專利名稱：高透光率觸控屏的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有多層反射結(jié)構(gòu)的觸控屏，特別是涉及一種以保護(hù)層(protective layer)作為該多層反射結(jié)構(gòu)的表面層，以強(qiáng)化抗磨效果的電容式觸控屏(capacitive touch panel)。
背景技術(shù)：
抗反射光學(xué)涂布層以往應(yīng)用在建材玻璃、護(hù)目鏡等產(chǎn)品中，而隨著科技的進(jìn)步該技術(shù)已漸漸轉(zhuǎn)用在半導(dǎo)體、光盤讀取頭、液晶顯示器以及觸控板等領(lǐng)域上。在傳統(tǒng)的抗反射光學(xué)涂布層的設(shè)計(jì)原理中，涂布在接觸基板上的層面具有較高的折射率(即H)，接下來與該層面臨接著另一具有低折射率(即L)的涂層，故傳統(tǒng)的抗反射光學(xué)涂布層的結(jié)構(gòu)為從鄰近于基板的方向算起依次為H、L、H、L。
而中國臺灣專利公告第562736號(與美國專利第6,586,101號為同案)，則提出一種以透明導(dǎo)電層作為抗反射光學(xué)涂布層的表面層的技術(shù)，該案的抗反射光學(xué)涂布層，也具有四層結(jié)構(gòu)，并且各層膜的折射率的設(shè)計(jì)從鄰近于基板的一側(cè)算起依次為L、H、L、H。由于通過上述設(shè)計(jì)，將透明導(dǎo)電層制作在最外層，這樣在制作電極時就不需要像現(xiàn)有技術(shù)那樣需要利用超聲波焊接，破壞表層以暴露出下層的透明導(dǎo)電層，從而可以克服大量生產(chǎn)抗反射光學(xué)涂布層所面臨的難題。
綜上所述現(xiàn)有技術(shù)中，都是在強(qiáng)調(diào)透光率的表現(xiàn)以及解決制程上的難題，但是都沒有特別針對抗反射光學(xué)涂布層的外表層的抗磨性或者防電磁波干擾(EMI)或者整體透光率的穩(wěn)定性的提升，提出進(jìn)一步的解決方案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種高透光率觸控屏，是在基板的正面涂布一多層反射結(jié)構(gòu)，其中該多層結(jié)構(gòu)的最外表層是一保護(hù)層，故本發(fā)明的高透光率觸控屏除了具備高透光率外，還可以通過該保護(hù)層而進(jìn)一步具有抗磨的特性。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種高透光率觸控屏，是在基板的反面涂布另一多層反射結(jié)構(gòu)，以更進(jìn)一步減少反射而增加透光率，并具有防電磁波干擾(EMI)的功能。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種高透光率觸控屏，是在涂布在基板的正面/反面的多層反射結(jié)構(gòu)中，可增設(shè)一第五層(抗炫光層)(anti-glare layer)，以使整體的透光率在可見光波長范圍內(nèi)的表現(xiàn)可更為穩(wěn)定。
基于上述主要目的，本發(fā)明提供一種高透光率觸控屏，包括一基板以及一涂布在該基板正面的第一抗反射涂布層結(jié)構(gòu)，該層結(jié)構(gòu)的優(yōu)選方式是將折射率設(shè)計(jì)為高、低、高、低的四層結(jié)構(gòu)(從鄰近于基板的一側(cè)算起)，且該四層結(jié)構(gòu)稱為第一～第四層。第一層是一氧化物層，具有高于1.5的折射率；第二層是一氧化物層，具有介于1.3～1.5的折射率；第三層是一透明傳導(dǎo)層，具有介于1.8～2.5的折射率，且具有介于200～10000歐姆/單位面積的阻抗值；第四層是一保護(hù)層，具有介于1.3～1.5的折射率，其厚度至少為0.1微米(μm)，且硬度通過9H的ASTM-D3363國際檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)。
此外，基于上述另一目的，本發(fā)明提供一種高透光率觸控屏，是在基板的反面涂布一第二抗反射涂布層結(jié)構(gòu)，其中該結(jié)構(gòu)的優(yōu)選方式是將其折射率設(shè)計(jì)為高、低、高的三層結(jié)構(gòu)(從鄰近于基板的一側(cè)算起)，且該三層結(jié)構(gòu)稱為第八～第十層。第八層等同于第一層的折射率；第九層等同于第二層的折射率；第十層等同于第一層的折射率，且具有10～105歐姆/單位面積的阻抗值。
另外，本發(fā)明所提供的一種高透光率觸控屏，在僅基板正面具有四層的反射結(jié)構(gòu)下，還可以通過將基板正/反面浸酸或酸蝕的方式，使基板表面呈粗糙狀從而具有抗炫光的效果；另外也可以在上述四層反射結(jié)構(gòu)的最外層(即保護(hù)層)添加微粒(particle)，從而達(dá)到抗炫光的效果。當(dāng)然也可以在第四層表面，或是在第三層及第四層之間另外形成一第五層(抗炫光層)。
綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的高透光率觸控屏除具備高透光率外，還具有抗磨的特性及防電磁波干擾(EMI)的功能，并且整體的透光率在可見光波長范圍內(nèi)的表現(xiàn)更為穩(wěn)定。


圖1是本發(fā)明高透光率觸控屏的第一優(yōu)選實(shí)施例的剖視圖。
圖2-1～圖2-5是本發(fā)明高透光率觸控屏的第二優(yōu)選實(shí)施例的剖視圖。
圖3是本發(fā)明高透光率觸控屏的第三優(yōu)選實(shí)施例的一狀態(tài)的剖視圖。
圖6是本發(fā)明高透光率觸控屏的第三優(yōu)選實(shí)施例的另一狀態(tài)的剖視圖。
圖9是本發(fā)明高透光率觸控屏的第四優(yōu)選實(shí)施例的剖視圖。
圖4、圖7、圖10～圖12是本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的透光率與在可見光波長區(qū)段間的關(guān)系圖。
圖5、圖8、圖13～圖15是本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的反射率與在可見光波長區(qū)段間的關(guān)系圖。
圖16是本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)根據(jù)ASTM-D1003國際標(biāo)準(zhǔn)以Haze-Gard Plus霧度計(jì)所測量出的整體穿透率的關(guān)系圖。
具體實(shí)施例方式
有關(guān)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例與技術(shù)內(nèi)容，現(xiàn)結(jié)合

如下首先，請參照圖1，在第一實(shí)施例中，本發(fā)明的高透光率觸控屏具有一基板6以及一第一抗反射涂布層結(jié)構(gòu)A。其中，基板6具有一正面7以及一相對于正面7的反面12，在此定義其正面7是指鄰近于使用者的那一面，且反面12是指鄰近于背光源的那一面，基板6可以是玻璃、塑料或其它透明材質(zhì)所制成的；第一抗反射涂布層結(jié)構(gòu)A是一種四層結(jié)構(gòu)，包括一第一層1、一第二層2、一第三層3以及一第四層4，并且從鄰近于基板6的一側(cè)依次將第一層1、第二層2、第三層3以及第四層4配置在基板6的正面7上，而這些層配置的方式可以利用真空鍍膜(vacuum coating)的技術(shù)，如濺鍍(sputtering)、蒸鍍(evaporation)、化學(xué)氣相沉積(chemical vapordeposition)或其它濕式鍍膜技術(shù)(other wet coating technologies)而形成。
第一層1是一氧化物層，具有高于1.5的折射率；而在本實(shí)施例中，第一層1的材質(zhì)例如是五氧化二鈮(Nb2O5)。當(dāng)然，第一層1的材質(zhì)也可以是選自包括氧化銦錫(ITO)、氧化銻錫(ATO)、鈮氧化物(niobium oxide)、鈦氧化物(titanium oxide)、鉭氧化物(tantalum oxide)及其混合的氧化物(mixtures of these oxide)的族群。
第二層2是一氧化物層，具有介于1.3～1.5的折射率；在本實(shí)施例中，第二層2的材質(zhì)例如是二氧化硅(SiO2)。此外，第二層2的材質(zhì)也可以是多孔性(porous)、添加氯素(fluorinated)或有機(jī)改造(organically modified)的低折射率材質(zhì)。
第三層3是一透明傳導(dǎo)層(transparent conductive layer)，具有介于1.8～2.5的折射率，并且具有介于200～10000歐姆/單位面積(Ohm/square)的阻抗值；在本實(shí)施例中，第三層3是連接到觸控面板邊緣的電極圖案(electrode pattern)上；另外，第三層3的材質(zhì)例如是在氧化銦錫(ITO)中添加五氧化二鈮(Nb2O5)。當(dāng)然，第三層3的材質(zhì)也可以是氧化銻錫(ATO)、氧化銦錫(ITO)、二氧化錫(SnO2)、二氧化鋅(ZnO2)、三氧化二銦(In2O3)及其組合，在此，氧化銦錫(ITO)是指純ITO(pure ITO)。然而，上述的添加物(五氧化二鈮(Nb2O5))可以根據(jù)需求決定添加與否，且添加的含量約占整體的0.1～20％。
第四層4是一保護(hù)層，具有介于1.3～1.5的折射率(refractiveindex)，該層的厚度至少是0.1微米(μm)，并且該層的硬度通過9H的ASTM-D3363國際檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)，并可以通過至少1000次美國陸軍軍規(guī)抗刮傷標(biāo)準(zhǔn)(military standard MIL-C-675C)的抗刮測試；在本實(shí)施例中，第四層4的材質(zhì)可以是二氧化硅(SiO2)或者有機(jī)改造硅土(organically modified silica)。
從上述可知，本發(fā)明在觸控屏的基板6正面7涂布一種四層結(jié)構(gòu)的抗反射涂布層，這些膜層的折射率從鄰近基板6的一側(cè)算起，依次設(shè)計(jì)為高、低、高、低(表示為H、L、H、L)，如此可以使本發(fā)明的觸控屏的透光率可達(dá)到ASTM-D1003 92％以上。另外，由于將這些膜層的最外層定義為一保護(hù)層，并通過此保護(hù)層的設(shè)計(jì)，從而可以強(qiáng)化其表面的抗磨性。
接著，請參照圖2-1～圖2-5，是本發(fā)明的第二優(yōu)選實(shí)施例，有五種狀態(tài)，如圖2-1所示，在上述四層的抗反射結(jié)構(gòu)下，還可以通過將基板6的雙面以浸酸或酸蝕的方式，使基板6的正、反面7、12的表面粗糙化，從而具有抗炫光(anti-glare)的效果。當(dāng)然，并不局限于上述雙面浸酸或酸蝕的方式，也可以如圖2-2所示，僅在接近使用者的基板6的正面7形成一粗糙的表面。另外，如圖2-3所示，也可以在上述四層抗反射結(jié)構(gòu)的最外層(即第四層4)添加若干個微粒(particle)13，使該微粒13的折射率變?yōu)?.5～2.5，從而達(dá)到抗炫光的效果，而上述微粒13的直徑是介于0.01～4微米(μm)之間。另外，也可以在上述四層的抗反射結(jié)構(gòu)下，如圖2-4，在抗反射結(jié)構(gòu)的第四層4上另外噴涂一第五層(抗炫光層)5，該第五層(抗炫光層)5采用噴涂的方式形成，并且平均粗糙度(roughness)介于0.01～0.4微米(μm)之間，可以使其表面粗糙化，從而具有抗炫光的效果。當(dāng)然，上述所提及的第五層(抗炫光層)5，并不限定在四層的抗反射結(jié)構(gòu)都制作完成后才形成，也可以如圖2-5所示，在制作第三層3后，即噴涂該第五層(抗炫光層)5，最后再形成第四層4。
接著，請參照圖3，是本發(fā)明的第三優(yōu)選實(shí)施例的其中一種狀態(tài)，該實(shí)施例與上述實(shí)施例不同之處在于增設(shè)一第二抗反射涂布層結(jié)構(gòu)B，包括一第八層8、一第九層9以及一第十層10，并且從鄰近于基板6的一側(cè)依次將第八層8、第九層9以及第十層10配置在基板6的反面12上，這些層同樣可以利用真空鍍膜的技術(shù)，如濺鍍、蒸鍍、化學(xué)氣相沉積或者其它濕式鍍膜技術(shù)而形成。
第八層8的折射率等同于第一層1；第九層的折射率等同于第二層2；第十層10的折射率等同于第三層3，且具有10～105歐姆/單位面積的阻抗值，并連接在面板邊緣的導(dǎo)體(conductor)上。在本實(shí)施例中，第十層10可以是一氧化銦錫(ITO)層，并且具有100～700歐姆/單位面積(ohm/square)的阻抗值。
從上述可知，本發(fā)明在觸控屏的基板6的反面12涂布一種三層結(jié)構(gòu)的抗反射涂布層，這些膜層的折射率從鄰近基板6的一側(cè)算起，依次設(shè)計(jì)為高、低、高(表示為H、L、H)，以使本發(fā)明的觸控屏可以進(jìn)一步減少反射并增加透光率，而第十層10的設(shè)計(jì)還可以具有防電磁波干擾(EMI)的功能。
在上述雙層ITO加一保護(hù)層的結(jié)構(gòu)下，其透光率及反射率的表現(xiàn)可以參照圖4以及圖5，波長在431～692nm的區(qū)段，其透光率平均都可以增至92％以上；波長在440～700nm的區(qū)段，其反射率都低于10％。
然后，請參照圖6，是本發(fā)明的第三優(yōu)選實(shí)施例的另一實(shí)施狀態(tài)，相對于圖3其差異在于在抗反射結(jié)構(gòu)的第四層4上同樣可以噴涂一第五層(抗炫光層)5。當(dāng)然，第五層(抗炫光層)5也可以如上述那樣，配置在第三層3以及第四層4之間(未圖示)。
而在上述雙層ITO加一保護(hù)層以及一第五層(抗炫光層)5的結(jié)構(gòu)下，其透光率以及反射率的表現(xiàn)可以參照圖7及圖8，尤其可以將透光率大于等于90％以及反射率在小于等于10％的區(qū)段調(diào)整為較為平滑的曲線。
接著，請參照圖9，是本發(fā)明的第四優(yōu)選實(shí)施例，該實(shí)施例與第三優(yōu)選實(shí)施例不同之處在于，第二抗反射涂布層結(jié)構(gòu)B還可以包括有第十一層11，其折射率等同于第四層4，并且此第十一層11是一配置在第十層10上的保護(hù)層。
從上述可知，本發(fā)明的觸控屏中的第二抗反射涂布層結(jié)構(gòu)B還可以增加為四層結(jié)構(gòu)，其折射率相對于第一抗反射涂布層結(jié)構(gòu)(HLHL)A恰好為鏡射(mirror)配置的設(shè)計(jì)，從而可以使整體的透光率在可見光的波長范圍內(nèi)的表現(xiàn)可以更為穩(wěn)定。
本發(fā)明所能達(dá)到的功效還可以進(jìn)一步從下文以及對應(yīng)的圖式中獲得證明。首先說明透光率的比較，對單純的玻璃基板來說，波長在380～780nm的可見光范圍內(nèi)，其整體的透光率是介于80～90％的之間(如圖10所示)；玻璃基板涂布雙層ITO后，波長在442～625nm的區(qū)段，其透光率可以增至90％以上，但波長小于407nm、大于747nm的區(qū)段，透光率則下降至80％以下(如圖11所示)；基于上述再進(jìn)一步涂布本發(fā)明的保護(hù)層后，波長在431～692nm的區(qū)段，其透光率平均都可以增至92％以上(如圖4所示)；換言之，本發(fā)明在涂布了保護(hù)層后，除了增加抗磨的效果外，透光率在92％以上的區(qū)段范圍，相對于僅涂布雙層ITO的玻璃基板的范圍更廣；接著，請參照圖7，本發(fā)明再加上第五層(抗炫光層)5時，尤其可以將透光率在90％以上的區(qū)段調(diào)整為較為平滑的曲線；換言之，可以進(jìn)一步穩(wěn)定該觸控屏在顯示上的表現(xiàn)。而上述圖形其透光率在可見光區(qū)段間的整體比較，可以參照圖12。
接著，請參照圖5、圖13～圖15，這些圖式的Y軸另外用反射率來表示，單純采用玻璃基板，并且波長在可見光范圍內(nèi)，其整體的反射率都在10％以下(如圖13所示)；在玻璃基板上涂布雙層ITO后，波長在480～580nm的區(qū)段，其反射率下降至5％以下，但波長小于440nm、大于660nm的區(qū)段，反射率則上升10％以上(如圖14所示)；在更進(jìn)一步涂布本發(fā)明的保護(hù)層后，反射率低于10％以下的區(qū)段相對于單純涂布雙層ITO的玻璃基板，其可以增至波長440～700nm的范圍(如圖5所示)；本發(fā)明再加上第五層(抗炫光層)5時，尤其可以將反射率在10％以下的區(qū)段調(diào)整為較為平滑的曲線，進(jìn)而提高觸控屏在顯示上的表現(xiàn)(如圖8所示)。而上述圖形其反射率在可見光區(qū)段的整體比較，可以參照圖15。
此外，請參照下表一以及圖16，是表示根據(jù)ASTM-D 1003國際標(biāo)準(zhǔn)用Haze-Gard Plus霧度計(jì)(該霧度計(jì)是TFT-LCD穿透性測量例如全透過率、穿透性霧度、透視性清晰度的標(biāo)準(zhǔn)儀器)所測量出的整體穿透率，由結(jié)果可以看出本發(fā)明在多了一層保護(hù)層或第五層(抗炫光層)5的架構(gòu)下相對于單純是玻璃基板或者雙層ITO的架構(gòu)下，其整體穿透率確實(shí)是優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)。
表一

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明。在上述實(shí)施例中，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，例如在基板6的正面7或是反面12，依據(jù)上述形成四層抗反射結(jié)構(gòu)的基本原則，重復(fù)形成更多層的抗反射層，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種高透光率觸控屏，其特征在于包括一基板，具有一正面以及一相對于所述正面的反面；以及一第一抗反射涂布層結(jié)構(gòu)，包括一第一層、一第二層、一第三層以及一第四層，且從鄰近于所述基板的一側(cè)向外以所述第一層、所述第二層、所述第三層以及所述第四層的順序配置在所述基板的所述正面上，其中所述第一層是一氧化物層，具有高于1.5的折射率；所述第二層是一氧化物層，具有介于1.3～1.5的折射率；所述第三層是一透明傳導(dǎo)層，具有介于1.8～2.5的折射率，且具有介于200～10000歐姆/單位面積的阻抗值；所述第四層是一保護(hù)層，具有介于1.3～1.5的折射率，所述第四層的厚度至少為0.1微米(μm)，且所述第四層的硬度通過9H的ASTM-D3363國際檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第一層的材質(zhì)是選自于五氧化二鈮(Nb2O5)、氧化銦錫(ITO)、氧化銻錫(ATO)、鈮氧化物(niobium oxide)、鈦氧化物(titanium oxide)、鉭氧化物(tantalum oxide)及其混合的氧化物(mixtures of these oxide)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第二層的材質(zhì)為二氧化硅(SiO2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第二層的材質(zhì)為多孔性(porous)、添加氯素(fluorinated)或有機(jī)改造(organically modified)的低折射率材質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第三層的材質(zhì)為氧化銦錫(ITO)添加五氧化二鈮(Nb2O5)添加物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第三層的材質(zhì)可選自氧化銻錫(ATO)、氧化銦錫(ITO)、二氧化錫(SnO2)、二氧化鋅(ZnO2)、三氧化二銦(In2O3)及其組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第四層的材質(zhì)為二氧化硅(SiO2)或有機(jī)改造硅土(organicallymodified silica)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第一抗反射涂布層結(jié)構(gòu)還包括一第五層，所述第五層是配置在所述第四層上的一抗炫光層(anti-glare layer)，所述第五層(抗炫光層)具有一粗糙表面(rough surface)，且平均粗糙度(roughness)介于0.01～0.4微米(μm)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述基板的所述正面以及所述反面或僅所述正面為一粗糙化表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第四層中還進(jìn)一步添加有多個微粒(particle)，這些微粒的直徑介于0.01～4微米(μm)之間，使所述微粒具有1.5～2.5的折射率。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于還包括一第五層，所述第五層是一配置在所述第三層及所述第四層之間的抗炫光層，所述第五層(抗炫光層)具有一粗糙表面(roughsurface)，且平均粗糙度(roughness)介于0.01～0.4微米(μm)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率觸控屏，其特征在于還包括一第二抗反射涂布層結(jié)構(gòu)，包括一第八層、一第九層以及一第十層，且從鄰近于所述基板的一側(cè)向外以所述第八層、所述第九層以及所述第十層的順序配置在所述基板的所述反面上，其中所述第八層的折射率等同于所述第一層；所述第九層的折射率等同于所述第二層；所述第十層的折射率等同于所述第三層，且具有10～105歐姆/單位面積(ohm/square)的阻抗值。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第十層為一氧化銦錫(ITO)層，且具有100～700歐姆/單位面積(ohm/square)的阻抗值。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的高透光率觸控屏，其特征在于所述第二抗反射涂布層結(jié)構(gòu)還包括一第十一層，所述第十一層的折射率等同于所述第四層，且所述第十一層是一配置在所述第十層上的保護(hù)層。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的高透光率觸控屏，其特征在于還包括一第五層，所述第五層是配置在所述第四層上的一抗炫光層，所述第五層(抗炫光層)具有一粗糙表面(rough surface)，且平均粗糙度(roughness)介于0.01～0.4微米(μm)。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的高透光率觸控屏，其特征在于還包括一第五層，所述第五層是配置在所述第三層及所述第四層之間的一抗炫光層，所述第五層(抗炫光層)具有一粗糙表面(rough surface)，且平均粗糙度(roughness)介于0.01～0.4微米(μm)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種高透光率觸控屏，包括一基板以及至少一個多層反射結(jié)構(gòu)，該多層反射結(jié)構(gòu)是涂布在基板正面的四層結(jié)構(gòu)，從鄰近于基板的一側(cè)算起，這些膜層的折射率設(shè)計(jì)為高、低、高、低；其中最外層是一具有保護(hù)功能的保護(hù)層，其折射率介于1.3～1.5，厚度至少是0.1微米，并且硬度通過9H的ASTM－D3363國際檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)；通過此保護(hù)層的設(shè)計(jì)，使本發(fā)明的觸控屏的透光率可達(dá)到ASTM－D1003 92％以上，還可以強(qiáng)化其表面的抗磨性。
文檔編號G02B1/11GK101055321SQ20061006678
公開日2007年10月17日 申請日期2006年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月13日
發(fā)明者黃聰智, 何斌圣, 陳勝宗, 游欽勝, 陳筱君, 張家智, 黎家儼 申請人:達(dá)諾光電股份有限公司