專利名稱：液晶顯示器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種液晶顯示器及其制造方法，具體地說，涉及一種具有均勻單元間隙的液晶顯示器及其制造方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(LCD)是一種廣泛使用的平板顯示器。LCD可以包括兩個(gè)面板，設(shè)置有諸如像素電極和共用電極的場致電極；以及插入兩個(gè)面板之間的液晶(LC)層。通過向場致電極施加電壓以在LC層中產(chǎn)生電場，LCD顯示圖像，該電場確定了LC層中LC分子的晶向(orientation)以調(diào)整入射光的偏振。LCD可以包括多個(gè)像素電極，設(shè)置在一個(gè)面板上的矩陣中；以及共用電極，設(shè)置在另一面板上。通過向各個(gè)像素電極施加單獨(dú)的電壓，可以實(shí)現(xiàn)LCD的圖像顯示。為了施加單獨(dú)的電壓，將多個(gè)三維薄膜晶體管(TFT)連接至相應(yīng)的像素電極，將用于傳輸控制TFT的信號的多條柵極線和用于將電壓傳輸至像素電極的多條數(shù)據(jù)線設(shè)置在面板上。
LCD可以包括形成于兩個(gè)面板之間的多個(gè)隔離件，用于支撐兩個(gè)面板，從而形成兩個(gè)面板之間的單元間隙(cell gap)。LCD還可以包括密封劑，用于結(jié)合兩個(gè)面板并將液晶層密封在其中。
液晶，例如可以沿面板的周邊，流動至兩個(gè)面板的邊緣，造成液晶的不均勻分布，從而單元間隙可能不均勻。在結(jié)合兩個(gè)面板的組裝過程中，液晶可能直接接觸未硬化的密封劑而被污染。當(dāng)密封劑通過紫外線硬化時(shí)，液晶可能被紫外線損壞。
因此，存在對于可以控制液晶流動以保持均勻間隙的液晶顯示器及其制造方法的需求。還存在對于能夠避免液晶污染的液晶顯示器的需求。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，液晶顯示器包括第一和第二面板，彼此相對；密封劑，設(shè)置在第一與第二面板之間，并沿兩個(gè)面板之一的周邊形成；隆起(rising)，設(shè)置在形成密封劑的同一層上，并沿密封劑所包圍的顯示區(qū)域的周邊的至少一部分而形成；以及液晶層，被密封劑包圍，并設(shè)置在第一與第二面板之間。
隆起的高度可以小于密封劑的高度，而且隆起可以包括多個(gè)不連續(xù)的突起。
隆起可以包括第一隆起和形成在第一隆起與密封劑之間的第二隆起。
隆起可以包括以下之一丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、丙烯酸環(huán)氧樹脂、或酚醛樹脂。
液晶顯示器還可以包括設(shè)置在第一與第二面板之間的多個(gè)隔離件。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，液晶顯示器包括第一和第二面板，彼此相向；密封劑，設(shè)置在第一與第二面板之間，并沿兩個(gè)面板之一的周邊形成；隆起，設(shè)置在形成密封劑的同一層上，并沿密封劑所包圍的顯示區(qū)域的周邊的至少一部分而形成；多個(gè)球形隔離件，設(shè)置在第一與第二面板之間；以及液晶層，被密封劑包圍，并設(shè)置在第一與第二面板之間。
隆起的高度可以小于密封劑的高度，而且隆起可以包括多個(gè)不連續(xù)的突起。
隆起可以包括第一隆起和形成在第一隆起與密封劑之間的第二隆起。
隆起可以包含熱硬化材料或光硬化材料。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，制造液晶顯示器的方法包括形成具有多個(gè)薄膜的第一和第二面板；在第一和第二面板之一上形成隆起；硬化隆起；形成包圍第一和第二面板之一上的隆起的密封劑；組裝第一和第二面板；以及硬化密封劑。
隆起的高度可以小于密封劑的高度，而且隆起可以包括多個(gè)不連續(xù)的突起。
該方法還可以包括，在形成隆起之前，在面板上形成校準(zhǔn)層(alignment layer)。
隆起可以包括第一隆起和形成在第一隆起與密封劑之間的第二隆起，而且利用光照射和熱輻射之一，可以執(zhí)行隆起和密封劑的硬化。
形成第一面板可以包括在第一基板上形成柵極線；在柵極線上形成半導(dǎo)體；形成與柵極線交叉的數(shù)據(jù)線和漏電極；以及形成連接至漏電極的像素電極。
該方法還可以包括，在形成第一面板之后，在第一面板上沉積液晶材料。
該方法還可以包括，在形成第一面板之后，在第一面板上分散多個(gè)隔離件。
形成第二面板可以包括在第二基板上形成阻光件；在第二基板上形成濾色片(color filter)；以及在阻光件和濾色片上形成共用電極。
第一和第二面板可以在真空環(huán)境下組裝。


從下面與附圖相結(jié)合的描述中，可以更詳細(xì)地理解本發(fā)明的例示性實(shí)施例，附圖中圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的透視圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的設(shè)計(jì)圖；圖3是沿圖2中的III-III線截取的LCD的截面視圖；
圖4是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造方法的TFT陣列面板的設(shè)計(jì)圖；圖5是沿圖4中的V-V線截取的TFT陣列面板的截面視圖；圖6是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造過程的TFT陣列面板的設(shè)計(jì)圖；圖7是沿圖6中的VII-VII線截取的TFT陣列面板的截面視圖；圖8是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造過程的TFT陣列面板的設(shè)計(jì)圖；圖9是沿圖8中的IX-IX線截取的TFT陣列面板的截面視圖；圖10是用于示出沉積液晶的過程的TFT陣列面板的截面視圖；圖11至14是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造方法的共用電極面板的截面視圖；以及圖15A至圖15D是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的設(shè)計(jì)圖。
具體實(shí)施例方式
下面將參照附圖對本發(fā)明的例示性實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的描述。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實(shí)施，而不應(yīng)該將本發(fā)明理解為僅限于本文所述的實(shí)施例。
參照圖1至圖3描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器。
圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的透視圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的設(shè)計(jì)圖。圖3是沿圖2中的III-III線截取的LCD的截面視圖。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的LCD包括TFT陣列面板100；共用電極面板200，與TFT陣列面板100相對；以及LC層3，具有設(shè)置在兩個(gè)面板100與200之間的LC分子。LCD包括顯示區(qū)域A，用于顯示圖像；焊點(diǎn)區(qū)域B，其中，進(jìn)行與外部驅(qū)動電路的連接。
參照圖1至圖3描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的TFT陣列面板100。
多條柵極線121和多條存儲電極線131形成在由例如透明玻璃或塑料組成的絕緣基板110上。
柵極線121傳輸柵極信號，并大體上在橫向上延伸。每一條柵極線121均包括多個(gè)柵電極124，其向下突出；以及端部129，其具有足夠大的面積與另一層或外部驅(qū)動電路相接觸。用于產(chǎn)生柵極信號的柵極驅(qū)動電路(未示出)可以安裝在柔性印刷電路(FPC)膜(未示出)上，該柔性印刷電路膜可以連接至基板110，或直接安裝在基板110上，或與基板110集成為一體。柵極線121可以延伸，以連接至可以與基板110集成一體的驅(qū)動電路。
存儲電極線131上供應(yīng)有預(yù)定電壓，每一條存儲電極線131均包括干線，其與柵極線121大體上平行地延伸；多對存儲電極133a和133b，其從干線上分出來。每條存儲電極線131設(shè)置在兩條相鄰柵極線121之間，而干線靠近兩條相鄰柵極線121中的一條。每一個(gè)存儲電極133a和133b均具有連接至干線的固定端部和設(shè)置成相對的自由端部。存儲電極133b的固定端部具有較大的面積，而其自由端部分叉形成線性分支和彎曲分支。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，存儲電極線131可以具有不同形狀和設(shè)置。
柵極線121和存儲電極線131可以包含，例如，諸如Al和Al合金的含Al金屬、諸如Ag和Ag合金的含Ag金屬、諸如Cu和Cu合金的含Cu金屬、諸如Mo和Mo合金的含Mo金屬、Cr、Ta、或Ti。在本發(fā)明的實(shí)施例中，柵極線121和存儲電極線131可以具有多層結(jié)構(gòu)，其包括具有不同物理特性的兩種導(dǎo)電膜(未示出)。兩種膜之一可以包含低電阻系數(shù)金屬，例如含Al金屬、含Ag金屬、以及含Cu金屬，用于減少信號延遲或電壓降。另一種膜可以包含，例如含Mo金屬、Cr、Ta、或Ti，它們具有優(yōu)良的物理、化學(xué)和與諸如氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)等其它金屬接觸的電接觸特性。這兩種膜的組合實(shí)例可以是，下Cr膜和上Al合金膜，以及下Al膜和上Mo膜。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，柵極線121和存儲電極線131可以包含不同金屬或?qū)w。
柵極線121和存儲電極線131的側(cè)邊可以相對于基板110的表面而傾斜，且其傾斜角度在大約30度至大約80度的范圍內(nèi)。
包含例如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的柵極絕緣層140，可以形成在柵極線121和存儲電極線131上。
包含例如氫化非晶硅(簡寫為“a-Si”)或多晶硅的多條半導(dǎo)體條151，可以形成在柵極絕緣層140上。半導(dǎo)體條151大體上在縱向上延伸，并在接近柵極線121和存儲電極線131處變寬，從而半導(dǎo)體條151覆蓋柵極線121和存儲電極線131的較大面積。每一條半導(dǎo)體條151均包括朝著柵電極124分叉的多個(gè)突起154。
多個(gè)歐姆接觸條和島161和165形成在半導(dǎo)體條151上。歐姆接觸條和島161和165可以包含，例如摻雜較多諸如磷的N-型雜質(zhì)的n+氫化a-Si。歐姆接觸條和島161和165可以包含例如硅化物。每一個(gè)歐姆接觸條161均包括多個(gè)突起163。突起163和歐姆接觸島165可以成對地設(shè)置在半導(dǎo)體條151的突起154上。
半導(dǎo)體條151以及歐姆接觸條和島161和165的側(cè)邊相對于基板110表面而傾斜，且其傾斜角度可以在大約30度至大約80度的范圍內(nèi)。
多條數(shù)據(jù)線171和多個(gè)漏電極175形成在歐姆接觸條和島161和165以及柵極絕緣層140上。
數(shù)據(jù)線171傳輸數(shù)據(jù)信號，并大體上在縱向上延伸，以與柵極線121交叉。每一條數(shù)據(jù)線171還交叉存儲電極線131，并可以設(shè)置在存儲電極133a和133b的相鄰對之間。每一條數(shù)據(jù)線171均包括向柵電極124突出的多個(gè)源電極173，并且，其中，多個(gè)源電極173彎曲成與月牙形相似。每條數(shù)據(jù)線171還包括端部179，其具有足夠大的面積與另一層或外部驅(qū)動電路相接觸。用于產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號的數(shù)據(jù)驅(qū)動電路(未示出)可以安裝在FPC膜(未示出)上，該FPC膜可以連接至基板110，或直接安裝在基板110上，或與基板110集成為一體。數(shù)據(jù)線171可以延伸，以連接至可以與基板110集成為一體的驅(qū)動電路。
漏電極175與數(shù)據(jù)線171分離，并設(shè)置成，相對于柵電極124而言，與源電極173相對。
柵電極124、源電極173、和漏電極175，與半導(dǎo)體條151的突起154一起，形成具有通道的TFT，該通道形成于設(shè)置在源電極173與漏電極175之間的突起154中。
數(shù)據(jù)線171和漏電極175可以包含難熔金屬，例如Cr、Mo、Ti、Ta或其合金。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，數(shù)據(jù)線171和漏電極175可以具有多層結(jié)構(gòu)，其包括低電阻系數(shù)膜(未示出)和優(yōu)良接觸膜(未示出)。組合的實(shí)例是下Mo膜、中間Al膜、和上Mo膜。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，可以使用下Cr膜和上Al-Nd合金膜，或下Al膜和上Mo膜。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，數(shù)據(jù)線171和漏電極175可以包含不同金屬或?qū)w。
數(shù)據(jù)線171和漏電極175具有傾斜的邊緣輪廓，并且其傾斜角度在大約30度至大約80度的范圍內(nèi)。
鈍化層180形成在數(shù)據(jù)線171和漏電極175，以及半導(dǎo)體條151的暴露部分上。鈍化層180可以包括例如無機(jī)或有機(jī)絕緣體，并且鈍化層180可以具有平的頂面。無機(jī)絕緣體材料的實(shí)例包括氮化硅和氧化硅。有機(jī)絕緣體可以具有感光性和小于大約4.0的介電常數(shù)。鈍化層180可以包括無機(jī)絕緣體的下膜和有機(jī)絕緣體的上膜，從而可以利用有機(jī)絕緣體的優(yōu)良絕緣特性，防止半導(dǎo)體條151的暴露部分受到損壞。
鈍化層180具有多個(gè)接觸孔182和185，分別暴露數(shù)據(jù)線171的端部179和漏電極175。鈍化層180和柵極絕緣層140具有多個(gè)接觸孔181，暴露柵極線121端部129；多個(gè)接觸孔183a，暴露存儲電極線131的接近存儲電極133b固定端部的部分；以及多個(gè)接觸孔183b，暴露存儲電極133b自由端部的線性分支。
包括例如透明導(dǎo)體(如ITO或IZO)的或反射導(dǎo)體(如Ag、Al、Cr、或其合金)的多個(gè)像素電極191、多個(gè)天橋(overpass)83、以及多個(gè)接觸助件(assistant)81和82，形成在鈍化層180上。
像素電極191通過接觸孔185物理且電連接至漏電極175，從而像素電極191接收來自漏電極175的數(shù)據(jù)電壓。接收數(shù)據(jù)電壓的像素電極191產(chǎn)生電場，該電場與相對的共用電極面板200的接收共用電壓的共用電極270合作。所產(chǎn)生的電場確定設(shè)置在兩個(gè)面板100與200之間的液晶層3的液晶300的晶向。像素電極191和共用電極270形成液晶電容器，存儲TFT切斷之后的外加電壓。
像素電極191與包括存儲電極133a和133b的存儲電極線131重疊。像素電極191、與其連接的漏電極175、以及存儲電極線131形成存儲電容器，其提高了液晶電容器的電壓存儲能力。
接觸助件81和82分別通過接觸孔181和182連接至柵極線121的端部129和數(shù)據(jù)線171的端部179。接觸助件81和82保護(hù)端部129和179，并提高端部129和179與外部設(shè)備之間的連接。
天橋83橫跨柵極線121，并分別通過接觸孔183a和183b，連接至存儲電極線131的暴露部分和存儲電極133b自由端部的暴露的線性分支。接觸孔183a和183b設(shè)置成相對于柵極線121彼此相對。包括存儲電極133a和133b的存儲電極線131與天橋83一起，可以用來修正柵極線121、數(shù)據(jù)線171、或TFT中的缺陷。
第一校準(zhǔn)層11形成在顯示區(qū)域A的鈍化層180上。第一校準(zhǔn)層11可以包含諸如聚酰亞胺的絕緣材料。
參照圖1至圖3描述共用電極面板200。
用于防止光泄漏的被稱為黑色矩陣的阻光件220形成在例如由透明玻璃組成的絕緣基板210上。阻光件220可以包括面向像素電極191的多個(gè)開口(未示出)，并且阻光件可以具有大體上與像素電極191相同的平面形狀。阻光件220可以包括與數(shù)據(jù)線171和柵極線121對應(yīng)的線性部分，以及與TFT對應(yīng)的其它部分。
多個(gè)濾色片230形成在基板210上，并且大體上設(shè)置在由阻光件220所包圍的面積中。濾色片230可以大體上沿像素電極191在縱向上延伸。濾色片230可以表示諸如紅色、綠色、和藍(lán)色的主要顏色之一。
共用電極270形成在濾色片230上。共用電極270可以由諸如ITO和IZO的透明導(dǎo)電材料組成。
第二校準(zhǔn)層21形成在顯示區(qū)域A的共用電極270上。第二校準(zhǔn)層21可以包含諸如聚酰亞胺的絕緣材料。
多個(gè)隆起310形成在共用電極270上。隆起310包圍顯示區(qū)域A，并設(shè)置在顯示區(qū)域A外部。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，隆起310可以具有各種形狀，包括連續(xù)突起或多個(gè)不連續(xù)突起，并且多個(gè)隆起310可以是一個(gè)突起。
圖15A至圖15D是示出了隆起310的形狀和排列的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的設(shè)計(jì)圖。
參照圖1和圖15A至15D，隆起310包圍設(shè)置在由密封劑320所限定的區(qū)域中的顯示區(qū)域A，并且根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，可以具有如圖15C所示的連續(xù)突起，或如圖15A和15B所示的多個(gè)不連續(xù)突起，或如圖15D所示的連續(xù)和不連續(xù)突起的組合。隆起310包括包圍顯示區(qū)域A的內(nèi)部隆起310a和設(shè)置在密封劑320與內(nèi)部隆起310a之間的外部隆起310b。在本發(fā)明的實(shí)施例中，隆起310可以具有多個(gè)折(fold)，并且可以省去內(nèi)部和外部隆起310a和310b中的一個(gè)。
由于隆起310的高度小于面板100與200之間的間隔(即，單元間隙)，所以隆起310與薄膜晶體管陣列面板100分開一預(yù)定間隙，而液晶300可以在其間流動。
隆起310可以由包含光硬化樹脂或熱硬化樹脂組分的材料組成，例如丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、丙烯酸環(huán)氧樹脂、和酚醛樹脂。用于隆起310的材料還可以包括，例如光啟始劑(photo initiator)、填料、和/或添加劑。
薄膜晶體管面板100和共用電極面板200互相粘附，并由密封劑320結(jié)合在一起。密封劑320沿顯示區(qū)域A的周邊形成，并設(shè)置在隆起310的外部。密封劑320可以具有環(huán)形曲線形狀，并且具有與單元間隙相同的高度。密封劑320可以由包括光硬化樹脂或熱硬化樹脂組分的材料組成，例如丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、丙烯酸環(huán)氧樹脂、和酚醛樹脂。
液晶300形成在由密封劑320包圍的區(qū)域中。環(huán)繞顯示區(qū)域A周邊的所形成的隆起310控制液晶300從顯示區(qū)域A向外流動的速度。因此，可以充分地防止液晶300流到兩個(gè)面板100和200的邊緣，從而單元間隙可以保持均勻。
在校準(zhǔn)兩個(gè)面板100和200之后，可以通過熱或光對密封劑320進(jìn)行硬化，并且隆起310可以防止液晶300與處于未硬化狀態(tài)的密封劑320接觸。因此，隆起310可以防止液晶300被處于未硬化狀態(tài)的密封劑320污染。
偏振器(未示出)可以設(shè)置在面板100和200的外表面上，從而它們的偏振軸可以交叉。當(dāng)LCD是反射型LCD時(shí)，可以省去偏振器中的一個(gè)。
液晶層3形成在兩個(gè)面板100與200之間，并且包括具有正或負(fù)介電各向異性的向列型液晶。LC層3中的液晶300經(jīng)過水平或垂直校準(zhǔn)，其中，對液晶300進(jìn)行調(diào)整，從而它們的長軸在無電場作用時(shí)大體水平或垂直于面板100和200的表面。
LCD還可以包括多個(gè)隔離件(未示出)，用于支撐兩個(gè)面板100和200，以維持其間的均勻單元間隙。在本發(fā)明的實(shí)施例中，隔離件可以是例如珠形隔離件。
參照圖4至圖10，描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的LCD的TFT面板100的制造方法。
圖4是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造方法的TFT陣列面板的設(shè)計(jì)圖。圖5是沿圖4中的V-V線截取的TFT陣列面板的截面視圖。圖6是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造過程的TFT陣列面板的設(shè)計(jì)圖。圖7是沿圖6中的VII-VII線截取的TFT陣列面板的截面視圖。圖8是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液晶顯示器的制造過程的TFT陣列面板的設(shè)計(jì)圖。圖9是沿圖8中的IX-IX線截取的TFT陣列面板的截面視圖。圖10是用于示出沉積液晶的過程的TFT陣列面板的截面視圖。
參照圖4和圖5，對鋁合金的導(dǎo)電膜進(jìn)行濺射，并利用光致抗蝕劑圖案的通過光蝕刻工藝(photo-etching)將其圖案化，以形成包括多個(gè)柵電極124和多個(gè)端部129的多條柵極線121，以及包括多個(gè)存儲電極133a和133b的多條存儲電極線131。
在順序沉積柵極絕緣層140、本征a-Si層、和非本征a-Si層之后，對非本征a-Si層和本征a-Si層進(jìn)行光刻，以在柵極絕緣層140上形成多個(gè)非本征半導(dǎo)體和多個(gè)本征半導(dǎo)體154。
對鋁合金的導(dǎo)電層進(jìn)行濺射，并利用光致抗蝕劑膜(未示出)進(jìn)行蝕刻，以形成包括多個(gè)源電極173和多個(gè)漏電極175的多條數(shù)據(jù)線171。
通過蝕刻除去未被數(shù)據(jù)線171和漏電極175覆蓋的非本征半導(dǎo)體部分，以形成多個(gè)歐姆接觸163和165，并暴露本征半導(dǎo)體154部分。
參照圖6和圖7，沉積或涂覆鈍化層180，然后與柵極絕緣層140一起進(jìn)行蝕刻，以形成多個(gè)接觸孔181、182、183a、183b、和185。
通過例如濺射來沉積由諸如ITO和IZO等的透明材料組成的導(dǎo)電層，并利用光致抗蝕劑作為蝕刻掩膜進(jìn)行蝕刻，以形成多個(gè)像素電極191、多個(gè)接觸助件81和82、和多個(gè)天橋83。然后，在像素電極191上涂覆校準(zhǔn)層11，以完成薄膜晶體管面板100。
在薄膜晶體管面板100上形成多個(gè)隔離件(未示出)。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，通過使用例如隔離件分散劑，隔離件可以是在薄膜晶體管面板100上均勻分布的珠形隔離件。
通過使用例如液晶沉積器10，將液晶300沉積在薄膜晶體管面板100上。液晶沉積器10連接至位置控制器15，并利用向上、下、右、左方向的移動將液晶300沉積在薄膜晶體管面板100上的預(yù)定位置。
參照圖11至圖14，描述制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的LCD的共用電極面板200的方法。
圖11至14是用于示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的LCD的制造方法的共用電極面板200的截面視圖。
參照圖11，在包含諸如透明玻璃的材料的上絕緣基板210上形成有不透明材料組成的阻光件220。在絕緣基板210上形成多個(gè)濾色片230。可以在上絕緣基板210上涂覆具有色譜特征的感光顏料分散樹脂，并且樹脂層可以是光蝕刻的，或可以使用噴墨印刷方法以形成紅色、綠色、和藍(lán)色的濾色片230。
參照圖12，在濾色片230和阻光件220上形成由諸如ITO等透明導(dǎo)電材料組成的共用電極270。然后，在共用電極270上涂覆第二校準(zhǔn)層21。
然后，可以在共用電極面板200上的顯示區(qū)域A的外部形成多個(gè)隆起310。通過使用例如分散劑，涂覆隆起310，以包圍顯示區(qū)域A的周邊。根據(jù)分散劑的注入量，可以控制隆起310的高度和寬度。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，隆起310的高度可以小于LCD的單元間隙。因此，可以形成隆起310，而不用另外的掩膜。
使用例如紫外線照射，可以硬化隆起310。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，聚合物樹脂通過隆起310的光啟始劑的反應(yīng)而硬化。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，除了紫外線照射之外，可以實(shí)施熱硬化過程。熱硬化過程在大約120℃溫度下進(jìn)行大約60分鐘，以完全硬化隆起310的剩余聚合物樹脂。
參照圖14，在由隆起310所包圍的區(qū)域外部形成密封劑320。通過使用分散劑，涂覆密封劑320，以包圍隆起310的外周。根據(jù)分散劑的注入量，可以控制密封劑320的高度和寬度。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，考慮作用于兩個(gè)面板100和200上的壓力，密封劑320的高度可以等于或大于單元間隙。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，可以在真空環(huán)境下組裝薄膜晶體管面板100和共用電極面板200。
薄膜晶體管面板100與共用電極面板200之間的密封劑320可以通過紫外線照射硬化。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，可以實(shí)施熱硬化過程。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，液晶300沉積在薄膜晶體管排列面板100上，而隆起310和密封劑320形成在共用電極面板200上。在本發(fā)明的實(shí)施例中，液晶300可以沉積在共用電極面板200上，隆起310和密封劑320可以形成在薄膜晶體管面板100上。在本發(fā)明的實(shí)施例中，液晶300、隆起310、和密封劑320可以形成在同一面板上。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，隆起310形成在密封劑320與顯示區(qū)域A之間。因此，可以防止液晶300流動到兩個(gè)面板100和200的邊緣，從而可以保持單元間隙均勻。此外，隆起310，在結(jié)合兩個(gè)面板100和200之前，防止液晶300與未硬化狀態(tài)下的密封劑320相接觸。因此，隆起310避免液晶300受到處于未硬化狀態(tài)下的密封劑320污染。而且，隆起310可以以與形成密封劑320的工藝相同的工藝而形成，無需另外掩膜。
盡管已經(jīng)參照附圖描述了本發(fā)明的例示性實(shí)施例，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說可以理解，本發(fā)明并不限于這些明確的實(shí)施例，而是在不偏離本發(fā)明精神和范圍的條件下，可以進(jìn)行各種改變和修正。所有這些改變和修正都應(yīng)包括在所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示器，包括第一和第二面板，彼此相對；密封劑，設(shè)置在所述第一和第二面板之間，并沿所述第一和第二面板之一的周邊形成；隆起，設(shè)置在形成所述密封劑的同一面板上，并沿所述密封劑所包圍的顯示區(qū)域的周邊的至少一部分而形成；以及液晶層，被所述密封劑包圍，并設(shè)置在所述第一和第二面板之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述隆起的高度小于所述密封劑的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述隆起包括多個(gè)不連續(xù)的突起。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述隆起包括第一隆起和第二隆起，所述第二隆起形成在所述第一隆起與所述密封劑之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器，其中，所述隆起包含以下之一丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、丙烯酸環(huán)氧樹脂、或酚醛樹脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器，還包括設(shè)置在所述第一和第二面板之間的多個(gè)隔離件。
7.一種液晶顯示器，包括第一和第二面板，彼此相對；密封劑，設(shè)置在所述第一和第二面板之間，并沿所述第一和第二面板之一的周邊形成；隆起，設(shè)置在形成所述密封劑的同一面板上，并沿所述密封劑所包圍的顯示區(qū)域的周邊的至少一部分而形成；多個(gè)球形隔離件，設(shè)置在所述第一和第二面板之間；以及液晶層，被所述密封劑包圍，并設(shè)置在所述第一和第二面板之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示器，其中，所述隆起的高度小于所述密封劑的高度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示器，其中，所述隆起包括多個(gè)不連續(xù)的突起。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示器，其中，所述隆起包括第一隆起和第二隆起，所述第二隆起形成在所述第一隆起與所述密封劑之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示器，其中，所述隆起包含熱硬化材料或光硬化材料。
12.一種制造液晶顯示器的方法，包括形成具有多個(gè)薄膜的第一和第二面板；在所述第一和第二面板之一上形成隆起；硬化所述隆起；形成包圍所述第一和第二面板之一上的所述隆起的密封劑；組裝所述第一面板和所述第二面板；以及硬化所述密封劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述隆起的高度小于所述密封劑的高度。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，還包括在形成所述多個(gè)隆起之前，在形成所述隆起的同一面板上形成校準(zhǔn)層。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述隆起包括第一隆起和第二隆起，所述第二隆起形成在所述第一隆起與所述密封劑之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述隆起和所述密封劑的硬化是通過利用光照射和熱輻射之一執(zhí)行的。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，形成所述第一面板包括在第一基板上形成柵極線；在所述柵極線上形成半導(dǎo)體；形成與所述柵極線交叉的數(shù)據(jù)線和漏電極；以及形成連接至所述漏電極的像素電極。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，還包括在形成所述第一面板之后，在所述第一面板上沉積液晶。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，還包括在形成所述第一面板之后，在所述第一面板上分散多個(gè)隔離件。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，形成所述第二面板包括在第二基板上形成阻光件；在所述第二基板上形成濾色片；以及在所述阻光件和所述濾色片上形成共用電極。
21.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述第一和第二面板在真空環(huán)境下組裝。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種液晶顯示器，包括第一和第二面板，彼此相對；密封劑，設(shè)置在第一與第二面板之間，并沿兩個(gè)面板之一的周邊形成；多個(gè)隆起，設(shè)置在形成密封劑的同一面板上，并沿密封劑所包圍的顯示區(qū)域的周邊形成；以及液晶層，被密封劑包圍，并設(shè)置在第一與第二面板之間。
文檔編號G02F1/1333GK1924675SQ20061012775
公開日2007年3月7日 申請日期2006年9月1日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月2日
發(fā)明者張良圭 申請人:三星電子株式會社