專利名稱：電磁掃描微鏡以及使用其的光學(xué)掃描裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電磁掃描微鏡。
根據(jù)本發(fā)明的掃描微鏡可用于激光打印機(jī)，共焦顯微鏡，條形碼掃描器，掃描顯示，以及其他各種傳感器，它們被設(shè)計(jì)以掃描從光源發(fā)射到預(yù)定區(qū)域，例如一維(即線)或者二維(即平面)區(qū)域的光束，以形成圖像或者讀取位置或者圖像數(shù)據(jù)。
根據(jù)本發(fā)明的微鏡除上面的掃描功能以外，也可應(yīng)用于自由調(diào)節(jié)反射光束路徑的光交換裝置。
背景技術(shù)：
最近，隨著光學(xué)裝置技術(shù)的發(fā)展，使用光作為信息輸入/輸出和信息傳輸媒體的各種技術(shù)正在興起。一種光使用技術(shù)是掃描從光源發(fā)出的光束的方法。這種光束掃描的典型應(yīng)用實(shí)例包括條形碼掃描器，基本級別掃描顯示器，等等。
根據(jù)其應(yīng)用實(shí)例，光束掃描技術(shù)要求不同的掃描速度和區(qū)域。現(xiàn)有光掃描技術(shù)的主要關(guān)注點(diǎn)在于調(diào)節(jié)由驅(qū)動鏡(如電流鏡或者旋轉(zhuǎn)多角鏡)的反射面和入射光束形成的入射角的方法。這里，電流鏡適用于要求接近幾赫茲，可能幾十赫茲的掃描速度的應(yīng)用，而多角鏡可以達(dá)到將近幾千赫茲的掃描速度。
隨著這些技術(shù)的發(fā)展，最近，不斷的有實(shí)現(xiàn)新的裝置或者改進(jìn)使用光束掃描技術(shù)的現(xiàn)有技術(shù)裝置的性能的光束掃描技術(shù)應(yīng)用的努力。這些努力的很好的例子包括以高分辨率原色重現(xiàn)為特征的投影顯示系統(tǒng)，頭戴式顯示器，激光打印機(jī)，等等。
光束掃描系統(tǒng)要求高空間分辨率，一般地，必須有能夠達(dá)到高掃描速度和大的角位移或者傾斜角的掃描鏡。然而，在使用多角鏡方法的現(xiàn)有技術(shù)中，存在多角鏡被安裝在高轉(zhuǎn)速的驅(qū)動馬達(dá)上，因此，正比于多角鏡的旋轉(zhuǎn)角速度的掃描速度取決于驅(qū)動馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)速度的問題。由于傳統(tǒng)馬達(dá)有限的旋轉(zhuǎn)速度，因此，掃描速度的增加受限，而且很難降低電氣消耗和整個(gè)系統(tǒng)的體積。
另外，必需從本質(zhì)上消除驅(qū)動馬達(dá)的機(jī)械摩擦噪聲，并且復(fù)雜的結(jié)構(gòu)使得難以達(dá)到制造費(fèi)用的降低。
圖1是說明了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的使用多角鏡的掃描裝置示意圖。如果由光源1發(fā)射輸入光束5，則光束5首先穿過從多種透鏡中選擇的鏡片2，然后由多角鏡3反射。
通過這個(gè)結(jié)構(gòu)，由于通過安裝在其下面的馬達(dá)4的方式旋轉(zhuǎn)多角鏡3，光束6由多角鏡3反射，這樣就被在預(yù)定的方向8掃描。這里，根據(jù)多角鏡3的旋轉(zhuǎn)方向7確定掃描方向8。
上面描述的使用多角鏡3的現(xiàn)有技術(shù)的掃描裝置的問題是其不能用于高分辨率顯示器，等等，雖然其可以達(dá)到單向的高掃描速度。
另一方面，另一種現(xiàn)有技術(shù)的使用微鏡的掃描裝置可以達(dá)到雙向掃描能力以及幾十赫茲的高掃描速度。然而，當(dāng)在其操作限制，即雙向高掃描速度下驅(qū)動掃描裝置時(shí)，會產(chǎn)生動力偏移，而引起微鏡在掃描裝置操作時(shí)搖擺。這是微鏡的反射面變形的一個(gè)原因，且因此反射光束偏移。
因此，為了達(dá)到高性能的光學(xué)掃描裝置，需要選擇適用于限制動力偏移的光學(xué)材料和微鏡結(jié)構(gòu)。
同時(shí)，考慮使用垂直梳妝電極的現(xiàn)有技術(shù)的靜電掃描微鏡，其要求在其制造中可移動部分或轉(zhuǎn)子和固定部分或靜子的高對準(zhǔn)精度。此外，為了增加旋轉(zhuǎn)角度，靜電掃描微鏡具有其結(jié)構(gòu)必須有高的縱橫比的困難。
另外，附于鏡板的可移動梳妝電極和位置鄰近可移動梳妝電極的固定梳妝電極會引起驅(qū)動力衰減的增加。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明考慮了上面的問題，而且本發(fā)明的第一個(gè)目的是提供一種具有集成微鏡的光學(xué)掃描裝置，其可用電磁現(xiàn)象驅(qū)動。
微鏡提供方向調(diào)制或者角度調(diào)制功能以調(diào)制反射的光束的路徑預(yù)定度數(shù)。
微鏡還提供在預(yù)定周期以預(yù)定度數(shù)調(diào)制反射的光束路徑的掃描功能。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種使用電磁微鏡的光學(xué)掃描裝置，其中微鏡具有提供反射面和框架結(jié)構(gòu)的薄層結(jié)構(gòu)，借此可以限制驅(qū)動時(shí)反射面的偏移，并且可以達(dá)到大的掃描角度和高掃描速度。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種使用電磁微鏡的光學(xué)掃描裝置，其可以通過一系列的半導(dǎo)體制造工藝和微電機(jī)技術(shù)制造，借此可以實(shí)現(xiàn)輕的緊湊光學(xué)掃描裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，上面所述的以及其他的目的可以通過提供一種電磁掃描微鏡實(shí)現(xiàn)，其包括提供磁場的磁場發(fā)生器；具有反射面和附于反射面后表面的框架結(jié)構(gòu)的鏡板；圍繞鏡板的基片；連接鏡板和基片的扭力桿對；以及在鏡板的發(fā)射面后表面提供的磁性物質(zhì)，用于通過和磁場發(fā)生器產(chǎn)生的磁場的相互作用產(chǎn)生驅(qū)動力，其中，利用磁性物質(zhì)產(chǎn)生的驅(qū)動力，鏡板圍繞定義了鏡板的旋轉(zhuǎn)軸的扭力桿執(zhí)行旋轉(zhuǎn)操作。
優(yōu)選地，框架結(jié)構(gòu)可以是一個(gè)或多個(gè)單元框架的陣列。
優(yōu)選地，每個(gè)單元框架的寬度可以隨著遠(yuǎn)離鏡板的旋轉(zhuǎn)軸而逐漸減小。
優(yōu)選地，每個(gè)單元框架的厚度可以隨著遠(yuǎn)離鏡板的旋轉(zhuǎn)軸而逐漸減小。
優(yōu)選地，每個(gè)單元框架可以具有通過至少一個(gè)預(yù)定位置的蝕刻空間。
優(yōu)選地，關(guān)于鏡板的旋轉(zhuǎn)軸對稱或者不對稱地提供磁性物質(zhì)。
優(yōu)選地，磁性物質(zhì)可以附于框架結(jié)構(gòu)的表面，或者位于鏡板的后表面以嵌在框架結(jié)構(gòu)表面中。
優(yōu)選地，磁性物質(zhì)可以是沿著鏡板的旋轉(zhuǎn)軸彼此平行排列的一個(gè)或多個(gè)單元磁體的陣列。
優(yōu)選地，每個(gè)單元磁體可以為細(xì)長的多邊形或者基于平行于鏡板的平面長度大于寬度的橢圓形狀，其長度和鏡板的旋轉(zhuǎn)軸垂直，寬度和旋轉(zhuǎn)軸平行。
優(yōu)選地，磁性物質(zhì)可以由軟磁材料構(gòu)成。
優(yōu)選地，磁場發(fā)生器可以包括電流源；以及由于從電流源提供的電流流過其中而產(chǎn)生磁場的線圈。
優(yōu)選地，線圈可以被集成在基片上。
優(yōu)選地，基片可以有上部和下部部分，其通過插入絕緣層彼此分離，并且扭力桿被配置以連接鏡板和基片的上部和下部部分的選中的一個(gè)。
優(yōu)選地，基片可以是絕緣體上硅(SOI)基片。
優(yōu)選地，微鏡可以進(jìn)一步包括固定在基片上鄰近鏡板位置的一個(gè)或者多個(gè)校準(zhǔn)電極，且鏡板通過磁性物質(zhì)產(chǎn)生的驅(qū)動力以及校準(zhǔn)電極和鏡板之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力旋轉(zhuǎn)。
優(yōu)選地，鏡板可以進(jìn)一步具有位于框架結(jié)構(gòu)上鄰近校準(zhǔn)電極位置的可移動電極，而且由校準(zhǔn)電極和鏡板之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力等于校準(zhǔn)電極和可移動電極之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力。
優(yōu)選地，由校準(zhǔn)電極和鏡板之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力，可以為鏡板和校準(zhǔn)電極之間的引力。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，上面所述的以及其他目的可以通過光學(xué)掃描裝置達(dá)到，其包括權(quán)利要求1所述的電磁掃描微鏡；給電磁掃描微鏡提供入射光束的鏡片；以及輸出從電磁掃描微鏡反射的光束的鏡片。


在下面參照附圖的對本發(fā)明的具體描述中，上述的以及其他本發(fā)明的目標(biāo)、特征和優(yōu)點(diǎn)會更加明顯，其中圖1是說明了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的使用多角鏡的光學(xué)掃描裝置的透視圖；圖2A和2B是說明了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的電磁掃描微鏡透視圖；圖3A是圖2的平面圖，包括沿著其A-B線截取的截面圖；圖3B沿著圖3A的A’-B’線截取的截面圖；圖4是說明了本發(fā)明使用的操作原理的透視圖；以及圖5是說明了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的微鏡操作的透視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在，將根據(jù)

本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
圖2A和2B是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電磁掃描鏡的透視圖。更具體地，圖2A所示為在鏡板形成的反射面，且圖2B說明了在鏡板形成的框架結(jié)構(gòu)。同時(shí)，圖2A和2B中沒有畫出磁力發(fā)生器。
本發(fā)明的實(shí)施例中，掃描微鏡包括具有發(fā)射面11的鏡板，和附于反射面11后表面以支撐發(fā)射面11的框架結(jié)構(gòu)12，設(shè)置在鏡板周圍的基片，用于將鏡板連接到基片的扭力桿對14，以及在框架結(jié)構(gòu)12上形成的磁性物質(zhì)15。還有，校準(zhǔn)電極對16和17在基片上鄰近鏡板的位置。
本實(shí)施例的基片被絕緣層分成上部部分和下部部分。
反射面11在鏡板的表面形成，用于反射照射到那里的光束，并且框架結(jié)構(gòu)12在鏡板的另一個(gè)表面形成，用于支撐反射面11?，F(xiàn)在，根據(jù)圖3A和3B解釋框架結(jié)構(gòu)12。
鏡板由一對扭力桿支撐，這樣其就連接到了基片的上部部分。
扭力桿14被對稱于鏡板中心地分別連接到鏡板的相對的兩邊。鏡板適于繞和扭力桿對14互相連接的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。也就是說，在鏡板執(zhí)行旋轉(zhuǎn)操作時(shí)扭力桿對14用來定義旋轉(zhuǎn)軸，而且提供恢復(fù)轉(zhuǎn)矩。
在本實(shí)施例中，在鏡板的框架結(jié)構(gòu)12上提供磁性物質(zhì)15。
磁性物質(zhì)15為沿著鏡板的旋轉(zhuǎn)軸彼此平行排列的單元磁體的陣列形式。每個(gè)單元磁體為基于平行于鏡板的平面的細(xì)長矩形形狀，其長大于寬，其中長和鏡板的旋轉(zhuǎn)軸垂直，寬和旋轉(zhuǎn)軸相平行。
在本實(shí)施例中，磁性物質(zhì)15不對稱地位于鏡板旋轉(zhuǎn)軸的一邊。自然，作為選擇地，可以關(guān)于旋轉(zhuǎn)軸對稱放置磁性物質(zhì)15。
更具體地，磁性物質(zhì)15可以從框架結(jié)構(gòu)12向上突出，或者可以嵌在框架結(jié)構(gòu)12的表面中，如圖2B所示。
圖3A和3B是說明了根據(jù)本發(fā)明的掃描微鏡的平面圖和截面圖。
在本實(shí)施例中，基片上部部分20和基片下部部分22由絕緣層21彼此電氣分開。在基片或者掃描微鏡制造中包含蝕刻工藝時(shí)，絕緣層21起蝕刻隔離的作用。
本實(shí)施例的基片可以為絕緣體上硅(SOI)基片。此外，可以通過接合兩個(gè)基片制造基片。在另一實(shí)施例中，在基片上部部分20和基片下部部分22互相接合在一起之前插入絕緣層21。
還有，在另一實(shí)施例中，鏡板，基片上部部分20，以及扭力桿對14可以互相集成地形成。還有，使用SOI基片時(shí)，可以通過蝕刻工藝打孔基片的硅部分。
在本實(shí)施例中，掃描微鏡的構(gòu)成使得鏡板10由具有相同厚度的薄層的形式，鏡板10的一個(gè)表面提供有反射面11，另一個(gè)表面提供有框架結(jié)構(gòu)12。
框架結(jié)構(gòu)12為互相平行排列的多個(gè)單元框架的陣列形式。每個(gè)單元框架呈菱形，以使靠近鏡板10的旋轉(zhuǎn)軸的單元框架的寬度最大，并且隨著遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸寬度逐漸減小。優(yōu)選地，靠近鏡板10的旋轉(zhuǎn)軸的單元框架的厚度最大，并且隨著遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸厚度逐漸減小。
和大量孔13一起部分蝕刻框架結(jié)構(gòu)12。孔13的蝕刻會產(chǎn)生降低框架結(jié)構(gòu)12的總質(zhì)量的影響，并因此降低鏡板10的質(zhì)量。這就有效地消除了在鏡板10旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生動力偏移的風(fēng)險(xiǎn)。
為了驅(qū)動本發(fā)明的掃描微鏡，必須以垂直于基片上部和下部部分20和22方向給鏡板10施加磁場。為此，在掃描微鏡中提供磁場發(fā)生器(沒有畫出)以產(chǎn)生磁場。
磁場發(fā)生器可以包括電流源，由于電流產(chǎn)生磁場的線圈，電流由電流源提供，流過線圈。線圈也用于將產(chǎn)生的磁場應(yīng)用于鏡板10。線圈可以被集成在基片上，或者可以分開位于鄰近鏡板的預(yù)定的外部位置。
圖4和圖5是說明了根據(jù)本發(fā)明的微鏡的工作原理的透視圖。
參照圖4，扭力桿102對準(zhǔn)Y軸方向并且固定在其相對端101。扭力桿102用于支撐磁性物質(zhì)103附于其上的結(jié)構(gòu)。如果提供的磁場為垂直于磁性物質(zhì)103的底面的z軸方向，磁性物質(zhì)受轉(zhuǎn)矩的作用，產(chǎn)生環(huán)繞扭力桿12，也就是環(huán)繞y軸方向的旋轉(zhuǎn)。
當(dāng)磁性物質(zhì)103為永磁體時(shí)，根據(jù)磁極的方向，轉(zhuǎn)矩作用在+θy或者-θy方向。這可以類似地應(yīng)用于由軟磁材料，如鎳構(gòu)成的磁性物質(zhì)。也就是說，基于形狀的各向異性，轉(zhuǎn)矩作用在圖4中箭頭所示的104方向。
因此，可以確定磁性物質(zhì)的旋轉(zhuǎn)角度以使外部磁場產(chǎn)生的驅(qū)動轉(zhuǎn)矩等于扭力桿102的偏移產(chǎn)生的相反恢復(fù)轉(zhuǎn)矩。
根據(jù)上面描述的原理，如果給本發(fā)明的電磁微鏡提供z軸方向的外部磁場，作用于微鏡的轉(zhuǎn)矩為圖5中所示箭頭31的方向，以產(chǎn)生繞著關(guān)于對準(zhǔn)x軸方向的扭力桿14的旋轉(zhuǎn)。
因此，在本實(shí)施例的圖5中，如果由磁場發(fā)生器(沒有畫出)提供外部磁場，由磁性物質(zhì)15產(chǎn)生的轉(zhuǎn)矩產(chǎn)生鏡板的旋轉(zhuǎn)。
優(yōu)選地，根據(jù)參照圖4解釋的操作原理，磁性物質(zhì)15用于得到轉(zhuǎn)矩，該磁性物質(zhì)15是關(guān)于鏡板的旋轉(zhuǎn)軸不對稱地放置的單元磁體的陣列。每個(gè)磁體單元可以為平行于鏡板的平面上的細(xì)長多邊形或者長大于寬的橢圓形狀(其長和鏡板的旋轉(zhuǎn)軸垂直，寬平行于旋轉(zhuǎn)軸)。還有，單元磁體由軟磁性物質(zhì)構(gòu)成，基于其形狀的各向異性產(chǎn)生驅(qū)動力。
如果移除提供給磁性物質(zhì)15的外部磁場，微鏡在扭力桿的恢復(fù)力影響下向相反的方向旋轉(zhuǎn)，因此，微鏡可以實(shí)現(xiàn)雙向旋轉(zhuǎn)移動。通過這種方式，基于如果由磁場發(fā)生器提供的外部磁場的方向發(fā)生改變，微鏡的旋轉(zhuǎn)方向改變的事實(shí)，通過重復(fù)改變磁場的方向微鏡可以以相反的方向旋轉(zhuǎn)。
在本發(fā)明的掃描微鏡中，需要校準(zhǔn)其驅(qū)動力?？梢酝ㄟ^使用磁場發(fā)生器提供的磁場強(qiáng)度，也可以通過磁性物質(zhì)的材料特性校準(zhǔn)微鏡的驅(qū)動力。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，鏡板和校準(zhǔn)電極16和17之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生阻礙微鏡驅(qū)動的靜電力。
校準(zhǔn)電極16和17被固定在鄰近鏡板位置的基片上。應(yīng)用鏡板和校準(zhǔn)電極16和17之間的電位差具有產(chǎn)生其間的電引力的作用。這種引力會將鏡板推向校準(zhǔn)電極16和17，且因此，其和用于旋轉(zhuǎn)鏡板的磁性物質(zhì)15的驅(qū)動力相反。因此，可以通過電引力和驅(qū)動力控制鏡板的旋轉(zhuǎn)移動。與磁性物質(zhì)的驅(qū)動力相比，電引力更容易控制，因此，可以更加準(zhǔn)確和細(xì)微地控制掃描微鏡的操作。
代替由應(yīng)用所有鏡板和校準(zhǔn)電極之間的電位差產(chǎn)生電引力，作為選擇地，可移動電極可以被分開布置在鏡板的框架結(jié)構(gòu)12上以通過使用校準(zhǔn)電極和可移動電極之間的電位差產(chǎn)生電引力。
上面所述的本發(fā)明的掃描微鏡可以和一個(gè)或多個(gè)透鏡組合，例如，給掃描微鏡提供來自光源的入射光束的鏡片和輸出從掃描微鏡反射的光束的鏡片，以及其他旋轉(zhuǎn)掃描微鏡需要的驅(qū)動元件，以形成光學(xué)掃描裝置。
更具體地，優(yōu)選地向光學(xué)掃描裝置提供放大從掃描微鏡反射的光束的放大透鏡。
根據(jù)上面的描述所顯示的，本發(fā)明提供一種掃描微鏡，其可應(yīng)用于多種裝置以掃描光束，將光束從光源發(fā)射到預(yù)定的區(qū)域，以形成圖像或者讀取位置或者圖像數(shù)據(jù)。
可以通過一系列的半導(dǎo)體工藝和微電極技術(shù)制造根據(jù)本發(fā)明的掃描微鏡，由此可以達(dá)到其光壓縮配置，同時(shí)在光學(xué)和機(jī)械性能上得到顯著改進(jìn)。這會具有降低部分的成本和電磁驅(qū)動微鏡所需的電氣消耗的效果。
另外，根據(jù)本發(fā)明的掃描微鏡可以達(dá)到不需要可移動結(jié)構(gòu)的電線的簡化結(jié)構(gòu)，由此可以達(dá)到高產(chǎn)量，低產(chǎn)品成本，以及輕和緊湊的結(jié)構(gòu)。
另外，和現(xiàn)有技術(shù)的微鏡相比，掃描微鏡可以在結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，光學(xué)性能和重量降低方面得到改進(jìn)。因此，本發(fā)明的掃描微鏡適用于要求高掃描速度和寬掃描范圍的高性能的掃描系統(tǒng)，能被廣泛應(yīng)用于包括要求微鏡靜態(tài)位移的系統(tǒng)的很多領(lǐng)域。
盡管本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例為說明用途而公開，在不脫離以下權(quán)利要求所公開的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以做出各種修改，添加和替代。
權(quán)利要求
1.一種電磁掃描微鏡，其包括磁場發(fā)生器，其用于提供磁場；鏡板，其具有發(fā)射面和附于反射面后表面的框架結(jié)構(gòu)；基片，其圍繞鏡板；扭力桿對，其連接鏡板和基片；以及磁性物質(zhì)，其被在鏡板的反射面后表面提供，且適于通過和從磁場發(fā)生器產(chǎn)生的磁場相互作用而產(chǎn)生驅(qū)動力，其中，利用從磁性物質(zhì)產(chǎn)生的驅(qū)動力，鏡板圍繞定義了鏡板的旋轉(zhuǎn)軸的扭力桿執(zhí)行旋轉(zhuǎn)操作。
2.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該框架結(jié)構(gòu)是一個(gè)或多個(gè)單元框架的陣列。
3.如權(quán)利要求2所述的微鏡，其中，每個(gè)單元框架具有隨著遠(yuǎn)離鏡板的旋轉(zhuǎn)軸而逐漸減小的寬度。
4.如權(quán)利要求2所述的微鏡，其中，每個(gè)單元框架具有隨著遠(yuǎn)離鏡板的旋轉(zhuǎn)軸而逐漸減小的厚度。
5.如權(quán)利要求2所述的微鏡，其中，每個(gè)單元框架具有通過至少一個(gè)預(yù)定位置的蝕刻空間。
6.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該磁性物質(zhì)被關(guān)于鏡板的旋轉(zhuǎn)軸對稱或者不對稱地提供。
7.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該磁性物質(zhì)附于框架結(jié)構(gòu)的表面，或者位于鏡板的后表面以嵌在框架結(jié)構(gòu)的表面中。
8.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該磁性物質(zhì)是沿著鏡板的旋轉(zhuǎn)軸彼此平行排列的一個(gè)或多個(gè)單元磁體的陣列。
9.如權(quán)利要求8所述的微鏡，其中，每個(gè)磁體單元具有基于平行于鏡板的平面的細(xì)長的多邊形或者長度大于寬度的橢圓形狀，該橢圓形狀的長度和鏡板的旋轉(zhuǎn)軸垂直，且寬度和旋轉(zhuǎn)軸平行。
10.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該磁性物質(zhì)由軟磁材料構(gòu)成。
11.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該磁場發(fā)生器包括電流源；以及線圈，其由于從電流源提供的電流流過其中而產(chǎn)生磁場。
12.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該線圈被集成在基片中。
13.如權(quán)利要求1所述的微鏡，其中，該基片具有通過插入絕緣層而彼此分離的上部和下部部分，并且扭力桿被配置以連接鏡板和基片的上部和下部部分的所選的一個(gè)。
14.如權(quán)利要求13所述的微鏡，其中，該基片是絕緣體上硅(SOI)基片。
15.如權(quán)利要求1所述的微鏡，進(jìn)一步包括固定在基片上鄰近鏡板的位置的一個(gè)或者多個(gè)校準(zhǔn)電極，其中，通過使用從磁性物質(zhì)產(chǎn)生的驅(qū)動力以及校準(zhǔn)電極和鏡板之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力旋轉(zhuǎn)鏡板。
16.如權(quán)利要求15所述的微鏡，其中，該鏡板進(jìn)一步具有位于框架結(jié)構(gòu)上鄰近校準(zhǔn)電極位置的可移動電極，而且從校準(zhǔn)電極和鏡板之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力等于從校準(zhǔn)電極和可移動電極之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力。
17.如權(quán)利要求15所述的微鏡，其中，從校準(zhǔn)電極和鏡板之間應(yīng)用的電位差產(chǎn)生的電力為鏡板和校準(zhǔn)電極之間的引力。
18.一種光學(xué)掃描裝置，其包括如權(quán)利要求1所述的電磁掃描微鏡；給電磁掃描微鏡提供入射光束的鏡片；以及輸出從電磁掃描微鏡反射的光束的鏡片。
全文摘要
本發(fā)明公開的是用于光學(xué)掃描裝置的電磁掃描微鏡。電磁掃描微鏡被設(shè)計(jì)以通過使用電磁力反射輸入光束，該電磁掃描微鏡可執(zhí)行旋轉(zhuǎn)操作，以實(shí)現(xiàn)反射光束路徑的調(diào)制。電磁掃描微鏡包括提供磁場的磁場發(fā)生器，具有反射面和附于反射面后表面的框架結(jié)構(gòu)的鏡板，圍繞鏡板的基片，連接鏡板和基片的扭力桿對，以及在鏡板反射面的后表面提供的磁性物質(zhì)，其適于通過和從磁場發(fā)生器產(chǎn)生的磁場的相互作用產(chǎn)生驅(qū)動力。利用磁性物質(zhì)產(chǎn)生的驅(qū)動力，鏡板執(zhí)行環(huán)繞定義了鏡板的旋轉(zhuǎn)軸的扭力桿的旋轉(zhuǎn)操作。
文檔編號G02B26/10GK1825163SQ200610005909
公開日2006年8月30日 申請日期2006年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月19日
發(fā)明者李泳柱, 池昌炫 申請人:Lg電子株式會社