專利名稱：電子照相感光體、電子照相感光體的制造方法、處理盒以及電子照相裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子照相感光體、電子照相感光體的制造方法、以及具有電子照相感光體的處理盒和電子照相裝置。
背景技術(shù)：
作為電子照相感光體，從具有價(jià)格低廉以及高生產(chǎn)率等優(yōu)點(diǎn)出發(fā)，在圓筒狀支撐體上設(shè)置使用有機(jī)材料作為光導(dǎo)電性物質(zhì)(電荷產(chǎn)生物質(zhì)、電荷傳輸物質(zhì))的感光層所形成的電子照相感光體，即所謂的有機(jī)電子照相感光體得到廣泛應(yīng)用。作為有機(jī)電子照相感光體，從具有高感光度和高耐久性等優(yōu)點(diǎn)出發(fā)，主流是具有所謂的層疊型感光層的電子照相感光體，所述層疊型感光層是將含有光導(dǎo)電性染料或光導(dǎo)電性顏料等電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷發(fā)生層與含有光導(dǎo)電性聚合物或光導(dǎo)電性低分子化合物等電荷傳輸物質(zhì)的電荷傳輸層進(jìn)行層疊而成的感光層。
電子照相感光體的表面被直接施加帶電(一次帶電)、曝光(圖像曝光)、利用調(diào)色劑的顯影、對(duì)紙張等轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印、轉(zhuǎn)印殘留調(diào)色劑的清除等電外力和/或機(jī)械外力，對(duì)于電子照相感光體要求對(duì)這些外力具有耐久性。具體來說，要求對(duì)由這些外力所導(dǎo)致的表面的損傷或產(chǎn)生的磨損具有耐久性，即要求具有耐擦傷性或耐磨損性等。
作為提高有機(jī)電子照相感光體的表面的耐擦傷性和耐磨損性的技術(shù)，例如，在日本專利特開平02-127652號(hào)公報(bào)中公開了將使用固化性樹脂作為粘合樹脂的固化層作為表面層(位于電子照相感光體的最外表面的層，換言之，位于最遠(yuǎn)離支撐體的位置的層。)的電子照相感光體。
另外，在日本專利特開平05-216249號(hào)公報(bào)和日本專利特開平07-072640號(hào)公報(bào)中，公開了一種將通過利用熱能或光能使具有碳-碳雙鍵的單體與具有碳-碳雙鍵的電荷傳輸性單體進(jìn)行固化聚合而形成的電荷傳輸性固化層作為表面層的電子照相感光體。
另外，在日本專利特開2000-066424號(hào)公報(bào)和日本專利特開2000-066425號(hào)公報(bào)中，公開了一種將通過利用電子射線的能量使在同一分子內(nèi)具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而形成的電荷傳輸性固化層作為表面層的電子照相感光體。
如上所述，近年來，作為提高有機(jī)電子照相感光體的表面的耐擦傷性和耐磨損性的技術(shù)，日漸確立了電子照相感光體的表面層采用固化層，以提高表面層的機(jī)械強(qiáng)度的技術(shù)。
而且，如上所述，電子照相感光體通常用于包括帶電工序-曝光工序-顯影工序-轉(zhuǎn)印工序-清潔工序的電子照相圖像形成工藝中。
在電子照相圖像形成工藝中，在轉(zhuǎn)印工序之后通過除去殘留在電子照相感光體上的調(diào)色劑，即除去轉(zhuǎn)印殘留調(diào)色劑來清潔該電子照相感光體表面的清潔工序是得到鮮明的圖像的非常重要的工序。
作為清潔方法，從成本低、容易設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn)出發(fā)，主流是如下所述的方法通過使清潔刮板與電子照相感光體抵接，消除該清潔刮板與該電子照相感光體之間的間隙，防止調(diào)色劑擠過該間隙，從而將轉(zhuǎn)印殘留調(diào)色劑刮除的方法。
特別地，在形成彩色圖像時(shí)，通過將品紅色、青色、黃色、黑色等多種顏色的調(diào)色劑疊合來再現(xiàn)所希望的顏色，因此調(diào)色劑的使用量遠(yuǎn)多于形成單色圖像的情形，因此，使用清潔刮板的清潔方法是最合適的。
但是，使用清潔刮板的清潔方法，由于清潔刮板與電子照相感光體的摩擦力很大，存在容易引起清潔刮板的震顫、卷起或者邊緣部分缺損的缺點(diǎn)。另外，所謂的清潔刮板的震顫是指由于清潔刮板與電子照相感光體的表面的摩擦阻力變大而導(dǎo)致清潔刮板發(fā)生振動(dòng)的現(xiàn)象，所謂清潔刮板的卷起是指清潔刮板向電子照相感光體的移動(dòng)方向反轉(zhuǎn)的現(xiàn)象。
電子照相感光體的表面層的機(jī)械強(qiáng)度越高、即電子照相感光體的表面越難以摩擦，這些清潔刮板的問題就會(huì)變得越顯著。
另外，有機(jī)電子照相感光體的表面層通常是通過浸涂法形成的，但由于通過浸涂法形成的表面層的表面、即電子照相感光體的表面變得非常平滑，因而清潔刮板與電子照相感光體的表面的接觸面積變大、清潔刮板與電子照相感光體的表面的摩擦阻力變大，上述問題變得顯著。
作為抑制清潔刮板的震顫、卷起或邊緣部分的缺損的方法之一，已知有將電子照相感光體的表面適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行表面粗糙化的方法。
作為將電子照相感光體的表面粗糙化的技術(shù)，例如，在日本專利特開昭53-092133號(hào)公報(bào)中，公開了一種為了容易地從電子照相感光體的表面分離轉(zhuǎn)印材料，將電子照相感光體的表面粗糙度限制在規(guī)定的范圍內(nèi)的技術(shù)。在日本專利特開昭53-092133號(hào)公報(bào)中，公開了一種通過控制形成表面層時(shí)的干燥條件，將電子照相感光體的表面粗糙化成桔皮狀的方法。
另外，在日本專利特開昭52-026226號(hào)公報(bào)中，公開了一種通過使表面層中含有顆粒，從而使電子照相感光體的表面粗糙化的技術(shù)。
另外，在日本專利特開昭57-094772號(hào)公報(bào)中，公開了一種通過使用金屬制的鋼絲刷對(duì)表面層的表面進(jìn)行研磨，從而使電子照相感光體的表面粗糙化的技術(shù)。
另外，在日本專利特開平01-099060號(hào)公報(bào)中，公開了一種為了解決在使用特定的清潔單元和調(diào)色劑并在特定的加工速度以上的電子照相裝置中使用時(shí)所出現(xiàn)的清潔刮板的反轉(zhuǎn)(卷起)或邊緣部分的缺損問題，將有機(jī)電子照相感光體的表面粗糙化的技術(shù)。
另外，在日本專利特開平02-139566號(hào)公報(bào)中，公開了一種通過使用膜狀研磨材料對(duì)表面層的表面進(jìn)行研磨，從而使電子照相感光體的表面粗糙化的技術(shù)。
但是，在上述現(xiàn)有技術(shù)中，并不能充分解決上述清潔刮板的震顫和卷起問題。
另外，作為將電子照相感光體的表面粗糙化的其他的技術(shù)，在日本專利特開平02-150805號(hào)公報(bào)中，公開了一種為了防止清潔刮板的反轉(zhuǎn)(卷起)或邊緣部分的缺損(缺口)，通過噴砂處理對(duì)電子照相感光體的外周面進(jìn)行表面粗糙化的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明者們?yōu)榱私鉀Q上述清潔刮板的震顫、卷起、邊緣部分的缺損問題，嘗試了通過日本專利特開平02-150850號(hào)公報(bào)所記載的方法將電子照相感光體的表面粗糙化，其結(jié)果得到了表面具有多個(gè)淺凹形狀的凹部的電子照相感光體，但在將這樣的電子照相感光體安裝到電子照相裝置中進(jìn)行圖像輸出時(shí)，卻存在如下新的問題。
即，將電子照相感光體用于電子照相裝置中時(shí)的表面的削減速度和損傷的生長速度通常是通過電子照相裝置內(nèi)電子照相感光體所受到的電外力或機(jī)械外力的程度、表面層用涂布液中所使用的材料、以及涂布該表面層用涂布液后使其干燥或固化時(shí)的條件等來預(yù)設(shè)的。因此，電子照相感光體的壽命通常是通過預(yù)設(shè)的表面的削減速度和損傷的生長速度、涂布表面層用涂布液時(shí)的濕潤狀態(tài)的涂布膜的厚度等來預(yù)設(shè)的。
但是，在表面具有淺凹形狀的凹部的電子照相感光體的情形中，如果將其在長時(shí)間內(nèi)反復(fù)使用，就會(huì)比該電子照相感光體的預(yù)想壽命更早地發(fā)生圖像缺陷，從而比預(yù)想壽命更早地變得難以使用(以下也稱為“損傷導(dǎo)致的壽命縮短”)。
本發(fā)明的目的在于提供一種在表面具有淺凹形狀的凹部的電子照相感光體中所發(fā)生的上述“損傷導(dǎo)致的壽命縮短”現(xiàn)象得到抑制的電子照相感光體，并且提供該電子照相感光體的制造方法、以及具備該電子照相感光體的處理盒以及電子照相裝置。
本發(fā)明者們進(jìn)行積極研究的結(jié)果，查明了當(dāng)僅在電子照相感光體的表面、即僅在電子照相感光體的表面層的表面形成淺凹形狀的凹部而使該表面層的膜厚局部變薄(該凹部的部分變薄)時(shí)，上述“損傷導(dǎo)致的壽命縮短”成為顯著的問題，并發(fā)現(xiàn)了在表面具有多個(gè)淺凹形狀的凹部的電子照相感光體中，通過在表面層和與表面層緊鄰的下一層之間的界面也具有多個(gè)與該淺凹形狀的凹部相對(duì)應(yīng)的凹部(朝向支撐體一側(cè)的凹陷)，能夠抑制上述“損傷導(dǎo)致的壽命縮短”，從而完成了本發(fā)明。
即，本發(fā)明為(1)一種電子照相感光體，其具有支撐體和設(shè)置在該支撐體上的有機(jī)感光層，其特征在于在該電子照相感光體的表面層的表面形成有多個(gè)淺凹形狀的凹部，并在該表面層和與該表面層緊鄰的下一層之間的界面形成有多個(gè)與形成在該表面層的表面的淺凹形狀的凹部相對(duì)應(yīng)的的凹部；
(2)根據(jù)(1)所述的電子照相感光體，其中，在所述表面層的表面形成的淺凹形狀的凹部與在所述表面層和所述與表面層緊鄰的下一層之間的界面形成的凹部的匹配率為50～100％；(3)根據(jù)(2)所述的電子照相感光體，其中，在所述表面層的表面形成的淺凹形狀的凹部與在所述表面層和所述與表面層緊鄰的下一層之間的界面形成的凹部的匹配率為70～100％；(4)根據(jù)(1)～(3)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的彈性變形率為46％以上；(5)根據(jù)(4)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的彈性變形率為50％以上；(6)根據(jù)(1)～(5)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的彈性變形率為63％以下；(7)根據(jù)(1)～(6)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的通用硬度(Universal Hardness)值(HU)為150～230N/mm2以下；(8)根據(jù)(1)～(7)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述與表面層緊鄰的下一層的表面的彈性變形率為45％以下、通用硬度值(HU)為230N/mm2以下；(9)根據(jù)(1)～(8)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的膜厚為10μm以下；(10)根據(jù)(9)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的膜厚為6μm以下；(11)根據(jù)(1)～(10)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層為固化層；(12)根據(jù)(1)～(11)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是含有選自丙烯酸樹脂、酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂和聚氨酯樹脂所組成的組中的至少1種的固化性樹脂的固化層；(13)根據(jù)(1)～(12)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層含有通過使同一分子內(nèi)具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而得到的固化物；(14)根據(jù)(13)所述的電子照相感光體，其中，所述固化物是通過加熱或照射放射線而使同一分子內(nèi)具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而得到的固化物；(15)根據(jù)(14)所述的電子照相感光體，其中，所述放射線為電子射線；(16)根據(jù)(1)～(15)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是通過涂布而形成的層；(17)根據(jù)(1)～(16)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是通過浸涂而形成的層；(18)根據(jù)(1)～(17)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述感光層是從所述支撐體一側(cè)層疊電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層而形成的層疊型感光層，所述表面層為該電荷傳輸層，所述與表面層緊鄰的下一層為該電荷產(chǎn)生層；(19)根據(jù)(1)～(18)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述感光層是從所述支撐體一側(cè)層疊電荷產(chǎn)生層、第一電荷傳輸層和第二電荷傳輸層而形成的層疊型感光層，所述表面層為該第二電荷傳輸層，所述與表面層緊鄰的下一層為第一電荷傳輸層；(20)根據(jù)(1)～(19)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述電子照相感光體還具有設(shè)置在所述感光層上的保護(hù)層，所述感光層是從所述撐體一側(cè)層疊電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層而形成的層疊型感光層，所述表面層為該保護(hù)層，所述與表面層緊鄰的下一層為該電荷傳輸層；
(21)一種電子照相感光體的制造方法，其是(1)～(20)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體的制造方法，其特征在于，包括如下工序表面層形成工序在所述與表面層緊鄰的下一層的緊鄰上方形成所述表面層；凹部形成工序通過對(duì)由該表面層形成工序所形成的所述表面層的表面進(jìn)行干式噴砂處理或者濕式珩磨處理，從而在所述表面層的表面形成多個(gè)淺凹形狀的凹部，以及在所述表面層和所述與表面層緊鄰的下一層之間的界面形成多個(gè)與該淺凹形狀的凹部相對(duì)應(yīng)的凹部；(22)一種處理盒，其特征在于，是將(1)～(20)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體或通過(21)所述的制造方法制造的電子照相感光體和選自帶電單元、顯影單元和清潔單元中的至少1種單元一體支撐的處理盒，且該處理盒相對(duì)于電子照相裝置主體可自由裝卸；(23)一種電子照相裝置，其特征在于，具備(1)～(20)中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體或通過(21)所述的制造方法制造的電子照相感光體、以及帶電單元、曝光單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種在表面具有淺凹形狀的凹部的電子照相感光體中所發(fā)生的上述“損傷導(dǎo)致的壽命縮短”得到抑制的電子照相感光體、和該電子照相感光體的制造方法、以及具備該電子照相感光體的處理盒和電子照相裝置。


圖1為顯微硬度測定裝置Fischer scope H100V(H.Fischer公司制造)的測定流程示意圖。
圖2為噴砂裝置的示意圖。
圖3為本發(fā)明的電子照相感光體的截面照片的一個(gè)實(shí)例。
圖4A為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例。
圖4B為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)例。
圖4C為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的又一個(gè)實(shí)例。
圖4D為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的再一個(gè)實(shí)例。
圖4E為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的其他一個(gè)實(shí)例。
圖4F為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的又一個(gè)實(shí)例。
圖4G為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的再一個(gè)實(shí)例。
圖4H為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)例。
圖4I為本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)例。
圖5為本發(fā)明的電子照相裝置的示意圖。
圖6為具有本發(fā)明的處理盒的電子照相裝置的示意圖。
圖7為其他表面粗糙化裝置的示意圖。
具體實(shí)施例方式
如果通過反復(fù)使用電子照相感光體而導(dǎo)致表面產(chǎn)生的損傷成長、且該損傷達(dá)到與表面層緊鄰的下一層(以下稱為“表面下層”)，則通常該電子照相感光體的使用會(huì)變得困難。
當(dāng)僅在電子照相感光體的表面、即僅在電子照相感光體的表面層的表面形成淺凹形狀的凹部時(shí)，與占據(jù)表面的大部分的非凹部相比，在該凹部中表面層的膜厚較薄，因而與非凹部的損傷達(dá)到表面下層相比，該凹部的損傷較早地達(dá)到表面下層。本發(fā)明者們認(rèn)為這就是上述“損傷導(dǎo)致的壽命縮短”的原因。
本發(fā)明的電子照相感光體，不僅在表面層的表面形成淺凹形狀的凹部，而且在表面層與表面下層之間的界面的、與該淺凹形狀的凹部相對(duì)應(yīng)的位置也形成有凹部，因而不存在或者幾乎不存在表面層的膜厚局部變薄的部分，因此，與僅在表面層的表面形成淺凹形狀的凹部的電子照相感光體相比，本發(fā)明的電子照相感光體中，在表面的凹部產(chǎn)生的損傷比在非凹部產(chǎn)生的損傷更早地到達(dá)表面下層的幾率減小了。
本發(fā)明的“淺凹形狀的凹部”是指在電子照相感光體的表面層的表面形成的細(xì)微的凹部。凹部優(yōu)選盡可能孤立地存在，并具有適當(dāng)?shù)拇笮?、深度、適當(dāng)?shù)陌疾康拈g隔，特別優(yōu)選凹部不會(huì)連接成條紋狀、凹部的存在方式?jīng)]有方向性地形成。
本發(fā)明的電子照相感光體，其為能夠在電子照相裝置中反復(fù)使用的例如圓筒狀、帶狀等形狀、并具有旋轉(zhuǎn)軸，邊旋轉(zhuǎn)邊重復(fù)進(jìn)行帶電、曝光、顯影、轉(zhuǎn)印、清潔等電子照相過程。清潔刮板通常相對(duì)于電子照相感光體的旋轉(zhuǎn)軸平行地設(shè)置，并與電子照相感光體的表面層的表面抵接。因此，所謂圓周方向是指相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸垂直的方向，即通過電子照相感光體的旋轉(zhuǎn)而與各個(gè)處理裝置反復(fù)接觸的方向。
在本發(fā)明中，十點(diǎn)平均粗糙度(Rzjis)、凹凸的平均間隔(RSm)、最大峰高(Rp)、最大谷深(Rv)是按照J(rèn)IS-B0601-2001所記載的方法測定的。另外，這些測定是使用表面粗糙度測定器(商品名Surfcoder SE3500型，小坂研究所制造)進(jìn)行的。
電子照相感光體的表面層的表面粗糙度在圓周方向和旋轉(zhuǎn)軸方向上測定的兩種情況下Rzjis都優(yōu)選0.3μm～2.5μm，更優(yōu)選為0.4μm～2.0μm的范圍。如果表面粗糙度過小，則不能得到表面粗糙化所帶來的本發(fā)明的改善效果，如果表面粗糙度過大，則在所得到的圖像上出現(xiàn)由于表面粗糙化所產(chǎn)生的磨砂感，并且調(diào)色劑大量從清潔刮板擠過去。
本發(fā)明所要求的表面形狀是可以表達(dá)為所謂的淺凹(dimple)形狀的凹部的、具有多個(gè)盡可能接近圓形且孤立的凹部的形狀。該淺凹形狀的凹部優(yōu)選相對(duì)于電子照相感光體的表面的所有方向是沒有方向性的。
在電子照相感光體的表面的凹凸中，當(dāng)谷部分連接成條紋狀時(shí)，帶電生成物等低電阻物質(zhì)聚集在該條紋狀部分，特別是在高溫高濕下長期使用的情況下，容易發(fā)生表面形狀所引起的條紋狀的圖像缺陷的問題。
因此，圓周方向的Rzjis(A)的值與電子照相感光體旋轉(zhuǎn)時(shí)的軸方向的Rzjis(B)值的比值越是接近1，就越優(yōu)選。
優(yōu)選凹凸的平均間隔RSm在圓周方向和旋轉(zhuǎn)軸方向測定時(shí)均為5μm～120μm，圓周方向的RSm(C)和旋轉(zhuǎn)軸方向的RSm(D)的比值必須是RSm(D)/RSm(C)＝0.5～1.5。
另外，更優(yōu)選RSm在圓周方向和旋轉(zhuǎn)軸方向測定時(shí)均為10～100μm、RSm(D)/RSm(C)＝0.8～1.2。
通過相同的形狀在圓周方向不會(huì)連接而是整體隨機(jī)地表面粗糙化的表面形狀，能夠使得電子照相感光體在旋轉(zhuǎn)時(shí)在清潔刮板的一定的部分不會(huì)集中相同的形狀，分散負(fù)荷，能夠改善調(diào)色劑擠過去的現(xiàn)象、改善刮板的卷起和邊緣部分的缺損等。
另外，由于電子照相感光體的表面和清潔刮板帶著速度差進(jìn)行抵接，因此存在最合適的凹凸的間隔范圍，當(dāng)RSm過小時(shí)，沒有表面粗糙化的效果，若過大時(shí)，則存在調(diào)色劑擠過去等的清潔刮板不良增多的傾向。
另外，本發(fā)明的表面形狀期望是與凸部相比具有更多凹部的形狀。如果在電子照相感光體上的凸形狀多、凸部的高度大，則對(duì)清潔刮板的局部阻力增加，特別是在長時(shí)間耐久使用時(shí)產(chǎn)生清潔刮板的邊緣部分缺損的問題。
因此，在本發(fā)明中，為了選擇性地形成減少凸部、增加凹部的形狀，優(yōu)選最大峰高(Rp)為0.6μm以下，更優(yōu)選為0.4μm以下。另外，最大谷深Rv和最大峰高Rp的比例，優(yōu)選Rv/Rp＝1.2以上，更優(yōu)選為1.5以上，這時(shí)具有更優(yōu)良的效果。
針對(duì)進(jìn)一步詳細(xì)研究這些具有淺凹形狀的凹部的結(jié)果進(jìn)行說明。在淺凹形狀的凹部的測定中，使用表面形狀測定系統(tǒng)(SurfaceExplorer SX-520DR型儀器、(株)菱化システム公司制造)進(jìn)行評(píng)價(jià)。
測試時(shí)，首先將鼓樣品放置在工作臺(tái)上，調(diào)整傾斜度使其水平，以波形模式讀取電子照相感光體的表面的三維形狀數(shù)據(jù)。這時(shí)，物鏡使用50倍的倍率在100μm×100μm的視野范圍內(nèi)進(jìn)行觀察。接著，使用數(shù)據(jù)分析軟件中的顆粒解析程序表示表面的等高線數(shù)據(jù)。
將求算淺凹形狀的凹部、面積等時(shí)的孔分析參數(shù)設(shè)為最長直徑上限50μm、最長直徑下限1μm、深度下限0.1μm以上、體積下限1μm3以上進(jìn)行觀察，計(jì)算圖像上被視為淺凹形狀的凹部的部分的個(gè)數(shù)。每100μm見方面積的淺凹形狀的凹部個(gè)數(shù)是計(jì)測解析圖像的視野中可見到的淺凹形狀的凹部的數(shù)目而得到的個(gè)數(shù)。
淺凹形狀的凹部的面積比率是按如下方法求出的，即在與上述相同的視野、相同的解析條件下，將總面積設(shè)為10000μm2，并通過將顆粒解析軟件的計(jì)算值求和從而得到淺凹形狀的凹部部分的面積，求出(淺凹形狀的凹部總面積/總面積)×100(％)、即為淺凹形狀的凹部的面積比率。
淺凹形狀的凹部的平均長徑比(aspect ratio)是通過在與上述相同的視野、相同的解析條件下，收集能夠識(shí)別的淺凹形狀的凹部的數(shù)據(jù)，求出該長徑比的平均值來確定的。
本發(fā)明的電子照相感光體的合適的淺凹形狀的凹部的個(gè)數(shù)優(yōu)選為每100μm見方為5個(gè)～50個(gè)，更優(yōu)選為5個(gè)～40個(gè)。優(yōu)選的淺凹形狀的凹部的面積比率為3％～60％，更優(yōu)選為3～50％。如果這些淺凹形狀的凹部的個(gè)數(shù)和面積比率超過上限或低于下限，都不能得到表面粗糙化的效果。
另外，優(yōu)選的淺凹形狀的凹部的平均長徑比為0.5～0.95。
與這些數(shù)值的規(guī)定相符的表面形狀顯示出本發(fā)明所要求的、具有接近圓形的形狀的孤立的淺凹形狀的凹部的凹凸。通過具有這樣的形狀，成為具有適度的粗糙表面形狀、且無方向性的表面粗糙化的表面，因而，基于上述記載的理由，這樣的表面形狀能夠有效地得到本發(fā)明的改善效果。
本發(fā)明的特征在于對(duì)表面層施加上述最優(yōu)化的特定的淺凹形狀的凹部時(shí)，表面層的表面的淺凹形狀的凹部的圖案與在表面層和表面下層之間所形成的界面的淺凹形狀的凹部的圖案大致相同。
關(guān)于本發(fā)明的表面層的表面的淺凹形狀的凹部圖案與在表面層和表面下層之間所形成的界面的淺凹形狀的凹部圖案的符合比率，使用匹配率作為定量表示該符合比率的數(shù)值。
匹配率的求算方法如下所述。
首先，在電子照相感光體的面內(nèi)，任意切出5mm左右見方的幾處樣品。在其中，使用SEM觀察1個(gè)樣品的截面，從其中任意選擇幾個(gè)淺凹形狀的凹部部分，拍攝該部分的表面下層、表面層存在于相同視野內(nèi)的截面照片，對(duì)于各個(gè)淺凹形狀的凹部部分，使用截面照片進(jìn)行如下測試。
圖3中給出本發(fā)明的電子照相感光體的截面照片的實(shí)例。
通過截面照片測量表面層表面的淺凹形狀的凹部的Rv11max(最大谷深)、和在對(duì)應(yīng)于該凹陷的部分的表面層和表面下層的界面所形成的淺凹形狀的凹部的Rv12max(最大谷深)。并且，同樣地從截面照片測量上述兩個(gè)淺凹形狀的凹部的直徑L11和L12。使用這些值，由下式求得匹配率。
100×(Rv12/Rv11+L12/L11)/2＝F1％(樣品No.l的匹配率)對(duì)所切出的樣品內(nèi)的多個(gè)部位，進(jìn)而對(duì)在電子照相感光體的面內(nèi)切出的樣品的多個(gè)部位都進(jìn)行該操作，取總計(jì)20個(gè)部位以上的平均值，作為該電子照相感光體的匹配率。其關(guān)系如下式所示。
100×(Rvn2/Rvn1+Ln2/Ln1)2＝Fn％(樣品No.n的匹配率)(F1+F2+F3+......+Fn)/n＝F％(所測定的電子照相感光體的匹配率)在本發(fā)明中，如果在表面層的表面形成的淺凹形狀的凹部與在表面層和表面下層之間的界面形成的淺凹形狀的凹部的匹配率為50％以上，則從耐久性實(shí)際情況來看可知形狀、圖案達(dá)到幾乎相同的狀態(tài)。即，由于電子照相感光體的表面的具有淺凹形狀的凹部的表面層的膜厚變得均勻，因而在電子照相感光體的長期耐久中，表面層的表面緩慢磨損并穿透表面層而使表面層的損傷達(dá)到表面下層進(jìn)而產(chǎn)生損傷的圖像的幾率，以及表面層的表面幾乎不磨損但突然發(fā)生的表面層的深度損傷穿透表面層而達(dá)到表面下層的幾率變小。即，不易產(chǎn)生在耐久條件下的損傷所引起的圖像缺陷，并且與根據(jù)電子照相感光體的耐久初期的單位個(gè)數(shù)的削減量和耐久初期的單位個(gè)數(shù)的損傷成長速度計(jì)算出來的電子照相感光體的預(yù)想壽命數(shù)值相近，并且可以繼續(xù)使用電子照相感光體直至該電子照相感光體的表面層接近本來應(yīng)有的壽命。
本發(fā)明者們的研究發(fā)現(xiàn)，更優(yōu)選匹配率為70％以上，能夠更加接近預(yù)想的壽命個(gè)數(shù)。
在本發(fā)明中，如上所述，只要能夠在表面層上形成上述淺凹形狀的凹部，則可以使用任何制膜方法、或者表面粗糙化方法。
其中，為了簡便地得到滿足如本發(fā)明所要求的上述匹配率的淺凹形狀的凹部作為表面層的表面形狀，使用任何機(jī)械表面粗糙化方法都是有效的。在各種機(jī)械表面粗糙化方法中，作為形成淺凹形狀的凹部的方法，優(yōu)選干式噴砂法和濕式珩磨法。另外，由于能夠在不使對(duì)濕度條件敏感的電子照相感光體與水等溶劑接觸的條件下進(jìn)行表面粗糙化，更優(yōu)選使用干式噴砂法。
作為噴砂加工的方法，包括使用壓縮空氣進(jìn)行噴射的方法、以馬達(dá)作為動(dòng)力進(jìn)行噴射的方法等，但是為了能夠精密地控制電子照相感光體的表面粗糙化，且在設(shè)備的簡易性這一點(diǎn)上，優(yōu)選的是使用壓縮空氣的方法。
作為噴砂中所使用的研磨材料，可以列舉出氧化鋁、氧化鋯、碳化硅、玻璃等陶瓷類，不銹鋼、鐵、鋅等金屬類，尼龍、聚碳酸酯、環(huán)氧樹脂、聚酯等樹脂類。特別是從表面粗糙化的效率和成本方面考慮，優(yōu)選玻璃、氧化鋁、氧化鋯。
本發(fā)明所使用的噴砂加工裝置的實(shí)例如圖2所示。貯存在容器(未圖示)中的研磨材料從2-4的通道導(dǎo)入噴嘴，使用從2-3的通道導(dǎo)入的壓縮空氣從噴射噴嘴2-1噴射，沖擊由工件支撐體2-6所支撐并自轉(zhuǎn)的電子照相感光體2-7。這時(shí)，噴嘴與工件距離是由2-2和2-9的噴嘴固定夾具、臂進(jìn)行調(diào)整而決定的。噴嘴通常邊相對(duì)于工件的旋轉(zhuǎn)軸方向移動(dòng)邊進(jìn)行表面粗糙化處理，通過噴嘴支撐體2-8沿工件的旋轉(zhuǎn)軸方向移動(dòng)，能夠?qū)ぜM(jìn)行均勻的表面粗糙化處理。
這時(shí)，噴嘴與電子照相感光體的表面的最短距離必需調(diào)整為適當(dāng)?shù)拈g隔。如果距離過近、或者過遠(yuǎn)，則存在加工效率降低、或者不能進(jìn)行所希望的表面粗糙化的情形。噴射的動(dòng)力所使用的壓縮空氣的壓力也必需調(diào)整至適當(dāng)?shù)膲毫Α＿@樣，能夠確立通過在完成制膜之后對(duì)有機(jī)電子照相感光體進(jìn)行表面粗糙化而生產(chǎn)率良好的制造方法。
本發(fā)明的表面形狀、或者表面粗糙化與電子照相感光體底材的導(dǎo)電性基質(zhì)的表面形狀無關(guān)。特別是在有機(jī)感光層的制膜法為浸涂法的情形中，通常所制膜的表面非常平滑，即使底材進(jìn)行了表面粗糙化，也不能反映其表面形狀。
在通過實(shí)施機(jī)械表面粗糙化形成本發(fā)明的淺凹形狀的凹部表面形狀的情形中，優(yōu)選在對(duì)有機(jī)電子照相感光體制膜到最終使用的層之后，從電子照相感光體的表面層上進(jìn)行表面粗糙化。
在本發(fā)明中，使用有機(jī)電子照相感光體是重要的。有機(jī)電子照相感光體具有如下優(yōu)點(diǎn)通常其膜厚、彈性特性等對(duì)于電子照相感光體制膜后進(jìn)行表面粗糙化是合適的，并且通過控制表面粗糙化的條件，能夠任意地在大范圍控制最終使用的表面形狀。這時(shí)，尤其從電子照相感光體的表面測定的彈性變形率能夠使得本發(fā)明的范圍內(nèi)的電子照相感光體具有特別良好的表面形狀。
本發(fā)明的表面粗糙化技術(shù)是形成耐久特性優(yōu)良的電子照相感光體的有效方法。特別是彈性變形率高的電子照相感光體耐久性優(yōu)良、即使長期使用中初始表面形狀的變化也很少，具有保持形狀的傾向。從初期階段將這樣的電子照相感光體控制在最佳表面形狀是重要的。
表面層的彈性變形率是從表面粗糙化后的電子照相感光體上，即從表面層上測定的。表面下層的彈性變形率是從沒有所述表面層的電子照相感光體的表面測定的。
其中，彈性變形率We％是通過使用顯微硬度測量裝置Fischerscope H100V(Fischer公司制造)，在25℃、濕度50％的環(huán)境下，在相對(duì)面夾角為136°的維氏正方錐金剛石壓頭上連續(xù)施加6mN的負(fù)荷，直接讀取負(fù)荷下的壓入深度而測定出的值。具體來說，直至最終負(fù)荷達(dá)到6mN為止進(jìn)行階段性的測定(各點(diǎn)0.1S的保持時(shí)間下273個(gè)點(diǎn))。Fischer scope H100V(Fischer公司制造)的輸出圖表的示意圖如圖1所示。圖1中，縱軸表示負(fù)荷F(mN)。橫軸表示壓入深度h(μm)。
在本發(fā)明中，通用硬度值(以下也稱為HU)可根據(jù)在最終負(fù)荷6mN下進(jìn)行壓入時(shí)的6mN負(fù)荷下的壓入深度，并由下式(1)求得。
h試驗(yàn)負(fù)荷下的壓入深度(mm)彈性變形率可從壓頭對(duì)膜施加的工作負(fù)荷(能量)、即壓頭對(duì)膜的負(fù)荷的增減所導(dǎo)致的能量的變化求得，具體來說，可以從下式(2)求得。
彈性變形率＝We/Wt(2)上式中，總工作負(fù)荷Wt(nJ)表示圖1中的A-B-D-A所包圍的面積，彈性變形工作負(fù)荷We(nJ)表示C-B-D-C所包圍的面積。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的表面層的彈性變形率為We％為46％以上，更優(yōu)選為50％以上且63％以下。
如果表面層的彈性變形率低于46％，反復(fù)使用后的表面形狀的變化增大，即使適當(dāng)進(jìn)行表面層的表面粗糙化，也不能長時(shí)間保持其表面形狀，因而不能長時(shí)間保持表面粗糙化的效果，容易產(chǎn)生清潔不良或發(fā)生損傷等。另外，在通過噴砂處理進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，沖擊表面層的顆粒的能量容易在表面層內(nèi)分散，因而力難以均勻地傳遞到表面下層，存在表面下層的凹凸形狀與表面層的凹凸形狀不同的傾向，結(jié)果是匹配率減少，在表面層的面內(nèi)的有效膜厚的變化增大，進(jìn)而，耐久時(shí)，損傷達(dá)到表面下層的幾率增大。
另外，特別是通過噴砂處理進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，顆粒沖擊表面而成的凹凸的凸部增加、圖像產(chǎn)生缺損的幾率增大。
如果彈性變形率We％達(dá)到50％以上的范圍，則反復(fù)使用后的表面形狀的變化反而變小，本發(fā)明變得更有效。另外，在通過噴砂處理進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，沖擊表面的顆粒的沖擊能量不會(huì)在表面層內(nèi)分散，而容易均勻地傳遞到表面下層，表面下層的凹凸與表面層的凹凸相近，因此匹配率增加，在表面層的面內(nèi)的有效膜厚的變化減小，損傷達(dá)到表面下層的幾率減小。
反之，如果彈性變形率We％大于63％，則在電子照相感光體與帶電部件或清潔部件等抵接部件之間容易夾帶紙粉或調(diào)色劑，摩擦電子照相感光體的表面，從而容易在電子照相感光體的表面產(chǎn)生損傷，與此同時(shí)也容易發(fā)生磨損。另外，通過噴砂處理進(jìn)行表面粗糙化時(shí)，由于沖擊表面層的顆粒的能量容易在表面層被吸收，因此，力難以均勻傳遞到表面下層，存在表面下層的凹凸形狀與表面層的凹凸形狀不同的傾向，其結(jié)果匹配率減小、在保護(hù)層的面內(nèi)的有效膜厚的變化增大，進(jìn)而，耐久時(shí)，損傷達(dá)到表面下層的幾率增大。
在本發(fā)明的電子照相感光體中，表面下層的彈性變形率優(yōu)選為45％以下，且通用硬度值(HU)優(yōu)選為230N/mm2以下。
在上述的噴砂方法中，在對(duì)表面層進(jìn)行加工并制造淺凹形狀的凹部時(shí)，為了提高在表面層的表面形成的淺凹形狀的凹部與在表面層和表面下層的界面形成的淺凹形狀的凹部的匹配率，表面下層的彈性變形率優(yōu)選為45％以下，且通用硬度值(HU)優(yōu)選為230N/mm2以下。
當(dāng)表面下層的通用硬度值(HU)大于230N/mm2時(shí)，在噴砂時(shí)，在表面下層的界面接受沖擊顆粒對(duì)表面層的沖擊時(shí)，不大發(fā)生變形，結(jié)果導(dǎo)致匹配率惡化。另外，視情況，還容易發(fā)生在表面層或界面產(chǎn)生裂紋等問題。
另外，表面下層的彈性變形率大于45％時(shí)，在噴砂時(shí)，沖擊顆粒對(duì)表面層的沖擊在表面層下的與感光層的界面被吸收掉，這時(shí)，容易發(fā)生在表面層表面或界面產(chǎn)生裂紋等問題。
本發(fā)明的表面層的膜厚優(yōu)選為10μm以下，更優(yōu)選為6μm以下。
當(dāng)膜厚過厚時(shí)，即使通過噴砂處理形成表面層的表面形狀，也由于沖擊顆粒的力在表面層內(nèi)被分散、衰減掉、而難以傳遞到表面層下的界面，因此匹配率顯著惡化。
具有本發(fā)明的表面形狀的電子照相感光體，當(dāng)表面層使用固化性樹脂時(shí)是最有效的。這是由于在表面層中含有固化性樹脂的電子照相感光體在耐久使用時(shí)的表面的磨損小，表面的形狀在初期和耐久使用時(shí)無變化，能夠長時(shí)間地保持初期形成的最合適的表面形狀。例如，可以列舉出使用固化性樹脂(的單體)、或使用具有聚合性官能團(tuán)(鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)或逐步聚合性官能團(tuán)等)的空穴傳輸性化合物(聚合性官能團(tuán)化學(xué)結(jié)合在空穴傳輸性化合物的分子的一部分上)形成電子照相感光體的表面層。在使用不具有電荷傳輸能力的固化性樹脂的情形中，也可以混合電荷傳輸性物質(zhì)而使用。
尤其是，為了得到表面層的彈性變形率在上述范圍內(nèi)的電子照相感光體，可以通過使具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合(伴隨交聯(lián)的聚合)而形成電子照相感光體的表面層，特別是通過使同一分子內(nèi)具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而形成電子照相感光體的表面層是尤其有效的。另外，在使用具有逐步聚合性官能團(tuán)的空穴傳輸性化合物時(shí)，作為該化合物，優(yōu)選的是在同一分子內(nèi)具有3個(gè)以上逐步聚合性官能團(tuán)的空穴傳輸性化合物。
以下，針對(duì)使用具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物形成電子照相感光體的表面層的方法進(jìn)行具體的說明。另外，使用具有逐步聚合性官能團(tuán)的空穴傳輸性化合物的情形也是同樣的。
電子照相感光體的表面層可以通過涂布包含具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物和溶劑的表面層用涂布液，使該具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合，以使所涂布的表面層用涂布液固化而形成。
在涂布表面層用涂布液時(shí)，可以使用例如浸涂法(浸漬涂布法)、噴涂法、簾式涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法等涂布方法。這些涂布方法中，從效率和生產(chǎn)力的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選浸涂法、噴涂法。
作為使具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合的方法，可以列舉出使用熱；可見光、紫外線等光；電子射線或γ射線等放射線的方法。根據(jù)需要，也可以在表面層用涂布液中含有聚合引發(fā)劑。
另外，作為使具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合的方法，優(yōu)選使用電子射線或γ射線等放射線，特別優(yōu)選使用電子射線的方法。這是因?yàn)槔梅派渚€的聚合并不特別需要聚合引發(fā)劑。通過不使用聚合引發(fā)劑而使具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合，能夠形成非常高純度的三維矩陣的表面層，能夠得到顯示出良好的電子照相特性的電子照相感光體。另外，在放射線中，尤其是利用電子射線的聚合，其由照射所引起的對(duì)電子照相感光體的損傷非常少，能夠顯示出良好的電子照相特性。
為了通過照射電子射線使具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而得到通用硬度值(HU)和彈性變形率在上述范圍內(nèi)的本發(fā)明的電子照相感光體，考慮電子射線的照射條件是重要的。
在照射電子射線時(shí)，可以使用掃描型、電子簾型、寬射束型、脈沖型以及薄層型等加速器進(jìn)行。加速電壓優(yōu)選為250kV以下，特別優(yōu)選為150kV以下。射線量優(yōu)選為1～1000kGy(0.1～100Mrad)的范圍，特別更優(yōu)選為5～200kGy(0.5～20Mrad)的范圍。如果加速電壓、射線量過大，則存在電子照相感光體的電氣特性惡化的情形。如果射線量過小，則具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物的固化聚合不充分，從而存在表面層用涂布液的固化不充分的情形。
另外，為了促進(jìn)表面層用涂布液的固化，在利用電子射線使具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合時(shí)，優(yōu)選對(duì)被照射體(電子射線所照射的物體)進(jìn)行加熱。加熱的時(shí)機(jī)可以是電子射線照射前、照射中、照射后的任一階段，優(yōu)選在具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物的自由基存在的期間，使被照射體達(dá)到一定的溫度。加熱優(yōu)選進(jìn)行到被照射體的溫度達(dá)到室溫～250℃(更優(yōu)選為50～150℃)。如果加熱的溫度過高，則存在電子照相感光體的材料會(huì)產(chǎn)生劣化的情形。如果加熱的溫度過低，則通過進(jìn)行加熱所得到效果將不充分。加熱的時(shí)間優(yōu)選為大約數(shù)秒至數(shù)十分鐘左右，具體來說，優(yōu)選為2秒～30分鐘。
電子射線照射時(shí)和被照射體加熱時(shí)的氣氛可以是在空氣中、在氮?dú)饣蚝獾确腔钚詺怏w中、在真空中的任一種，但是從能夠抑制由氧氣所導(dǎo)致的自由基的失活的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在非活性氣體中或者在真空中。
另外，從電子照相特性的觀點(diǎn)出發(fā)，電子照相感光體的表面層的膜厚優(yōu)選為30μm以下，更優(yōu)選為20μm以下，更優(yōu)選為10μm以下，更優(yōu)選為7μm以下。另一方面，從電子照相感光體的耐久性的觀點(diǎn)出發(fā)，膜厚優(yōu)選為0.5μm以上，更優(yōu)選為1μm以上。
此外，所謂鏈?zhǔn)骄酆媳硎镜氖窃诟叻肿游镔|(zhì)的生成反應(yīng)大體分為鏈?zhǔn)骄酆虾椭鸩骄酆蠒r(shí)的前一種聚合反應(yīng)形態(tài)，具體來說，是指其反應(yīng)形態(tài)主要經(jīng)由自由基或離子等中間體進(jìn)行反應(yīng)的不飽和聚合、開環(huán)聚合或者異構(gòu)化聚合等。
鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)是指可以進(jìn)行上述反應(yīng)形態(tài)的官能團(tuán)。以下，列舉應(yīng)用范圍廣的不飽和聚合性官能團(tuán)和開環(huán)聚合性官能團(tuán)的實(shí)例。
不飽和聚合是指通過自由基或離子等使得不飽和基團(tuán)、例如C＝C、C≡C、C＝O、C＝N、C≡N等進(jìn)行聚合的反應(yīng)，其中，主要為C＝C。以下，列舉不飽和聚合性官能團(tuán)的具體實(shí)例。

在上式中，R1表示氫原子、取代或者未取代的烷基、取代或者未取代的芳基、取代或者未取代的芳烷基等。其中，作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基、蒽基等。作為芳烷基，可以列舉出苯甲基、苯乙基等。
所謂開環(huán)聚合是指，碳環(huán)或氧代環(huán)或氮雜環(huán)等具有應(yīng)變的不穩(wěn)定的環(huán)結(jié)構(gòu)，在開環(huán)的同時(shí)反復(fù)進(jìn)行聚合，生成鏈狀高分子的反應(yīng)，并且大多是以離子作為活性種。以下，列舉開環(huán)聚合性官能團(tuán)的具體實(shí)例。

上式中，R2表示氫原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的芳烷基等。其中，作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基、蒽基等。作為芳烷基，可以列舉出苯甲基、苯乙基等。
在上述列舉的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)中，優(yōu)選具有下述式(1)～(3)所示的結(jié)構(gòu)的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)。
在式(1)中，E11表示氫原子、鹵素原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的芳烷基、取代的或未取代的烷氧基、氰基、硝基、-COOR11或者-CONR12R13。W11表示取代的或未取代的亞烷基、取代的或未取代的亞芳基、-COO-、-O-、-OO-、-S-、或者CONR14-。R11～R14各自獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基、或者取代的或未取代的芳烷基。下標(biāo)字母x表示0或1。其中，作為鹵素原子，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子等。作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基、丁基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基、蒽基、芘基、苯硫基、呋喃基等。作為芳烷基，可以列舉出苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等。作為烷氧基，可以列舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基等。作為亞烷基，可以列舉出亞甲基、亞乙基、亞丁基等。作為亞芳基，可以列舉出亞苯基、亞萘基、亞蒽基等。
作為上述各個(gè)基團(tuán)所可以具有的取代基，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子，甲基、乙基、丙基、丁基等烷基，苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等芳烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基，苯氧基、萘氧基等芳氧基，硝基，氰基，羥基等。
式(2)中，R21、R22各自獨(dú)立地表示氫原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基、或者取代的或未取代的芳烷基。下標(biāo)字母Y表示1～10的整數(shù)。其中，作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基、丁基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基等。作為芳烷基，可以列舉出苯甲基、苯乙基等。
作為上述各個(gè)基團(tuán)所可以具有的取代基，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子，甲基、乙基、丙基、丁基等烷基，苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等芳烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基，苯氧基、萘氧基等芳氧基等。
式(3)中，R31、R32各自獨(dú)立地表示氫原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基、或者取代的或未取代的芳烷基。下標(biāo)字母Z表示0～10的整數(shù)。其中，作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基、丁基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基等。作為芳烷基，可以列舉出苯甲基、苯乙基等。
作為上述各個(gè)基團(tuán)所可以具有的取代基，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子，甲基、乙基、丙基、丁基等烷基，苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等芳烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基，苯氧基、萘氧基等芳氧基等。
在具有上式(1)～(3)所示的結(jié)構(gòu)的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)中，更優(yōu)選具有下式(P-1)～(P-11)所示的結(jié)構(gòu)的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)。

在上式(P-1)～(P-11)所示的結(jié)構(gòu)的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)中，更優(yōu)選具有上式(P-1)所示的結(jié)構(gòu)的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)即丙烯酰氧基、具有上式(P-2)所示的結(jié)構(gòu)的鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)即甲基丙烯酰氧基。
在本發(fā)明中，在具有上述鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物中，優(yōu)選(在同一分子內(nèi))具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物。以下列舉具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物的具體實(shí)例。
(P41)a-A41-[R41-(P42)d]b(4)上式(4)中，P41、P42各自獨(dú)立地表示鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)。R41表示2價(jià)基團(tuán)。A41表示空穴傳輸性基團(tuán)。下標(biāo)字母a、b、d各自獨(dú)立地表示0以上的整數(shù)。其中，a+b×d為2以上。另外，當(dāng)a為2以上時(shí)，a個(gè)P41可以是相同的也可以是不同的；b為2以上時(shí)，b個(gè)[R41-(P42)d]可以是相同的也可以是不同的；當(dāng)d為2以上時(shí)，d個(gè)P42可以是相同的也可以是不同的。
如果列舉上式(4)中的(P41)a以及[R41-(P42)d]b全部被氫原子取代的化合物的實(shí)例，可以列舉出噁唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、三芳基胺衍生物(三苯基胺等)、9-(對(duì)二乙基氨基苯乙烯基)蒽、1，1-雙-(4-二苯甲基氨基苯基)丙烷、苯乙烯基蒽、苯乙烯基吡唑啉、苯基腙類、噻唑衍生物、三唑衍生物、吩嗪衍生物、吖啶衍生物、苯并呋喃衍生物、苯并咪唑衍生物、噻吩衍生物、N-苯基咔唑衍生物等。在這些(上式(4)中(P41)a以及[R41-(P42)d]b全部被氫原子取代的化合物)中，優(yōu)選具有下式(5)所示的結(jié)構(gòu)的化合物。
上式(5)中，R51表示取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的芳基、或者取代的或未取代的芳烷基。Ar51、Ar52各自獨(dú)立地表示取代的或未取代的芳基。R51、Ar51、Ar52可以與N(氮原子)直接結(jié)合，也可以與亞烷基(甲基、乙基、亞丙基等)、雜原子(氧原子、硫原子等)結(jié)合或者可以通過-CH＝CH-與N(氮原子)結(jié)合。其中，作為烷基，優(yōu)選碳原子數(shù)為1～10，可以列舉出甲基、乙基、丙基、丁基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、苯硫基、呋喃基、吡啶基、喹啉基、苯并喹啉基、咔唑基、吩噻嗪基、苯并呋喃基、苯并苯硫基、二苯并呋喃基、二苯并苯硫基等。作為芳烷基，可以列舉出苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等。另外，上式(5)中的R51優(yōu)選為取代的或未取代的芳基。
作為上述各個(gè)基團(tuán)所可以具有的取代基，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子，甲基、乙基、丙基、丁基等烷基，苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等芳烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基，苯氧基、萘氧基等芳氧基，二甲基氨基、二乙基氨基、二苯甲基氨基、二苯基氨基、二(對(duì)甲苯基)氨基等取代的氨基，苯乙烯基、萘基乙烯基等芳基乙烯基，硝基，氰基或羥基等。
作為上式(4)中的R41的2價(jià)基團(tuán)，可以列舉出取代的或未取代的亞烷基、取代的或未取代的亞芳基、-CR411＝CR412-(R411、R412各自獨(dú)立地表示氫原子、取代的或未取代的烷基、或者取代的或未取代的芳基。)、-CO-、-SO-、-SO2-、氧原子、硫原子等，以及它們的組合。其中，優(yōu)選為具有下式(6)所示的結(jié)構(gòu)的2價(jià)基團(tuán)，更優(yōu)選具有下式(7)所示的結(jié)構(gòu)的2價(jià)基團(tuán)。
-(X61)p6-(Ar61)q6-(X62)r6-(Ar62)s6-(X63)t6-(6)-(X71)p7-(Ar71)q7-(X72)r7- (7)上式(6)中，X61～X63各自獨(dú)立地表示取代的或未取代的亞烷基、-(CR61＝CR62)n6-(R61、R62各自獨(dú)立地表示氫原子、取代的或未取代的烷基、或者取代的或未取代的芳基。下標(biāo)字母n6表示1以上的整數(shù)(優(yōu)選5以下。)。)、-CO-、-SO-、-SO2-、氧原子、或者硫原子。Ar61、Ar62各自獨(dú)立地表示取代的或未取代的亞芳基。下標(biāo)字母p6、q6、r6、s6、t6各自獨(dú)立地表示0以上的整數(shù)(優(yōu)選10以下，更優(yōu)選5以下。)。其中，p6、q6、r6、s6、t6不全部為0。其中，作為亞烷基，優(yōu)選碳原子為1～20，特別優(yōu)選為1～10，可以列舉出亞甲基、亞乙基、亞丙基等。作為亞芳基，可以列舉出從苯、萘、蒽、菲、芘、苯并噻吩、吡啶、喹啉、苯并喹啉、咔唑、苯并噻嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并噻吩等除去2個(gè)氫原子的2價(jià)基團(tuán)。作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基、苯硫基等。
作為上述各個(gè)基團(tuán)所可以具有的取代基，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子，甲基、乙基、丙基、丁基等烷基，苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻吩基等芳烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基，苯氧基、萘氧基等芳氧基，二甲基氨基、二乙基氨基、二苯甲基氨基、二苯基氨基、二(對(duì)甲苯基)氨基等取代的氨基，苯乙烯基、萘基乙烯基等芳基乙烯基，硝基，氰基或羥基等。
上式(7)中，X71、X72各自獨(dú)立地表示取代的或未取代的亞烷基、-(CR71＝CR72)n7-(R71、R72各自獨(dú)立地表示氫原子、取代的或未取代的烷基、或者取代的或未取代的芳基。下標(biāo)字母n7表示1以上的整數(shù)(優(yōu)選5以下。)。)、-CO-或氧原子。Ar71表示取代的或未取代的亞芳基。下標(biāo)字母p7、q7、r7各自獨(dú)立地表示0以上的整數(shù)(優(yōu)選10以下，更優(yōu)選5以下。)。其中，p7、q7、r7不全部為0。其中，作為亞烷基，碳原子優(yōu)選為1～20，特別優(yōu)選為1～10，可以列舉出亞甲基、亞乙基、亞丙基等。作為亞芳基，可以列舉出從苯、萘、蒽、菲、芘、苯并噻吩、吡啶、喹啉、苯并喹啉、咔唑、苯并噻嗪、苯并呋喃、苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并噻吩等除去2個(gè)氫原子的2價(jià)基團(tuán)。作為烷基，可以列舉出甲基、乙基、丙基等。作為芳基，可以列舉出苯基、萘基、苯硫基等。
作為上述各個(gè)基團(tuán)所可以具有的取代基，可以列舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子，甲基、乙基、丙基、丁基等烷基，苯基、萘基、蒽基、芘基等芳基，苯甲基、苯乙基、萘甲基、糠基、噻嗯基等芳烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基，苯氧基、萘氧基等芳氧基，二甲基氨基、二乙基氨基、二苯甲基氨基、二苯基氨基、二(對(duì)甲苯基)氨基等取代的氨基，苯乙烯基、萘基乙烯基等芳基乙烯基，硝基，氰基或羥基等。
下面，列舉具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物的合適的實(shí)例(化合物例)。



















下面，針對(duì)本發(fā)明的電子照相感光體，將表面層之外的層也包括在內(nèi)進(jìn)行更詳細(xì)的說明。
如上所述，本發(fā)明的電子照相感光體為具有支撐體(圓筒狀支撐體)和設(shè)置在該支撐體上的有機(jī)感光層(以下僅稱為“感光層”)的圓筒狀電子照相感光體。
感光層可以是在同一層中含有電荷傳輸物質(zhì)和電荷產(chǎn)生物質(zhì)的單層型感光層，也可以是分離成含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層與含有電荷傳輸物質(zhì)的電荷傳輸層的層疊型(功能分離型)感光層，但是，從電子照相特性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選層疊型感光層。另外，在層疊型感光層中，包括從支撐體一側(cè)依次層疊電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層的順層型感光層，以及從支撐體一側(cè)依次層疊電荷傳輸層、電荷產(chǎn)生層的逆層型感光層，但從電子照相特性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選順層型感光層。另外，可以將電荷產(chǎn)生層制成層疊結(jié)構(gòu)，也可以將電荷傳輸層制成層疊結(jié)構(gòu)。
在圖4A至圖4I中，顯示了本發(fā)明的電子照相感光體的層結(jié)構(gòu)。
圖4A所示的層結(jié)構(gòu)的電子照相感光體在支撐體41上依次設(shè)有含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的層(電荷產(chǎn)生層)441、含有電荷傳輸物質(zhì)的層(第1電荷傳輸層)442，再在其上設(shè)有通過聚合具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物而形成的層45(第2電荷傳輸層)作為表面層。這時(shí)，442第1電荷傳輸層為表面下層。
另外，圖4B所示的層結(jié)構(gòu)的電子照相感光體在支撐體41上設(shè)有含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷傳輸物質(zhì)的層44，再在其上設(shè)有通過聚合具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物而形成的層45作為表面層。
另外，圖4C所示的層結(jié)構(gòu)的電子照相感光體在支撐體41上設(shè)有含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的層(電荷產(chǎn)生層)441，再在其上設(shè)有通過聚合具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物形成的層45作為表面層。這時(shí)，電荷產(chǎn)生層為表面下層。
另外，如圖4D～圖4I所示，可以在支撐體41與含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的層(電荷產(chǎn)生層)441或者含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷傳輸物質(zhì)的層44之間，設(shè)置具有阻擋功能或粘接功能的中間層(也稱為“底涂層”)43、以及用于防止干涉條紋等的導(dǎo)電層42等。
另外，雖然可以是任何層結(jié)構(gòu)(例如，通過聚合具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物而形成的層可以不設(shè)置)，但是在將通過聚合具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物而形成的層作為電子照相感光體的表面層的情形中，在圖4A～4I所示的層結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選圖4A、4D、4G所示的層結(jié)構(gòu)。
作為支撐體，只要是顯示出導(dǎo)電性的支撐體(導(dǎo)電性支撐體)就可以，例如，可以使用鐵、銅、金、銀、鋁、鋅、鈦、鉛、鎳、錫、銻、銦等金屬制的支撐體。另外，可以使用具有通過將鋁、鋁合金、氧化銦-氧化錫合金等真空蒸鍍而形成涂膜的層的上述金屬制支撐體或塑料制支撐體。另外，也可以使用將炭黑、氧化錫顆粒、氧化鈦顆粒、銀顆粒等導(dǎo)電性顆粒與適當(dāng)?shù)恼澈蠘渲黄鸷郊埢蛩芰现械闹误w，或者使用具有導(dǎo)電性粘合樹脂的塑料制的支撐體等。
另外，為了防止由于激光等的散射所導(dǎo)致的干涉條紋等，可以對(duì)支撐體表面實(shí)施切削處理、表面粗糙化處理、防蝕鋁處理等。
如上所述，在支撐體與感光層(電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層)或者后述中間層之間，還可以設(shè)置用于防止由于激光等的散射導(dǎo)致的干涉條紋、或者用于覆蓋支撐體的損傷的導(dǎo)電層。
導(dǎo)電層可以通過在粘合樹脂中分散炭黑、金屬顆粒、金屬氧化物顆粒等導(dǎo)電性顆粒而形成。
導(dǎo)電層的膜厚優(yōu)選為1～40μm，特別更優(yōu)選為2～20μm。
另外，如上所述，在支撐體或?qū)щ妼优c感光層(電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層)之間，可以設(shè)置具有隔離功能、粘接功能的中間層。中間層是為了改善感光層的粘接性、改善涂布性、改善從支撐體的電荷注入性、保護(hù)感光層免受電氣破壞等而形成的。
中間層主要可以使用聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚丁二烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚丙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂、酚醛樹脂、丙烯酸樹脂、硅酮樹脂、環(huán)氧樹脂、脲樹脂、烯丙基樹脂、醇酸樹脂、聚酰胺-酰亞胺樹脂、尼龍樹脂、聚砜樹脂、聚烯丙基醚樹脂、聚縮醛樹脂、丁縮醛樹脂等粘合樹脂形成。另外，在中間層中，還可以含有金屬或者合金或者它們的氧化物、鹽類，表面活性劑等。
中間層的膜厚優(yōu)選為0.05～7μm，更優(yōu)選為0.1～2μm。
作為本發(fā)明的電子照相感光體中所使用的電荷產(chǎn)生物質(zhì)，可以列舉出例如硒-碲，吡喃鎓、硫代吡喃鎓類染料，具有各種中心金屬和各種晶系(α、β、γ、ε、X型等)的酞菁顏料，蒽垛蒽酮顏料，二苯并芘醌顏料，皮蒽酮顏料，以及單偶氮、雙偶氮、三偶氮等的偶氮顏料，靛藍(lán)顏料，喹吖啶酮顏料，不對(duì)稱奎諾花青(quinocyanine)顏料，非晶硅等。這些電荷產(chǎn)生物質(zhì)可以僅使用1種，也可以使用2種以上。
作為本發(fā)明的電子照相感光體中所使用的電荷傳輸物質(zhì)，除了上述具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物之外，還可以列舉出芘化合物、N-烷基咔唑化合物、腙化合物、N，N-二烷基苯胺化合物、二苯基胺化合物、三苯基胺化合物、三苯基甲烷化合物、吡唑啉化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物等。
在將感光層功能分離成電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的情形中，電荷產(chǎn)生層可以通過將電荷產(chǎn)生物質(zhì)和粘合樹脂以及溶劑一起分散而得的電荷產(chǎn)生層用涂布液涂布后使其干燥而形成。作為分散方法，可以列舉出使用均化器、超聲波分散機(jī)、球磨機(jī)、振動(dòng)球磨機(jī)、砂磨、輥磨、磨光器、液壓沖擊型高速分散機(jī)等的方法。電荷產(chǎn)生層中的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的比例，相對(duì)于粘合樹脂與電荷產(chǎn)生物質(zhì)的總重量優(yōu)選為0.1～100重量％，更優(yōu)選為10～80重量％。另外，相對(duì)于電荷產(chǎn)生層的總重量，電荷產(chǎn)生物質(zhì)的比例優(yōu)選為10～100重量％，更優(yōu)選為50～100重量％。另外，也可以通過蒸鍍法等將上述電荷產(chǎn)生物質(zhì)單獨(dú)成膜，制成電荷產(chǎn)生層。
電荷產(chǎn)生層的膜厚優(yōu)選為0.001～6μm，更優(yōu)選為0.01～2μm。
在將感光層功能分離為電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的情形中，電荷傳輸層，特別是不作為電子照相感光體的表面層的電荷傳輸層，可以通過將電荷傳輸物質(zhì)和粘合樹脂溶解在溶劑中而得的電荷傳輸層用涂布液涂布并使其干燥而形成。另外，上述電荷傳輸物質(zhì)中具有單獨(dú)成膜性的物質(zhì)可以在不使用粘合樹脂的條件下單獨(dú)成膜，制成電荷傳輸層。電荷傳輸層中的電荷傳輸物質(zhì)的比例，相對(duì)于粘合樹脂和電荷傳輸物質(zhì)的總重量優(yōu)選為0.1～100重量％，更優(yōu)選為10～80％。另外，相對(duì)于電荷傳輸層總重量，電荷傳輸物質(zhì)的比例優(yōu)選為20～100重量％，更優(yōu)選為30～90重量％。
電荷傳輸層，特別是不作為電子照相感光體的表面層的電荷傳輸層的膜厚優(yōu)選為5～7Oμm，進(jìn)一步更優(yōu)選為10～30μm。如果電荷傳輸層的膜厚過薄，則難以保持帶電能力，如果過厚，則存在殘留電位升高的傾向。
當(dāng)在相同的層中含有電荷傳輸物質(zhì)和電荷產(chǎn)生物質(zhì)時(shí)，該層可以通過將上述電荷產(chǎn)生物質(zhì)和上述電荷傳送物質(zhì)與粘合樹脂和溶劑一起分散而得的該層用涂布液涂布并使其干燥而形成。另外，該層的膜厚優(yōu)選為8～40μm，更優(yōu)選為12～30μm。另外，該層中的光導(dǎo)電性物質(zhì)(電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷傳輸物質(zhì))的比例，相對(duì)于該層的總重量優(yōu)選為20～100重量％，進(jìn)一步更優(yōu)選為30～90重量％。
作為感光層(電荷傳輸層、電荷產(chǎn)生層)中所使用的粘合樹脂，可以使用例如丙烯酸樹脂、烯丙基樹脂、醇酸樹脂、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂、酚醛樹脂、丁縮醛樹脂、亞芐基樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚乙縮醛樹脂、聚酰胺-酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、聚烯丙基醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚砜樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚丁二烯樹脂、聚丙烯樹脂、脲樹脂等。這些樹脂可以單獨(dú)使用、混合使用或者以共聚物的形式使用1種或2種以上。
另外，在感光層上，為了保護(hù)該感光層，可以設(shè)置保護(hù)層。保護(hù)層的膜厚優(yōu)選為O.01～10μm，進(jìn)一步更優(yōu)選為0.1～6μm。在保護(hù)層中，優(yōu)選使用通過加熱或照射放射線而固化聚合的固化性樹脂等。作為該固化性樹脂的樹脂單體，優(yōu)選具有鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的樹脂單體。另外，在保護(hù)層中，還可以含有金屬及其氧化物、氮化物、鹽、合金，以及炭黑等導(dǎo)電性材料。作為金屬，可以列舉出鐵、銅、金、銀、鉛、鋅、鎳、錫、鋁、鈦、銻、銦等。更具體地說，可以使用ITO、TiO2、ZnO、SnO2、Al2O3等。導(dǎo)電性材料優(yōu)選在保護(hù)層中分散含有顆粒狀的物質(zhì)，其粒徑優(yōu)選為0.001～5μm，進(jìn)一步更優(yōu)選為0.01～1μm。保護(hù)層中的導(dǎo)電性材料的比例，相對(duì)于保護(hù)層總重量優(yōu)選為1～70重量％，進(jìn)一步更優(yōu)選為5～50重量％。作為這些的分散劑，可以使用鈦偶聯(lián)劑、硅烷偶聯(lián)劑、各種表面活性劑等。
另外，在構(gòu)成上述電子照相感光體的各個(gè)層中，可以添加抗氧化劑或抗光老化劑等。另外，在電子照相感光體的表面層中，為了提高電子照相感光體的外周面的潤滑性或防水性，可以添加各種氟化合物、硅烷化合物、金屬氧化物等。另外，可以將它們以顆粒狀分散含有在保護(hù)層中。另外，作為這些的分散劑可以使用表面活性劑等。電子照相感光體的表面層中的上述各種添加劑的比例，相對(duì)于表面層的總重量優(yōu)選為1～70重量％，進(jìn)一步更優(yōu)選為5～50重量％。
在本發(fā)明的電子照相感光體的各個(gè)層的形成方法中，可以采用蒸鍍法或涂布法等各種方法，但是其中最優(yōu)選涂布法。涂布法可以形成從薄膜的層到厚膜的層的各種組成的層。具體來說，可以列舉出棒涂法、刮涂法、輥涂法以及使用磨光器的涂布法，浸涂法，噴涂法，束涂布法，靜電涂布法，粉末涂布法等。
在圖5中，顯示了使用本發(fā)明的電子照相感光體的常見的轉(zhuǎn)印式電子照相裝置的簡要結(jié)構(gòu)實(shí)例。
在圖5中，1為作為圖像載體的本發(fā)明的圓筒狀電子照相感光體，并以軸2為中心沿箭頭方向以規(guī)定的速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。上述電子照相感光體1在旋轉(zhuǎn)過程中通過帶電單元3使其外周面接受正或負(fù)的規(guī)定電位的均勻帶電，接著通過位于曝光部位的圖像曝光單元4受到圖像曝光(狹縫曝光、激光光束掃描曝光等)。由此在電子照相感光體的外周面上依次形成與曝光圖像相對(duì)應(yīng)的靜電潛像。
該靜電潛像接著通過顯影單元5從顯影套筒供給調(diào)色劑，經(jīng)調(diào)色劑顯影的該調(diào)色劑顯影圖像，通過轉(zhuǎn)印單元6而依次轉(zhuǎn)印到所送出的轉(zhuǎn)印材料P的表面上，該轉(zhuǎn)印材料P是與電子照相感光體1的旋轉(zhuǎn)同步地從未圖示的送紙部向電子照相感光體1和轉(zhuǎn)印單元6之間取出而供紙的。
接受了圖像轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印材料P從電子照相感光體表面分離，導(dǎo)入到定影單元8進(jìn)行定影從而以復(fù)印物(復(fù)制品)的形式輸出到機(jī)器外。
圖像轉(zhuǎn)印后的電子照相感光體1的表面，通過清潔單元7除去轉(zhuǎn)印殘留調(diào)色劑而進(jìn)行表面清潔化，再由預(yù)曝光單元11進(jìn)行消電處理，從而反復(fù)用于圖像形成。
作為電子照相裝置，將上述電子照相感光體和顯影單元、清潔單元等構(gòu)成要素中的多個(gè)一體結(jié)合成裝置單元、并作成該單元相對(duì)于裝置主體可自由裝卸的結(jié)構(gòu)的處理盒。在圖6中顯示了處理盒的實(shí)例。例如，將電子照相感光體1和清潔單元7一體化成一個(gè)裝置單元，制成使用裝置主體的導(dǎo)軌10等引導(dǎo)單元可自由裝卸的結(jié)構(gòu)。這時(shí)，在上述裝置單元上還可以帶有帶電單元和/或顯影單元。
在使用電子照相裝置作為復(fù)印機(jī)或打印機(jī)時(shí)，圖像曝光4讀取來自原稿的反射光或透射光、或者原稿并信號(hào)化，通過該信號(hào)進(jìn)行激光光束的掃描、LED陣列的驅(qū)動(dòng)、或者液晶光閥陣列的驅(qū)動(dòng)等。當(dāng)用作傳真機(jī)的打印機(jī)時(shí)，圖像曝光4成為用于打印信號(hào)接收數(shù)據(jù)的曝光。
在圖6中，顯示了一個(gè)具備具有本發(fā)明的電子照相感光體的處理盒的電子照相裝置的簡要結(jié)構(gòu)的實(shí)例。
在圖6中，1為圓筒狀的電子照相感光體，并以軸2為中心沿著箭頭方向以固定的圓周速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的電子照相感光體1的外周面通過帶電單元(一次帶電單元帶電輥等)3，均勻地帶電成正或負(fù)的規(guī)定的電位，接著，接受從狹縫曝光或激光束掃描曝光等曝光單元(未圖示)輸出的曝光光(圖像曝光光)4。這樣，在電子照相感光體1的外周面依次形成對(duì)應(yīng)于目標(biāo)圖像的靜電潛像。
形成在電子照相感光體1的外周面上的靜電潛像通過包含在顯影單元5的顯影劑中的調(diào)色劑被顯影而形成調(diào)色劑圖像。接著，形成并承載在電子照相感光體1的外周面上的調(diào)色劑圖像，通過來自轉(zhuǎn)印單元(轉(zhuǎn)印輥等)6的轉(zhuǎn)印偏壓，被依次轉(zhuǎn)印到輸送出來的轉(zhuǎn)印材料(紙張等)P上，該轉(zhuǎn)印材料P是與電子照相感光體1的旋轉(zhuǎn)同步地從轉(zhuǎn)印供給單元(未圖示)取出到電子照相感光體1和轉(zhuǎn)印單元6之間(抵接部位)的。
接受了調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印材料P，從電子照相感光體1的外周面分離，導(dǎo)入到定影單元8，接受圖像定影，從而作為圖像形成物(打印、復(fù)印)向裝置外打印輸出。
調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印后的電子照相感光體1的外周面，通過清潔單元(清潔刮板等)7進(jìn)行轉(zhuǎn)印殘留的顯影劑(調(diào)色劑)的清除，從而表面清潔化，再通過來自預(yù)曝光單元(未圖示)的預(yù)曝光光(未圖示)進(jìn)行消電處理，然后反復(fù)用于圖像形成。另外，如圖6所示，在帶電單元3為使用帶電輥等的接觸式帶電單元的情形中，預(yù)曝光并非一定是必要的。
上述電子照相感光體1、帶電單元3、顯影單元5、轉(zhuǎn)印單元6和清潔單元7等構(gòu)成要素中，可以將多個(gè)收容在容器中一體結(jié)合構(gòu)成處理盒，該處理盒相對(duì)于復(fù)印機(jī)或激光光束打印機(jī)等電子照相裝置主體可以自由裝卸地構(gòu)成。在圖6中，將電子照相感光體1和帶電單元3、顯影單元5以及清潔單元7一體支撐而形成盒，制成使用電子照相裝置主體的導(dǎo)軌等引導(dǎo)裝置10相對(duì)于電子照相裝置主體可自由裝卸的處理盒9。
本發(fā)明的電子照相感光體不僅可以用于電子照相復(fù)印機(jī)，還可以廣泛用于激光光束打印機(jī)、CRT打印機(jī)、LED打印機(jī)、液晶打印機(jī)、激光制版等電子照相應(yīng)用領(lǐng)域。
以下，通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說明。但是，本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。
實(shí)施例以下，通過實(shí)施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。
按如下制造用于實(shí)施例1的電子照相感光體。首先，通過切削加工制造長370mm、外徑84mm、壁厚3mm的鋁筒(JIS A3003鋁的合金)。在旋轉(zhuǎn)軸方向測定該筒的表面粗糙度的結(jié)果為Rzjis＝0.08μm。在包含洗滌劑(商品名ケミコ一ルCT，常盤化學(xué)株式會(huì)社制造)的純水中對(duì)該筒進(jìn)行超聲波洗滌，接著在經(jīng)過沖洗洗滌劑的工序后，進(jìn)一步在純水中進(jìn)行超聲波洗滌進(jìn)行脫脂處理。
使用球磨機(jī)，將60重量份的具有銻摻雜氧化錫涂膜的氧化鈦粉末(商品名クロノスECT-62，チタン工業(yè)株式會(huì)社制造)、60重量份的氧化鈦粉末(商品名titone SR-1T，堺化學(xué)株式會(huì)社制造)、70重量份的甲階酚醛型酚醛樹脂(商品名フエノライトJ-325，大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造，固體成分70％)、50重量份的2-甲氧基-1-丙醇、50重量份的甲醇所組成的溶液分散約20小時(shí)。該分散液中所含有的填充劑的平均粒徑為0.25μm。
通過浸漬法，將這樣制備的分散液涂布到上述鋁筒上，通過在調(diào)整到150℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中加熱干燥48分鐘，使之固化而形成膜厚15μm的導(dǎo)電層。
接著，將在500重量份甲醇和250重量份丁醇的混合液中溶解10重量份的共聚尼龍樹脂(商品名アミランCM8000，東レ株式會(huì)社制造)和30重量份的甲氧基甲基化尼龍樹脂(商品名トレヅンEF30T，帝國化學(xué)產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制造)得到的溶液浸涂到上述導(dǎo)電層上，放入調(diào)整到100℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中加熱干燥22分鐘，形成膜厚0.45μm的底涂層。
接著，對(duì)由4重量份在CuKα射線衍射光譜的布拉格角2θ±0.2°為7.4°和28.2°處有強(qiáng)峰的羥基酞菁鎵染料、2重量份的聚乙烯醇縮丁醛樹脂(商品名エスレツクBX-1，積水化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)、90重量份的環(huán)己酮組成的混合液，使用直徑1mm的玻璃珠以砂磨使之分散10小時(shí)，然后加入110重量份的乙酸乙酯而制備電荷產(chǎn)生層用涂布液。將該涂布液浸涂到上述的底涂層上，放入調(diào)整至80℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中加熱干燥22分鐘，形成膜厚為0.17μm的電荷產(chǎn)生層。
接著，將35重量份下述結(jié)構(gòu)式(11)所示的三芳基胺類化合物以及50重量份雙酚Z型聚碳酸酯樹脂(商品名ユ一ピロンZ400、三菱工程塑料株式會(huì)社制造)溶解于320重量份單氯苯和50重量份的二甲氧基甲烷中，制備第一電解輸送層用涂布液。
將該第一電荷傳輸層用涂布液浸涂到上述電荷產(chǎn)生層上，放入調(diào)整至100℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中加熱干燥40分鐘，形成膜厚為20μm的第一電荷傳輸層。
接著，將30重量份下述結(jié)構(gòu)式(12)所示的具有聚合性官能團(tuán)的空穴傳輸性化合物溶解于35重量份1-丙醇和35重量份1，1，2，2，3，3，4-七氟環(huán)戊烷(商品名ゼオロ一ラH，日本ゼオン株式會(huì)社制造)中，然后通過PTFE制的0.5μm膜過濾器進(jìn)行加壓過濾，從而制備第二電荷傳輸層用涂布液。通過浸涂法將該涂布液涂布到上述電荷傳輸層上形成固化性的第二電荷傳輸層。然后，在氮?dú)庵?，以加速電?50kV、射線量1.5×104Gy的條件照射電子射線。接著，在電子照相感光體的溫度達(dá)到120℃的條件下進(jìn)行90秒的加熱處理。這時(shí)的氧氣濃度為10ppm。再將電子照相感光體在空氣中在調(diào)整至100℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中進(jìn)行20分鐘的加熱處理，從而形成膜厚為6μm的固化性的第二電荷傳輸層。
接著，對(duì)所得到的電子照相感光體表面進(jìn)行表面粗糙化處理。使用圖2所示的干式噴砂裝置(不二精機(jī)制造所制造)，在下述條件下進(jìn)行噴砂處理。
使用的研磨材料磨粒為球狀玻璃珠、平均粒徑30μm(商品名UB-01L，ユニオン株式會(huì)社制造)。吹氣壓力3.5kgf/cm2，噴槍移動(dòng)速度430mm/min，工件(電子照相感光體)旋轉(zhuǎn)速度288rpm，噴槍噴射口與電子照相感光體的距離100mm，磨粒噴射角度90°，磨粒供給量200g/min，噴砂次數(shù)單程×2次，進(jìn)一步，通過噴射壓縮空氣除去殘留附著在電子照相感光體的表面上的研磨材料。
該電子照相感光體的表面層的表面形狀的測定是使用(株)小坂研究所制造的サ一フコ一ダ一SE3500型表面粗糙度測定器進(jìn)行的。Rzjis和RSm的電子照相感光體圓周方向的測定是使用上述裝置用的圓周粗糙度測定裝置進(jìn)行的。以測定長度0.4mm、測定速度0.1mm/s作為測定條件進(jìn)行測定。測定RSm時(shí)的消除噪音的基線水平設(shè)定值是以水平設(shè)定＝10％的條件進(jìn)行測定的。
所得到的電子照相感光體的十點(diǎn)平均粗糙度Rzjis(A)、Rzjis(B)、凹凸的平均間隔RSm(C)、RSm(D)分別為0.55μm、0.60μm、42μm、43μm。
另外，最大峰高Rp為0.2μm，最大谷深Rv/最大峰高Rp為2.02。
另外，該電子照相感光體的表面層的每100μm見方的淺凹形狀的凹部的個(gè)數(shù)、淺凹形狀的凹部的面積比率、淺凹形狀的凹部的平均長徑比是使用上述記載的表面形狀測定系統(tǒng)(SurfaceExplorer SX-520DR型，菱化システム制造)進(jìn)行測定和計(jì)算的。
結(jié)果是，每100μm見方的淺凹形狀的凹部的個(gè)數(shù)、淺凹形狀的凹部的面積比率、淺凹形狀的凹部的平均長徑比分別是15、12.2、0.68。
進(jìn)一步，進(jìn)行該電子照相感光體的匹配率的測定。在該測定中，由于是以SEM拍攝第一電荷傳輸/第二電荷傳輸層的截面照片來進(jìn)行實(shí)際測量，因而必須破壞電子照相感光體。因此，再準(zhǔn)備一個(gè)在與上述條件相同的條件下制造的電子照相感光體，并將其作為匹配率測定用樣品。
首先，在電子照相感光體的面內(nèi)，在9個(gè)部位任意切取邊長約5mm左右的樣品。在其中，通過SEM觀察1個(gè)樣品的截面，從其中任意選擇3個(gè)淺凹形狀的凹部部分，在各個(gè)點(diǎn)上，測定第二電荷輸送層的淺凹形狀的凹部的Rv11max(最大谷深)、L11(直徑)、以及在與該凹陷相應(yīng)的部分的第一電荷傳輸層與第二電荷傳輸層的界面形成的淺凹形狀的凹部的Rv12max(最大谷深)、L12(直徑)。該操作是對(duì)總計(jì)27個(gè)點(diǎn)的淺凹形狀的凹部進(jìn)行的，并通過取其平均值的處理，計(jì)算匹配率，結(jié)果為80％。表1給出其結(jié)果。
接著，在溫度23℃、濕度50％的環(huán)境下將電子照相感光體放置24小時(shí)，作為硬度試驗(yàn)用，然后使用上述記載的顯微硬度測定裝置Fischer scope H100V(Fischer公司制造)，求出彈性變形率。
彈性變形率是通過對(duì)壓頭連續(xù)施加負(fù)荷，直接讀取負(fù)荷下的壓入深度求得連續(xù)硬度。作為壓頭，可以使用相對(duì)面夾角為136°的維氏正方錐金剛石壓頭。具體來說，階段性(各個(gè)點(diǎn)0.1秒的保持時(shí)間，273個(gè)點(diǎn))地測量直至最終負(fù)荷為6mN。
彈性變形率的測定包括作為表面層的第二電荷傳輸層表面、作為表面下層的第一電荷傳輸層表面的2種測定。
第二電荷傳輸層表面的測定是在第二電荷傳輸層的噴砂處理之后對(duì)第二電荷傳輸層表面壓入壓頭，進(jìn)行測定。
第一電荷傳輸層表面的測定是與上述方法同樣地制作形成了第一電荷傳輸層、但是不帶第二電荷傳輸層的電子照相感光體，對(duì)該第一電荷傳輸層的表面壓入壓頭，進(jìn)行測定。
其測定結(jié)果如表1、表2所示。
對(duì)于電子照相復(fù)印機(jī)(商品名iR C6800，佳能株式會(huì)社制造)，將其改造成能夠安裝帶負(fù)電的有機(jī)電子照相感光體、并且在清潔性和顯影性等方面不會(huì)產(chǎn)生問題，作成能夠連續(xù)輸出所希望的圖象的裝置，從而進(jìn)行本實(shí)施例的電子照相感光體的耐久性試驗(yàn)評(píng)價(jià)。
首先，在23℃/5％RH的環(huán)境下，使用A4測試圖象全彩色，每2張間歇一次，進(jìn)行50000張的耐久性測試，測定每10000張鼓面內(nèi)的最大損傷深度，測定鼓的削減量，以及通過輸出中間色調(diào)圖像等測試圖像來觀察圖像上的不良。
最大損傷深度的測定中使用上述記載的(株)小坂研究所制造的サ一フコ一ダ一SE3500型表面粗糙度測定器，并且在與上述相同的設(shè)定條件下進(jìn)行。測定方法使用如下方法通過目視確定損傷較深的部位，測定損傷內(nèi)的多個(gè)部位，取最大的值。
電子照相感光體的削減量的測定是通過在耐久使用時(shí)的膜厚的減少來測定的。電子照相感光體的膜厚的測定是聯(lián)合使用渦電流方式的膜厚測定機(jī)パ一マスコ一プE111型(Fischer公司制造)和利用瞬間多點(diǎn)測定系統(tǒng)MCPD-3000的干涉式膜厚儀(大琢電子制造)進(jìn)行的。
測定每10000張?jiān)谀途檬褂弥械碾娮诱障喔泄怏w上所產(chǎn)生的最大損傷深度，確認(rèn)該損傷成長狀況，在20000張左右時(shí)其深度傾向于達(dá)到飽和狀態(tài)，50000張耐久結(jié)束時(shí)的損傷深度與20000張時(shí)相同。
這時(shí)的值是Rmax為1.1μm。
另一方面，在50000張時(shí)的削減量為1.2μm。
如上所述，鼓的壽命可以以損傷達(dá)到感光層時(shí)的張數(shù)計(jì)算，損傷的壽命可預(yù)測為306000張。
在50000張耐久使用之后，繼續(xù)進(jìn)行耐久性測試，直至電子照相感光體的損傷在中間色調(diào)圖象上表現(xiàn)為缺陷，持續(xù)耐久的結(jié)果是，在305000張時(shí)，產(chǎn)生圖象缺陷，從而確認(rèn)該電子照相感光體的壽命。
即，可以確認(rèn)本實(shí)施例的電子照相感光體與當(dāng)初預(yù)想的壽命張數(shù)幾乎相等。
在上述實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，除了將第二電荷傳輸層的膜厚設(shè)為10μm之外，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的涂布、固化。接著，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體在放入電子照相裝置中時(shí)不會(huì)對(duì)清潔產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。

在上述實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，除了將第二電荷傳輸層的膜厚設(shè)為15μm之外，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的涂布、固化。接著，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在上述實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，除了將第二電荷傳輸層的膜厚設(shè)為4μm之外，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的涂布、固化。接著，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在上述實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。接著，按照如下方法制造第二電荷傳輸層。
將0.15重量份作為分散劑的含氟樹脂(商品名GF-300，東亞合成株式會(huì)社制造)溶解于35重量份的1，1，2，2，3，3，4-七氟環(huán)戊烷(商品名ゼオロ一ラH，日本ゼオン株式會(huì)社制造)和35重量份的1-丙醇中，然后加入3重量份作為潤滑劑的四氟乙烯樹脂粉末(商品名ルブロン L-2，ダイキン工業(yè)株式會(huì)社制造)，使用高壓分散機(jī)(商品名マイクロフルイダイザ一M-110EH，美國Microfluidics公司制造)在600kgf/cm2的壓力下進(jìn)行3次處理使其分散均勻。使用10μm的PTFE膜過濾器對(duì)其進(jìn)行加壓過濾制備潤滑劑分散液。然后，在潤滑劑分散液中加入27重量份上式(12)所示的空穴傳輸性化合物，通過PTFE制的5μm膜過濾器進(jìn)行加壓過濾，制備第二電荷傳輸層用涂布液。使用該涂布液通過浸涂法在上述第一電荷傳輸層上涂布第二電荷傳輸層。
然后，經(jīng)過與實(shí)施例1同樣的電子射線照射、以及加熱處理工序，形成膜厚為6μm的第二電荷傳輸層，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在上述實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。接著，按照如下方法制造第二電荷傳輸層。
將0.45重量份作為分散劑的含氟樹脂(商品名GF-300，東亞合成株式會(huì)社制造)溶解于35重量份的1，1，2，2，3，3，4-七氟環(huán)戊烷(商品名ゼオロ一ラH， 日本ゼオン株式會(huì)社制造)和35重量份的1-丙醇中，然后加入9重量份作為潤滑劑的四氟乙烯樹脂粉末(商品名ルブロン L-2，ダイキン工業(yè)株式會(huì)社制造)，使用高壓分散機(jī)(商品名マイクロフルイダイザ一M-110EH，美國Microfluidics公司制造)在600kgf/cm2的壓力下進(jìn)行3次處理使其分散均勻。使用10μm的PTFE膜過濾器對(duì)其進(jìn)行加壓過濾制備潤滑劑分散液。然后，在潤滑劑分散液中加入27重量份上式(12)所示的空穴傳輸性化合物，通過PTFE制的5μm膜過濾器進(jìn)行加壓過濾，制備保護(hù)層用的涂布液。使用該涂布液通過浸涂法在上述第一電荷傳輸層上涂布第二電荷傳輸層。
然后，經(jīng)過與實(shí)施例1同樣的電子射線照射、以及加熱處理工序，形成膜厚為6μm的固化型表面層，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。
除了將實(shí)施例1中的式(12)所示的化合物替換為下式(13)所示的空穴傳輸性化合物之外，相同量使用與實(shí)施例5相同的四氟乙烯樹脂分散液，與實(shí)施例6同樣地制造電子照相感光體，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。結(jié)果如表1、表2所示。
[實(shí)施例8]在實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。接著，作為第一電荷傳輸層，將36重量份上述實(shí)施例1中所使用的結(jié)構(gòu)式(11)所示的三芳基胺類化合物和4重量份下述結(jié)構(gòu)式(14)所示的三芳基胺類化合物、50重量份的雙酚Z型和雙酚C型以1/1共聚而成的聚芳酯樹脂(重均分子量130000)溶解于350重量份的單氯苯和50重量份的二甲氧基甲烷中，制得第一電荷傳輸層用涂布液。將其浸涂到上述電荷產(chǎn)生層上，放入調(diào)整到110℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中加熱干燥60分鐘，形成膜厚20μm的第一電荷傳輸層。
與實(shí)施例6同樣地在該表面上形成第二電荷傳輸層，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在實(shí)施例1中，形成第一電荷傳輸層之后，在將10重量份的雙酚Z型聚碳酸酯樹脂(商品名ユ一ピロンZ200、三菱工程塑料株式會(huì)社制造)溶解于100重量份的單氯苯和60重量份的二氯甲烷的混合溶劑中而制成的溶液中，混合、分散1重量份的疏水性二氧化硅顆粒，制成涂布液，使用噴涂機(jī)將該涂布液涂布液到上述第一電荷傳輸層上，形成干燥后的膜厚為1.0μm的第二電荷傳輸層。
進(jìn)一步，在該表面上，作為第三電荷傳輸層，制作與實(shí)施例6相同的成為表面層的固化性的電荷傳輸層，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
到電荷產(chǎn)生層為止與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行制造。
接著，將0.68重量份作為分散劑的含氟樹脂(商品名サ一フロンS-381，セイミケミカル株式會(huì)社制造)溶解于35重量份的甲醇和35重量份的乙醇中，然后加入6重量份作為潤滑劑的四氟乙烯樹脂粉末(ルブロン L-2)，使用高壓分散機(jī)(商品名マイクロフルイダイザ一M-110EH，美國Microfluidics公司制造)在600kgf/cm2的壓力下進(jìn)行3次處理使其分散均勻。使用10μm的PTFE膜過濾器對(duì)其進(jìn)行加壓過濾制備潤滑劑分散液。對(duì)該液體混合21.2重量份的甲階酚醛型酚醛樹脂清漆(商品名PL-4852，群榮化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造，不揮發(fā)性成分75％)以及11.1重量份具有下式(16)所示的結(jié)構(gòu)的電荷傳輸性化合物、攪拌使其溶解。通過PTFE制的5μm膜過濾器對(duì)該液體進(jìn)行加壓過濾，制備第一電荷傳輸層用涂布液。
將該涂布液浸涂到電荷產(chǎn)生層上，在調(diào)整到145℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中進(jìn)行1小時(shí)的加熱固化處理，形成膜厚為20μm的第一電荷傳輸層。
在這樣制成的第一電荷傳輸層上，與實(shí)施例6同樣地制作第二電荷傳輸層，進(jìn)行與實(shí)施例1同樣的涂布、固化，對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。
接著，對(duì)使用27重量份上式(12)所示的空穴傳輸性化合物的實(shí)施例6的涂料，加入3重量份的下述結(jié)構(gòu)式(17)的光聚合引發(fā)劑而制備第二電荷傳輸層用涂料。將該涂料浸涂到上述第一電荷傳輸層上，使用金屬鹵化物燈以500mW/cm2的光強(qiáng)度照射60秒鐘使其固化，在空氣中在調(diào)整至120℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中對(duì)電子照相感光體進(jìn)行60分鐘的加熱處理，形成膜厚為6μm的第二電荷傳輸層。對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并對(duì)電子照相感光體進(jìn)行表面粗糙化處理。將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
[實(shí)施例12]到電荷產(chǎn)生層為止與實(shí)施例1同樣進(jìn)行制造。
接著，使用7重量份具有下式(18)所示的結(jié)構(gòu)的含氟化合物(商品名LS-1090，信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)對(duì)100重量份的銻摻雜氧化錫顆粒(商品名T-1，三菱マテリアル株式會(huì)社制造，平均粒徑0.02μm)進(jìn)行表面處理(在下文中，記為處理量7％)。
使用砂磨裝置將50重量份經(jīng)該表面處理后的銻摻雜氧化錫顆粒、以及150重量份的乙醇分散60小時(shí)，再加入20重量份的四氟乙烯樹脂顆粒(ルブロンL-2)，再利用砂磨裝置分散8小時(shí)。
然后，溶解30重量份的甲階酚醛樹脂型酚醛樹脂清漆(商品名PL-4802，群榮化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)，制備表面層用的涂布液。涂布液的分散狀態(tài)良好。
將該表面層用的涂布液浸涂到電荷傳輸層上，在調(diào)整至145℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中進(jìn)行1小時(shí)的加熱固化處理，形成膜厚為6μm的表面層。
按照與實(shí)施例1相同的干式噴砂處理，對(duì)這樣得到的電子照相感光體的表面層進(jìn)行表面粗糙化處理。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。
接著，作為第二電荷傳輸層，將5重量份上述實(shí)施例1所使用的結(jié)構(gòu)式(11)所示的三芳基胺類化合物、以及4重量份上述實(shí)施例8所使用的結(jié)構(gòu)式(14)所示的三芳基胺類化合物和8重量份的結(jié)構(gòu)式(15)所示的共聚型聚芳酯樹脂(共聚比m∶n＝7∶3，重均分子量130000)溶解于240重量份的單氯苯和160重量份的二甲氧基甲烷中，制成保護(hù)層用涂布液。將其噴涂到電荷傳輸層上，放入調(diào)整至110℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中加熱干燥60分鐘，形成膜厚為6μm的第二電荷傳輸層。
對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理。將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。
接著，將10重量份實(shí)施例10所使用的結(jié)構(gòu)式(16)所示的電荷傳輸性化合物、以及20重量份具有下式(19)所示結(jié)構(gòu)的縮二脲改性體的溶液(固體成分67重量％)溶解于350重量份四氫呋喃和150重量份環(huán)己酮的混合溶劑中，制備第二電荷傳輸層用的涂布液。
將該成為表面層的第二電荷傳輸層用的涂布液噴涂到第一電荷傳輸層上，在室溫下放置30分鐘，然后在145℃下通過吹1小時(shí)的熱風(fēng)使其固化，形成膜厚為6μm的保護(hù)層。
對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔中不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理。將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。
使用下式(20)所表示的空穴傳輸性化合物代替實(shí)施例1的式(12)所示的化合物。另外，將0.3重量份的作為分散劑的含氟樹脂(商品名GF-300，東亞合成株式會(huì)社制造)溶解于35重量份的1，1，2，2，3，3，4-七氟環(huán)戊烷(商品名ゼオロ一ラH，日本ゼオン株式會(huì)社制造)和35重量份的1-丙醇中，然后加入6重量份的作為潤滑劑的四氟乙烯樹脂粉末(商品名ルブロン L-2，ダイキン株式會(huì)社制造)，使用高壓分散機(jī)(商品名マイクロフルイダイザ一M-110EH，美國Microfluidics公司制造)在600kgf/cm2的壓力下進(jìn)行3次處理使其分散均勻。使用10μm的PTFE膜過濾器對(duì)其進(jìn)行加壓過濾制備潤滑劑分散液。然后，在潤滑劑分散液中加入27重量份的上式(20)所示的空穴傳輸性化合物，通過PTFE制的5μm膜過濾器進(jìn)行加壓過濾，然后同量添加實(shí)施例11的式(17)的光聚合引發(fā)劑，制備第二電荷傳輸層用的涂布液。
將該涂布液浸涂到上述第一電荷傳輸層上，在與實(shí)施例11相同的光照射條件下使其固化，在與實(shí)施例10相同的條件下進(jìn)行熱風(fēng)干燥處理，形成膜厚為6μm的第二電荷傳輸層。對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理，制成電子照相感光體。將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
在上述實(shí)施例1的電子照相感光體的制造中，到第一電荷傳輸層為止都與實(shí)施例1同樣地制造。
將實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)式(12)的空穴傳輸性化合物改為下述結(jié)構(gòu)式(21)的空穴傳輸性化合物，使用該涂布液通過浸涂法在上述第一電荷傳輸層上涂布第二電荷傳輸層。然后，在氮?dú)庵校诩铀匐妷?50kV、射線量10Mrad的條件下照射電子射線。接著在電子照相感光體的溫度達(dá)到120℃的條件下進(jìn)行90秒鐘的加熱處理。這時(shí)的氧氣濃度為10ppm。然后，在空氣中在調(diào)整至100℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中對(duì)電子照相感光體進(jìn)行20分鐘的加熱處理，形成膜厚為6μm的第二電荷傳輸層。
對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理。將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
[實(shí)施例17]在實(shí)施例1中形成第一電荷傳輸層之后，將30重量份的上述結(jié)構(gòu)式(12)的空穴傳輸性化合物、10重量份的下述結(jié)構(gòu)式(22)的化合物溶于50重量份的單氯苯和50重量份的二氯甲烷的混合溶劑中，制備第二電荷傳輸層用涂布液。
將該涂布液涂布到上述第一電荷傳輸層上，然后使用與實(shí)施例1相同的方法，但在氮?dú)庵性诩铀匐妷?50kV、射線量10Mrad的條件下照射電子射線。接著，在電子照相感光體的溫度成為120℃的條件下進(jìn)行90秒鐘的加熱處理。這時(shí)的氧氣濃度為10ppm。然后，在空氣中在調(diào)整至100℃的熱風(fēng)干燥機(jī)中對(duì)電子照相感光體進(jìn)行20分鐘的加熱處理，形成膜厚為2μm的第二電荷傳輸層。
對(duì)與實(shí)施例1相同的表面粗糙化處理方法的條件進(jìn)行優(yōu)化，以使形成所得到的電子照相感光體放入與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中時(shí)對(duì)清潔不會(huì)產(chǎn)生問題的表面形狀，并進(jìn)行表面粗糙化處理。將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
[比較例1]針對(duì)上述實(shí)施例1所制造的電子照相感光體，涂布第二電荷傳輸層，在50℃下干燥15分鐘，然后在照射電子射線進(jìn)行固化之前，對(duì)實(shí)施例1的噴砂處理法的條件進(jìn)行優(yōu)化而進(jìn)行表面粗糙化處理，以使形成與實(shí)施例1的電子照相感光體的表面形狀相同的表面形狀。在完成表面粗糙化之后，在與實(shí)施例1相同的條件下，進(jìn)行電子射線照射、加熱，使第二電荷傳輸層固化，制成比較例1的電子照相感光體。
對(duì)該電子照相感光體進(jìn)行SEM截面照相觀察，結(jié)果第二電荷傳輸層形狀的凹凸在第一電荷傳輸層和第二電荷傳輸層之間的界面完全沒有形成，是平坦的、匹配率為0％。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
該電子照相感光體在清潔性能等方面，從初期到耐久后都沒有產(chǎn)生問題。但是，在長期耐久中，產(chǎn)生損傷圖像時(shí)的壽命張數(shù)不滿足預(yù)想的壽命張數(shù)。

針對(duì)上述實(shí)施例13所制造的電子照相感光體，涂布第二電荷傳輸層后，在50℃下干燥15分鐘，然后對(duì)與實(shí)施例13相同的表面粗糙化處理法的條件進(jìn)行優(yōu)化而進(jìn)行表面粗糙化處理，以使形成與實(shí)施例13相同的表面形狀。在完成表面粗糙化之后，在與實(shí)施例13相同的條件下，對(duì)第二電荷傳輸層進(jìn)行加熱干燥，制成電子照相感光體。
對(duì)該電子照相感光體進(jìn)行SEM截面照相觀察，結(jié)果第二電荷傳輸層形狀的凹凸在第一電荷傳輸層和第二電荷傳輸層之間的界面完全沒有形成，是平坦的、匹配率為0％。
將所制得的電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
該電子照相感光體在清潔性能等方面，從初期開始可以毫無問題地持續(xù)，并且削減量、損傷成長速度與實(shí)施例13相同。但是，在耐久中，產(chǎn)生損傷圖像時(shí)的壽命張數(shù)不滿足預(yù)想的壽命張數(shù)。
到第二電荷傳輸層的固化為止與上述實(shí)施例1相同。接著，按照如圖7所示的表面粗糙化方法，進(jìn)行表面粗糙化。
這是一種具有利用研磨片進(jìn)行表面粗糙化的結(jié)構(gòu)的表面粗糙化方法。研磨片是一種將研磨磨粒分散在粘合樹脂中而成的材料涂布到基材上的薄片。研磨片6-1卷在有空洞的軸6-a上，在軸6-a上配設(shè)有沿與傳送薄片的方向相反的方向?qū)ρ心テ?-1施加張力的未圖示的馬達(dá)。研磨片6-1沿著箭頭方向被傳送，借助引導(dǎo)輥6-2(1)、6-2(2)通過支撐輥6-3，研磨后的薄片借助引導(dǎo)輥6-2(3)、6-2(4)利用未圖示的馬達(dá)卷到卷取裝置3-5上。研磨是通過如下方式進(jìn)行的基本上未處理的研磨片總是與電子照相感光體的表面保持壓接，并對(duì)電子照相感光體的表面進(jìn)行表面粗糙化處理。研磨片6-1所接觸的部位是接地到地、或者具有導(dǎo)電性。
在以下所示的條件下進(jìn)行電子照相感光體的表面的粗糙化。
研磨片品名C-2000(富士フイルム株式會(huì)社制造)研磨磨粒SiC(平均粒徑9μm)基材聚酯薄膜(厚75μm)研磨片傳送速度200mm/秒電子照相感光體的轉(zhuǎn)速25rpm接觸壓力3N/m2薄片和電子照相感光體的旋轉(zhuǎn)方向相同方向(下文中，將相同方向稱為“相同”，將相反方向稱為“相反”)支撐輥的外徑直徑40cm支撐輥的Asker(アスカ一)C硬度40處理時(shí)間150秒通過該表面粗糙化處理，測定電子照相感光體的表面的槽的密度、槽寬度和表面粗糙度，結(jié)果是槽密度為420、槽寬度為10.4μm以下、Rz為0.62μm，Rmax為0.83μm。
進(jìn)行該電子照相感光體的SEM截面照相觀察，結(jié)果第二電荷傳輸層形狀的凹凸在第一電荷傳輸層和第二電荷傳輸層之間的界面完全沒有形成，是平坦的。匹配率根據(jù)計(jì)算定義是不能求得的，但匹配率為0％。
將該電子照相感光體安裝到實(shí)施例1所使用的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
該電子照相感光體在清潔性等方面，在達(dá)到壽命張數(shù)之前，產(chǎn)生輕微的清潔不良，最終，在產(chǎn)生損失圖像時(shí)的壽命張數(shù)不滿足預(yù)想的壽命張數(shù)。
針對(duì)上述實(shí)施例1所制造的電子照相感光體，在不對(duì)表面層實(shí)施噴砂處理的條件下測定表面形狀等，將其安裝到實(shí)施例1所使用的電子照相裝置中進(jìn)行同樣的評(píng)價(jià)。結(jié)果如表1、表2所示。
在該電子照相感光體表面上，并未形成淺凹形狀的凹部，表面平坦。
將該電子照相感光體安裝到實(shí)施例1所使用的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1所示。
該電子照相感光體的耐久張數(shù)為100張，發(fā)生清潔不良，不能持續(xù)的耐久。
針對(duì)上述實(shí)施例1所制造的電子照相感光體，在涂布第一電荷傳輸層之后，對(duì)實(shí)施例1的噴砂處理法進(jìn)行優(yōu)化而對(duì)第一電荷傳輸層表面進(jìn)行表面粗糙化處理，以使形成與實(shí)施例1的電子照相感光體的表面層的表面形狀相同的表面形狀。在完成表面粗糙化處理之后，與實(shí)施例1同樣地涂布第二電荷傳輸層，進(jìn)行電子射線照射、加熱，固化第二電荷傳輸層，制成比較例5的電子照相感光體。
對(duì)該電子照相感光體進(jìn)行SEM截面照相觀察，結(jié)果第二電荷傳輸層形狀與第一電荷傳輸層和第二電荷傳輸層之間的界面相比，凹凸非常小、幾乎是平坦的，匹配率為5％。
將該電子照相感光體安裝到與實(shí)施例1相同的電子照相裝置中，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果如表1、表2所示。
該電子照相感光體的耐久張數(shù)為3000張，發(fā)生清潔不良，不能持續(xù)耐久。
表1

表1(續(xù))

表2

本申請(qǐng)要求享受于2004年3月26日提交的日本專利申請(qǐng)第2004-092099號(hào)、于2004年4月27日提交的日本專利申請(qǐng)第2004-131660號(hào)和于2004年10月22日提交的日本專利申請(qǐng)第2004-308308號(hào)的優(yōu)先權(quán)，并引用其內(nèi)容作為本申請(qǐng)的一部分。
權(quán)利要求
1.一種電子照相感光體，其具有支撐體和設(shè)置在該支撐體上的有機(jī)感光層，其特征在于，在該電子照相感光體的表面層的表面形成有多個(gè)淺凹形狀的凹部，并在該表面層和與該表面層緊鄰的下一層之間的界面形成有多個(gè)與形成在該表面層的表面的淺凹形狀的凹部相對(duì)應(yīng)的凹部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中，在所述表面層的表面形成的淺凹形狀的凹部與在所述表面層和所述與表面層緊鄰的下一層之間的界面形成的凹部的匹配率為50～100％。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，在所述表面層的表面形成的淺凹形狀的凹部與在所述表面層和所述與表面層緊鄰的下一層之間的界面形成的凹部的匹配率為70～100％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的彈性變形率為46％以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的彈性變形率為50％以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的彈性變形率為63％以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的表面的通用硬度值(HU)為150～230N/mm2以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述與表面層緊鄰的下一層的表面的彈性變形率為45％以下、通用硬度值(HU)為230N/mm2以下。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的膜厚為10μm以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子照相感光體，其中，所述表面層的膜厚為6μm以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是固化層。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是含有選自丙烯酸樹脂、酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂和聚氨酯樹脂所組成的組中的至少1種固化性樹脂的固化層。
13.根據(jù)權(quán)利要求1～12中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層含有通過使同一分子內(nèi)具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而得到的固化物。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子照相感光體，其中，所述固化物是通過加熱或照射放射線而使所述同一分子內(nèi)具有2個(gè)以上鏈?zhǔn)骄酆闲怨倌軋F(tuán)的空穴傳輸性化合物進(jìn)行固化聚合而得到的固化物。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的電子照相感光體，其中，所述放射線為電子射線。
16.根據(jù)權(quán)利要求1～15中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是通過涂布而形成的層。
17.根據(jù)權(quán)利要求1～16中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述表面層是通過浸涂而形成的層。
18.根據(jù)權(quán)利要求1～17中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述感光層是從所述支撐體一側(cè)層疊電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層而形成的層疊型感光層，所述表面層為該電荷傳輸層，所述與表面層緊鄰的下一層為該電荷產(chǎn)生層。
19.根據(jù)權(quán)利要求1～17中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述感光層是從所述支撐體一側(cè)層疊電荷產(chǎn)生層、第一電荷傳輸層和第二電荷傳輸層而形成的層疊型感光層，所述表面層為該第二電荷傳輸層，所述與表面層緊鄰的下一層為該第一電荷傳輸層。
20.根據(jù)權(quán)利要求1～17中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體，其中，所述電子照相感光體還具有設(shè)置在所述感光層上的保護(hù)層，所述感光層是從所述支撐體一側(cè)層疊電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層而形成的層疊型感光層，所述表面層為該保護(hù)層，所述與表面層緊鄰的下一層為該電荷傳輸層。
21.一種權(quán)利要求1～22中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體的制造方法，其特征在于，包括如下工序表面層形成工序在所述與表面層緊鄰的下一層的緊鄰上方形成所述表面層；凹部形成工序通過對(duì)由該表面層形成工序所形成的所述表面層的表面進(jìn)行干式噴砂處理或者濕式珩磨處理，從而在所述表面層的表面形成多個(gè)淺凹形狀的凹部，以及在所述表面層和所述與表面層緊鄰的下一層之間的界面形成多個(gè)與該淺凹形狀的凹部相對(duì)應(yīng)的凹部。
22.一種處理盒，其特征在于，是將權(quán)利要求1～20中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體或通過權(quán)利要求21所述的制造方法制造的電子照相感光體和選自帶電單元、顯影單元和清潔單元中的至少1種單元一體支撐的處理盒，且該處理盒相對(duì)于電子照相裝置主體可自由裝卸。
23.一種電子照相裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求1～20中任意一項(xiàng)所述的電子照相感光體或通過權(quán)利要求21所述的制造方法制造的電子照相感光體、以及帶電單元、曝光單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于對(duì)為了抑制由電子照相感光體的表面的表面層和與其抵接的裝置之間的摩擦力大所導(dǎo)致的清潔刮板的震顫、卷起或者邊緣部分缺損而在表面層表面制作了規(guī)定形狀的淺凹形狀的凹部時(shí)所出現(xiàn)的、由損傷導(dǎo)致的耐久壽命的壽命縮短現(xiàn)象進(jìn)行改善，尤其在于從初期到多張印刷為止穩(wěn)定地改善為了實(shí)現(xiàn)電子照相感光體的高耐久性而使用改良表面層的強(qiáng)度并將具有高彈性變形率的改良的固化性樹脂等用于表面層的電子照相感光體時(shí)變得特別顯著的上述問題。上述目的可以通過使用如下電子照相感光體來解決，該電子照相感光體具備支撐體和有機(jī)感光層，其特征在于，在該電子照相感光體的表面層的表面形成有淺凹形狀的凹部，進(jìn)而在由該有機(jī)感光體的表面層和與其緊鄰的下一層(表面下層)形成的界面也形成有與該表面層表面相同圖案的凹部。
文檔編號(hào)G03G5/147GK1938648SQ20058000979
公開日2007年3月28日 申請(qǐng)日期2005年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月26日
發(fā)明者雨宮升司, 中田浩一, 池末龍?jiān)? 滿居隆浩, 島田明, 植松弘規(guī), 石井周二, 丸山晶夫 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社