專利名稱：液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法，尤其涉及滴注貼合生產(chǎn)線上的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
對AV設(shè)備及OA設(shè)備的顯示裝置而言，由于液晶顯示裝置具有體積薄、重量輕及低電耗等長處，因而得到廣泛應(yīng)用。該液晶顯示裝置由在矩陣狀地形成有TFT(Thin Film Transistor)等開關(guān)元件的一方基板(以下稱陣列基板)與形成有濾色器(CF)及黑底(BM)等的另一方基板(以下稱CF基板)之間夾持液晶而成的液晶顯示面板、以及對該液晶顯示面板進行照明的背燈單元等構(gòu)成，利用在液晶顯示面板的至少一方基板上設(shè)置的電極所涉及的電場，來控制液晶分子的取向方向，改變來自背燈單元的背投光透過率來顯示信息。
該液晶顯示面板的制造工序由下列工序等組成摩擦工序，其用于在陣列基板及CF基板的表面，利用印刷裝置等來涂布成為取向膜的材料的聚酰亞胺溶液，在燒結(jié)后，用卷繞于旋轉(zhuǎn)金屬輥上的拋光布等在一定方向擦拭取向膜表面，從而進行摩擦處理；洗凈·干燥工序，其用于除去拋光布的纖維屑及取向膜的碎屑等摩擦處理的殘留物；密封描繪/Ag涂布工序，其利用分配描繪法等，在一方基板上描繪用于密封液晶的密封材料，并涂布Ag；隔離子撒布/粘著工序，其用于在另一方基板上撒布、粘著聚合物珠粒及硅珠粒等隔離子；液晶滴注工序，其用于在描繪有密封材料的基板上滴注液晶；以及貼合工序，其用于邊貼合、加壓兩個基板，邊使密封材料固化。
圖7簡略表示ODF(One-Drop Fill滴注貼合)生產(chǎn)線的構(gòu)成，在ODF生產(chǎn)線中配置有用于執(zhí)行所述密封描繪/Ag涂布工序、隔離子撒布/粘著工序、液晶滴注工序及貼合工序的密封/Ag分配裝置、液晶滴注分配裝置、隔離子撒布/檢查裝置、隔離子粘著裝置、貼合裝置等各種裝置；以及用于從規(guī)定的裝置向其它裝置運送陣列基板及CF基板的裝置運送部、容納等待各種裝置處理的陣列基板及CF基板的緩沖部等。
在所述液晶顯示面板中，為提高顯示質(zhì)量及合格率，除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)是重要的，因此，可采用比如下列方法在進行摩擦洗凈·干燥工序后的各工序處理的裝置、裝置運送部、緩沖部中，設(shè)置用于除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)的HEPA(High EfficiencyParticulate Air)過濾器的方法；為避免污染而用惰性氣體在部分裝置內(nèi)進行置換的方法等。比如，在特開2001-242471號公報中，便公開了一種具有可由用惰性氣體置換后的氛圍氣來保持的處理室的滴注貼合裝置。
專利文獻1特開2001-242471號公報(第5-8頁，圖1)發(fā)明內(nèi)容在所述的現(xiàn)有ODF生產(chǎn)線中，因基板表面的污染影響，而頻繁發(fā)生斑點、不勻及氣泡等面板內(nèi)部不良，尤其是，當?shù)却幚淼幕逋r，面板內(nèi)部不良的發(fā)生數(shù)量便增大，這是其問題。以下參照圖8至圖11，來具體說明這一問題。
圖8是表示氣泡發(fā)生率與基板放置時間的關(guān)系的圖，從中可看出，隨著基板放置時間的延長，即隨著基板表面在雜質(zhì)中的暴露時間的延長，基板貼合時所發(fā)生的面板內(nèi)氣泡便增加。還有，圖9是表示基板表面的接觸角增加量與基板放置時間的關(guān)系的圖，從中可看出，隨著基板放置時間的延長，基板表面上的液晶滴的接觸角便增加，即玻璃基板的親水性降低，涂布性惡化。還有，圖10及圖11分別是表示基板表面部的正離子污染量或負離子污染量與基板放置時間的關(guān)系的圖，從中可看出，隨著基板放置時間的延長，正離子量及負離子量均會增加。
對此，如上所述，盡管可以采用在進行摩擦洗凈·干燥工序之后的各工序的處理的裝置、裝置運送部及緩沖部中設(shè)置HEPA過濾器、或者在部分裝置內(nèi)用惰性氣體進行置換等方法，但即使在設(shè)置了HEPA過濾器的情況下，也不能可靠地排除ODF生產(chǎn)線的污染物質(zhì)，因而不能持續(xù)維持清浄的基板表面狀態(tài)，此外，在部分裝置內(nèi)用惰性氣體進行置換的情況下，即使能避免該裝置內(nèi)的污染，也無法避免其它裝置內(nèi)、基板運送中等的污染。
本發(fā)明是鑒于所述問題點而提出的，其主要目的在于，提供一種能可靠地除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)，抑制顯示不良的發(fā)生，從而提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。
為達到所述目的，本發(fā)明是一種液晶顯示面板的制造裝置，進行向?qū)嵤┝四Σ撂幚淼囊粚逯械囊环降巫⒁壕?，用密封材料貼合所述一對基板的處理，其中，在進行在所述摩擦處理后的洗凈·干燥之后所述一對基板貼合工序之前的各工序的處理的裝置、運送所述基板的運送部以及容納所述基板的緩沖部中的至少一個上，設(shè)置有氮清除單元或化學過濾單元中的至少一方。
本發(fā)明中優(yōu)選的是，所述氮清除單元將所述裝置內(nèi)部、所述運送部內(nèi)部或所述緩沖部內(nèi)部的殘存氧濃度控制到約20％及以下。
還有，本發(fā)明中，所述化學過濾單元可具有除去使所述基板表面上的液晶滴的接觸角增大的有機物的功能。
還有，本發(fā)明是一種液晶顯示面板的制造方法，向?qū)嵤┝四Σ撂幚淼囊粚逯械囊环降巫⒁壕?，用密封材料貼合所述一對基板，其中，在進行在所述摩擦處理后的洗凈·干燥之后所述一對基板貼合工序之前的各工序的處理的裝置、運送所述基板的運送部以及容納所述基板的緩沖部中的至少一個上，設(shè)置氮清除單元或化學過濾單元中的至少一方，從而維持所述基板表面的潔凈度，而且，對所述基板表面上的液晶滴的接觸角或所述基板表面上殘存的雜質(zhì)的濃度進行測定，基于所述接觸角或所述雜質(zhì)濃度，來確認所述基板表面的潔凈度。
本發(fā)明中可構(gòu)成為，在將要貼合所述一對基板之前，進行所述接觸角的測定，優(yōu)選的是，在所述接觸角為約13度及以下的情況下，執(zhí)行下道工序的處理。
還有，本發(fā)明中可構(gòu)成為，在對一方基板描繪所述密封材料之后，對另一方基板撒布/粘著隔離子之后，進行所述雜質(zhì)濃度的測定，優(yōu)選的是，在所述基板表面上存在的正離子及負離子的總離子量為約1ng/cm2及以下的情況下，或者所述基板表面上存在的有機物量為約0.1ng/cm2及以下的情況下，執(zhí)行下道工序的處理。
這樣，本發(fā)明通過所述構(gòu)成，可以用氮清除單元或化學過濾單元來可靠地除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)，抑制顯示不良的發(fā)生，從而可提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率。
根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法，可以充分排除ODF生產(chǎn)線內(nèi)的污染物質(zhì)，減少因基板表面污染的影響而頻繁發(fā)生的斑點、不勻及氣泡等面板內(nèi)部不良，以高合格率來制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
其理由在于，在摩擦洗凈·干燥后的ODF生產(chǎn)線的進行各工序的處理的裝置、用于運送基板的裝置運送部及用于容納基板的緩沖部中的至少一個上，設(shè)置氮清除單元或化學過濾單元中的至少一方，從而維持了基板表面的潔凈度。還在于，是在ODF生產(chǎn)線的規(guī)定工序之后，測定接觸角或雜質(zhì)濃度，基于接觸角或雜質(zhì)濃度，來確認基板表面的潔凈度。


圖1是簡單表示本發(fā)明第1實施例涉及的ODF生產(chǎn)線構(gòu)成的圖。
圖2是示意地表示本發(fā)明第1實施例涉及的ODF生產(chǎn)線上的裝置及裝置運送部的具體構(gòu)造的圖。
圖3是示意地表示本發(fā)明第1實施例涉及的ODF生產(chǎn)線上的緩沖部的具體構(gòu)造的圖。
圖4是表示工序內(nèi)氛圍氣的氮清除單元設(shè)置前后的無機離子量的圖。
圖5是表示工序內(nèi)氛圍氣的氮清除單元設(shè)置前后的有機物量的圖。
圖6是簡單表示制造本發(fā)明第1實施例涉及的液晶顯示面板的ODF生產(chǎn)線的其它構(gòu)成的圖。
圖7是簡單表示現(xiàn)有ODF生產(chǎn)線的構(gòu)成的圖。
圖8是表示氣泡發(fā)生率與基板放置時間的關(guān)系的圖。
圖9是表示基板表面部的接觸角增加量與基板放置時間的關(guān)系的圖。
圖10是表示基板表面部的正離子污染量與基板放置時間的關(guān)系的圖。
圖11是表示基板表面部的負離子污染量與基板放置時間的關(guān)系的圖。
具體實施例方式
如現(xiàn)有技術(shù)所示，在液晶顯示面板的制造中，為了提高顯示質(zhì)量及合格率，除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)是重要的，采用了在ODF生產(chǎn)線的處理各工序的裝置、用于運送基板的裝置運送部、容納基板的緩沖部等中，設(shè)置HEPA過濾器，或者在部分裝置內(nèi)用惰性氣體進行置換的方法等，然而即使在設(shè)置了HEPA過濾器的情況下，也不能可靠地排除ODF生產(chǎn)線的污染物質(zhì)，此外，即使在用惰性氣體在部分裝置內(nèi)進行了置換的情況下，也不能避免其它裝置內(nèi)、基板運送中等的污染，這是存在的問題。
對該問題而言，盡管也可以考慮提高ODF生產(chǎn)線的整體清潔度的方法等，但如果設(shè)置有效的清潔功能，則會加大制造設(shè)備的成本，從而造成液晶顯示面板的價格劇增，這是產(chǎn)生的問題。為此，根據(jù)基板表面上的液晶滴接觸角、基板表面上殘存雜質(zhì)的濃度會隨著基板放置時間的延長而增大這一實驗結(jié)果，本發(fā)明者開發(fā)出一種用于有效維持基板表面的潔凈度的方法。
具體而言，是在摩擦洗凈·干燥后的ODF生產(chǎn)線的進行各工序的處理的裝置、用于運送陣列基板、CF基板的裝置運送部及用于容納陣列基板及CF基板的緩沖部中的至少一個上，設(shè)置氮清除單元或化學過濾單元中的至少一方，從而維持基板表面于清潔的狀態(tài)，而且在ODF生產(chǎn)線的規(guī)定工序之后，測定接觸角或雜質(zhì)濃度，從而可基于接觸角或雜質(zhì)濃度，來確認基板表面的潔凈度。這樣，便可充分排除ODF生產(chǎn)線內(nèi)的污染物質(zhì)，以高合格率來制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
實施例1為詳細說明所述實施方式，參照圖1至圖6來說明本發(fā)明第1實施例涉及的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。圖1是簡單表示用于制造本實施例涉及的液晶顯示面板的ODF生產(chǎn)線的構(gòu)成的圖，圖2及圖3是示意地表示ODF生產(chǎn)線中所設(shè)置的裝置的具體構(gòu)成的圖。還有，圖4及圖5是用于說明本實施例的效果的圖，圖6是簡單表示本實施例的ODF生產(chǎn)線的另一構(gòu)成的圖。
一般而言，液晶顯示面板具有矩陣狀地形成有TFT等開關(guān)元件的陣列基板、以及形成有濾色器(CF)及黑底(BM)等的CF基板，在這些基板的對置面上，形成有被實施了取向處理的取向膜。并且，在兩基板之間，配置規(guī)定形狀的聚合物珠粒及硅珠粒等絕緣性隔離子，形成了規(guī)定的間隙，通過在至少一方基板上形成的電極所涉及的電場來控制被密封于該間隙內(nèi)的液晶的取向方向，由此來顯示信息。
因此，為提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率，有必要使得在基板之間不混入污染物質(zhì)，而如果不設(shè)置有效的清潔功能，則會導(dǎo)致液晶顯示面板價格劇增。為此，在本實施例中，如圖1所示，在使從投入前基板洗凈·干燥工序經(jīng)過了摩擦洗凈·干燥工序的陣列基板及CF基板在ODF生產(chǎn)線上流動的情況下，在ODF生產(chǎn)線上所設(shè)置的裝置、用于運送這些基板的裝置運送部以及緩沖部中的至少一個上，設(shè)置具有將內(nèi)部空氣置換成潔凈的氮氣的功能的設(shè)備(以下稱氮清除單元1)。
具體而言，如圖2所示，在具有密封/Ag分配裝置、液晶滴注分配裝置、隔離子檢查裝置等各種裝置和運送基板3的機械手4等裝置運送部的設(shè)備的頂棚部及側(cè)面部等中，配置氮清除單元1，或者如圖3所示，在將基板3容納于基板盒5等內(nèi)的緩沖部的頂棚部及側(cè)面部等中，配置氮清除單元1。此外，在隔離子散布裝置、隔離子粘著裝置、貼合裝置等，在裝置的構(gòu)造·規(guī)格上未在裝置內(nèi)安裝氮清除單元1的情況下，在基板出入口的裝入部等中，配置氮清除單元1。
另外，圖2及圖3的構(gòu)成是一種示例，可以在ODF生產(chǎn)線的處理各種工序的裝置、裝置運送部、緩沖部中的至少一個的規(guī)定位置上，配置氮清除單元1，也可以在各個裝置、裝置運送部及緩沖部中，設(shè)置氮清除單元1，還可以在復(fù)合有多個裝置、裝置運送部及緩沖部的設(shè)備中，設(shè)置氮清除單元1。還有，此處設(shè)置的是在內(nèi)部置換為潔凈的氮氣的氮清除單元1，但也可以采用置換為氮氣體之外的潔凈惰性氣體的單元。另外，優(yōu)選的是，在設(shè)置氮清除單元1的情況下，用氧濃度計來管理各種裝置內(nèi)部、裝置運送部內(nèi)部及緩沖部內(nèi)部的氧濃度，如果能將氧濃度控制到約20％及以下，則可充分抑制污染物質(zhì)的混入。
如此構(gòu)筑具有氮清除單元1的ODF生產(chǎn)線，可以減少液晶顯示面板內(nèi)部所發(fā)生的斑點及不勻。此外發(fā)現(xiàn)，對因基板表面污染的影響而在基板貼合時發(fā)生的面板內(nèi)氣泡也具有較大的效果。以下參照圖4及圖5來說明該效果。
圖4及圖5是比較在液晶滴注工序至貼合工序之間，在氮清除單元1設(shè)置前后工序內(nèi)氛圍氣的無機離子量與有機物量的圖表。在本測定中，采用TENAX吸著管捕集法來實施無機離子及有機物提取。還有，此后對無機離子中的正離子采用原子吸光光度法來進行測定，對負離子采用離子色譜圖表法來進行測定，而對有機物則采用GC-MS來進行測定。從圖4及圖5可知，由于設(shè)置氮清除單元1，工序內(nèi)的無機離子量及有機物量減少了。
還有，在本實施例的液晶面板制造方法中，可在液晶顯示面板的制造中途階段，實施接觸角測定或雜質(zhì)濃度測定，基于接觸角或雜質(zhì)濃度來確認基板表面是否被維持在潔凈狀態(tài)，根據(jù)其結(jié)果來判斷是否執(zhí)行下道工序的處理。
優(yōu)選的是，在比如CF基板及陣列基板貼合之前，進行該接觸角測定?？梢哉f該接觸角(規(guī)定的Lead Time內(nèi)的接觸角)越小，基板表面的潔凈度便越高，不過據(jù)本發(fā)明者所知，如果接觸角為約13度及以下，則顯示面板內(nèi)部所發(fā)生的斑點、不勻及氣泡便可被抑制到不成問題的程度。
還有，優(yōu)選的是，在比如CF基板上進行隔離子撒布/粘著之后，在陣列基板上進行密封/Ag分配之后，進行雜質(zhì)濃度測定。該雜質(zhì)濃度越小，基板表面的潔凈度便越高，不過據(jù)本發(fā)明者所知，如果在無機離子濃度中，正離子、負離子的總離子量為約1ng/cm2及以下，在有機物量中約為0.1ng/cm2及以下，則顯示面板內(nèi)部所發(fā)生的斑點、不勻及氣泡便可被抑制到不成問題的程度。
這樣，在構(gòu)成ODF生產(chǎn)線的各裝置、用于運送基板的裝置運送部、用于容納基板的緩沖部中的至少一個的規(guī)定位置上，設(shè)置氮清除單元1，將氧濃度控制到約20％及以下，由此可以維持基板表面的潔凈度。此外，在任意工序之后實施接觸角測定或雜質(zhì)濃度測定，如果在接觸角測定中接觸角為約13度及以下，在雜質(zhì)濃度測定中無機離子濃度中正離子、負離子的總離子量為約1ng/cm2及以下，在有機物量中為約0.1ng/cm2及以下，則可判斷為基板表面被維持在潔凈的狀態(tài)，這樣，便可將顯示面板內(nèi)部中所發(fā)生的斑點、不勻及氣泡抑制到不成問題的程度，以高合格率來制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
另外，在圖1中，以為了形成間隙而撒布、粘著隔離子這一情況為例來進行了說明，但本發(fā)明不限于圖1的構(gòu)成，在比如使用為了形成間隙而配備柱的CF基板的情況下，如圖6所示，對代替隔離子撒布裝置、隔離子檢查裝置及隔離子粘著裝置而配有CF柱測定裝置的ODF生產(chǎn)線，也可同樣適用，這種構(gòu)成也能獲得同樣效果。
實施例2接下來，對本發(fā)明第2實施例涉及的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法進行說明。在所述第1實施例中，在構(gòu)成ODF生產(chǎn)線的各種裝置、裝置運送部及緩沖部中的至少一個上，設(shè)置氮清除單元，然而也可以代替氮清除單元，而設(shè)置具有通過化學作用來除去特定污染物質(zhì)的功能的設(shè)備(以下稱化學過濾單元)。
在采用該化學過濾單元的情況下，可除去各種污染物質(zhì)，尤其可有效減少硅氧烷類及酞酸酯類等會增大接觸角的有機物。這樣，便可排除污染物質(zhì)對基板表面部的附著，可降低面板內(nèi)部的斑點、不勻及氣泡的發(fā)生，以高合格率來制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
實施例3接下來，對本發(fā)明第3實施例涉及的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法作以說明。在所述第1實施例中，在構(gòu)成ODF生產(chǎn)線的各種裝置、裝置運送部及緩沖部中的至少一個上，設(shè)置氮清除單元，在第2實施例中，在各種裝置、裝置運送部及緩沖部中的至少一個上，設(shè)置化學過濾器，不過也可以對它們進行組合，比如，也可以使氮清除單元具備化學過濾器。在如此構(gòu)成的情況下，對無機離子及有機物的降低更有效，可以進一步減少面板內(nèi)部的斑點、不勻及氣泡，以高合格率來制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
另外，在所述各實施例中，將本發(fā)明的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法用于了ODF生產(chǎn)線，但本發(fā)明不限于所述實施例，除了滴注貼合方法之外，對于采用下列方法的制造生產(chǎn)線也同樣適用除了成為液晶注入孔的區(qū)域之外，用密封材料來貼合對置基板，然后將所貼合了的基板置入真空容器內(nèi)，置于減壓狀態(tài)，將液晶注入孔浸入液晶，在這一狀態(tài)下，使真空容器回到大氣壓，從而利用壓力差來注入液晶的方法；除了成為液晶注入孔和排氣口的區(qū)域之外，用密封材料來貼合對置基板，然后將液晶注入孔浸入液晶，從排氣口排氣，由此來吸引液晶的方法等。
工業(yè)利用性本發(fā)明可適用于液晶顯示面板以及基板表面上的污染物質(zhì)附著成為問題的任意基板的制造裝置及其制造方法。
權(quán)利要求
1.一種用于制造包括一對對置的基板的顯示面板的裝置，包括執(zhí)行制造所述顯示面板的工序的單元，所述工序在所述基板互相貼合之前執(zhí)行；運送所述基板的基板運送部；其中容納所述基板的緩沖部；以及在各個所述單元、所述基板運送部以及所述緩沖部中的至少一個上設(shè)置的用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元和化學過濾單元中的至少一個。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元包括用于以氮氣取代內(nèi)部氣體的單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元維持所述單元、所述基板運送部或所述緩沖部中的氧濃度小于等于約20％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述顯示面板包括液晶顯示面板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述化學過濾單元除去使所述基板表面上的液晶滴的接觸角增大的有機物。
6.一種制造包括一對對置的基板的顯示面板的方法，包括(a)在所述基板互相貼合之前執(zhí)行制造所述顯示面板的工序的區(qū)域，設(shè)置用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元和化學過濾單元中的至少一個，并且，(b)測定在所述基板表面上的液晶滴的接觸角和在所述基板表面上殘存的雜質(zhì)的濃度中的一個，基于所測定的接觸角或雜質(zhì)濃度來確認所述基板的所述表面的潔凈度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括(c)摩擦所述基板；(d)向所述基板中的一方滴注液晶；(e)用密封材料使所述基板互相貼合，使所述密封材料夾在其間；并且(f)在(c)和(d)之前和期間執(zhí)行(a)，先于(e)而執(zhí)行(b)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述惰性氣體包括氮氣。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元維持所述區(qū)域的氧濃度小于等于約20％。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述化學過濾單元除去使所述基板表面上的液晶滴的接觸角增大的有機物。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，在將要使所述基板互相貼合之前，測定所述接觸角。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，當所述接觸角小于等于約13度時，執(zhí)行下道工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，在對一方所述基板描繪所述密封材料之后并且再對另一方撒布隔離子之后，測定所述雜質(zhì)濃度。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，當所述基板的表面上存在的正離子及負離子的總量小于等于約1ng/cm2時，執(zhí)行下道工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，當所述基板表面上存在的有機物的總量小于等于約0.1ng/cm2時，執(zhí)行下道工序。
16.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述顯示面板包括液晶顯示面板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能可靠地消除工序氛圍氣中的污染物質(zhì)，抑制顯示不良，提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。在密封/Ag分配裝置及液晶滴注分配裝置、隔離子撒布裝置、隔離子檢查裝置、隔離子粘著裝置、貼合裝置等ODF生產(chǎn)線的各種裝置、用于運送基板的機械手等裝置運送部以及將基板容納到基板盒等內(nèi)的緩沖部中的至少一個上，設(shè)置用于以惰性氣體代替內(nèi)部氣體的單元或化學過濾單元(1)中的至少一方，從而能維持基板表面的潔凈度，而且在任意一道工序之后，測定基板表面上的液晶滴接觸角或基板表面上殘存雜質(zhì)的濃度，基于接觸角或雜質(zhì)濃度來確認基板表面的潔凈度。
文檔編號G02F1/1333GK1881021SQ20061009279
公開日2006年12月20日 申請日期2006年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月15日
發(fā)明者元松俊彥 申請人:Nec液晶技術(shù)株式會社