41將線圈架40向左右方向進行驅動。根據線圈架40的移動一同移動的同時，聚焦激光，照射至光盤的物鏡46。
線圈架40上設有支架插入裝置45，支架插入裝置45形成有支架引導面43和支架安裝面44。在這里，支架引導面43為防止物鏡支架47的脫離，置有多個按引導至支架安裝面44上部方向的突出；支架安裝面是連接并固定物鏡支架47的。物鏡支架47是在內側插入并固定物鏡46。物鏡支架47由熱傳導低的硅材料構成，與圖5和圖6所示相同，為使激光通過并射入至光盤，上下部為開放的環(huán)狀態(tài)，為防止在光拾取時發(fā)生的熱量傳達至物鏡46，使與線圈架40的接觸面積最小化，形成有沿為將物鏡支架47與支架安裝面44連接的下部方向突起的多個固定用突起部49，形成有在內側面中按中心方向突起，支持物鏡46的物鏡支持裝置48；其上面的高度為保護物鏡而比物鏡46上面發(fā)高出一些。
另外，圖中雖然未示，還包括線圈架40安裝的構架，上面還附有磁鐵，磁鐵形成磁場，并與線圈發(fā)生的電磁場相互作用來驅動線圈架40，以使光盤在半徑范圍內移動。線圈架40在構架內設置。
具有這種構成的本發(fā)明光拾取調節(jié)器制作時固定物鏡支架47的方法具體為在物鏡支架47的固定用突起部49的下面涂抹有接觸劑后，將支架引導面43與固定用突起部相一致，同時固定在支架安裝面44上，或者，在支架安裝面44的一部分上涂抹連接劑后，將固定用突起部49部分與連接劑所涂抹的部分相一致進行固定。
在物鏡46固定在物鏡支架47的情況時，在物鏡支架47的物鏡支持部涂抹連接劑后，固定物鏡46；或者，將物鏡46安裝至物鏡支持部48后，在與物鏡46的接觸面上涂抹連接劑進行固定。
本發(fā)明的光拾取調節(jié)器根據認可的調焦和跟蹤調節(jié)電子信號，在調焦線圈42和跟蹤線圈41中形成電場，與磁鐵發(fā)生的磁場相互作用使線圈架40進行上下左右的驅動，進而可以正確地追蹤到光盤的磁道。
認可調焦和跟蹤調節(jié)電子信號的調焦線圈42和跟蹤線圈41中發(fā)生由電子阻抗所產生的電子阻抗熱量，另外在電子信號認可的線圈中發(fā)生的電場和磁鐵22中發(fā)生的磁場進行相互作用也產生熱量。上面發(fā)生的熱量通過線圈架40經過物鏡支架47傳送至物鏡46，此時，因為物鏡支架47的多個固定用突起49與線圈架40進行接觸，所以大大減少了熱量傳導的面積，即減少了傳導的熱量。特別是上面的物鏡支架47采用的是導熱性低的硅材料，所以傳導至物鏡46的熱量也減少許多。由此，即使發(fā)生持續(xù)高溫，因為向物鏡傳導的熱量減少，所以不會發(fā)生擰曲等物理上的損傷，可使物鏡正常工作。
另外，物鏡46的安裝時，物鏡支架47的上面高度與物鏡46的上面高度相比要高出一些，所以驅動器驅動時可以有效地防止由于外部的沖擊或者振動而發(fā)生光盤脫落或光盤與物鏡發(fā)生沖突的現(xiàn)象，有效地保護了物鏡46。特別是物鏡支架47由硅材料制作，所以在光盤沖突時也可以防止光盤的損傷。
附加的還有，在物鏡46的管理和損傷時，即使物鏡發(fā)生掉在地上，只有物鏡支架47直接受到沖擊和接觸，所以可以有效地防止物鏡46因受到外部沖擊而導致的損傷和其它物質的污染。
本技術領域中的普通技術人員應當認識到，以上的實施例僅是用來說明本發(fā)明，而并非用作為對本發(fā)明的限定，只要在本發(fā)明的實質精神范圍內，對以上所述實施例的變化、變型都將落在本發(fā)明權利要求書的范圍內。
權利要求
1.一種光拾取調節(jié)器，其特征在于包括在光盤半徑范圍內移動，固定用于發(fā)生磁場的磁鐵的構架；在所述的構架內設置，依據跟蹤線圈和調焦線圈發(fā)生的磁場和磁鐵的磁場進行上下左右移動的線圈架；根據所述的線圈架的移動一同移動的同時，聚焦激光，照射至光盤的物鏡；附著在所述的線圈架的支架插入裝置中的支架安裝面上，在內側插入并固定物鏡的物鏡支架。
2.如權利要求1所述的光拾取調節(jié)器，其特征在于所述的物鏡支架為在下部形成有多個為與所述的支架插入裝置中的支架安裝面上部結合的固定用突起部。
3.如權利要求1所述的光拾取調節(jié)器，其特征在于所述的物鏡支架為在內側面形成有向內側突出，支持物鏡的物鏡支持裝置。
4.如權利要求1所述的光拾取調節(jié)器，其特征在于所述的物鏡支架的高度要比物鏡的高度要高。
5.如權利要求1所述的光拾取調節(jié)器，其特征在于所述的物鏡支架的材料為傳熱性低的硅材料。
全文摘要
本發(fā)明是關于光拾取調節(jié)器，包括在光盤半徑范圍內移動，固定用于發(fā)生磁場的磁鐵的構架；在所述的構架內設置，依據跟蹤線圈和調焦線圈發(fā)生的磁場和磁鐵的磁場進行上下左右移動的線圈架；根據所述的線圈架的移動一同移動的同時，聚焦激光，照射至光盤的物鏡；附著在所述的線圈架的支架插入裝置中的支架安裝面上，在內側插入并固定物鏡的物鏡支架。本發(fā)明的光拾取調節(jié)器減少了熱量傳導面積，配備有熱傳導率低的物鏡支架，即使發(fā)生持續(xù)地高溫也可以有效地防止物鏡受到物理損傷，保證其穩(wěn)定的運行。
文檔編號G02B7/02GK1783247SQ20041008911
公開日2006年6月7日 申請日期2004年12月3日 優(yōu)先權日2004年12月3日
發(fā)明者金永重 申請人:上海樂金廣電電子有限公司