專利名稱：光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型關(guān)于一種潔凈裝置，尤指一種光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置。
背景技術(shù)：
光刻制程是半導(dǎo)體制程圖案化的重要制程技術(shù)，當(dāng)導(dǎo)體或半導(dǎo)體材料層沉積于基板之后，會將光致抗蝕劑涂布于上述材料層上，利用光源通過具有圖案設(shè)計(jì)的屏蔽而照射光致抗蝕劑特定區(qū)域，進(jìn)而使用顯影液溶解部分光致抗蝕劑，以形成阻擋蝕刻或阻擋離子布值的圖案化掩膜層(mask)。光刻制程的曝光顯影技術(shù)，是利用光的能量使受光源照射的光致抗蝕劑性質(zhì)改變，舉正型光致抗蝕劑(positive photoresist)為例，正型光致抗蝕劑曝光部分其鍵結(jié)被打斷，可被顯影液溶解，而未曝光部分則存留使影像出現(xiàn)，做為蝕刻的阻擋；反之，負(fù)型光致抗蝕劑(negative photoresist)感光后產(chǎn)生鍵結(jié)，變成不溶解的光致抗蝕劑；顯影即是利用曝光部分及未曝光部分的光致抗蝕劑在溶解度的差別達(dá)成。
光致抗蝕劑涂布設(shè)備的潔凈度在光刻制程的良率上扮演相當(dāng)關(guān)鍵的角色，由于光致抗蝕劑材料容易附著或沉積于涂布設(shè)備的各元件上，光致抗蝕劑涂布設(shè)備容易沾染灰塵粒子或是光致抗蝕劑凝固物質(zhì)，進(jìn)而影響光致抗蝕劑涂布的品質(zhì)；因此，為維持光致抗蝕劑涂布設(shè)備的清潔度，定期的清潔與保養(yǎng)就成為必須的工作；然而，光致抗蝕劑涂布設(shè)備需要清潔的元件眾多，加上光致抗蝕劑黏稠的特性去除不易，清潔工作常壓縮到人力與時(shí)間，且因?yàn)樗褂糜谇逑垂庵驴刮g劑的有機(jī)溶劑稀釋液(thinner)，其揮發(fā)大量的有機(jī)氣體，更加危害從業(yè)人員的身體健康，因此清潔光致抗蝕劑涂布設(shè)備的工作，成為光刻制程中相當(dāng)令人困擾的保養(yǎng)工作。
一般光致抗蝕劑涂布設(shè)備的潔凈步驟大致如下說明于無塵室地面上先行鋪設(shè)一塑膠布以及一沾有大量光致抗蝕劑稀釋液的無塵擦拭布，逐步拆解噴濺光致抗蝕劑液或顯影液的基座(cup)、連接基座的稀釋液管、環(huán)狀O形圈(Oring)、外蓋(outer cover)、環(huán)狀噴嘴(ring nozzle)等元件，并將上述元件放置在地面塑膠布上，并特別將光致抗蝕劑材料附著量較多、分布較為寬廣的外蓋以及環(huán)狀噴嘴放置于沾有光致抗蝕劑稀釋液的無塵擦拭布上，能使稀釋液得以逐漸溶解外蓋以及環(huán)狀噴嘴上的光致抗蝕劑，以利后續(xù)的清潔作業(yè)；接著，潔凈人員徒手以沾有光致抗蝕劑稀釋液的無塵擦拭布清除上述元件附著的光致抗蝕劑；此外，光致抗蝕劑涂布設(shè)備的基座或槽體所有溝槽位置均需以人員徒手利用稀釋液進(jìn)行潔凈工作。
光致抗蝕劑涂布設(shè)備的傳統(tǒng)潔凈過程中，無塵擦拭布所能吸附的光致抗蝕劑稀釋液有限，加上需覆蓋的元件面積廣大，往往需要多數(shù)清潔人員才足以執(zhí)行清潔光致抗蝕劑涂布設(shè)備，且光致抗蝕劑涂布設(shè)備溝槽內(nèi)死角更是清潔人員徒手所不及之處；此外，在垂直層流式(down flow)的無塵室中，由于地面鋪上不透氣的塑膠布，會使得當(dāng)區(qū)的有機(jī)揮發(fā)氣體不易逸散，加上潔凈時(shí)間冗長，更增加了現(xiàn)場操作人員吸入過多有機(jī)氣體的危險(xiǎn)性。
為此，如能創(chuàng)作出一清潔裝置，其不僅可縮短從業(yè)人員接觸有機(jī)溶劑的時(shí)間，又能兼顧保養(yǎng)清潔度的目的，使光致抗蝕劑涂布設(shè)備元件的潔凈保養(yǎng)工作達(dá)到高效率，節(jié)省成本，又維護(hù)從業(yè)人員身體健康的效果，將是人們所期盼的。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，可有效率的清洗光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件，不僅可潔凈元件中死角，更可減少保養(yǎng)人員暴露于有機(jī)溶劑中的時(shí)間。
本實(shí)用新型的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，包括一槽體，容置該光致抗蝕劑涂布設(shè)備的一元件及一有機(jī)溶劑；至少一氣體收集器，連接于槽體；以及一氣體排放管，連接至少一氣體收集器；其中，至少一氣體收集器收集槽體內(nèi)該有機(jī)溶劑的揮發(fā)性氣體。
為節(jié)省有機(jī)溶劑使用量，并配合光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件外型，本實(shí)用新型潔凈裝置中用以浸泡欲清洗元件的槽體外型不限制，較佳為一環(huán)形槽體；而本實(shí)用新型的潔凈裝置較佳更包括一組合于槽體的上蓋，此上蓋較佳的可具有復(fù)數(shù)個(gè)固定元件，使上蓋與槽體組合時(shí)，可固定于槽體上，一方面避免上蓋滑落，另一方面又可密封槽體，減少槽體內(nèi)有機(jī)溶劑的氣體外逸，其中，用以作為固定元件的結(jié)構(gòu)不限，較佳的可為復(fù)數(shù)個(gè)扣環(huán)、扣勾等，且除上蓋外，槽體也同樣形成有對應(yīng)的扣環(huán)、扣勾，以利相互扣合密封。
由于用以清洗光致抗蝕劑的稀釋液多為有機(jī)溶劑，且當(dāng)各元件置入環(huán)形槽體中進(jìn)行清洗后，元件欲取出時(shí)，常會因?yàn)楹缥F(xiàn)象，而必須相當(dāng)費(fèi)力的拉起各元件，同時(shí)，接觸槽體底面的元件也會因?yàn)楸蝗軇┙n的程度不夠，而導(dǎo)致較差的清洗效果，因此，本實(shí)用新型潔凈裝置的槽體底部，較佳的可具有復(fù)數(shù)個(gè)支撐架或突塊，以架空各浸入的元件，不僅可使光致抗蝕劑被稀釋清洗完全，也可避免從溶劑中取出各元件時(shí)的虹吸現(xiàn)象。
本實(shí)用新型光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置中的有機(jī)溶劑供應(yīng)單元，其可供應(yīng)的有機(jī)溶劑種類不限，較佳為可用以溶解光致抗蝕劑而達(dá)清洗光致抗蝕劑涂布設(shè)備元件效果的有機(jī)溶劑，如一光致抗蝕劑稀釋液；而有機(jī)溶劑供應(yīng)單元與槽體相連接的方式不限，較佳為以一耐有機(jī)溶劑的材質(zhì)所制成的管路，以利有機(jī)溶劑輸送至槽體內(nèi)。
為避免槽體內(nèi)的有機(jī)溶劑因過多而溢出，本實(shí)用新型的潔凈裝置更可包括一液面檢測部分，以觀測該槽體內(nèi)部有機(jī)溶劑的液面高度，此液面檢測部分可以是一耐酸堿的透明管，與槽體相連接，或是一形成于槽體側(cè)壁的透明壁，以清楚看到槽體內(nèi)液面的升降。
本實(shí)用新型的潔凈裝置上，連接槽體上復(fù)數(shù)個(gè)氣體收集器的氣體排放管，主要排出收集自槽體的有機(jī)溶劑的揮發(fā)氣體，其較佳的連接至一抽氣裝置，以有效的使氣體排出裝置外。同時(shí)，本實(shí)用新型的槽體更可包括一排出閥，以利更換槽體內(nèi)有機(jī)溶劑時(shí)，溶劑的排出。
本實(shí)用新型較佳的可與一移動裝置結(jié)合成一移動式潔凈裝置，以利于移動至無塵室各處進(jìn)行光致抗蝕劑涂布設(shè)備元件的清洗；移動裝置與潔凈裝置可以一軸承相連接為佳，以方便潔凈裝置在平行放置的使用后，可利用軸承進(jìn)行直立式旋轉(zhuǎn)，便于收藏，不占無塵室空間；適用于本實(shí)用新型的移動裝置不限，較佳為一推車，以增加本實(shí)用新型清洗裝置的機(jī)動性。
根據(jù)上述方案，本實(shí)用新型設(shè)計(jì)簡單，可大幅縮短人員處理的時(shí)間，提高清洗元件的效率，且連人力無法觸及的元件死角均可清洗干凈，同時(shí)更降低了人員暴露于有機(jī)溶劑、氣體的時(shí)間，確保人員的健康。


圖1為本實(shí)用新型清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型移動式清洗裝置的示意圖。
主要元件符號說明10槽體 11注入口12排出閥13液面檢知元件 14支撐架15扣環(huán)20上蓋 21把手 25勾環(huán)30氣體收集器 40氣體排放管00潔凈裝置50推車 51，52軸承 60有機(jī)溶劑供應(yīng)單元61輸送管具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的光致抗蝕劑涂布設(shè)備元件的潔凈裝置提供了一種既能簡易清洗元件，維持元件潔凈度，又能有效率的節(jié)省人力支出的潔凈裝置，且當(dāng)本潔凈裝置不用時(shí)，又可直立收起，不占空間。
由于本潔凈裝置用以盛裝稀釋光致抗蝕劑的有機(jī)溶劑，因此適用的材料應(yīng)為耐酸堿的防腐蝕材料為佳，于本實(shí)施例中，所有潔凈裝置主要元件均為不銹鋼材料。
參考圖1所示，本實(shí)用新型的潔凈裝置包括有一上蓋20以及一槽體10，其中，上蓋20設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)把手21，以利于動作時(shí)的搬動與裝設(shè)，同時(shí)在上蓋20周圍并設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)勾環(huán)25，以于組合時(shí)，與槽體10上的復(fù)數(shù)個(gè)扣環(huán)15相互扣合，防止槽體10內(nèi)溶液的泄漏與溢出。
本實(shí)施例中的清洗槽體10為一環(huán)狀槽體，以利于放入光致抗蝕劑涂布設(shè)備的環(huán)狀外蓋、環(huán)狀噴嘴等元件，此環(huán)狀設(shè)計(jì)也可減少有機(jī)溶劑的使用量；此外，槽體10具一注入口11，其以一輸送管61與一有機(jī)溶劑供應(yīng)單元60相連通，以提供一溶劑于槽體10中；而透過位于槽體10底部的一排出閥12，可有利于有機(jī)溶劑的移出；另外，在上蓋20與槽體10結(jié)合后，將無法直接看到有機(jī)溶劑液面的高度，因此于槽體10上更可加設(shè)一液面檢知元件13，此元件可以是一鐵氟龍的透明管，也可以整合于槽體10的壁面上，以隨時(shí)監(jiān)控液面高度，避免溶劑使用過量造成溢出污染。
在槽體10的底面，另設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)支撐元件，于本實(shí)施例中為ㄇ字型的支撐架14，此支撐架14的作用可使環(huán)狀外蓋、環(huán)狀噴嘴等元件放入槽體10后，可與槽體10底面保持一空間，使欲潔凈的元件充分浸泡到有機(jī)溶劑，達(dá)成全面清潔的效果，同時(shí)，此支撐架14也可消去環(huán)形元件在取出時(shí)產(chǎn)生的虹吸力，而使取出元件時(shí)更輕松不費(fèi)力。
由于用以清洗殘留光致抗蝕劑的稀釋液為高揮發(fā)性的有機(jī)溶劑，因此傳統(tǒng)的清洗保養(yǎng)大多在一隔離的房間內(nèi)進(jìn)行，然而，在該清洗室中操作的人員仍有可能吸入過量有機(jī)氣體影響健康，因此，本實(shí)施例的潔凈裝置更設(shè)置了復(fù)數(shù)個(gè)氣體收集器30，其與槽體10相連接，以收集來自槽體10內(nèi)溶劑揮發(fā)出的有機(jī)氣體，最后并透過氣體排放管40將槽體內(nèi)揮發(fā)性氣體有效的抽至潔凈裝置之外，確保操作者或周邊人員的健康。
實(shí)際上，光致抗蝕劑涂布設(shè)備可能遍布無塵室各區(qū)，而為使本潔凈裝置更具有機(jī)動性，本實(shí)用新型另設(shè)計(jì)一結(jié)合移動裝置的移動式清洗裝置，如圖2所示，本實(shí)用新型潔凈裝置00架設(shè)于一移動裝置上，于本實(shí)施例為一不銹鋼推車50，潔凈裝置00與推車50之間以軸承51，52相結(jié)合，此軸承機(jī)構(gòu)可使?jié)崈粞b置00不用時(shí)，利于旋動整個(gè)潔凈裝置00，使?jié)崈粞b置00成一直立狀收起，不占空間；為使?jié)崈粞b置00可安全穩(wěn)定的架設(shè)于移動裝置上，較佳地，在移動裝置上設(shè)有支撐臺(圖未示)，以使重達(dá)幾十公斤的潔凈裝置00與被清洗的元件可平穩(wěn)的在移動裝置上進(jìn)行清洗。
本實(shí)用新型潔凈裝置的操作方法，只要將裝設(shè)有潔凈裝置00的推車50推至欲進(jìn)行清洗保養(yǎng)的光致抗蝕劑涂布設(shè)備附近，自有機(jī)溶劑供應(yīng)單元60中，通過輸送管61將一有機(jī)溶劑注入槽體10中，并拆卸下光致抗蝕劑涂布設(shè)備的欲清洗元件，一一浸入含有稀釋液的清洗槽體10內(nèi)，蓋上上蓋20并鎖合，靜置1-2小時(shí)之后，即可取出浸泡的元件，再一一擦去多余的稀釋液即可。
上述實(shí)施例僅是為了方便說明本實(shí)用新型所作的舉例而已，本實(shí)用新型所主張的權(quán)利范圍應(yīng)以權(quán)利要求書為準(zhǔn)，而并不局限于上述實(shí)施例。
權(quán)利要求1.一種光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，用以潔凈一光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件，其特征在于，包括一槽體，用以容置該光致抗蝕劑涂布設(shè)備的一元件及一有機(jī)溶劑；至少一氣體收集器，連接于該槽體；一氣體排放管，連接該至少一氣體收集器；其中，該至少一氣體收集器收集該槽體內(nèi)該有機(jī)溶劑的揮發(fā)性氣體。
2.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該槽體包含有一上蓋。
3.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，更包含一有機(jī)溶劑供應(yīng)單元，連接至該槽體，以供應(yīng)該有機(jī)溶劑于該槽體內(nèi)。
4.如權(quán)利要求3所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該有機(jī)溶劑供應(yīng)單元以一管路與該槽體連接。
5.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該槽體包含一排出閥，以排出該有機(jī)溶劑。
6.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該槽體為一環(huán)形。
7.如權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該上蓋具有復(fù)數(shù)個(gè)使該上蓋與該槽體組合時(shí)固定于該槽體上的固定元件。
8.如權(quán)利要求7所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該復(fù)數(shù)個(gè)固定元件為復(fù)數(shù)個(gè)扣環(huán)。
9.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該槽體側(cè)面更包括一液面檢知元件。
10.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該槽體內(nèi)底部具有復(fù)數(shù)個(gè)支撐架。
11.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該氣體排放管連接至一抽氣裝置。
12.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該有機(jī)溶劑為一光致抗蝕劑稀釋劑。
13.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，其與一移動裝置結(jié)合成一移動式清洗裝置。
14.如權(quán)利要求13所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該移動裝置與該清洗裝置以一軸承相連接。
15.如權(quán)利要求13所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，位于該移動裝置上的該潔凈裝置在收起狀態(tài)成一直立式。
16.如權(quán)利要求13所述的光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，其特征在于，該移動裝置為一推車。
專利摘要本實(shí)用新型有關(guān)于一種光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件潔凈裝置，包括一槽體，容置該光致抗蝕劑涂布設(shè)備的一元件及一有機(jī)溶劑；至少一氣體收集器，連接于該槽體；以及一氣體排放管，連接該至少一氣體收集器；其中，該至少一氣體收集器收集該槽體內(nèi)該有機(jī)溶劑的揮發(fā)性氣體。本實(shí)用新型的潔凈裝置可有效率的清洗光致抗蝕劑涂布設(shè)備的元件，不僅可潔凈元件中死角，更可減少保養(yǎng)人員暴露于有機(jī)溶劑中的時(shí)間。
文檔編號G03F7/26GK2888496SQ20062000044
公開日2007年4月11日 申請日期2006年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月9日
發(fā)明者張益彰, 董陵祥, 孫秉權(quán), 陳新豪 申請人:廣輝電子股份有限公司