專利名稱：用于動(dòng)態(tài)數(shù)字光刻的實(shí)時(shí)圖像尺寸調(diào)整的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及光刻，更具體地說，本發(fā)明涉及動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光刻是將圖樣或圖像轉(zhuǎn)移到襯底上的方法。光刻的一些工業(yè)應(yīng)用包括產(chǎn)品制造，所述產(chǎn)品例如平板顯示器、集成電路(IC)、IC封裝、平面光波回路(光子學(xué))、印刷線路板、柔性電路/顯示器和晶片凸起(waferbumping)。在其最簡(jiǎn)單的形式中，光刻系統(tǒng)是通過使光穿過置于襯底上方的掩?；蚬ぞ叨ぷ鞯模鲆r底具有例如光刻膠層的光敏表面。通常，掩模由表面上刻有固定不透明圖樣的透明材料形成。由于襯底表面的光敏性，當(dāng)與掩模接觸并對(duì)光暴露時(shí)，掩模上所刻的圖樣就被轉(zhuǎn)移到襯底表面上。
多數(shù)光刻系統(tǒng)要求對(duì)工藝條件進(jìn)行嚴(yán)格控制，因?yàn)闇囟群蜐穸鹊淖兓赡芨淖兏鞣N表面的形狀或尺寸。當(dāng)將要通過光刻轉(zhuǎn)移到襯底表面上的特征尺寸較大時(shí)，襯底表面或掩模中的微小變形可以用各種對(duì)準(zhǔn)技術(shù)來解決。但是，隨著技術(shù)的進(jìn)步和特征的尺寸已經(jīng)減小到0.5微米以及更小，傳統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)已經(jīng)不足以對(duì)襯底或掩模自身的尺寸改變進(jìn)行補(bǔ)償。另外，傳統(tǒng)的直接接觸光刻系統(tǒng)不能在無需產(chǎn)生新掩模的情況下對(duì)圖像尺寸進(jìn)行校正，而產(chǎn)生新掩模是昂貴且耗時(shí)的工藝。此外，即使是更先進(jìn)的用投影光學(xué)器件使掩模與襯底分離的非接觸光刻系統(tǒng)也不能對(duì)所有類型的變形進(jìn)行校正。例如，盡管使用附加的透鏡可以以光學(xué)方式實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單的全局調(diào)整，但傳統(tǒng)的非接觸光刻系統(tǒng)不能補(bǔ)償表面的局部變形或者光學(xué)系統(tǒng)自身的變形。
最近已經(jīng)開發(fā)了動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)，其不需要使用物理掩模就可以將圖樣轉(zhuǎn)移到襯底表面上。動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)一般使用空間光調(diào)制器(SLM)來限定成像到襯底表面上的圖樣。SLM是包括可以單獨(dú)控制的光調(diào)制元件的電控器件，所述光調(diào)制元件響應(yīng)于電信號(hào)而限定圖像的象素。通常，對(duì)于0.5微米或更小的特征尺寸，在SLM中有幾千萬個(gè)光調(diào)制元件，每個(gè)光調(diào)制元件小于4平方微米。
但是，每個(gè)光調(diào)制元件位于SLM上的固定位置處，并且每個(gè)光調(diào)制元件只能處于兩種象素狀態(tài)之一全開或全閉。這樣，為了對(duì)轉(zhuǎn)移到表面上的圖像進(jìn)行尺寸調(diào)整以補(bǔ)償光學(xué)變形或表面變形，就必須修改SLM中載入的象素?cái)?shù)據(jù)。例如，為了使圖像拉伸或收縮，可以將圖像中的整行或整列象素復(fù)制或刪除并提供到光調(diào)制元件的陣列上。遺憾的是，復(fù)制或刪除象素產(chǎn)生的平均誤差是1/4個(gè)象素，峰值誤差是1/2個(gè)象素。另外，線寬可能改變高達(dá)±50％，并且在每個(gè)復(fù)制/刪除的點(diǎn)處，對(duì)角線可能受到“鋸齒”的不利影響。代替復(fù)制/刪除可以實(shí)時(shí)重新計(jì)算圖樣并將重新計(jì)算的圖樣提供到光調(diào)制元件陣列上以形成調(diào)整尺寸的圖像。但是，計(jì)算圖像涉及到許多因素，包括光學(xué)系統(tǒng)帶寬、光刻膠的非線性度以及鄰近的特征，這使實(shí)時(shí)計(jì)算困難且昂貴。另外，由于動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)中所需的高數(shù)據(jù)率(相當(dāng)于每秒鐘2000個(gè)膝上型電腦屏幕的數(shù)據(jù))，對(duì)每次圖像轉(zhuǎn)移都重新計(jì)算圖樣/圖像是不切實(shí)際的。因此，需要一種能夠?qū)崟r(shí)調(diào)整圖像尺寸的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供了用于實(shí)時(shí)地對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整的一種動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)和方法，用于動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面上。產(chǎn)生圖樣的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖，每個(gè)投影圖包括表示圖樣的象素?cái)?shù)據(jù)。圖樣在投影圖之間具有空間偏移。選擇兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖的一部分對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整并通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面上。
動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)包括空間光調(diào)制器和圖像處理系統(tǒng)，所述空間光調(diào)制器具有用于通過光刻將圖像轉(zhuǎn)移到表面上的光調(diào)制元件，所述圖像處理系統(tǒng)可操作來產(chǎn)生并存儲(chǔ)圖樣的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖。圖像處理系統(tǒng)還可操作來將象素?cái)?shù)據(jù)載入空間光調(diào)制器，所述象素?cái)?shù)據(jù)相應(yīng)于圖樣的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖的被選擇部分。在一種實(shí)施例中，根據(jù)表面的變形選擇兩個(gè)或多個(gè)空間偏移的投影圖的不同部分。在另一種實(shí)施例中，根據(jù)動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)中光學(xué)器件的變形選擇兩個(gè)或多個(gè)空間偏移的投影圖的不同部分。
通過產(chǎn)生和存儲(chǔ)圖樣的空間偏移的投影圖，可以通過簡(jiǎn)單地選擇并載入部分空間偏移的投影圖以補(bǔ)償表面和/或光學(xué)器件的變形來實(shí)現(xiàn)圖像的尺寸調(diào)整。不需要對(duì)圖像進(jìn)行實(shí)時(shí)的計(jì)算，因此降低了消耗并增加了產(chǎn)出速度。除了上述討論的之外，本發(fā)明還提供了具有其他特征和優(yōu)點(diǎn)的實(shí)施例。根據(jù)下面的說明并參考附圖，可以理解這些特征和優(yōu)點(diǎn)。


所公開的發(fā)明將參考附圖進(jìn)行說明，附圖示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施例，并通過引用而結(jié)合于本說明書中，其中圖1圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)，其用空間光調(diào)制器將圖像通過光刻轉(zhuǎn)移到襯底上；圖2A是使用液晶光調(diào)制元件的空間光調(diào)制器的分解視圖；圖2B是圖2A的液晶光調(diào)制元件的剖視圖；圖3A和3B圖示了具有不同尺寸的圖樣在光調(diào)制元件陣列上的兩個(gè)投影圖；
圖4A-4D圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，圖樣在光調(diào)制元件陣列上的空間偏移的投影圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用圖4A-4D中兩個(gè)空間偏移的投影圖的一部分產(chǎn)生尺寸調(diào)整的圖樣的示意圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖1的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)包括照相機(jī)的一部分的示意圖，所述照相機(jī)用于測(cè)量襯底表面的變形；圖7A是示例性圖像處理系統(tǒng)的框圖，該系統(tǒng)用于產(chǎn)生和存儲(chǔ)空間偏移的投影圖并控制圖1的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)；圖7B是示例性處理單元的示意圖，該單元用于選擇圖像的空間偏移的投影圖的部分以產(chǎn)生尺寸調(diào)整的圖樣的投影圖；圖8圖示了將圖像的子圖像轉(zhuǎn)移到襯底表面上的時(shí)序；圖9A和9B圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖像尺寸調(diào)整技術(shù)的一種示例；圖10圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖像尺寸調(diào)整技術(shù)的另一種示例；圖11圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，使用圖10的圖像尺寸調(diào)整技術(shù)將圖像的尺寸調(diào)整的子圖像轉(zhuǎn)移到襯底表面上的時(shí)序；圖12是圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于實(shí)時(shí)地對(duì)圖像進(jìn)行尺寸調(diào)整以動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面上的示例性過程的流程圖；圖13是圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例用于實(shí)時(shí)地根據(jù)變形對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整的示例性過程的流程圖；圖14是圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例用于使用失調(diào)閾值將來自圖像的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖的數(shù)據(jù)載入空間光調(diào)制器的示例性過程的流程圖；并且圖15是數(shù)據(jù)交叉技術(shù)的示意圖，該技術(shù)存儲(chǔ)用于圖像的每個(gè)空間偏移投影圖的象素?cái)?shù)據(jù)。
具體實(shí)施例方式
圖1圖示了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的通過光刻將圖像轉(zhuǎn)移到襯底150的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)100。光刻系統(tǒng)100包括可操作來輸出光104的光源102。光源102可以是如準(zhǔn)分子激光器之類的激光器，或本領(lǐng)域已知的其他非激光光源。光源102光學(xué)耦合到光束成形光學(xué)器件106。光束成形光學(xué)器件106的輸出是被導(dǎo)向空間光調(diào)制器110的光108?？臻g光調(diào)制器110包括可操作來對(duì)光108進(jìn)行選擇性轉(zhuǎn)移的光調(diào)制元件(未示出)。下文中結(jié)合圖2A和2B對(duì)光調(diào)制元件進(jìn)行更詳細(xì)的說明。在一種實(shí)施例中，光調(diào)制元件是液晶元件。但是應(yīng)當(dāng)明白，在其他實(shí)施例中，光調(diào)制元件是可以通過反射、透射或其他方式對(duì)光進(jìn)行選擇性轉(zhuǎn)移的微反射鏡或其他類型的光學(xué)器件。
空間光調(diào)制器110的輸出包括沒有光的暗區(qū)域和由多個(gè)光束112a-112n(共同組成112)組成的亮區(qū)域，這些區(qū)域由選定的光調(diào)制元件轉(zhuǎn)移以形成包含了圖樣的至少部分圖像。光束112被導(dǎo)向投影光學(xué)器件114，所述光學(xué)器件114被光學(xué)地對(duì)準(zhǔn)為將光束112導(dǎo)向襯底150上。例如光刻膠層的光敏層(未示出)位于襯底150的表面上。光敏層響應(yīng)于光束112進(jìn)行反應(yīng)，在襯底150的表面上產(chǎn)生圖樣。實(shí)際上，空間光調(diào)制器110的作用相當(dāng)于動(dòng)態(tài)掩模，所述動(dòng)態(tài)掩模形成成像到襯底光敏層上的圖樣。
在一種實(shí)施例中，襯底150安裝在掃描工作臺(tái)120上，以使襯底150相對(duì)于空間光調(diào)制器110在任意方向上移動(dòng)。掃描工作臺(tái)120可以是例如高精度掃描工作臺(tái)。在另一種實(shí)施例中，襯底150保持不動(dòng)，光學(xué)器件和/或光束112相對(duì)于襯底150運(yùn)動(dòng)。在任何一種結(jié)構(gòu)中，襯底150與空間光調(diào)制器110中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)運(yùn)動(dòng)以將圖像轉(zhuǎn)移到襯底150上。
圖2A和2B圖示了SLM 110的示例，其具有限定圖像象素的液晶(LC)光調(diào)制元件210。圖2A和2B中的SLM是包括獨(dú)立的LC光調(diào)制元件210的硅上液晶(LCOS)SLM 110，所述LC光調(diào)制元件210選擇性地反射特定偏振態(tài)的光以將圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到襯底上。圖2A是LCOSSLM的一部分的分解視圖，圖2B是LCOS SLM 110的LC光調(diào)制元件210的剖視圖。由圖2A可見，LCOS SLM 110包括襯底200，象素電極215位于所述襯底200上。象素電極215可以布置為行和列的陣列或者非正交的布局。在襯底200中，每個(gè)象素電極215下面設(shè)有象素驅(qū)動(dòng)電路250，所述象素驅(qū)動(dòng)電路250被連接以驅(qū)動(dòng)上覆的象素電極215。襯底200上方設(shè)置有透明玻璃230，其涂有例如銦錫氧化物(ITO)的透明導(dǎo)電材料層235。ITO層235是LCOS SLM 110的公共電極。襯底200和玻璃230之間密封有液晶材料層220，所述液晶材料響應(yīng)于公共電極235與象素電極215之間建立的電場(chǎng)而發(fā)生反應(yīng)。
因此，如圖2B所示，象素電極215與液晶材料220、公共電極235、象素驅(qū)動(dòng)電路250和偏振器260相結(jié)合形成限定圖像象素的各個(gè)獨(dú)立的光調(diào)制元件210。取決于施加到象素電極215與公共電極235之間的電壓，液晶材料220在每個(gè)光調(diào)制元件210處發(fā)生反應(yīng)以使輸入光的偏振態(tài)改變或不改變。光調(diào)制元件210與SLM 110的偏振器260相結(jié)合使特定偏振態(tài)的光可以反射到或不反射到圖1的襯底150上。如本領(lǐng)域所知，應(yīng)當(dāng)明白偏振器260包括一個(gè)或多個(gè)偏振器。
盡管圖2A和2B中只圖示了幾個(gè)光調(diào)制元件210，但每個(gè)LCOS SLM110通常在不超過幾平方厘米的SLM 110面積上包括幾千萬個(gè)光調(diào)制元件210。例如，在一種實(shí)施例中，LCOS SLM 110包括光調(diào)制元件210的16,384列乘以606行的矩陣，每個(gè)光調(diào)制元件210小于4平方微米。但是，每個(gè)光調(diào)制元件210位于SLM 110上的固定位置，并且每個(gè)光調(diào)制元件210只能處于兩種象素狀態(tài)之一全開或全閉。因此，當(dāng)調(diào)整圖像尺寸時(shí)，必須考慮SLM 110的象素式結(jié)構(gòu)。
例如，參考圖3A和3B，示出了兩個(gè)不同尺寸的圖樣310a和310b，其映射到SLM 110中光調(diào)制元件210的陣列350上以形成投影圖300a和300b。示出的圖樣310b比圖樣310a寬約5％。為了實(shí)現(xiàn)投影圖300a與300b之間5％的拉伸，圖樣310a自身被拉伸5％以形成圖樣310b，并且圖樣310b被空間映射到陣列350上。根據(jù)映射來選擇陣列350中的每個(gè)單獨(dú)光調(diào)制元件210的象素狀態(tài)(開或閉)，以將圖樣310b映射到陣列350上。例如在圖3B中，對(duì)于1/2以上光調(diào)制元件面積被圖樣310b覆蓋的光調(diào)制元件210，象素狀態(tài)選擇為開。否則，光調(diào)制元件210的象素狀態(tài)就選擇為閉。表示對(duì)于每個(gè)光調(diào)制元件210所選擇的象素狀態(tài)的象素?cái)?shù)據(jù)被存儲(chǔ)并載入空間光調(diào)制器以轉(zhuǎn)移圖樣310b的圖像。由于光調(diào)制元件210的尺寸在SLM中是固定的，所以在每次圖像轉(zhuǎn)移之前，可能需要通過調(diào)整圖樣尺寸并將尺寸調(diào)整的圖樣映射到陣列上以對(duì)每個(gè)投影圖300a和300b分別進(jìn)行計(jì)算。
為了克服SLM中固定的光調(diào)制元件尺寸對(duì)圖樣尺寸調(diào)整的限制，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，產(chǎn)生并存儲(chǔ)圖樣的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖?？臻g偏移的投影圖是映射到空間光調(diào)制器陣列上的圖樣的投影圖，該圖樣相對(duì)于陣列的位置在空間上彼此有偏移。根據(jù)空間偏移的投影圖，可以通過選擇空間偏移的投影圖中為尺寸調(diào)整的圖樣提供了最佳對(duì)準(zhǔn)的部分而對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整。例如，在圖4A-4D中，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，示出了圖樣410的四個(gè)示例性空間偏移投影圖400a-400d，其映射到空間光調(diào)制器110中的陣列350上。在每個(gè)空間偏移的投影圖400a-400d中，圖樣410在(X，Y)、(X+1/2，Y)、(X，Y+1/2)、(X+1/2，Y+1/2)的位置對(duì)準(zhǔn)中有1/2個(gè)光調(diào)制元件尺寸的偏移。在圖4A-4D中，位置對(duì)準(zhǔn)是(0，0)、(+1/2，0)、(0，+1/2)和(+1/2，+1/2)。每個(gè)空間偏移的投影圖400a-400d是通過將圖樣410以各自的位置對(duì)準(zhǔn)映射到陣列350上并對(duì)最好地表示了圖樣410的光調(diào)制元件210進(jìn)行識(shí)別而產(chǎn)生的。對(duì)應(yīng)于空間偏移的投影圖400a-400d的象素?cái)?shù)據(jù)被存儲(chǔ)并用于對(duì)將要投影到襯底上的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整。應(yīng)當(dāng)明白，空間偏移的投影圖400a-d的數(shù)目和投影圖400a-d之間的圖樣偏移是根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合而變化的。
圖5圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，映射到SLM的陣列350上的尺寸調(diào)整的圖樣510的投影圖500的示例。尺寸調(diào)整的圖樣510是用圖4A-4D中的兩個(gè)空間偏移的投影圖400a和400b的一部分形成的。示出的投影圖500被分為三個(gè)部分550a-c，每個(gè)都對(duì)應(yīng)于空間偏移的投影圖400a或400b之一的不同部分。部分550a包括投影圖400a來自圖4A中對(duì)應(yīng)區(qū)域的一部分，部分550b包括投影圖400b來自圖4B中對(duì)應(yīng)區(qū)域的一部分，部分550c包括投影圖400a來自圖4A中對(duì)應(yīng)區(qū)域的一部分。部分550a-c映射到陣列350上，使得每個(gè)部分550a-c包括載入到陣列350的光調(diào)制元件210中的象素?cái)?shù)據(jù)，所述光調(diào)制元件210對(duì)應(yīng)于投影圖400a和400b中的光調(diào)制元件210。
如圖4A和4B所示，投影圖400b中的圖樣410相對(duì)于投影圖400a中的圖樣410在x方向上偏離1/2個(gè)光調(diào)制元件。因此，通過組合使用投影圖400a和400b，圖樣410可以在x方向拉伸或收縮。例如，示出的投影圖400b中的圖樣410在x方向上向左移動(dòng)了。因此，當(dāng)選擇空間上沿x軸位于部分投影圖400b前方的部分投影圖400a時(shí)，尺寸調(diào)整的圖樣510相對(duì)于所選擇的部分在x方向上收縮了。同樣，當(dāng)選擇空間上位于部分投影圖400b后面的部分投影圖400a時(shí)，尺寸調(diào)整的圖樣510相對(duì)于所選擇的部分在x方向上拉伸了。
在圖5中，示出的部分投影圖400b選擇為空間上沿x軸位于部分投影圖400a的后面，使尺寸調(diào)整的圖樣510的起始點(diǎn)515從投影圖400a的圖樣410的起始點(diǎn)向左移動(dòng)1/2個(gè)象素。另外，示出的部分投影圖400a選擇為空間上沿x軸位于投影圖400b的后面，使尺寸調(diào)整的圖樣510的末端點(diǎn)520從投影圖400b的圖樣410的末端點(diǎn)向右移動(dòng)1/2個(gè)象素。圖5中對(duì)投影圖400a和400b的組合的結(jié)果是尺寸調(diào)整的圖樣510的投影圖500，其在x方向上拉伸了大約5％。應(yīng)當(dāng)明白，每個(gè)可用的投影圖被選擇的部分的數(shù)目和尺寸沿x軸和y軸都可以改變以適應(yīng)任何定位、尺寸或其他類型的變形。通過選擇部分空間偏移的投影圖來對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整，對(duì)于1/2個(gè)光調(diào)制元件的偏移，平均誤差僅為1/8個(gè)光調(diào)制元件，峰值誤差僅為1/4個(gè)光調(diào)制元件。另外，可以對(duì)圖樣和圖像進(jìn)行實(shí)時(shí)的尺寸調(diào)整以補(bǔ)償襯底表面或光學(xué)器件的變形，同時(shí)維持高生產(chǎn)率。
圖6是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)100包括照相機(jī)600的部分的示意圖，所述照相機(jī)600用于測(cè)量襯底表面的變形。變形可能包括例如襯底150中的拉伸、收縮、傾斜或彎曲。示出的空間光調(diào)制器110光學(xué)地耦合到投影光學(xué)器件114，對(duì)選擇的光調(diào)制元件反射的光束112進(jìn)行導(dǎo)向，以在襯底150上形成圖樣的至少部分圖像。投影光學(xué)器件114還被構(gòu)造為將從襯底150反射的光625導(dǎo)向照相機(jī)600以測(cè)量襯底表面的變形。在一種實(shí)施例中，投影光學(xué)器件114包括與照相機(jī)600光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的分束器(未示出)用于將從襯底150反射的光625導(dǎo)向照相機(jī)600。在另一種實(shí)施例中，投影光學(xué)器件114包括兩個(gè)位置較遠(yuǎn)的光學(xué)元件，所述光學(xué)元件之一被構(gòu)造為將光束112導(dǎo)向襯底150上，另一個(gè)光學(xué)元件被構(gòu)造為將從襯底150反射的光625導(dǎo)向照相機(jī)600。
襯底150以例如基準(zhǔn)的一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)特征650為標(biāo)記，所述對(duì)準(zhǔn)特征650用于確定襯底150表面的變形。在照相機(jī)600內(nèi)的圖像傳感器610處接收從襯底150反射的光625，以捕捉襯底150上對(duì)準(zhǔn)特征650的圖像。在一種實(shí)施例中，改變襯底150對(duì)投影光學(xué)器件114的相對(duì)位置以使投影光學(xué)器件114與襯底150上的每個(gè)對(duì)準(zhǔn)特征650光學(xué)對(duì)準(zhǔn)，使圖像傳感器610能夠捕捉對(duì)準(zhǔn)特征650的圖像序列。在另一種實(shí)施例中，照相機(jī)600包括相對(duì)襯底150位于一個(gè)或多個(gè)位置處的多個(gè)照相機(jī)，以同時(shí)捕捉襯底150上不同對(duì)準(zhǔn)特征650的各個(gè)圖像。
圖7A是圖像處理系統(tǒng)700的框圖，所述圖像處理系統(tǒng)700用于產(chǎn)生和存儲(chǔ)空間偏移的投影圖并控制動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)100。圖像處理系統(tǒng)700包括處理單元710，所述處理單元710可操作來執(zhí)行軟件715以產(chǎn)生圖樣的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖400a...400N，其中所述圖樣將通過光刻轉(zhuǎn)移到圖1的襯底150上。處理單元710可以是任何類型的微處理器、微控制器、可編程邏輯器件、數(shù)字信號(hào)處理器或其他處理裝置。處理單元710耦合到存儲(chǔ)空間偏移的投影圖400a...400N的存儲(chǔ)單元740和定時(shí)電路750，所述定時(shí)電路750產(chǎn)生定時(shí)信號(hào)755以對(duì)動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)100的工作臺(tái)120、空間光調(diào)制器110、激光器102和照相機(jī)600的操作進(jìn)行控制。
處理單元710還耦合到存儲(chǔ)器單元720和輸入/輸出(I/O)單元730，后者可以是有線的也可以是無線的。I/O單元730被連接以從照相機(jī)600接收對(duì)準(zhǔn)數(shù)據(jù)725并向處理單元710提供對(duì)準(zhǔn)數(shù)據(jù)725以存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器單元720中，所述對(duì)準(zhǔn)數(shù)據(jù)725表示襯底表面上對(duì)準(zhǔn)特征的一個(gè)或多個(gè)圖像。處理單元710設(shè)置為執(zhí)行軟件715以對(duì)襯底中的變形隨著對(duì)準(zhǔn)數(shù)據(jù)725的改變進(jìn)行計(jì)算或者對(duì)系統(tǒng)的光學(xué)器件變形進(jìn)行計(jì)算，并將與計(jì)算出的變形相對(duì)應(yīng)的變形數(shù)據(jù)735存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器單元720中。處理單元還設(shè)置為執(zhí)行軟件715以選擇存儲(chǔ)的投影圖400a...400N的不同部分來根據(jù)變形數(shù)據(jù)735產(chǎn)生尺寸調(diào)整的圖樣的投影圖500，并將表示尺寸調(diào)整的投影圖500的象素?cái)?shù)據(jù)770通過I/O單元730傳送到空間光調(diào)制器110。顯示器760可選地耦合到圖像處理系統(tǒng)700并可操作來顯示尺寸調(diào)整的投影圖500，所述投影圖500將被傳送到空間光調(diào)制器110以轉(zhuǎn)移到襯底表面上。
圖7B示出處理單元710的結(jié)構(gòu)示例，所述處理單元710用于選擇存儲(chǔ)的空間偏移的投影圖400a-d的多個(gè)部分以產(chǎn)生尺寸調(diào)整的投影圖500。示出的每個(gè)空間偏移的投影圖400a-d被分成相應(yīng)的部分425a-d。在一種實(shí)施例中，每個(gè)部分425a-d包括表示光調(diào)制元件的一行或多行和/或一列或多列的象素?cái)?shù)據(jù)。在其他實(shí)施例中，每個(gè)部分425a-d包括表示任何鄰近結(jié)構(gòu)(例如一批光調(diào)制元件)中一個(gè)或多個(gè)光調(diào)制元件的象素?cái)?shù)據(jù)。處理單元710訪問空間偏移的投影圖400a-d以從一個(gè)或多個(gè)空間偏移的投影圖400a-d中選擇部分425a-d，并將來自所選擇的部分425a-d中的象素?cái)?shù)據(jù)輸入尺寸調(diào)整的投影圖500的相應(yīng)部分550a-d。根據(jù)處理單元710計(jì)算出的變形信息735，處理單元710選擇不同的部分425a-d。變形信息735識(shí)別襯底表面的變形和/或動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)的光學(xué)器件中的變形。
在一種實(shí)施例中，處理單元710還用失調(diào)閾值780選擇尺寸調(diào)整的投影圖500的部分550a-d?？臻g偏移的投影圖400a-d隨著變形信息735而不同的部分425a-d相對(duì)于襯底表面的對(duì)準(zhǔn)是對(duì)照作為閾值的失調(diào)閾值780來進(jìn)行測(cè)量的。如果在考慮變形信息時(shí)空間偏移的投影圖400a-d的特定部分425a-d相對(duì)于襯底表面產(chǎn)生的失調(diào)大于失調(diào)閾值，則不將該特定部分425a-d選擇為包括在尺寸調(diào)整的投影圖500中。例如，如圖4A-4D所示，在每個(gè)投影圖400a-d中，特征410在x方向和y方向中任一方向上或者兩個(gè)方法上偏移了1/2個(gè)光調(diào)制元件。為了產(chǎn)生圖5的尺寸調(diào)整的投影圖500，可以用1/4象素的失調(diào)閾值780對(duì)部分550a-c進(jìn)行選擇。這樣，圖4A的投影圖400a中所選擇的包括在圖5的投影圖550a中的部分隨變形而產(chǎn)生的相對(duì)于表面的失調(diào)小于失調(diào)閾值，對(duì)于部分550b和550c也同樣。
失調(diào)閾值780可以用任何類型的算法或機(jī)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)。在一種實(shí)施例中，失調(diào)閾值780用包含小數(shù)部分和整數(shù)部分的地址加法器來實(shí)現(xiàn)。作為示例，失調(diào)閾值可以對(duì)應(yīng)于加數(shù)2。如果加數(shù)是精確的2，則無需切換到不同的投影圖。如果加數(shù)大于2，則選擇使圖樣收縮的投影圖，而如果加數(shù)小于2，則選擇使圖樣拉伸的投影圖。用于使存儲(chǔ)的數(shù)字圖像擴(kuò)大或收縮的地址加法器的一種示例在美國(guó)專利No.6,005,988中進(jìn)行了說明，其通過引用而結(jié)合于此。但是，應(yīng)當(dāng)明白，可以用其他方法選擇投影圖的部分以對(duì)圖樣以及該圖樣在表面上對(duì)應(yīng)的圖像進(jìn)行尺寸調(diào)整。
圖8圖示了將圖像轉(zhuǎn)移到襯底150表面上的時(shí)序。對(duì)于面積不超過幾平方厘米的SLM 110，通常需要多次曝光來對(duì)襯底150的整個(gè)面積進(jìn)行成像。每次曝光將圖像的不同子圖像800a-c(共同組成800)轉(zhuǎn)移到襯底150的相應(yīng)區(qū)域155a-c上。對(duì)于較大的襯底150，可能需要多次通過襯底150以成像襯底150的整個(gè)區(qū)域(共同組成155)。使用精密工作臺(tái)可以對(duì)每次曝光的對(duì)準(zhǔn)進(jìn)行仔細(xì)的控制以將子圖像800a-c無縫地結(jié)合在一起。例如如圖8所示，在時(shí)刻t1，將子圖像800a轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155a上。在時(shí)刻t2，將子圖像800b轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155b上，在時(shí)刻t3，將子圖像800c轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155c上。
當(dāng)襯底表面和/或光學(xué)器件中的變形要求對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以便成像到襯底上時(shí)，改變圖像的一個(gè)或多個(gè)子圖像800a-c中的圖樣數(shù)量或者改變一個(gè)或多個(gè)子圖像800a-c的尺寸以反射尺寸調(diào)整的圖樣。在任何一種情況下，載入SLM 110中的象素?cái)?shù)據(jù)都表示尺寸調(diào)整的圖樣。有多種技術(shù)將子圖像800a-c中尺寸調(diào)整的特征轉(zhuǎn)移到襯底表面上。圖9A和9B圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，圖像尺寸調(diào)整技術(shù)的一種示例。在圖9A中，對(duì)子圖像800a中的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以覆蓋襯底150表面上更小的區(qū)域155d，并對(duì)子圖像800c中的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以覆蓋襯底150表面上更大的區(qū)域155f，以適應(yīng)襯底150和/或光學(xué)器件中的變形。在時(shí)刻t1的曝光期間，SLM 110載入表示尺寸調(diào)整的子圖像800a和尺寸調(diào)整的子圖像800c的一部分的象素?cái)?shù)據(jù)，并在一次曝光中將尺寸調(diào)整的子圖像800a和尺寸調(diào)整的子圖像800c的該一部分轉(zhuǎn)移到區(qū)域155a上。尺寸調(diào)整的子圖像800a被轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155d上，部分尺寸調(diào)整的子圖像800c被轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155e上。組合的區(qū)域155d和155e相當(dāng)于圖8中的區(qū)域155a。在時(shí)刻t2的曝光期間，SLM110載入表示尺寸調(diào)整的子圖像800c的剩余部分的象素?cái)?shù)據(jù)，并將尺寸調(diào)整的子圖像800c的剩余部分轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155c上。
圖9B圖示了另一種示例，其中對(duì)子圖像800a中的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以覆蓋襯底150表面上的更大區(qū)域155h，并對(duì)子圖像800b中的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以覆蓋襯底150表面上的更小區(qū)域155i，以適應(yīng)襯底150和/或光學(xué)器件中的變形。為了產(chǎn)生更大的子圖像800a，表示尺寸調(diào)整的子圖像800a的象素?cái)?shù)據(jù)被分為兩次曝光。在時(shí)刻t1的第一次曝光期間，SLM載入表示尺寸調(diào)整的子圖像800a的一部分的象素?cái)?shù)據(jù)并將尺寸調(diào)整的子圖像800a的該部分轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155a上。在時(shí)刻t2的第二次曝光期間，SLM載入表示尺寸調(diào)整的子圖像800a的剩余部分的象素?cái)?shù)據(jù)和表示尺寸調(diào)整的子圖像800b的象素?cái)?shù)據(jù)，并在一次曝光中將尺寸調(diào)整的子圖像800a的剩余部分和尺寸調(diào)整的子圖像800b轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155b上。將尺寸調(diào)整的子圖像800a的剩余部分轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155g上，將尺寸調(diào)整的子圖像800b轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155i上。
圖10圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，圖像尺寸調(diào)整技術(shù)的另一種示例。在圖10中，SLM 110設(shè)置為包括光調(diào)制元件210的工作區(qū)域1000和光調(diào)制元件210的保留區(qū)域1010。工作區(qū)域1000包括用于將圖像轉(zhuǎn)移到襯底上的光調(diào)制元件210，保留區(qū)域1010包括未用于將圖像轉(zhuǎn)移到襯底上的光調(diào)制元件210。對(duì)于一次具體的曝光，工作區(qū)域1000和保留區(qū)域1010中的光調(diào)制元件210數(shù)目根據(jù)尺寸調(diào)整的類型而變化。因此，可以通過改變工作區(qū)域1000和保留區(qū)域1010中的光調(diào)制元件數(shù)目來對(duì)圖樣和圖樣在表面上相應(yīng)的圖像進(jìn)行尺寸調(diào)整。
例如，圖11圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，用圖10的圖像尺寸調(diào)整技術(shù)將尺寸調(diào)整的圖樣中尺寸調(diào)整的子圖像轉(zhuǎn)移到襯底表面上的時(shí)序。在圖11中，對(duì)子圖像800a中的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以覆蓋襯底150表面上更小的區(qū)域155k，并對(duì)子圖像800c中的圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以覆蓋襯底150表面上更大的區(qū)域1551，以適應(yīng)襯底150和/或光學(xué)器件中的變形。在時(shí)刻t1的曝光期間，SLM 110載入表示尺寸調(diào)整的子圖像800a的象素?cái)?shù)據(jù)，并將尺寸調(diào)整的子圖像800a轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域155k上。尺寸調(diào)整的子圖像800a被載入SLM 110中光調(diào)制元件的工作區(qū)域1000，而光調(diào)制元件的保留區(qū)域1010未載入任何數(shù)據(jù)，以便產(chǎn)生更小的子圖像800a。在時(shí)刻t2的曝光期間，SLM 110載入表示尺寸調(diào)整的子圖像800c的象素?cái)?shù)據(jù)，并將尺寸調(diào)整的子圖像800c轉(zhuǎn)移到襯底150的區(qū)域1551上。為了產(chǎn)生更大的子圖像800c，表示更大的子圖像800c的象素?cái)?shù)據(jù)被載入SLM 110中光調(diào)制元件的工作區(qū)域1000，所述工作區(qū)域1000包括整個(gè)陣列。SLM 110中沒有光調(diào)制元件的保留區(qū)域1010以轉(zhuǎn)移更大的子圖像800c。
圖12是圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的示例性過程1200的流程圖，所述過程1200用于對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整以動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面上。尺寸調(diào)整過程1200開始于框1210。在框1220處產(chǎn)生圖樣的第一投影圖。第一投影圖包括的象素?cái)?shù)據(jù)識(shí)別表示圖樣的第一組光調(diào)制元件。在框1230處產(chǎn)生圖樣的第二投影圖。第二投影圖包括的象素?cái)?shù)據(jù)識(shí)別表示圖樣的第二組光調(diào)制元件。第一投影圖中的圖樣在被映射到空間光調(diào)制器中的光調(diào)制元件陣列上時(shí)，對(duì)第二投影圖中的圖樣有空間偏移。在框1240處，第一和第二投影圖被選擇的部分用于對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整并動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面上。尺寸調(diào)整過程終止于框1250處。
圖13是圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，用于根據(jù)變形對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整的示例性過程1300的流程圖。尺寸調(diào)整過程1300開始于框1310處。在框1320處產(chǎn)生圖樣的空間偏移的投影圖。每個(gè)空間偏移的投影圖包括的象素?cái)?shù)據(jù)識(shí)別空間光調(diào)制器中表示圖樣的各個(gè)光調(diào)制元件。當(dāng)將圖樣映射到空間光調(diào)制器中的光調(diào)制元件陣列上時(shí)，所述圖樣在空間偏移的投影圖中有空間偏移。在框1330處測(cè)量表面或光學(xué)器件中的變形。在框1340處，根據(jù)變形選擇空間偏移的投影圖的不同部分，以對(duì)圖樣進(jìn)行尺寸調(diào)整并動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面上。尺寸調(diào)整過程終止于框1350。
圖14是圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的示例性過程1400的流程圖，所述過程1400用于使用失調(diào)閾值將來自圖像的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖的數(shù)據(jù)載入空間光調(diào)制器。數(shù)據(jù)載入過程1400開始于框1405。在框1410處限定失調(diào)閾值，并在框1415處產(chǎn)生圖樣的空間偏移的投影圖。每個(gè)空間偏移的投影圖包括的象素?cái)?shù)據(jù)識(shí)別空間光調(diào)制器中表示圖樣的各個(gè)光調(diào)制元件。當(dāng)將圖樣映射到空間光調(diào)制器中的光調(diào)制元件陣列上時(shí)，所述圖樣在空間偏移的投影圖中有空間偏移。
在框1420處測(cè)量表面或光學(xué)器件中的變形。在框1425處，根據(jù)變形將圖樣的空間偏移的投影圖之一(其對(duì)表面產(chǎn)生的失調(diào)隨變形的變化小于失調(diào)閾值)確定為最接近對(duì)準(zhǔn)的投影圖，并在框1430處，將相應(yīng)于最接近對(duì)準(zhǔn)的投影圖的象素?cái)?shù)據(jù)載入空間光調(diào)制器。將來自最接近對(duì)準(zhǔn)的投影圖的象素?cái)?shù)據(jù)順序載入空間光調(diào)制器中，直到在框1435處完全載入待轉(zhuǎn)移的圖樣或在框1440處最接近對(duì)準(zhǔn)的投影圖與表面的失調(diào)擴(kuò)大到大于失調(diào)閾值。如果確定失調(diào)大于失調(diào)閾值，則在框1430處選擇失調(diào)小于失調(diào)閾值的另一個(gè)最接近對(duì)準(zhǔn)的投影圖并繼續(xù)進(jìn)行順序載入象素?cái)?shù)據(jù)的過程。數(shù)據(jù)載入過程終止于框1445處。
圖15是數(shù)據(jù)交叉技術(shù)的示意圖，所述數(shù)據(jù)交叉技術(shù)用于存儲(chǔ)每個(gè)空間偏移的投影圖400a-d的象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d。在多個(gè)動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)將同一圖樣轉(zhuǎn)移到不同襯底上的應(yīng)用中，可以離線產(chǎn)生投影圖400a-d，將其壓縮并轉(zhuǎn)移到多個(gè)動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)中。為了增加投影圖的編碼效率，可以在壓縮之前將來自所有投影圖400a-d的象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d交叉在一起。
在圖15中示出了存儲(chǔ)單元740中存儲(chǔ)的4個(gè)投影圖400a-d。在存儲(chǔ)單元740的存儲(chǔ)器陣列1510中將來自所有的各個(gè)圖像投影圖400a-d的象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d交叉在一起。例如，與投影圖400a和400b相對(duì)應(yīng)的象素?cái)?shù)據(jù)1500a和1500b存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器陣列1510的同一行1520的間隔列1525中。在圖15中，列被稱為字，行被稱為位。為了從投影圖之一(例如投影圖400c)選擇象素?cái)?shù)據(jù)(例如象素?cái)?shù)據(jù)1500c)，象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d被輸入到字選擇器1540以便只從包括與投影圖400c相對(duì)應(yīng)的象素?cái)?shù)據(jù)1500c的那些列1525中選擇象素?cái)?shù)據(jù)1500a和1500c。剩余的象素?cái)?shù)據(jù)1500a和1500c被輸入到位選擇器1550以便只從包括與投影圖400c相對(duì)應(yīng)的象素?cái)?shù)據(jù)1500c的那些列1520中選擇象素?cái)?shù)據(jù)1500c。通過將象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d交叉而不是存儲(chǔ)每個(gè)投影圖400a-d的象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d的獨(dú)立平面，降低了投影圖的空間頻率，這提高了象素?cái)?shù)據(jù)1500a-d的編碼效率。
本領(lǐng)域技術(shù)人員將了解，本發(fā)明的應(yīng)用中所述的創(chuàng)新性構(gòu)思可以在廣泛的應(yīng)用范圍內(nèi)修改和變化。因此，專利性主題的范圍不應(yīng)限于所討論的任何具體的示例性教導(dǎo)，而是由所附權(quán)利要求來限定。
權(quán)利要求
1.一種方法，用于實(shí)時(shí)地對(duì)圖樣(410)進(jìn)行尺寸調(diào)整以動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣(510)的圖像轉(zhuǎn)移到表面(150)上，所述方法的特征在于產(chǎn)生(1220)所述圖樣(410)的第一投影圖(400a)，所述第一投影圖(400a)包括表示所述圖樣(410)的第一象素?cái)?shù)據(jù)；產(chǎn)生(1230)所述圖樣(410)的第二投影圖(400b)，所述第二投影圖(400b)包括表示所述圖樣(410)的第二象素?cái)?shù)據(jù)，所述第二投影圖(400b)中的圖樣(410)與所述第一投影圖(400a)中的圖樣(410)有空間上的偏移；以及選擇(1240)部分所述第一象素?cái)?shù)據(jù)和所述第二象素?cái)?shù)據(jù)，以形成所述尺寸調(diào)整的圖樣(510)并動(dòng)態(tài)地通過光刻將所述尺寸調(diào)整的圖樣(510)的圖像轉(zhuǎn)移到所述表面(150)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述的產(chǎn)生(1220)所述第一投影圖(400a)的步驟包括將所述圖樣(410)映射到空間光調(diào)制器(110)中光調(diào)制元件(210)的陣列(350)上相對(duì)于所述陣列(350)的第一位置對(duì)準(zhǔn)處，并且所述產(chǎn)生(1230)所述第二投影圖(400b)的步驟包括將所述圖樣(410)映射到所述陣列(350)上相對(duì)于所述陣列(350)的第二位置對(duì)準(zhǔn)處。
3.一種方法，用于實(shí)時(shí)地對(duì)圖樣(410)進(jìn)行尺寸調(diào)整以動(dòng)態(tài)地通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣(510)的圖像轉(zhuǎn)移到表面(150)上，所述方法的特征在于產(chǎn)生(1320)所述圖樣(410)的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖(400a...400N)，每個(gè)空間分離的投影圖(400a...400N)包括表示所述圖樣(410)的各個(gè)象素?cái)?shù)據(jù)，所述圖樣(410)在所述投影圖(400a...400N)之間有空間偏移；測(cè)量(1330)變形；以及根據(jù)所述變形從所述兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖(400a...400N)的不同部分選擇(1340)所述象素?cái)?shù)據(jù)(770)以形成所述尺寸調(diào)整的圖樣(510)并動(dòng)態(tài)地通過光刻將所述尺寸調(diào)整的圖樣(510)的圖像轉(zhuǎn)移到所述表面(150)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述測(cè)量步驟還包括將所述表面(150)定位到相對(duì)于圖像傳感器(610)的至少一個(gè)位置，所述圖像傳感器(610)可操作來對(duì)位于所述表面(150)上的至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)特征(650)進(jìn)行成像；以及計(jì)算所述至少一個(gè)對(duì)準(zhǔn)特征(650)在所述表面(150)上的位置以確定所述表面(150)的變形。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述選擇步驟還包括限定(1410)失調(diào)閾值(780)，以及根據(jù)所述表面的變形從所述兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖(400a...400N)中相對(duì)于所述表面(150)產(chǎn)生所述圖樣(510)的失調(diào)的不同部分選擇(1430)所述象素?cái)?shù)據(jù)(770)，所述失調(diào)小于所述失調(diào)閾值(780)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，還包括通過使來自每個(gè)所述空間偏移的投影圖(400a...400N)的象素?cái)?shù)據(jù)交叉而存儲(chǔ)來自所述空間偏移的投影圖(400a...400N)的象素?cái)?shù)據(jù)。
7.一種動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)(100)，包括空間光調(diào)制器(110)，所述空間光調(diào)制器(110)包括用于動(dòng)態(tài)地通過光刻將圖樣的圖像轉(zhuǎn)移到表面(150)上的光調(diào)制元件(210)，所述系統(tǒng)(100)的特征在于圖像處理系統(tǒng)(700)可操作以產(chǎn)生并存儲(chǔ)所述圖樣的兩個(gè)或更多空間偏移的投影圖(400a...400N)，每個(gè)空間分離的投影圖(400a...400N)包括的各個(gè)象素?cái)?shù)據(jù)識(shí)別所述空間光調(diào)制器(110)中表示所述圖樣的各個(gè)光調(diào)制元件(210)，所述圖樣在所述投影圖(400a...400N)之間有空間偏移，所述圖像處理系統(tǒng)(700)還可操作以將選擇的象素?cái)?shù)據(jù)載入所述空間光調(diào)制器(110)中，所述選擇的象素?cái)?shù)據(jù)相應(yīng)于所述圖樣的兩個(gè)或更多空間偏離的投影圖(400a...400N)中被選擇的部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)(100)，其中，所述空間光調(diào)制器(110)包括工作光調(diào)制元件(1000)和保留光調(diào)制元件(1010)，被載入所述空間光調(diào)制器(110)的選擇的象素?cái)?shù)據(jù)相應(yīng)于所述工作光調(diào)制元件(1000)的至少一部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)(100)，其中，所述圖像包括子圖像，被載入所述空間光調(diào)制器(110)的所述象素?cái)?shù)據(jù)相應(yīng)于所述子圖像之一的至少一部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)(100)，其中，所述表面(150)具有變形，并且其中所述圖像處理系統(tǒng)(700)還可操作以限定失調(diào)閾值(780)并根據(jù)所述表面(150)的變形選擇所述兩個(gè)或更多投影圖(400a...400N)中相對(duì)于所述表面(150)產(chǎn)生所述圖樣的失調(diào)的不同部分，所述失調(diào)小于所述失調(diào)閾值(780)。
全文摘要
一種動(dòng)態(tài)光刻系統(tǒng)(100)實(shí)時(shí)地對(duì)圖樣(410)進(jìn)行尺寸調(diào)整并通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣(510)的圖像轉(zhuǎn)移到表面(150)上以補(bǔ)償表面(150) 和/或光學(xué)器件(114)中的變形。系統(tǒng)(100)使用圖樣(410)的兩個(gè)或更多預(yù)先存儲(chǔ)的空間偏移的投影圖(400a...400N)。每個(gè)空間偏移的投影圖(400a...400N)包括的象素?cái)?shù)據(jù)識(shí)別空間光調(diào)制器(110)中表示圖樣(410)的光調(diào)制元件(210)。圖樣(410)在投影圖(400a...400N)之間具有空間偏移。根據(jù)變形選擇兩個(gè)或多個(gè)空間偏移的投影圖(400a...400N)的不同部分來對(duì)圖樣(410)進(jìn)行尺寸調(diào)整并通過光刻將尺寸調(diào)整的圖樣(510)的圖像轉(zhuǎn)移到表面(150)上。
文檔編號(hào)G03B27/54GK1882874SQ200480034161
公開日2006年12月20日 申請(qǐng)日期2004年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月15日
發(fā)明者戴爾·W·施羅埃德爾 申請(qǐng)人:安捷倫科技有限公司