專利名稱：面發(fā)光體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及以有機場致發(fā)光元件(organic electroluminescence element)為代表的被用于各種顯示器、顯示元件、液晶用背光源及照明等的面發(fā)光體，以及該面發(fā)光體用的透明性基板。
背景技術(shù)：
有機場致發(fā)光元件是近年來隨著平板顯示器的需求的增加而新近倍受矚目的元件。有機場致發(fā)光元件與以往作為平板顯示器被廣泛使用的液晶元件相比具有以下優(yōu)點。即，該元件為自發(fā)光元件，所以視角依賴性較小，耗電量較少，可形成為極薄的元件。但是，要用作為平板顯示器還有許多待解決的問題。問題之一是元件的發(fā)光壽命短。如果壽命短，則平板顯示器長時間顯示靜止畫面時，會有亮燈像素和非亮燈像素之間產(chǎn)生亮度差而見到殘留圖像的拖尾現(xiàn)象。與發(fā)光壽命相關(guān)的因素有很多，已知如果為提高發(fā)光亮度而對元件施加高電壓，則壽命會變得更短。但是，使用有機場致發(fā)光元件的顯示器的發(fā)光亮度在施加低電壓的狀態(tài)下無法令人滿意，為了確保白天在室外的顯示器的可視性，必須對元件施加高電壓以提高發(fā)光亮度。因此，有機場致發(fā)光元件陷入了兩難的境地，若要延長壽命就勢必減弱其發(fā)光亮度，而若要提高可視性壽命就會縮短。
為了解決這個問題，對有機場致發(fā)光元件的發(fā)光層材料進行了大力改進。即，為了以較低的施加電壓來實現(xiàn)高發(fā)光亮度，開發(fā)了內(nèi)量子效率高的發(fā)光層材料。
此外，為了提高有機場致發(fā)光元件的發(fā)光效率，除了要使內(nèi)量子效率提高之外，還必須提高光輸出效率。
光輸出效率是指相對于元件發(fā)出的光從元件的透明性基板正面射入大氣中的光的比例。即，發(fā)光層發(fā)出的光要射入大氣中，必須通過數(shù)個折射率不同的介質(zhì)的界面，按照斯內(nèi)爾折射定律，在各界面以臨界角以上的角度入射的光在界面被全反射，導(dǎo)入層中而消失或者從層側(cè)面射出，從元件正面的出射光所減少的正是這部分的光。
因此，提高光輸出效率是重要的課題，進行了各種嘗試。揭示有以下的技術(shù)在透明電極或發(fā)光層形成晶粒邊界，使可見光散射的技術(shù)(參照專利文獻1)；作為透明性基板使用一個表面經(jīng)過粗面化處理的玻璃基板，使發(fā)出的光散射的技術(shù)(參照專利文獻2)；以及在電極和有機層的界面附近設(shè)置散射區(qū)域的技術(shù)(參照專利文獻3)。但是，這些嘗試都可能會引發(fā)元件各層的膜厚的混亂，導(dǎo)致絕緣被破壞及元件發(fā)光的不均一性，因此不能滿足元件的量產(chǎn)化。
另外，一般認為通過在透明性基材和透明電極的界面形成折射率小于透明性基材的層，可提高光輸出效率。該層的折射率比透明性基材的折射率小例如0.01～0.5，較好是0.05～0.3。層本身的折射率通常為1.2～1.4，較好為1.2～1.35，更好為1.25～1.3。具體揭示有以下的技術(shù)在具有折射率低的表面層(二氧化硅氣溶膠)的透明性基材上形成發(fā)光體，使透明性基材中的光導(dǎo)損失減少的技術(shù)(參照專利文獻4)；在具備由使用了中空微粒、氣溶膠微粒、二氧化硅多孔質(zhì)體的復(fù)合薄膜而得的折射率低的層的透明性基材上形成發(fā)光體，使透明性基材中的光導(dǎo)損失減少的技術(shù)(參照專利文獻5)。
因此，通過在折射率低的薄膜上形成薄膜發(fā)光體，使其光輸出效率提高。厚度小于光的波長的發(fā)光體中，由于其發(fā)光層內(nèi)的波導(dǎo)受到限制，因此可出射到發(fā)光層的表面的光的量增加。
但是，使用具有折射率低的表面層的透明性基材的情況下，在透明電極的厚度為150nm時，不能夠忽視透過透明電極的影響，雖然玻璃和折射率低的表面層之間的全反射的光的量有所減少，但折射率低的表面層和透明電極之間的從發(fā)光體射出的光中全反射的光的量增加，因此無法期待獲得較大幅度的光輸出效率的提高。
專利文獻1日本專利特開昭59-005595號公報(權(quán)利要求書)專利文獻2日本專利特開昭61-156691號公報(權(quán)利要求書)專利文獻3日本專利特開平09-129375號公報(權(quán)利要求書)專利文獻4日本專利特開2001-202827號公報(權(quán)利要求書)專利文獻5日本專利特開2003-216061號公報(權(quán)利要求書)
發(fā)明的揭示因此，與上述現(xiàn)有技術(shù)相比，不論透明性基材的種類，通過在該基材的表面形成薄膜，都能夠期待使發(fā)光效率提高的效果，最好的是可以獲得能以低成本且簡便地形成的薄膜。
本發(fā)明是基于上述背景技術(shù)完成的發(fā)明，其目的是提供能夠提高以有機場致發(fā)光元件為代表的被用于各種顯示器、顯示元件、液晶用背光源及照明等的面發(fā)光體的光輸出效率的面發(fā)光體用透明性基板，還提供因為使用了該基板而使發(fā)光效率有所提高的面發(fā)光體。
本發(fā)明是在透明性基材上形成有含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜(光輸出膜)的透明性基板，發(fā)現(xiàn)在復(fù)合薄膜的折射率高于透明性基材的折射率的區(qū)域中，通過復(fù)合薄膜的表面及膜內(nèi)部的有效的散射，可以實現(xiàn)上述目的。
本發(fā)明的形態(tài)1涉及面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，該基板是在透明性基材的表面上形成有含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的透明性基板，其中，復(fù)合薄膜的折射率高于透明性基材的折射率，復(fù)合薄膜內(nèi)所含的微粒和粘合劑的折射率之差在0.1以上，復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值為0.01～0.5。
這里，復(fù)合薄膜表面的散射是利用膜表面的凹凸在空氣和復(fù)合薄膜間引起的，這是因為空氣和復(fù)合薄膜的折射率存在差異而導(dǎo)致的現(xiàn)象。為了獲得表面的散射效果，對于微粒和粘合劑的混合比例，最好復(fù)合薄膜中的微粒的比例較大，因此，以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料(用于形成含微粒及粘合劑形成材料的復(fù)合薄膜的材料)的固體成分中所含的微粒的比例(質(zhì)量比)較好為0.2～0.5左右。另一方面，為了實現(xiàn)內(nèi)部的散射，較好的是粒子和粒子的間隔足夠、該間隔以粘合劑填充的狀態(tài)，因此，以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例(質(zhì)量比)較好為0.01～0.2左右。
本發(fā)明的形態(tài)1的優(yōu)選形態(tài)如下所述。
前述微粒為金屬氧化物微?；蛴袡C聚合物微粒。
前述微粒為金屬氧化物微粒時，較好是選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁、氧化銦及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物微粒。
作為前述微粒，特好為二氧化硅微粒。前述二氧化硅微粒的平均粒徑較好為10～1000nm。該平均粒徑較好為80nm以上，更好為200nm以上。
其原因在于，為大幅提高光輸出效率，必須實現(xiàn)復(fù)合薄膜的表面及膜內(nèi)部的散射。為了實現(xiàn)復(fù)合薄膜的表面的散射，微粒的粒徑較好為80nm以上。該散射效果隨著粒子的增大而增大。另外，為實現(xiàn)復(fù)合薄膜內(nèi)部的散射，粒徑最好在約200nm以上。
前述粘合劑為金屬氧化物或有機聚合物。
前述粘合劑為金屬氧化物時，較好是選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物。
這里，為了實現(xiàn)復(fù)合薄膜內(nèi)的微粒和粘合劑間的散射，微粒和粘合劑的折射率必須不同。但兩者只要存在折射率差即可，不論哪一方較大較小都可以。
本發(fā)明的形態(tài)1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，通過在透明性基材的表面形成由含微粒和粘合劑且它們的折射率差在0.1以上的涂敷材料得到的復(fù)合薄膜，可提高光輸出效率。光通過復(fù)合薄膜時，在膜表面及膜內(nèi)部被散射。在該面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的復(fù)合薄膜上設(shè)置發(fā)光元件時，由于該效果，光在發(fā)光元件內(nèi)的波導(dǎo)減少，通過復(fù)合薄膜的光從透明性基材射出至外部(大氣)的輸出效率提高。
本發(fā)明的形態(tài)1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，形成復(fù)合薄膜的微粒的折射率為1.38且粘合劑的折射率為1.60及1.82情況下，以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例為0.5、0.2、0.066時，復(fù)合薄膜的折射率以[膜的折射率＝(微粒的固體成分質(zhì)量比)×1.38+(粘合劑的固體成分質(zhì)量比)×(粘合劑的折射率)]計算，其約值分別為1.49、1.56、1.59及1.60、1.73、1.79，復(fù)合薄膜的折射率與大多數(shù)透明性基材的折射率(1.4～1.6)相同或略大。膜的折射率比透明性基材大時，通過復(fù)合薄膜的光從透明性基材射出至外部(大氣)的輸出效率也得到提高。
對于在透明性基材上形成有折射率與上述復(fù)合薄膜同等、不含微粒且表面平滑的薄膜的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，通過該面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的光從透明性基材射出至外部(大氣)的輸出效率都未見提高。
本發(fā)明的形態(tài)1的復(fù)合薄膜中，所用的粒子的粒徑在200nm以上時，會引發(fā)更劇烈的散射，含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的光輸出效率提高效果會變得更大。
本發(fā)明的形態(tài)1的復(fù)合薄膜中，通過形成由所含微粒和粘合劑的折射率差在0.3以上的涂敷材料獲得的薄膜，可加強含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的光輸出效率的提高效果。
本發(fā)明的形態(tài)1的復(fù)合薄膜中，微粒和粘合劑在膜中適度共存，且以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例達到0.2左右時，含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的光輸出效率的提高效果會進一步加強。
本發(fā)明的形態(tài)2及形態(tài)3是在形態(tài)1記載的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中的、形成有含微粒及粘合劑的使光散射的復(fù)合薄膜的表面上，用含有機聚合物及金屬氧化物等的平坦化材料形成平坦化膜，以減少復(fù)合薄膜表面的凹凸或?qū)嵤┝似交拿姘l(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板。
本發(fā)明的形態(tài)2是在前述形態(tài)1的含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上形成有平坦化膜的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值在0.01以上0.2以下。進行平滑化或減少凹凸的情況下，復(fù)合薄膜的以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例在0.01以上0.2以下時，即使平坦化材料的折射率和含微粒及粘合劑的復(fù)合薄膜的折射率相同，也能夠顯現(xiàn)光輸出效率提高的效果，但該材料的折射率最好與復(fù)合薄膜的折射率不同。通過復(fù)合薄膜表面的平滑化或減少凹凸而消除膜表面的凹凸的情況下，如果平坦化膜和復(fù)合薄膜的折射率沒有差異或幾乎沒有差異，則膜表面的散射會消失，平坦化膜和復(fù)合薄膜的折射率存在差異時，則顯現(xiàn)對應(yīng)于該折射率差的散射效果。折射率差越大該散射效果越明顯。因為空氣的折射率為1，即無平坦化膜時，折射率差達到最大值，能夠獲得最大的效果。
本發(fā)明的形態(tài)2中，在面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的復(fù)合薄膜上形成的平坦化膜的折射率與復(fù)合薄膜的折射率相同時，因膜表面的散射而顯現(xiàn)的光輸出效率的提高效果大幅下降。平坦化膜的折射率與復(fù)合薄膜的折射率存在較大差異時，該效果雖然較差，但仍然存在。由于含有折射率大致相同的微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜本身的折射率與平坦化膜的折射率大致相同時，無光輸出效率的提高效果，所以形態(tài)1的復(fù)合薄膜通過膜內(nèi)的散射而保持效果。光輸出效率的提高效果根據(jù)復(fù)合薄膜和覆蓋該膜的層的折射率差的大小發(fā)生變化，由于空氣和復(fù)合薄膜的折射率差最大，所以無覆蓋復(fù)合薄膜的層時，該效果最明顯。
本發(fā)明的形態(tài)3是在前述形態(tài)1的含微粒及粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上形成有與復(fù)合薄膜的折射率差在0.2以上的平坦化膜的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，該基板的復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值大于0.2且在0.5以下。復(fù)合薄膜的以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例大于0.2且在0.5以下時，平坦化膜的折射率與含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的折射率之差最好在0.2以上。
本發(fā)明的形態(tài)3中，在面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的復(fù)合薄膜上形成的平坦化膜的折射率與復(fù)合薄膜的折射率相同時，因膜表面的散射而獲得的光輸出效率的提高效果大幅下降，但存在較大差異時，該效果得以保持。其效果下降程度比形態(tài)2的在復(fù)合薄膜上形成平坦化層的情況更小，這是因為膜內(nèi)的粘合劑的量越多散射越顯著。光輸出效率的提高效果因復(fù)合薄膜和覆蓋該膜的層的折射率差的大小而發(fā)生變化，由于空氣和復(fù)合薄膜的折射率差最大，所以無覆蓋復(fù)合薄膜的層時，其效果最明顯。此外，通過形成平坦化層，霧度(HAZE)減小，即白化情況減少，膜變得透明，色彩再現(xiàn)性良好，而光輸出效率的提高效果得到保持。
形態(tài)2或形態(tài)3的優(yōu)選形態(tài)如下所述。
前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為金屬氧化物或有機聚合物。
前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為金屬氧化物時，較好是選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物。
前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為有機聚合物時，較好是選自硅樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂及聚酰胺樹脂的至少1種有機聚合物。
本發(fā)明的形態(tài)4是在前述形態(tài)1的含微粒及粘合劑的復(fù)合薄膜上進一步形成有透明導(dǎo)電性膜的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板。
本發(fā)明的形態(tài)5是在前述形態(tài)2或形態(tài)3的平坦化膜上還形成有透明導(dǎo)電性膜的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板。
形態(tài)2、形態(tài)3或形態(tài)5的優(yōu)選形態(tài)如下所述。
前述微粒為二氧化硅微粒，前述粘合劑為二氧化硅/二氧化鈦復(fù)合氧化物，且在前述復(fù)合薄膜上由二氧化硅形成平坦化膜。
本發(fā)明的形態(tài)6是在前述形態(tài)1中記載的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上層疊有熒光體薄膜的面發(fā)光體。
本發(fā)明的形態(tài)6的面發(fā)光體中，在面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的復(fù)合薄膜上形成有通過紫外線或電子射線激勵會發(fā)光的有機或無機的熒光體薄膜，可獲得向外部的光輸出效率高的面發(fā)光體。該光輸出效果是復(fù)合薄膜的效果和表面的凹凸使接受紫外線或電子射線的表面積增加的效果的協(xié)同效果。
本發(fā)明的形態(tài)7是在前述形態(tài)2或形態(tài)3中記載的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的平坦化膜的表面上層疊有熒光體薄膜的面發(fā)光體。
本發(fā)明的形態(tài)8是在前述形態(tài)4或形態(tài)5中記載的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的透明導(dǎo)電性膜的表面上構(gòu)成場致發(fā)光元件的面發(fā)光體。
本發(fā)明的形態(tài)8中，在形態(tài)1中記載的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的復(fù)合薄膜、或者形態(tài)2或形態(tài)3的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的平坦化膜上依次層疊透明導(dǎo)電性膜、發(fā)光層及金屬電極，形成場致發(fā)光元件，籍此能夠獲得向外部的光輸出效率高的面發(fā)光體。
將含微粒及粘合劑形成材料的液狀涂敷材料涂布于透明性基材形成涂膜，使其干燥后在透明性基材上殘留的被膜即復(fù)合薄膜。干燥是指從涂膜除去液體成分(或揮發(fā)性成分)而留下固體的被膜，干燥時可根據(jù)需要加熱。另外，干燥獲得被膜后也可對被膜加熱進行熱處理，或者通過繼續(xù)進行干燥時的加熱而實施被膜的熱處理。干燥后，可實施UV照射，還可在UV照射后再實施熱處理。
本發(fā)明可提供能夠提高以有機場致發(fā)光元件為代表的被用于各種顯示器、顯示元件、液晶用背光源及照明等面發(fā)光體的光輸出效率的面發(fā)光體用透明性基板，還可提供通過使用了該基板而使發(fā)光效率有所提高的面發(fā)光體。
附圖的簡單說明

圖1為本發(fā)明的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的一例的模式化截面圖。
圖2為本發(fā)明的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的另一例的模式化截面圖。
圖3(a)及(b)為在圖1及圖2的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板上設(shè)置有平坦化膜的形態(tài)的模式化截面圖。
圖4(a)及(b)為在圖2及圖3(a)的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板上設(shè)置有平坦化膜的形態(tài)的模式化截面圖。
圖5為在圖3(a)的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板B上設(shè)置有場致發(fā)光元件的形態(tài)的模式化截面圖。
圖6(a)及(b)為粘合劑膜支承玻璃基板的一例的模式化截面圖，(b)中設(shè)置有發(fā)光薄膜。
圖7為分光光度計內(nèi)試樣的配置圖。
符號說明1為透明性基材，2為微粒，3為粘合劑，4為復(fù)合薄膜(光輸出膜)，5為平坦化膜，6為熒光體薄膜，7為透明導(dǎo)電性膜，8為發(fā)光層，9為金屬電極，10為場致發(fā)光元件，11為空穴輸送層，12為電子輸送層。
實施發(fā)明的最佳方式本發(fā)明的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，所用透明性基材只要具備透光性即可，無特別限定，通常為片狀或平板狀基板。透明性基材可以是例如透明玻璃板、透明塑料板等，只要是一般作為透光性板使用的板即可，無特別限定。該透明性基材的折射率大多數(shù)情況下在1.46～1.6的范圍內(nèi)。
本發(fā)明的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，作為可用于復(fù)合薄膜內(nèi)所含的微粒的材料，可例示有機聚合物微粒及金屬氧化物微粒。另外，作為可用于粘合劑的材料，可例示金屬氧化物及有機聚合物等。從這些可使用的材料中選擇滿足上述條件的微?；蚝⒘５娜芤汉驼澈蟿┑慕M合即可。以下，對微粒及粘合劑進行說明。
作為本發(fā)明的復(fù)合薄膜內(nèi)所含的微粒，可使用金屬氧化物微粒。
作為該金屬氧化物，首先例舉二氧化硅微粒。該二氧化硅微粒的平均粒徑較好在10nm～1000nm的范圍內(nèi)。為了獲得膜表面的散射效果，平均粒徑更好在80nm以上，如果還要進一步獲得膜內(nèi)部散射效果，則平均粒徑最好在200nm以上。本發(fā)明所用的粒徑是利用動態(tài)光散射法測定的平均粒徑。作為測定裝置，可例舉大電子株式會社制DLS-7000等。作為可與二氧化硅微粒同樣地使用的金屬氧化物，可例示選自二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁、氧化銦、氧化鋯及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物的微粒。作為優(yōu)選使用的金屬氧化物微粒，可例示選自二氧化鈦、氧化錫、氧化銦及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物微粒。作為特別優(yōu)選使用的金屬氧化物微粒，在選擇折射率較大的微粒時，可例示二氧化鈦微粒、氧化銦錫微粒。金屬氧化物微粒的折射率可通過對該材料本身進行各種篩選而獲得所希望的值。
作為包含于本發(fā)明的復(fù)合薄膜內(nèi)的微粒，可使用有機聚合物的微粒。作為該有機聚合物，可例示硅樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂等。該有機聚合物可通過懸浮聚合、超臨界聚合等形成微粒，只要能夠獲得微粒，也可以是通過其它的方法制得的微粒。有機聚合物微粒的折射率可通過對聚合物材料進行各種篩選而獲得所希望的值。
作為本發(fā)明的復(fù)合薄膜的粘合劑，可使用金屬氧化物。這種情況下，涂敷材料中作為粘合劑形成材料而包含的金屬氧化物前體，通過對涂布涂敷材料組合物而得的涂膜進行干燥而轉(zhuǎn)變?yōu)樽鳛檎澈蟿┑慕饘傺趸?。作為?yōu)選使用的金屬氧化物前體的例子，可例舉烷氧基硅烷。通過于300℃對在酸催化劑中使該烷氧基硅烷水解而得的涂液進行干燥，可獲得二氧化硅。
該可獲得二氧化硅的涂液通過與上述微?；蚝⒘５娜芤夯旌希纬蔀槿芙饧?或分散狀態(tài)的溶液，涂布該溶液并干燥可形成以分散狀態(tài)包含微粒及/或粘合劑的固體被膜。作為本發(fā)明的復(fù)合薄膜的粘合劑，與二氧化硅同樣，可例示二氧化硅/二氧化鈦復(fù)合氧化物、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁或它們的復(fù)合氧化物等。
作為粘合劑的金屬氧化物的折射率可通過對形成金屬氧化物的該金屬氧化物前體的構(gòu)成元素種類進行各種篩選而獲得所希望的值。于300℃對按照日本專利特開平05-124818號、特開平06-033000號公報及特開平06-242432號公報的詳細記載制得的涂液進行干燥，可獲得二氧化鈦、二氧化硅/二氧化鈦復(fù)合氧化物?？色@得上述復(fù)合氧化物的涂液通過與上述微?；蚝⒘５娜芤哼M行混合，形成為溶解及/或分散狀態(tài)的溶液，涂布該溶液并干燥可形成以分散狀態(tài)包含微粒及粘合劑的固體被膜。
作為本發(fā)明的復(fù)合薄膜的粘合劑，可使用有機聚合物。該有機聚合物可以與上述構(gòu)成有機聚合物微粒的聚合物相同。因此，該聚合物在液狀的涂敷材料中以溶解及/或分散狀態(tài)存在，涂布該材料并干燥可形成以分散狀態(tài)包含微粒及粘合劑的固體被膜。即，這種情況下，有機聚合物本身為粘合劑形成材料，同樣也是粘合劑。作為該聚合物的其它例子，較好是丙烯酸類樹脂、氟類樹脂等透明性良好的樹脂，也可以是一般作為光學(xué)薄膜涂敷材料使用的聚合物。
另一情況是，對涂布涂敷材料而獲得的涂膜進行干燥時，粘合劑形成材料也可以通過化學(xué)變化轉(zhuǎn)變?yōu)檎澈蟿＠?，粘合劑形成材料為反?yīng)性(例如，交聯(lián)性、縮聚性等)有機單體、有機低聚物或有機預(yù)聚物，可以使它們進行反應(yīng)而轉(zhuǎn)變?yōu)樽鳛檎澈蟿┑挠袡C聚合物。因此，該有機單體、有機低聚物或有機預(yù)聚物作為反應(yīng)性粘合劑形成材料溶解及/或分散在液狀涂敷材料組合物中。作為優(yōu)選使用的有機單體、有機低聚物或有機預(yù)聚物，可例示環(huán)氧類的單體、低聚物、預(yù)聚物等。
有機聚合物的折射率可通過對有機聚合物以及可形成該聚合物的有機單體、有機低聚物及有機預(yù)聚物進行各種篩選而獲得所希望的值。
對于本發(fā)明的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，按照滿足上述條件、且使復(fù)合薄膜的折射率高于透明性基材的折射率的要求，選擇微?；蚝⒘５娜芤汉驼澈蟿┑慕M合即可。
以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。
圖1為本發(fā)明的形態(tài)1的復(fù)合薄膜(光輸出膜)支承基板A的一例的模式化截面圖。在透明性基材1的表面形成有由微粒2和粘合劑3構(gòu)成的復(fù)合薄膜4。該復(fù)合薄膜通過以下工序獲得，即，在透明性基材1上涂布液狀涂敷材料、即微?；蚝⒘５娜芤汉驼澈蟿┬纬赏恳旱幕旌衔锖螅M行干燥，再進行UV照射后煅燒而形成復(fù)合薄膜，或者不經(jīng)過照射而直接進行煅燒來形成復(fù)合薄膜。
微粒2的粒徑較好為10nm～1000nm，特好為80nm以上。
微粒2和粘合劑3的折射率差較好在0.1以上，特好在0.3以上。
以(微粒2的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑3的固體成分質(zhì)量+微粒2的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例較好為0.01～0.5，特好為0.2～0.5。
圖2為本發(fā)明的形態(tài)1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板A的另一例的模式化截面圖。在透明性基材1的表面形成有由微粒2和粘合劑3構(gòu)成的復(fù)合薄膜4。該復(fù)合薄膜通過以下工序獲得，即，在透明性基材1上涂布液狀涂敷材料、即微?；蚝⒘５娜芤汉驼澈蟿┬纬赏恳旱幕旌衔锖?，進行干燥，再進行UV照射后煅燒而形成復(fù)合薄膜，或者不經(jīng)過照射而直接進行煅燒來形成復(fù)合薄膜。
微粒2的粒徑較好為10nm～1000nm，特好為200nm以上。
微粒2和粘合劑3的折射率差較好在0.1以上，特好在0.3以上。
以(微粒2的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑3的固體成分質(zhì)量+微粒2的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例較好為0.01～0.5，特好為0.01～0.2。
圖3為形態(tài)2或形態(tài)3中的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板B的一例的模式化截面圖，基板B中，在前述面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板A的復(fù)合薄膜4上，用含金屬氧化物或有機聚合物等的平坦化材料形成平坦化膜5，減少了復(fù)合薄膜表面的凹凸或?qū)嵤┝似交p少凹凸或進行平滑化的情況下，復(fù)合薄膜中以(微粒2的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑3的固體成分質(zhì)量+微粒2的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例為0.01～0.2時，平坦化膜的折射率即使與含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的折射率相同，也會顯現(xiàn)出光輸出效率的提高效果，但該膜的折射率最好與復(fù)合薄膜的折射率不同。另外，復(fù)合薄膜中以(微粒2的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑3的固體成分質(zhì)量+微粒2的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例為0.2～0.5時，平坦化膜的折射率與含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的折射率之差最好在0.2以上。
平坦化膜形成后，可以通過化學(xué)和機械式拋光(CMP)等拋光方式，進行平坦化膜的表面的拋光。圖3(a)表示在圖1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板A設(shè)置有平坦化膜5的情況，圖3(b)表示在圖2的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板A設(shè)置有平坦化膜5的情況。
圖4為形態(tài)6或形態(tài)7中的面發(fā)光體C的模式化截面圖，面發(fā)光體C通過在前述面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板A或B的復(fù)合薄膜4或平坦化膜5上設(shè)置熒光體薄膜6而制成。圖4的形態(tài)中，在復(fù)合薄膜4或平坦化膜5的與透明性基材1的相反側(cè)的表面直接設(shè)置有熒光體薄膜6。該薄膜6中含有通過紫外線的照射或電子射線的照射可被激勵而發(fā)光的有機或無機的熒光體，制成光致發(fā)光元件，從而形成面發(fā)光體C。該面發(fā)光體C在CRT、FED、PDP等自發(fā)光型顯示器中特別有用。圖4(a)表示在圖2的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板A上設(shè)置有熒光體薄膜6的情況，圖4(b)表示在圖3(a)的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板B上設(shè)置有熒光體薄膜6的情況。
對熒光體材料無特別限定，可使用光致發(fā)光元件中以往所用的任意的有機或無機材料。作為熒光體薄膜6的形成方法，使用無機熒光體時，可例舉濺射法、MOCVD法(有機金屬氣相成長法)等氣相成長法，使用低分子有機熒光體時，可例舉真空蒸鍍法，使用高分子有機熒光體時，可例舉旋涂法、噴涂法等涂布方法。
圖5為形態(tài)8的面發(fā)光體D的截面圖，面發(fā)光體D通過在前述面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板B的平坦化膜5上層疊透明導(dǎo)電性膜7、發(fā)光層8及金屬電極9形成場致發(fā)光元件10而制成。即，在面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板B上形成有元件10。場致發(fā)光元件10由作為陽極的透明導(dǎo)電性膜5、作為陰極的金屬薄膜電極9和在該陽極和陰極間層疊的發(fā)光層8形成。圖5的形態(tài)表示有機場致發(fā)光元件10，根據(jù)需要在作為陽極的透明導(dǎo)電性膜7和發(fā)光層8間層疊有空穴輸送層11，并且在發(fā)光層8和作為陰極的金屬電極9之間層疊有電子輸送層12。為無機場致發(fā)光元件10時，在發(fā)光層8的一面或兩面層疊有電介質(zhì)層。作為這些發(fā)光層8、金屬電極9、空穴輸送層11、電子輸送層12的材料，可直接使用以往在場致發(fā)光元件的制造中所用的材料。
圖5表示在圖3的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板B上設(shè)置有有機場致發(fā)光元件10的情況。有機場致發(fā)光元件10中，如果對作為陽極的透明導(dǎo)電性膜7施加正電壓，對作為陰極的金屬電極9施加負電壓，則通過電子輸送層12被注入發(fā)光層8的電子和通過空穴輸送層11被注入發(fā)光層8的在發(fā)光層8內(nèi)再結(jié)合而引起發(fā)光。
實施例以下，通過實施例對本發(fā)明進行具體說明。
作為微粒的二氧化硅微粒按照Bogush，G.H.等的“Preparation ofmonodi sperse silica particlescontrol of size and mass fraction”，Journal of Non-crystalline Solids，104(1988)95-106所示的公知方法制得。制得的微粒的折射率約為1.38。
在平均粒徑的測定中，作為動態(tài)光散射法粒徑測定裝置，使用了大電子株式會社制DLS-7000。
(實施例1)在260.84g己二醇(HG)中加入86.95g四異丙氧基鈦，室溫下攪拌30分鐘調(diào)制出前體溶液BA-1?；旌?3.78g水和68.53g乙二醇(EG)，溶解58.76g硝酸鋁。然后，加入186.23g的2-丁氧基乙醇(BS)和229.31g的HG進行混合。再加入95.60g四乙氧基硅烷(TEOS)，攪拌30分鐘后加入前體溶液BA-1，攪拌30分鐘制得粘合劑溶液BA-2。
在473.82g己二醇(HG)中加入157.94g四異丙氧基鈦，室溫下攪拌30分鐘制得前體溶液BB-1?；旌?2.52g水和68.75g乙二醇(EG)，溶解53.37g硝酸鋁。然后，加入186.81g的2-丁氧基乙醇(BS)和17.86g的HG進行混合。再加入28.94g四乙氧基硅烷(TEOS)，攪拌30分鐘后加入前體溶液BA-1，攪拌30分鐘獲得粘合劑溶液BB-2。
將粘合劑溶液BA-2及BB-2分別在硅單晶基板上成膜，于300℃煅燒30分鐘，用株式會社溝尻光學(xué)工業(yè)所制DVA-36L型自動橢圓偏振計對所得的二氧化硅/二氧化鈦復(fù)合氧化物膜的折射率進行測定，所得值為1.60及1.82。
混合661.75g乙醇和208g的TEOS，于40℃加入126g水和4.25g氨水(濃度28wt％)，于40℃攪拌4天，制得含粒子的溶液RA-1。在500g制得的RA-1中加入435g的HG，通過濃縮至300g制得含二氧化硅微粒的溶液RA-2。用大電子株式會社制DLS-7000測得粒徑為20nm。
混合548.59g乙醇和277.76g的TEOS，于40℃加入168g水和5.65g氨水(濃度28wt％)，于40℃攪拌7小時，制得含粒子的溶液RB-1。在500g制得的RB-1中加入445g的HG，通過濃縮至500g制得含二氧化硅微粒的溶液RB-2。用大電子株式會社制DLS-7000測得粒徑為80nm。
混合445g乙醇和345g的TEOS，于40℃加入200g水和10g氨水(濃度28wt％)，于40℃攪拌7小時，制得含粒子的溶液RC-1。在500g制得的RC-1中加入455g的HG，通過濃縮至500g制得含二氧化硅微粒的溶液RC-2。用大電子株式會社制DLS-7000測得粒徑為210nm。
按照固體成分的質(zhì)量比為50/50、20/80及93.4/6.6的比例混合粘合劑溶液BA-2及BB-2和含二氧化硅微粒的溶液RA-2、RB-2及RC-2，用任意的溶劑進行稀釋直至固體成分為6％，分別制得涂敷溶液。各涂敷溶液、粘合劑溶液、含二氧化硅微粒的溶液及混合比例(固體成分的質(zhì)量比)示于表1。
表1

通過旋涂法將以上調(diào)制的涂敷溶液分別涂布于コ-ニング株式會社制玻璃基板(#1737)上，于300℃煅燒30分鐘，制得圖1及2所示構(gòu)成的復(fù)合薄膜支承玻璃基板。通過蒸鍍在復(fù)合薄膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。所用玻璃基板的折射率為1.50。
(比較例1)不對實施例1所用的玻璃基板進行處理而直接使用，在未經(jīng)處理的玻璃基板上通過蒸鍍制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。
(比較例2)混合150g水和167.09g乙醇，使1.50g草酸溶解，制得溶液BC-1?；旌?34.19g乙醇和347.22g的TEOS，于室溫下用約30分鐘滴加溶液BB-1后，于室溫攪拌30分鐘。然后，在回流下攪拌1小時，制得粘合劑溶液BC-2。
將粘合劑溶液BC-2在硅單晶基板上成膜，于300℃煅燒30分鐘，用株式會社溝尻光學(xué)工業(yè)所制DVA-36L型自動橢圓偏振計對所得的二氧化硅膜的折射率進行測定，所得值為1.43。
按照固體成分的質(zhì)量比為50/50、20/80及93.4/6.6的比例混合粘合劑溶液BB-2及BC-2和實施例1制得的含二氧化硅微粒的溶液RA-2、RB-2及RC-2，用任意的溶劑進行稀釋直至固體成分為6％，分別制得涂敷溶液。各涂敷溶液、粘合劑溶液、含微粒的溶液及混合比例(固體成分的質(zhì)量比)示于表2。
表2

通過旋涂法將以上調(diào)制的涂敷溶液分別涂布于コ-ニング株式會社制玻璃基板(#1737)上，于300℃煅燒30分鐘，制得圖1及2所示構(gòu)成的復(fù)合薄膜支承玻璃基板。通過蒸鍍在復(fù)合薄膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。
(比較例3)通過旋涂法，在實施例1所用的玻璃基板上將實施例1及比較例2制得的粘合劑溶液BA-2、BB-2、BC-2成膜，于300℃煅燒30分鐘，反復(fù)進行此操作使膜厚達到約1μm，制得圖6(a)所示的粘合劑膜支承玻璃基板。將此作為比較例3。通過蒸鍍在制得的粘合劑膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜，制得圖6(b)所示的面發(fā)光體。
如圖7所示，將實施例1、比較例2及比較例3制得的形成有熒光體膜的復(fù)合薄膜支承玻璃基板及比較例1制得的形成有熒光體膜的玻璃基板配置于株式會社日立制作所制F-4010型分光熒光光度計內(nèi)，對基板垂直照射激勵光，利用位于與基板垂直的位置的檢測器測定從基板射出的熒光的最大熒光強度。
計算相對于比較例1制得的形成有熒光體膜的玻璃基板的最大熒光強度的實施例1、比較例2及比較例3制得的形成有熒光體膜的復(fù)合薄膜支承玻璃基板的最大熒光強度的變化量，即計算(實施例1、比較例2及比較例3制得的形成有熒光體膜的復(fù)合薄膜支承玻璃基板的最大熒光強度/比較例1制得的形成有熒光體膜的玻璃基板的最大熒光強度)的值，結(jié)果示于表3、表4和表5。
此外，按照JISK7136、JISK7161-1記載的方法，用(有)東京電色社制分光濁度計TC-1800H測得的表示散射程度的濁度值的結(jié)果也示于表3、表4及表5。
表3

表4

表5

(實施例2)混合59.02g的TEOS和202.07g甲基三乙氧基硅烷，調(diào)制出0-1。使204.00g草酸溶于534.91g乙醇后，于15～20℃用約45分鐘滴加溶液0-1，然后在回流下攪拌5小時，獲得0-2涂敷溶液。在141.18g的0-2涂敷溶液中加入40g丙二醇單甲醚，于60℃蒸發(fā)濃縮至100g，獲得0-3涂敷溶液。
在實施例1制得的使用了SC-BC(5)、SC-BC(2)及SC-BB(2)的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上涂布作為平坦化材料的0-3涂敷溶液形成外敷層(overcoat)，于300℃煅燒30分鐘，制得圖3所示構(gòu)成的形成有平坦化膜的帶0-3外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板。
將0-3涂敷溶液在硅單晶基板上成膜，于300℃煅燒30分鐘，用株式會社溝尻光學(xué)工業(yè)所制DVA-36L型自動橢圓偏振計對所得的二氧化硅膜的折射率進行測定，所得值為1.38。
通過蒸鍍在帶0-3外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。
(實施例3)在實施例1制得的使用了SC-BC(5)、SC-BC(2)及SC-BB(2)的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上涂布作為平坦化材料的日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制SE-812形成外敷層，于250℃煅燒1小時，制得圖3所示構(gòu)成的帶SE-812外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板。
將SE-812在硅單晶基板上成膜，于250℃煅燒10分鐘，用株式會社溝尻光學(xué)工業(yè)所制DVA-36L型自動橢圓偏振計對所得的SE-812膜的折射率進行測定，所得值為1.64。
通過蒸鍍在帶SE-812外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。
(比較例4)在比較例2制得的使用了CC-CC(5)的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上涂布作為平坦化材料的O-3涂敷溶液形成外敷層，于300℃煅燒30分鐘，制得圖3所示構(gòu)成的帶O-3外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板。
通過蒸鍍在帶O-3外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。
(比較例5)在比較例2制得的使用了CC-CC(5)的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上涂布作為平坦化材料的日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制SE-812形成外敷層，于250℃煅燒1小時，制得圖3所示構(gòu)成的帶SE-812外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板。
通過蒸鍍在帶SE-812外敷層的復(fù)合薄膜支承玻璃基板上制成三(8-羥基喹啉)鋁(111)(Alq-3)的膜。
如圖7所示，將實施例2、實施例3、比較例4及比較例5制得的形成有熒光體膜的復(fù)合薄膜支承玻璃基板以及比較例1制得的形成有熒光體膜的玻璃基板配置于株式會社日立制作所制F-4010型分光熒光光度計內(nèi)，對基板垂直照射激勵光，利用位于與基板垂直的位置的檢測器測定從基板射出的熒光的最大熒光強度。
計算相對于比較例1制得的形成有熒光體膜的玻璃基板的最大熒光強度的實施例2、實施例3、比較例4及比較例5制得的形成有熒光體膜的復(fù)合薄膜支承玻璃基板的最大熒光強度的變化量，即計算(實施例2、實施例3、比較例4及比較例5制得的形成有熒光體膜的復(fù)合薄膜支承玻璃基板的最大熒光強度/比較例1制得的形成有熒光體膜的玻璃基板的最大熒光強度)的值，結(jié)果示于表6及表7。
此外，按照JISK7136、JISK7161-1記載的方法，用(有)東京電色社制分光濁度計TC-1800H測得的表示散射程度的濁度值的結(jié)果也示于表3、表4及表5。
表6

表7

本發(fā)明的實施例1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，通過在透明基材的表面由含折射率差在0.1以上的微粒及粘合劑的涂敷材料形成復(fù)合薄膜，可大幅提高光輸出效率。光通過復(fù)合薄膜時，在膜表面及膜內(nèi)部被散射。在該面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板的復(fù)合薄膜上設(shè)置發(fā)光元件的情況下，通過該效果，光在發(fā)光元件內(nèi)的波導(dǎo)減少，通過復(fù)合薄膜的光從透明性基材射出至外部(大氣)的輸出效率提高。
本發(fā)明的實施例1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，形成復(fù)合薄膜的微粒的折射率為1.38，粘合劑的折射率為1.60及1.82的情況下，以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例為0.5、0.2、0.066時，復(fù)合薄膜的折射率以[膜的折射率＝(微粒的固體成分質(zhì)量比)×1.38+(粘合劑的固體成分質(zhì)量比)×(粘合劑的折射率)]計算，其約值分別為1.49、1.56、1.59及1.60、1.73、1.79，復(fù)合薄膜的折射率與玻璃基板(透明性基材)的折射率相同或略大。復(fù)合薄膜的折射率與透明性基材的折射率相同或大于透明性基材的折射率時，通過復(fù)合薄膜的光從透明性基材射出至外部(大氣)的輸出效率也提高。
比較例2中，微粒的折射率為1.38，粘合劑的折射率為1.43及1.60，因此以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例為0.5、0.2、0.066時，若復(fù)合薄膜的折射率以[膜的折射率＝(微粒的固體成分質(zhì)量比)×1.38+(粘合劑的固體成分質(zhì)量比)×(粘合劑的折射率)]計算，其值分別為1.41、1.42、1.43，復(fù)合薄膜的折射率小于玻璃基板的折射率。
本發(fā)明的實施例1的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，形成復(fù)合薄膜的微粒的折射率為1.38、粘合劑的折射率為1.60時，復(fù)合薄膜的折射率如果大于玻璃基板的折射率，則顯現(xiàn)出明顯的光輸出效率的提高效果，與比較例2相比，該提高效果特別明顯。
本發(fā)明的實施例1的復(fù)合薄膜中，形成復(fù)合薄膜的微粒的折射率為1.38時，如果粘合劑的折射率為1.60～1.82，則可顯現(xiàn)出更大的光輸出效率的提高效果，這是因為微粒和粘合劑的折射率差大于0.3以上的緣故。
如比較例3所示，具有相同折射率的復(fù)合薄膜和平坦化膜中，未顯現(xiàn)出通過復(fù)合薄膜的光從透明性基材射出至外部(大氣)的輸出效率的提高效果。
實施例1的復(fù)合薄膜中，所用的微粒的粒徑在200nm以上時，會引發(fā)更劇烈的散射，含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的光輸出效率的提高效果更明顯。
實施例1的復(fù)合薄膜中，以(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)表示的涂敷材料的固體成分中所含的微粒的比例為0.2左右，且微粒和粘合劑適度共存于膜中時，含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的光輸出效率的提高效果更明顯。
實施例2及實施例3的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值在0.01以上0.2以下的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板上，形成于復(fù)合薄膜上的平坦化膜的折射率與復(fù)合薄膜的折射率相同時，因膜表面的散射而使光輸出效率提高的效果大幅下降。平坦化膜的折射率和復(fù)合薄膜的折射率有很大差異時，該效果雖然較差，但仍然得到保持。由于比較例2的微粒和粘合劑的折射率大致相同，且進行平坦化處理的平坦化材料的折射率與復(fù)合薄膜本身的折射率大致相同時，無光輸出效率的提高效果，所以認為實施例1的復(fù)合薄膜通過膜內(nèi)的散射保持效果。光輸出效率的提高效果根據(jù)復(fù)合薄膜和覆蓋該膜的層的折射率差的大小發(fā)生變化，由于空氣和復(fù)合薄膜的折射率差最大，所以無覆蓋復(fù)合薄膜的層時，該效果最明顯。
比較例4中，復(fù)合薄膜的折射率和平坦化膜的折射率大致相同時，因為形成平坦化膜而導(dǎo)致光輸出效率的提高效果喪失，但實施例2及實施例3的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值在0.01以上0.2以下的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，復(fù)合薄膜的折射率和平坦化膜的折射率不同時，該效果得到保持。平坦化膜和復(fù)合薄膜的折射率差越大該被保持的效果越明顯。
實施例3的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值在0.01以上0.2以下的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，復(fù)合薄膜的折射率和平坦化膜的折射率大致相同時，粒徑如果為80nm，則光輸出效率的提高效果喪失，但如果使用粒徑200nm的微粒，則該效果得到保持。
實施例2及實施例3的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值大于0.2且在0.5以下的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，形成于復(fù)合薄膜上的平坦化膜的折射率與復(fù)合薄膜的折射率相同時，因膜表面的散射而使光輸出效率提高的效果下降，但兩者相差較大時該效果得到保持。光輸出效率的提高效果根據(jù)復(fù)合薄膜和覆蓋該膜的膜的折射率差的大小而變化，由于空氣和復(fù)合薄膜的折射率差最大，因此，無膜覆蓋復(fù)合薄膜時，該效果最明顯。
比較例4中，復(fù)合薄膜的折射率和平坦化膜的折射率大致相同時，由于形成平坦化膜而導(dǎo)致光輸出效率的提高效果喪失，但實施例2的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值大于0.2且在0.5以下的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，復(fù)合薄膜的折射率和平坦化膜的折射率不同時，該效果得到保持。
實施例3的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)大于0.2且在0.5以下的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中，在使用粒徑200nm的微粒時，即使復(fù)合薄膜和平坦化膜的折射率差較小，但只要微粒的折射率和粘合劑的折射率的差值大，因膜內(nèi)部的散射而使光輸出效率提高的效果就會得以保持。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性本發(fā)明能夠提供可提高以有機場致發(fā)光元件為代表的被用于各種顯示器、顯示元件、液晶用背光源及照明等的面發(fā)光體的光輸出效率的面發(fā)光體用透明性基板，還能夠提供通過使用該基板而使發(fā)光效率有所提高的面發(fā)光體。
這里引用了2004年5月26日提出申請的日本專利申請2004-155743號的說明書、權(quán)利要求書、附圖及摘要的全部內(nèi)容作為本發(fā)明的說明書的揭示。
權(quán)利要求
1.面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，它是在透明性基材的表面上形成有含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的透明性基板，其特征在于，復(fù)合薄膜的折射率高于透明性基材的折射率，復(fù)合薄膜內(nèi)所含的微粒和粘合劑的折射率之差在0.1以上，復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值為0.01～0.5。
2.如權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，在含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上形成有平坦化膜，復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值在0.01以上0.2以下。
3.如權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，在含微粒及粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上形成有與復(fù)合薄膜的折射率差在0.2以上的平坦化膜，復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值大于0.2且在0.5以下。
4.如權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，在含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上還形成有透明導(dǎo)電性膜。
5.如權(quán)利要求2或3所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，在平坦化膜上還形成有透明導(dǎo)電性膜。
6.如權(quán)利要求1～5中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述微粒為金屬氧化物微?；蛴袡C聚合物微粒。
7.如權(quán)利要求1～6中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述微粒為選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁、氧化銦及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物微粒。
8.如權(quán)利要求1～7中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述粘合劑為金屬氧化物或有機聚合物。
9.如權(quán)利要求1～7中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述粘合劑為選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物。
10.如權(quán)利要求2、3或5中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為金屬氧化物或有機聚合物。
11.如權(quán)利要求2、3或5中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為選自二氧化硅、二氧化鈦、氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、氧化鋁及它們的復(fù)合氧化物的至少1種金屬氧化物。
12.如權(quán)利要求2、3或5中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為選自硅樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂及聚酰胺樹脂的至少1種有機聚合物。
13.如權(quán)利要求2、3或5中任一項所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，其特征在于，前述微粒為二氧化硅微粒，前述粘合劑為二氧化硅/二氧化鈦復(fù)合氧化物，且前述復(fù)合薄膜上的平坦化膜為二氧化硅。
14.面發(fā)光體，其特征在于，在權(quán)利要求1所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中的含微粒及粘合劑的復(fù)合薄膜的表面上層疊有熒光體薄膜。
15.面發(fā)光體，其特征在于，在權(quán)利要求2或3所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中的平坦化膜的表面上層疊有熒光體薄膜。
16.面發(fā)光體，其特征在于，在權(quán)利要求4或5所述的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板中的形成有透明導(dǎo)電性膜的表面上構(gòu)成場致發(fā)光元件。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供可提高以有機場致發(fā)光元件為代表的被用于各種顯示器、顯示元件、液晶用背光源及照明等的面發(fā)光體的光輸出效率的面發(fā)光體用復(fù)合薄膜支承基板，還提供通過使用該基板而使發(fā)光效率有所提高的面發(fā)光體。即，在透明性基材的表面上形成有含微粒和粘合劑的復(fù)合薄膜的透明性基板，其中，復(fù)合薄膜的折射率高于透明性基材的折射率，復(fù)合薄膜內(nèi)所含的微粒和粘合劑的折射率之差在0.1以上，復(fù)合薄膜中的(微粒的固體成分質(zhì)量)/(粘合劑的固體成分質(zhì)量+微粒的固體成分質(zhì)量)的值為0.01～0.5；以及使用了上述基板的面發(fā)光體。
文檔編號G02F1/1335GK1942308SQ200580012000
公開日2007年4月4日 申請日期2005年5月24日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月26日
發(fā)明者沼尻悟, 元山賢一 申請人:日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社