專利名稱：反射板和液晶顯示設(shè)備的制作方法
反射板和液晶顯示設(shè)備背景技術(shù)1. 技術(shù)領(lǐng)域本申請(qǐng)基于并要求了 2006年8月2日提交的日本專利申請(qǐng)編號(hào) 2006-211256的優(yōu)先權(quán)的權(quán)益，其全部公開(kāi)通過(guò)引用被集及于此。本發(fā)明涉及一種反射板和液晶顯示設(shè)備，以及具體來(lái)說(shuō)，涉及一 種包括不均勻圖案的反射板以及涉及包括上述反射板的通常為半透反 射或反射型的液晶顯示設(shè)備。2. 現(xiàn)有技術(shù)對(duì)于通常的透射型液晶顯示設(shè)備，諸如用于筆記本式個(gè)人計(jì)算機(jī) 的顯示器或監(jiān)視器，由于液晶顯示設(shè)備的表面會(huì)反光，因此很難在強(qiáng) 烈的太陽(yáng)光下在戶外環(huán)境中看清顯示器。因此，半透反射型液晶顯示 設(shè)備近來(lái)被用在移動(dòng)裝置的顯示單元的多種情況中，諸如移動(dòng)電話， 以及數(shù)字視頻攝像機(jī)，數(shù)碼相機(jī)等等。在室內(nèi)，該半透反射型液晶顯 示設(shè)備使用背光作為光源，以及在戶外，其使用諸如太陽(yáng)光的環(huán)境光 作為光源。由此，可以精細(xì)地觀察該顯示器，由此使得其被作為攝像 頭或移動(dòng)裝置的顯示器的最佳選擇。進(jìn)一步，不利用背光而表現(xiàn)出低 功耗的反射型液晶顯示設(shè)備還廣泛地用于便攜式游戲機(jī)等。上述半透反射或反射型液晶顯示設(shè)備使用反射板用于反射環(huán)境 光。對(duì)于提供反射板，通常使用的是這樣一種方法，即通過(guò)利用感光 性的有機(jī)膜在液晶顯示設(shè)備的面板內(nèi)提供不均勻的圖案(例如，參見(jiàn) 日本未審專利公開(kāi)S58-125084, pp.4-7以及圖1 (專利文獻(xiàn)l)以及曰 本未審專利公開(kāi)H4-243226， pp.3-5以及圖1 (專利文獻(xiàn)2))。其理 由是上述方法具有與制造TFT (薄膜晶體管)型液晶顯示設(shè)備的工 藝(具體來(lái)說(shuō)，具有利用抗蝕劑的光刻蝕法工藝)的較密切的關(guān)系； 用于形成反射板的工藝可以以很低的成本實(shí)現(xiàn)；以及與通過(guò)形成不均 勻的其他方法獲得的反射性質(zhì)相比，由該工藝獲得的反射性質(zhì)更加出 色。如果在具有包括不均勻圖案的反射板的上述液晶顯示設(shè)備中不均勻表現(xiàn)出較高的規(guī)則性，則當(dāng)諸如直接陽(yáng)光的強(qiáng)光對(duì)其輻照時(shí)，由于 該光的干涉效應(yīng)而使得液晶顯示設(shè)備的表面看起來(lái)閃爍七彩色。上述 現(xiàn)象對(duì)于通常也用在戶外的移動(dòng)裝置等就變得更加關(guān)鍵。因此，存在 著被提出用于處理上述缺點(diǎn)的各種方法。上述干擾的產(chǎn)生與不均勻圖案的周期性密切相關(guān)，以及由于干擾 具有對(duì)于光的波長(zhǎng)的依賴性而產(chǎn)生了類似彩虹的彩色。由此，可以通 過(guò)使得不均勻圖案變得隨機(jī)等來(lái)減輕該干涉。例如> 日本未審專利公 開(kāi)H8-184846， pp.3-6以及圖1 (專利文獻(xiàn)3)公開(kāi)了一種用于不規(guī)則 地布置反射板的不均勻的方法。此外，日本未審專利公開(kāi)H11-337964 (專利文獻(xiàn)4)以及日本未審專利公開(kāi)2002-142115 (專利文獻(xiàn)5)公 開(kāi)了該不均勻的具體設(shè)計(jì)方法。在上述的文獻(xiàn)中，專利文獻(xiàn)4公開(kāi)了一種方法，其隨機(jī)地布置不 均勻的圖案以及在除了部分格點(diǎn)之外的密集網(wǎng)格狀圖案或四方網(wǎng)格狀 圖案的每個(gè)格點(diǎn)處布置不均勻散射反射電極的突出部分或凹陷部分的 中心。當(dāng)格點(diǎn)實(shí)際上隨機(jī)地移動(dòng)時(shí)，存在這樣的情況，其中如圖13所 示，鄰近的凹陷部分或突出部分彼此重疊，以及該重疊突出或凹陷部 分的面積變得非常大。因此，與期望的形狀相比，如此獲得的形狀變 得更加平坦，以及用于散射光的有效面積減少了。同時(shí)，如專利文獻(xiàn)4 的圖3所示，如果以如下方式隨機(jī)地移動(dòng)格點(diǎn)，則不能充分地抑制反 射光的干涉，其中所述方式是鄰近的凹陷部分或突出部分不彼此重疊。同時(shí)，專利文獻(xiàn)5公開(kāi)了一種方法，其以大體上螺旋形的形狀或 部分凹陷部分或突出部分。利用該方法，如專 利文獻(xiàn)5的圖1 (本發(fā)明的本申請(qǐng)的圖15)所示，當(dāng)存在大量突出部 分或凹陷部分(即，如稍后提供例子，當(dāng)相對(duì)于液晶顯示設(shè)備的單元 像素來(lái)說(shuō)不均勻部分非常小時(shí))時(shí)，調(diào)節(jié)布局是有效的。然而，近來(lái) 的液晶顯示設(shè)備已經(jīng)被發(fā)展為具有高清晰度，以及單元像素已經(jīng)變得 更小了。另一方面，已經(jīng)認(rèn)識(shí)到，由于形成不均勻的光刻蝕法中的限 制，因此不能減小不均勻圖案的尺寸。因此，在高精細(xì)的液晶顯示設(shè) 備中，形成在單元像素處的突出部分或凹陷部分的數(shù)目自然而然地變 得更少了。因此，上述專利文件中公開(kāi)的布局對(duì)減小干涉無(wú)效。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明已經(jīng)被設(shè)計(jì)用于克服上述缺點(diǎn)。因此，本發(fā)明的示例性對(duì) 象在于提供一種反射板以及一種液晶顯示設(shè)備，其能夠形成不均勻圖 案，該不均勻圖案可以可靠地抑制反射光的干涉。為了實(shí)現(xiàn)上述示例性目的，根據(jù)本發(fā)明的示例性方面的反射板是 這樣一種反射板，其包括凹陷或突出部分以及形成在該凹陷或突出部 分上的反射膜其中凹陷或突出部分的單元形狀是多邊形；除了構(gòu)成 凹陷或突出部分的多邊形的質(zhì)心之外的任意點(diǎn)被設(shè)置在如下的位置 處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有序方式的格點(diǎn)一致；以及每個(gè)單元形 狀的多邊形被布置在相對(duì)于原點(diǎn)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。利用本發(fā)明，由于本發(fā)明提供如下的反射板，該反射板包括凹陷 或突出部分以及形成在該凹陷或突出部分上的反射膜其中凹陷或突 出部分的單元形狀是多邊形；除了構(gòu)成凹陷或突出部分的多邊形的質(zhì) 心之外的任意點(diǎn)被設(shè)置在如下的位置處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有 序方式的格點(diǎn)一致；以及每個(gè)單元形狀的多邊形被布置為同時(shí)相對(duì)于 原點(diǎn)而隨機(jī)旋轉(zhuǎn)，因此可以形成具有如下不均勻圖案的液晶顯示設(shè)備 以及反射板，其中該不均勻圖案可以可靠地抑制反射光干涉。


圖1A示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)例的反射板的頂部平面圖； 圖IB示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的液晶顯示設(shè)備中一個(gè)像素的 典型結(jié)構(gòu)的剖面圖；圖2示出了用于制造TFT襯底的方法的步驟的剖面圖，其包括根 據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的反射板；圖3示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖； 圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖的放大圖；圖5示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的光掩膜的設(shè)計(jì)值之間的關(guān)系曲線；圖6A示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的反射板的頂部平面圖； 圖6B示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖； 圖7示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖的放大圖；圖8示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)例的光掩膜的設(shè)計(jì)值之間的關(guān)系曲線；圖9A示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)例的反射板的頂部平面圖； 圖9B示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖；圖10示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖的放大圖；圖ll示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)例的光掩膜的設(shè)計(jì)值之間的關(guān)系曲線；圖12示出了根據(jù)本發(fā)明第一至第三實(shí)例的光掩膜的設(shè)計(jì)值以及反 射系數(shù)之間的關(guān)系曲線；圖13示出了相關(guān)反射板的結(jié)構(gòu)的頂部平面圖； 圖14示出了相關(guān)反射板的結(jié)構(gòu)的頂部平面圖； 圖15示出了相關(guān)反射板的結(jié)構(gòu)的頂部平面圖；以及圖16示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的反射板的剖面圖。
具體實(shí)施方式
如圖1A、圖6A以及圖9A所示，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，
其上安裝有反射板3的半透反射或反射型液晶顯示設(shè)備的目的在于這 樣一種反射板3，該反射板3包括凹陷部分或突出部分1以及形成在凹 陷或突出部分1上的反射膜21，其中凹陷或突出部分1的單元形狀 是多邊形；以如下方式布置該凹陷或突出部分1，其中除了構(gòu)成凹陷或突出部分1的多邊形(42， 42a, 50)的質(zhì)心之外的其任意點(diǎn)(43， 43a， 43b)被設(shè)置在如下位置處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有序方式的格點(diǎn) 45相一致；以及每個(gè)單元形狀的多邊形(42， 42a， 50)被布置在相對(duì) 于相應(yīng)原點(diǎn)(43， 43a， 43b)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。在圖1A，圖6A以 及圖9A中，具有格子陰影線的區(qū)域表明凹陷或突出部分1。光掩膜被用于制造根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的反射板。該光掩膜 用于通過(guò)利用感光性有機(jī)膜在液晶顯示設(shè)備的液晶面板內(nèi)提供不均勻 圖案，如下地形成該光掩膜。(1) 假設(shè)有序方式的網(wǎng)格狀圖案46位于光掩膜上，除了光屏蔽 部分32 (其對(duì)應(yīng)于構(gòu)成凹陷或突出部分1的單元形狀的多邊形(42， 42a， 50))的質(zhì)心之外的任意點(diǎn)(該點(diǎn)與凹陷或突出部分1的單個(gè)點(diǎn)(43， 43a， 43b)相對(duì)應(yīng))被布置在每個(gè)格點(diǎn)45上。(2) 所有布置在格點(diǎn)45上的多邊形的光屏蔽部分32被移動(dòng)任意(3)在鄰近的多邊形光屏蔽部分32不彼此重疊的范圍內(nèi)，相對(duì) 于相應(yīng)的格點(diǎn)45隨機(jī)地旋轉(zhuǎn)每個(gè)多邊形的光屏蔽部分32。因此，當(dāng)通過(guò)利用上述光掩膜形成了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的 反射板時(shí)，其被形成為如下結(jié)構(gòu)。即，凹陷或突出部分1的單元形狀 是多邊形，以及除了構(gòu)成凹陷或突出部分1的多邊形(42， 42a， 50) 的質(zhì)心之外的其任意點(diǎn)(43， 43a， 43b)被設(shè)置在如下位置處，所述位 置是與作為原點(diǎn)的有序方式的格點(diǎn)45 —致，且每個(gè)單元形狀的多邊形 (42， 42a， 50)被布置在相對(duì)于相應(yīng)的原點(diǎn)(43,43a，43b)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的 位置處。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，隨機(jī)地布置了構(gòu)成凹陷或突出部分1 的多邊形。由此，可以抑制由于反射光的干涉效應(yīng)而導(dǎo)致的反射板的 著色。此外，在鄰近的多邊形不彼此重疊的范圍內(nèi)，通過(guò)對(duì)構(gòu)成凹陷 或突出部分1的多邊形的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化，可以獲得高效的光散射能 力。此外，由于光掩膜上的單元形狀是多邊形，因此與布置大量圓或 等邊多邊形的情形相比，可以減小數(shù)據(jù)量。此外，在曝光步驟中對(duì)感光性有機(jī)膜進(jìn)行過(guò)度曝光，在曝光步驟 之后進(jìn)行的加熱處理中，感光性有機(jī)膜被加熱至高于其軟化溫度的溫 度，或在該加熱處理前或后，使感光性有機(jī)膜與藥物流體或蒸汽相接 觸，從而將凹陷或突出部分1大體上構(gòu)造為圓形。因此，輻照至反射 板的光可以被同等地散射至所有方向，由此可以獲得均勻的散射能力。通常，可以利用有機(jī)物質(zhì)精細(xì)地形成凹陷或突出部分1。例如，可 以使用基于酚醛清漆的樹(shù)脂，基于丙烯的樹(shù)脂等。此外，從生產(chǎn)效率 的觀點(diǎn)來(lái)說(shuō)，期望向樹(shù)脂添加感光性成分。用于形成反射膜的材料可 以是反射光的任何種類，而更加優(yōu)選的是具有較高的反射系數(shù)。其例 子可以是諸如Ag， Al的金屬，以及Ag和Al的合金。此外，即使使用 了相同種類的金屬，通過(guò)控制金屬的顆粒大小，也可以在形成膜時(shí)改 變?cè)摻饘俚姆瓷湎禂?shù)。例如，可以通過(guò)限定工藝系數(shù)來(lái)控制顆粒大小， 所述工藝系數(shù)例如是在膜形成工藝中執(zhí)行的濺射中的真空度，濺射功 率，襯底的溫度等。用于在上述感光性有機(jī)膜上形成不均勻圖案的光掩膜具有作為單 元形狀的多邊形，以用于形成凹陷或突出部分，以及通過(guò)以下三個(gè)步 驟制造。首先，將有序方式的網(wǎng)格狀圖案實(shí)際地配置在光掩膜上，且 單元形狀的每個(gè)質(zhì)心被布置在相應(yīng)的格點(diǎn)處。其次，布置在網(wǎng)格狀圖 案上的所有單元形狀被移動(dòng)了任意的量。通過(guò)上述處理，單元形狀的 質(zhì)心以及格點(diǎn)變得從彼此移開(kāi)。第三，相對(duì)于相應(yīng)的格點(diǎn)隨機(jī)地旋轉(zhuǎn) 每個(gè)單元形狀。旋轉(zhuǎn)的范圍被設(shè)置為如下方式，即，鄰近的單元形狀 不彼此重疊。隨后，通過(guò)利用光掩膜對(duì)感光性有機(jī)膜進(jìn)行曝光、顯影以及熱處 理，從而在該有機(jī)膜上形成與布置在光掩膜上的單元形狀相對(duì)應(yīng)的凹 陷部分或突出部分。隨后，在其上形成反射膜以獲得完成的反射板。 凹陷部分或突出部分的最終形狀可以與形成在掩膜上的圖案的形狀相 同。然而，通過(guò)在曝光步驟中對(duì)感光性有機(jī)膜進(jìn)行過(guò)度曝光(就曝光 量而言)，可以將該形狀大體上變?yōu)閳A形。此外，在曝光步驟之后進(jìn) 行的加熱處理中，通過(guò)將感光性有機(jī)膜加熱到高于其軟化溫度的溫度 而使有機(jī)膜流體化，從而使其大體上變形為圓形。如另一實(shí)例的方法， 在加熱處理之前或之后，通過(guò)使有機(jī)膜與可溶解該有機(jī)膜的藥物流體 或藥物流體的流相接觸，從而將其大體上變?yōu)閳A形。將所獲得的凹陷部分或突出部分的形狀大體上變化為圓形的理由 是，由于可以將輻照到上述反射板的光反射光同等地向各個(gè)方向散射， 因此就高效地實(shí)現(xiàn)散射能力而言，這是很有益的。同時(shí)，將光掩膜上 的單元形狀確定為多邊形的理由如下。BP，如果在掩膜上配置大量圓 形或接近于圓形的等邊多邊形，則數(shù)據(jù)量增加了，由此使得當(dāng)形成光 掩膜時(shí)不是優(yōu)選的。當(dāng)光掩膜上的單元形狀的尺寸大約為3-20Pm時(shí)， 即使單元形狀是正方形形狀，通過(guò)上述方法也可以最終獲得大體上的 圓形形狀。因此，對(duì)于具有多邊形的單元形狀來(lái)說(shuō)不存在問(wèn)題。在下 文中，將參考附圖更具體地描述上述方案。本發(fā)明的示例性實(shí)施例類 似于上述液晶顯示設(shè)備的反射板。然而，本發(fā)明還包括如下結(jié)構(gòu)體的 配置，該結(jié)構(gòu)體包括上述目標(biāo)在于散射透射光的功能，以及本發(fā)明的 范圍和領(lǐng)域不局限于反射板。接下來(lái)，將參考實(shí)例更加詳細(xì)地描述根 據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的反射板。
第一實(shí)例首先，將通過(guò)參考圖1-圖5，圖12和圖16描述根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)例的液晶顯示設(shè)備和反射板。圖1A示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)例的 反射板的頂部平面圖，以及圖1B示意性地示出了半透反射型液晶顯示 設(shè)備的一個(gè)像素的結(jié)構(gòu)的剖面圖，其中圖1A所示的反射板安裝到該半 透反射型液晶顯示設(shè)備。圖2示出了在TFT襯底上制造反射板所執(zhí)行 的流程的步驟的剖面圖。此外，圖3示意性地示出了光掩膜的結(jié)構(gòu)的 頂部平面圖，圖4示出了其放大圖，以及圖5示出了用于描述光掩膜 設(shè)計(jì)值之間的關(guān)系的曲線。此外，圖12示出了光掩膜設(shè)計(jì)值和反射系 數(shù)之間關(guān)系的曲線，以及圖16示出了根據(jù)該實(shí)例的反射板的剖面圖。如圖1所示，包括透射區(qū)域和反射區(qū)域的半透反射型液晶顯示設(shè) 備包括襯底(被稱為TFT襯底IO)，其包括形成在反射區(qū)域中的不 均勻圖案化的反射板；另一襯底(被稱為相對(duì)襯底60)，其與TFT襯 底10相對(duì)；液晶70被注入在該兩個(gè)襯底之間；光學(xué)部件(未示出)， 其布置兩個(gè)襯底的外側(cè)上；背光單元(未示出)，其布置在TFT襯底 IO的背面上；等等。TFT襯底IO包括以大體上正交方式配置在玻璃襯底11上的多個(gè) 掃描線和多個(gè)信號(hào)線，以及薄膜晶體管(TFT)配置在交叉點(diǎn)的附近。 掃描線連接到柵電極12，以及信號(hào)線連接到源或者漏電極15。像素電 極連接到TFT，且其包括電氣地連接的反射膜211以及透射電極18。 通過(guò)柵極絕緣膜13，鈍化膜16以及有機(jī)膜19分別隔離像素電極的反 射膜211， TFT，掃描線以及信號(hào)線。不均勻圖案形成在有機(jī)膜19的 表面上，以及該反映有機(jī)膜的不均勻圖案的不均勻形狀被形成在反射 膜211的表面上。此外，相對(duì)襯底60包括形成在玻璃襯底61上的濾 色片62以及黑矩陣(未示出)，以及相對(duì)電極63形成在與上述像素 電極相對(duì)的位置處。此外，對(duì)準(zhǔn)膜22以及64形成在與兩個(gè)襯底相對(duì) 的表面上，以及液晶70保持在該區(qū)域之間，所述區(qū)域是夾在對(duì)準(zhǔn)膜22 以及64之間的區(qū)域。接下來(lái)，將參考如圖2所示的步驟的剖面圖，描述如上構(gòu)造的半 透反射型液晶顯示設(shè)備的TFT襯底(反射板)的制造方法。首先，如圖2A所示，例如Cr的金屬被淀積在例如玻璃或塑料襯 底的透明絕緣襯底上(在這種情況下，假設(shè)為玻璃襯底11)，以及通 過(guò)光刻蝕法形成TFT的柵電極12和掃描線(未示出)。隨后，如圖2B所示，例如，形成了氮化硅膜作為柵極絕緣膜13。 隨后，非晶硅膜被形成為半導(dǎo)體膜，以及n+非晶硅膜被形成為電阻連 接層。隨后，通過(guò)光刻蝕法將非晶硅膜以及n+非晶硅膜圖案化為島狀， 從而形成半導(dǎo)體膜14。此后，形成了 TFT的源/漏電極15以及信號(hào)線 (未示出)。隨后，如圖2C所示，去除了殘留在半導(dǎo)體膜14的漏極和源極之 間的n+非晶硅膜，以及例如，氮化硅薄膜被形成為鈍化膜16。此后， 在鈍化膜16中形成通孔17，用于連接源/漏電極15和透射電極18，以 及例如氧化銦錫(ITO)膜被形成為透射電極18。隨后，如圖2D所示，正型感光性酚醛清漆樹(shù)脂被施加到整個(gè)表面 上作為有機(jī)膜19。隨后，如圖2E所示，通過(guò)利用用于形成不均勻圖案的光掩膜30， 以適當(dāng)?shù)钠毓饬糠謩e對(duì)反射區(qū)域1以及透射區(qū)域2進(jìn)行曝光。光掩膜 30形成有光屏蔽部分32，半透反射部分31，以及透射部分33，以及 如圖2F地將有機(jī)膜19圖案化為不均勻膜20。稍后將描述光掩膜30的 詳細(xì)結(jié)構(gòu)以及不均勻膜20的形成方法。隨后，如圖2G所示，將鉬以及鋁形成為膜，例如反射膜211。鉬 和鋁被用作阻擋膜，用于抑制ITO膜的電池反應(yīng)。隨后，通過(guò)光刻蝕
法圖案化鉬和鋁，從而形成不均勻膜20上的反射膜211。此時(shí)，經(jīng)由電極連接部分23對(duì)用作反射電極的反射膜211和透射電極18進(jìn)行電 連接。所獲得的反射板具有反射膜211，其表面反映出細(xì)微的不均勻圖 案，該不均勻圖案形成在配置在下面的有機(jī)膜19上。考慮到不均勻圖 案的平面分布，每個(gè)突出部分的位置被略微地從密集的網(wǎng)格狀圖案的 格點(diǎn)隨機(jī)地移動(dòng)。然而， 一個(gè)格點(diǎn)實(shí)質(zhì)上與一個(gè)突出部分相對(duì)應(yīng)。在這種情況下，基于酚醛清漆的樹(shù)脂被用作有機(jī)膜19。然而，對(duì) 于使用基于丙烯的樹(shù)脂或其他感光樹(shù)脂來(lái)說(shuō)，也沒(méi)有問(wèn)題。同時(shí)，有 機(jī)膜可以具有半透明特性。此外，鋁和釹的合金，硅等可以用于反射 膜211，以代替此處使用的鋁，并且，對(duì)于使用銀或銀合金來(lái)說(shuō)也沒(méi)有 問(wèn)題。此外，即使此處使用鉬用于阻擋金屬，對(duì)于使用例如鈦或鉻的 其他金屬來(lái)說(shuō)也沒(méi)有問(wèn)題。此外，在難于與ITO膜發(fā)生電池反應(yīng)的金 屬或合金被用作反射膜211的情況下，不需要阻擋膜。此后，如圖1B所示，對(duì)準(zhǔn)膜22被施加在完成的TFT襯底IO上。 以同樣的方式向相對(duì)襯底60施加對(duì)準(zhǔn)膜64，經(jīng)由用于形成間隙的墊片 (未示出)，該相對(duì)襯底60被安置在TFT襯底IO上，并且在兩個(gè)襯 底之間注入液晶70并利用密封材料(未示出)密封其外圍。隨后，偏 振片被層疊在襯底的兩側(cè)上，從而完成了液晶顯示設(shè)備。需要在透射 部分和反射部分之間提供間隙，由此使得完成的透射部分中的相位差 變?yōu)閘/4波長(zhǎng)，而反射部分中的相位差變?yōu)?/2波長(zhǎng)。為了控制該差， 相對(duì)于透射部分的ITO膜，預(yù)先對(duì)形成不均勻圖案的感光樹(shù)脂的平均 高度進(jìn)行調(diào)節(jié)。隨后，將通過(guò)參考示意性地示出了部分光掩膜的圖3，描述用于制 造包括不均勻圖案的反射板的光掩膜的詳細(xì)設(shè)計(jì)。圖3所示的光掩膜 41被構(gòu)成有例如玻璃的掩模材料。用于形成圖1A所示的反射板3的 凹陷或突出部分1的光屏蔽部分(32)被配置在光掩膜41上，且在掩 膜41上將光屏蔽部分(32)設(shè)置為正方形42。正方形42—邊的尺寸
大約為7ym，且以如下方式布置每個(gè)正方形42，即正方形42—邊的 中點(diǎn)43與密集的網(wǎng)格狀圖案44的格點(diǎn)一致。此外，相對(duì)于正方形42 一邊的中點(diǎn)43，將每個(gè)正方形42旋轉(zhuǎn)隨機(jī)的角度。圖3中的每個(gè)正方 形42與圖2E的光屏蔽部分32相對(duì)應(yīng)，且其他部分與圖2E的半透反 射部分31相對(duì)應(yīng)。該光掩膜41的光屏蔽部分32構(gòu)成了反射板3的凹 陷或突出部分1。如圖4所示，在這里假定正方形42—邊的尺寸為Dsi，且密集的 網(wǎng)格狀圖案44的格點(diǎn)之間的距離為Dpi。圖12示出了當(dāng)通過(guò)利用光掩 膜41制造圖1A所示的反射板3時(shí)，限定范圍內(nèi)的Dpi/Dsi與反射板3 的凹陷或突出部分l的反射系數(shù)之間的關(guān)系。從圖12可以看出，Dpi/Dsi 的比大約為1.5-2.5，當(dāng)Dsi的范圍大約為5-9um時(shí)，可以獲得約為60。/。 或更高的、形成在反射板的凹陷或突出部分1上的反射膜211的相對(duì) 反射系數(shù)(當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)白板的反射系數(shù)被認(rèn)為是100%時(shí)的反射系數(shù))。此外，通過(guò)參考圖5，描述了絕對(duì)值為e的旋轉(zhuǎn)角的設(shè)置范圍，假 定，相對(duì)于作為原點(diǎn)的其一邊中點(diǎn)而順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)圖4中的正方形 42的情況為"+"，而逆時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)的情況為"-"。圖5示出了當(dāng)對(duì)作為 光掩膜41的光屏蔽部分32的正方形42進(jìn)行旋轉(zhuǎn)時(shí)，彼此不重疊的鄰 近的正方形處的角度與Dpi/Dsi之間的關(guān)系的曲線圖。從圖5可以看出， 使得鄰近的正方形彼此不重疊且使其之間(即，在曝光，顯影以及烘 焙之后沒(méi)有形成的平坦部分的范圍)不具有太大間隔的的范圍如下。 即，Dpi/Dsi的比大約為1.5-2.5，且正方形42旋轉(zhuǎn)的角度是低于圖表 內(nèi)的曲線的部分。換言之，該范圍大約為e大約是5度或更多(曲線 中的陰影區(qū)域)。這是因?yàn)椋绻糜陔S機(jī)旋轉(zhuǎn)正方形的角度的絕對(duì) 值為5度或更少，則正方形42的移動(dòng)范圍太小，以至于保留了布局的 規(guī)則性。因此，抑制干涉的效果變?nèi)趿?。?dāng)通過(guò)利用圖3所示的光掩膜41制造反射板3時(shí)，反射板3被形 成為包括形成在其上的反射膜21以及凹陷或突出部分1，如圖1A所
示。以這樣的方式形成凹陷或突出部分1的單元形狀是多邊形，以 及除了構(gòu)成凹陷或突出部分1的多邊形(42a)的質(zhì)心之外的任意點(diǎn) (43a)被設(shè)置在如下位置處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有序方式的格 點(diǎn)45 —致；以及每個(gè)單元形狀的多邊形(42a)被布置在相對(duì)于相應(yīng)的 原點(diǎn)(43a)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。在圖6A中，具有網(wǎng)格陰影的區(qū)域表 明凹陷或突出部分1，其是通過(guò)光掩膜41上的正方形42a的光屏蔽部 分(32)形成的。
因此，當(dāng)光掩膜41上的正方形42的旋轉(zhuǎn)角以及Dpi/Dsi被設(shè)置在 上述范圍內(nèi)時(shí)，構(gòu)成反射板3的凹陷或突出部分1的鄰近的正方形不 會(huì)彼此重疊。因此，減少了反射板3的規(guī)則反射分量，以及進(jìn)一步， 由于隨機(jī)旋轉(zhuǎn)而減少了光的干涉，由此改善了反射板3的散射能力。 結(jié)果，可以獲得出色的顯示特性并抑制了顯色，以及反射板3在其安 裝到的液晶顯示設(shè)備上沒(méi)有不平。根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果，更加期望將Dpi/Dsi 的比設(shè)置約為1.8-2.2，以及旋轉(zhuǎn)正方形42的角度的絕對(duì)值約為15-20 度(由曲線中的框圍繞的區(qū)域)。這樣，在圖12中，反射板3上的凹 陷或突出部分1的相對(duì)反射系數(shù)約變?yōu)?0%或更高，由此使得可以實(shí) 現(xiàn)更好的效果。
期望反射板3的凹陷或突出部分1的形狀為圓形。其理由是，當(dāng) 凹陷或突出部分1的形狀是圓形時(shí)，可以對(duì)所有方向獲得同等的反射 系數(shù)。然而，存在這樣的技術(shù)問(wèn)題，即當(dāng)在用于制造反射板的曝光掩 膜41上形成大量圓形圖案時(shí)，用于形成掩模的數(shù)據(jù)量變得太大了。該 技術(shù)問(wèn)題會(huì)反映到成本上。因此，在本發(fā)明的該實(shí)例中，用于形成不 均勻圖案的光掩膜41上的單元形狀被設(shè)置為包括較小數(shù)據(jù)量的四至六 條邊的多邊形。同時(shí)，設(shè)計(jì)制造方法，由此使得即使光掩膜41上的單 元形狀是多邊形，完成后的反射板的單元形狀也變?yōu)榇篌w上的圓形。 以下將公開(kāi)其細(xì)節(jié)。
對(duì)于形成突出部分，光掩膜41具有多邊形的單元形狀，以便制造
反射板3的突出部分(或凹陷部分)1。通過(guò)利用光掩膜41進(jìn)行感光 性有機(jī)膜的曝光以及顯影步驟。就此，反射區(qū)域1的突出部分的形狀 為幾乎與光掩膜41的正方形42相對(duì)應(yīng)。因此，在該實(shí)例中，通過(guò)加
熱處理執(zhí)行將反射板3的突出部分(或凹陷部分)1的形狀構(gòu)造為大體 上圓形的步驟。在顯影之后通過(guò)在大約100-300° C (例如，120° C) 烘焙反射板3作為加熱處理，反射板3的突出部分(或凹陷部分)1的 多邊形的棱角部分通過(guò)加熱而熔化，且?guī)缀踝優(yōu)閳A形。此后，在大約 250° C對(duì)感光性有機(jī)膜進(jìn)行熱處理用于固化。盡管此處可以對(duì)于烘焙 以及固化單獨(dú)地進(jìn)行兩次加熱處理，但是也可以在一次處理中執(zhí)行該
兩次加熱處理。進(jìn)一步，通過(guò)在曝光步驟中對(duì)感光性有機(jī)膜進(jìn)行過(guò)度 曝光(就曝光量而言)，可以將多邊形的棱角部分修圓(roundoff)為 大體上的圓形。圖16示出了該實(shí)例的反射板。圖16中的突出部分71 形成有光掩膜41的正方形42a (即，形成有光屏蔽部分)，以及凹陷 部分72形成有除了光掩膜41的正方形部分42a之外的部分。
在上述實(shí)例中，密集的網(wǎng)格狀圖案被參考作為有序方式的網(wǎng)格狀 圖案的實(shí)例。然而，也可以使用例如四方網(wǎng)格狀圖案的其他網(wǎng)格狀圖 案來(lái)代替。進(jìn)一步，在該實(shí)例中，盡管作為光掩膜41的光屏蔽部分32 的正方形42的形狀全部被設(shè)置為相同的多邊形，但是正方形42可以 是兩種或更多種的尺寸，或可以是兩種或更多種的多邊形。當(dāng)光掩膜 41上的正方形形狀以上述方式變化時(shí)，作為反射板3上的凹陷或突出 部分l的單元形狀的多邊形相應(yīng)地以同樣的方式變化。此外，在該實(shí) 例中，盡管作為光掩膜41的正方形42的光屏蔽部分32的透光度是 100%或者0%，但是也可以是例如75%以及50%的兩種或更多種的透 光度。此外，可以隨機(jī)地去除作為光掩膜41上的光屏蔽部分32的形 狀的部分正方形42。
第二實(shí)例
接下來(lái)，將通過(guò)參考圖6-圖8描述根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)例的液晶顯 示設(shè)備和反射板。圖6A示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)例的反射板的頂部
平面圖，以及圖6B示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖。
圖7示出了放大圖，其中放大了圖6B所示的部分光掩膜。圖8示出了 光掩膜的設(shè)計(jì)值之間的關(guān)系曲線。第二實(shí)例示出了光掩膜的另一實(shí)例。 具體地，在該實(shí)例中，原點(diǎn)的位置是正方形的角點(diǎn)，而在第一實(shí)例中 原點(diǎn)的位置是正方形一邊的中點(diǎn)。除了該光掩膜之外的液晶顯示設(shè)備 的制造方法與第一實(shí)例的制造方法相同，因此此處省略了其說(shuō)明。
通過(guò)參考圖6B，描述了光掩膜的設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)，該光掩膜在第二實(shí)例 中被用于制造包括不均勻圖案的反射板。如圖6B所示，用于形成圖6A 所示的反射板3的凹陷或突出部分1的光屏蔽部分(32)配置在光掩 膜41a上，以及光屏蔽部分(32)被配置為光掩膜41a上的正方形42a。 正方形42a —邊的尺寸大約為7nm，且以如下方式布置每個(gè)正方形 42a，即正方形42a的角點(diǎn)43a與密集網(wǎng)格狀圖案44a的格點(diǎn)一致。此 外，相對(duì)于作為原點(diǎn)的正方形42a的角點(diǎn)43a，將每個(gè)正方形42a旋轉(zhuǎn) 隨機(jī)的角度。
當(dāng)通過(guò)利用圖6B所示的光掩膜41a制造反射板3時(shí)，反射板3被 形成為包括凹陷或突出部分1以及形成在其上的反射膜21，如圖6A 所示。以這樣的方式形成凹陷或突出部分1的單元形狀是多邊形， 以及除了構(gòu)成凹陷或突出部分1的多邊形(42a)的質(zhì)心之外的其任意 點(diǎn)(43a)被設(shè)置在如下位置處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有序方式的 格點(diǎn)45 —致，以及每個(gè)單元形狀的多邊形(42a)被分別布置在相對(duì)于 原點(diǎn)(43a)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。在圖6A中，具有網(wǎng)格陰影的區(qū)域表 明凹陷或突出部分1，其是通過(guò)光掩膜41a上的正方形42a的光屏蔽部 分(32)形成的。
通過(guò)參考圖8，描述了絕對(duì)值為e的旋轉(zhuǎn)角的設(shè)置范圍，假定，將 光掩膜41a的正方形42a的角點(diǎn)43a作為圖7中的原點(diǎn)，以及相對(duì)于原 點(diǎn)以順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)的光掩膜41a的正方形42的情況為"+"，而逆時(shí)針 方向旋轉(zhuǎn)的情況"-"。圖8示出了當(dāng)對(duì)光掩膜41a上的正方形42a進(jìn)行
旋轉(zhuǎn)時(shí)，彼此不重疊的鄰近的正方形處的角度與Dpi/Dsi之間的關(guān)系的 曲線圖?？梢詮膱D8看出，使得鄰近的正方形彼此不重疊以及其間不
具有太大間隔的范圍如下。即，Dpi/Dsi的比大約為2.2-2.5，且正方形 42a旋轉(zhuǎn)的角度是低于圖表內(nèi)曲線的部分。換言之，該范圍大約為，9 大約是5度或更多(曲線中的陰影區(qū)域)。通過(guò)設(shè)置那些范圍，可以 減小平坦部分。
如上所述，通過(guò)將原點(diǎn)設(shè)置為正方形42a的角點(diǎn)43a，與第一實(shí)例 中將正方形一邊的中點(diǎn)作為原點(diǎn)的情形相比，盡管絕對(duì)值為e的旋轉(zhuǎn) 角的設(shè)置范圍變得較窄，但是仍然可以獲得相同的效果。應(yīng)當(dāng)注意， 原點(diǎn)不局限于上述實(shí)施例方式示出的多邊形的一邊中點(diǎn)或角點(diǎn)，而是 也可以被設(shè)置在除了質(zhì)心之外的任意點(diǎn)處。
第三實(shí)例
接下來(lái)，將通過(guò)參考圖9-圖11描述根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)例的液晶顯 示設(shè)備和反射板。圖9A示出了根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)例的反射板的頂部 平面圖，以及圖9B示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)例的光掩膜的頂部平面圖。 圖10示出了放大圖，其中放大了圖9B所示的部分光掩膜。進(jìn)一步， 圖11示出了光掩膜的設(shè)計(jì)值之間的關(guān)系曲線。第三實(shí)例還示出了光掩 膜的還一實(shí)例。具體地，盡管在根據(jù)第一實(shí)例的反射板3中，凹陷或 突出部分1的單元形狀被設(shè)置為正方形，但是在第三實(shí)例中其被設(shè)置 為六邊形。除了該光掩膜之外的液晶顯示設(shè)備的制造方法與第一實(shí)例 的制造方法相同，由此此處省略了其說(shuō)明。
通過(guò)參考圖9B，描述了光掩膜的設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)，該光掩膜在第三實(shí)例 中被用于制造包括不均勻圖案的反射板。如圖9B所示，用于形成圖9A 所示的反射板3的凹陷或突出部分1的光屏蔽部分(32)被配置在光 掩膜41b上，以及光屏蔽部分(32)被配置為光掩膜41b上的六邊形 50。六邊形50 —邊的尺寸大約為7!im，且以如下方式布置每個(gè)六邊 形50，即六邊形50的角點(diǎn)43b與密集網(wǎng)格狀圖案44b的格點(diǎn)一致。此
外，相對(duì)于作為原點(diǎn)的六邊形50a的角點(diǎn)43b，將每個(gè)六邊形50旋轉(zhuǎn) 隨機(jī)的角度。
當(dāng)通過(guò)利用圖9B所示的光掩膜41b制造反射板3時(shí)，反射板3 被形成為包括凹陷或突出部分1以及形成在其上的反射膜21，如圖9A 所示。以這樣的方式形成凹陷或突出部分1的單元形狀是多邊形， 以及除了構(gòu)成凹陷或突出部分1的多邊形(50)的質(zhì)心之外的任意點(diǎn) (43b)被設(shè)置在如下位置處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有序方式的格 點(diǎn)45 —致，以及每個(gè)單元形狀的多邊形(50)被布置在相對(duì)于原點(diǎn)(43b) 隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。在圖9A中，具有網(wǎng)格陰影的區(qū)域表明凹陷或突出 部分l，其是通過(guò)光掩膜41b上的六邊形50的光屏蔽部分(32)形成 的。
通過(guò)參考圖ll，描述了絕對(duì)值為9的旋轉(zhuǎn)角的設(shè)置范圍，假定， 相對(duì)于作為原點(diǎn)的其角點(diǎn)43b以順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)的圖10中的六邊形50 的情況為"+"，而逆時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)的情況"-"。此處假定六邊形50 —邊 的尺寸為Dsi，且密集網(wǎng)格狀圖案44b的格點(diǎn)之間的距離為Dpi。圖ll 示出了當(dāng)旋轉(zhuǎn)六邊形50時(shí)，彼此不重疊的鄰近的六邊形處的角度與 Dpi/Dsi之間的關(guān)系的曲線圖?？梢詮膱D11看出，使得鄰近的六邊形彼 此不重疊以及其間不具有太大間隔的范圍如下。即，Dpi/Dsi的比大約 為2.3-2.5，六邊形50旋轉(zhuǎn)的角度是低于圖表內(nèi)曲線的部分。換言之， 該范圍是e大約為5度或更多。
即使當(dāng)利用除了正方形或六邊形的其他多邊形作為單元形狀，也 能夠獲得相同的效果。此外，還可以使用例如正方形以及六邊形的不 同形狀作為一個(gè)反射板上的單元形狀。此外，在一個(gè)反射板內(nèi)隨機(jī)地 使用不同尺寸的單元形狀可以增加不規(guī)則性。作為增加不規(guī)則性的方 法，還可以通過(guò)改變光掩膜上的單元形狀的透光度來(lái)改變反射板內(nèi)的 突出部分的高度。由于下列理由而實(shí)現(xiàn)上述方案。S口，在具有較高透 光度的部分中的有機(jī)膜受到大量曝光，由此使得突出部分的高度變短。
同時(shí)，在具有較低透光度的部分中的有機(jī)膜受到少量曝光，由此使得 突出部分的高度保持較高。此外，通過(guò)那些方法的組合也可以增加不 規(guī)則性。第四實(shí)例接下來(lái)，將描述根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)例的液晶顯示設(shè)備和反射板。 通過(guò)利用與第一實(shí)例相同的光掩膜，其與第一實(shí)例的直至對(duì)感光性有 機(jī)膜進(jìn)行曝光和顯影的步驟的情形相同。此后，有機(jī)膜被暴露于有機(jī) 溶劑的環(huán)境，從而將有機(jī)膜的突出部分構(gòu)造為大體上的圓形。作為有 機(jī)溶劑，適合于使用丙酮，例如其具有較高的蒸汽壓力以及表現(xiàn)出對(duì) 于該有機(jī)膜的高熔性。對(duì)于該處理，加熱該有機(jī)溶劑以容易地產(chǎn)生蒸 汽是很有效的。隨后，在250° C處對(duì)有機(jī)膜進(jìn)行加熱處理用于固化。此外，在顯影之后，在暴露于有機(jī)溶劑之前，可以在大約ioo。 c烘焙有機(jī)膜，以便增加有機(jī)膜與玻璃襯底的粘合特性。應(yīng)當(dāng)注意，所使用 的藥物流體不局限于丙酮，且該有機(jī)膜也可以直接與藥物流體相接觸。第五實(shí)例接下來(lái)，將描述根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)例的液晶顯示設(shè)備和反射板。 通過(guò)參考在反射板上形成大體上圓形的突出部分的情況而描述了第一 至第四實(shí)例。然而，也可以形成大體上圓形的凹陷部分。在那種情況 下，可以通過(guò)使黑白反轉(zhuǎn)而使用包括如下圖案的光掩膜，其中該圖案 與第一實(shí)例的圖案相同?？蛇x地，借助于使用負(fù)型感光性有機(jī)膜代替 利用正型感光性有機(jī)膜，通過(guò)利用與第一實(shí)例相同的光掩膜可以形成 凹陷部分。已經(jīng)通過(guò)參考包括反射區(qū)域1和透射區(qū)域2的半透反射型液晶顯示設(shè)備的情形描述了該實(shí)例。然而，本發(fā)明還可以以同樣方式應(yīng)用于 僅僅具有反射部分的反射型液晶顯示設(shè)備。本發(fā)明可以被用作為反射板，用于散射環(huán)境光，以及用于包括該反射板的半透反射或反射型液晶顯示設(shè)備。在不背離其精神或基本特征的情況下，可以以其他具體的方式實(shí) 現(xiàn)本發(fā)明。因此本實(shí)施例在各個(gè)方面都應(yīng)被認(rèn)為是說(shuō)明性的而并非限 制性的，其意圖是，將由附加的權(quán)利要求所表明的本發(fā)明的范圍以及 落入權(quán)利要求等效范圍和含義的范圍內(nèi)的所有變化都包含在其中。
權(quán)利要求
1.一種反射板，包括凹陷或突出部分以及形成在該凹陷或突出部分上的反射膜其中凹陷或突出部分的單元形狀是多邊形；除了構(gòu)成凹陷或突出部分的多邊形的質(zhì)心之外的任意點(diǎn)被設(shè)置在如下的位置處，所述位置與作為原點(diǎn)的有序方式的格點(diǎn)一致；以及每個(gè)單元形狀的多邊形被布置在相對(duì)于原點(diǎn)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。
2. 如l權(quán)利要求的反射板，其中該有序方式的網(wǎng)格狀圖案是密集 網(wǎng)格狀圖案或四方網(wǎng)格狀圖案。
3. 如l權(quán)利要求的反射板，其中該多邊形是正方形。
4. 如l權(quán)利要求的反射板，其中多邊形的一邊的尺寸處于約3-20 um的范圍內(nèi)。
5. 如1權(quán)利要求的反射板，其中Dpi/Dsi的比大約為1.5-2.5，其 中Dsi是多邊形一邊的尺寸以及Dpi是有序方式的網(wǎng)格狀圖案的格點(diǎn)之 間的距離。
6. 如l權(quán)利要求的反射板，其中單元形狀的旋轉(zhuǎn)角的絕對(duì)值大約 為5度或更大。
7. 如權(quán)利要求1的反射板，其中期望Dpi/Dsi的比約為1.8-2.2， 其中Dsi是多邊形一邊的尺寸以及Dpi是有序方式的網(wǎng)格狀圖案的格點(diǎn) 之間的距離。
8. 如l權(quán)利要求的反射板，其中期望單元形狀的旋轉(zhuǎn)角的絕對(duì)值 在15-20度的范圍內(nèi)。
9. 如l權(quán)利要求的反射板，其中單元形狀包括相同形狀的多邊形。
10. 如1權(quán)利要求的反射板，其中單元形狀包括兩種或更多種尺 寸的多邊形或兩種或更多種形狀的多邊形。
11. 如l權(quán)利要求的反射板，其中鄰近的單元形狀不會(huì)彼此接觸。
12. 如l權(quán)利要求的反射板，其中隨機(jī)地去除部分多邊形。
13. 如權(quán)利要求l的反射板，其中凹陷或突出部分大體上是圓形。
14. 如權(quán)利要求l的反射板，其中反射板反光。
15. 如權(quán)利要求1的反射板，其中反射板包括感光性有機(jī)膜和反 射膜。
16. 如權(quán)利要求15的反射板，其中感光性有機(jī)膜具有半透明的特性。
17. 如權(quán)利要求15的反射板，其中感光性有機(jī)膜是酚醛清漆樹(shù)脂 或丙烯酸樹(shù)脂。
18. 如權(quán)利要求1的反射板，其中通過(guò)順序地進(jìn)行至少曝光和顯 影而形成該凹陷或突出部分。
19. 如權(quán)利要求1的反射板，其中通過(guò)過(guò)度曝光而將凹陷或突出 部分大體上形成為圓形。
20. —種反射板的制造方法，所述反射板包括凹陷或突出部分和形成在該凹陷或突出部分上的反射膜，其中通過(guò)利用以如下方式形成的掩模而對(duì)感光性有機(jī)膜進(jìn)行曝光、顯 影以及烘培，所述方式是用于形成凹陷或突出部分的多邊形被設(shè)置 為單元形狀；除了構(gòu)成凹陷或突出部分的多邊形的質(zhì)心之外的任意點(diǎn)被作為原點(diǎn)，以及該單元形狀被設(shè)置為使原點(diǎn)與有序方式的格點(diǎn)一致； 以及在相對(duì)于原點(diǎn)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)布置每個(gè)單元形狀的多邊形，以及 在曝光、顯影以及烘培之后的凹陷或突出部分上形成反射膜。
21. 如權(quán)利要求20的反射板的制造方法，其中通過(guò)在顯影之后應(yīng) 用加熱處理而將該凹陷或突出部分大體上形成為圓形。
22. 如權(quán)利要求21的反射板的制造方法，其中在約100-300° C 的溫度下進(jìn)行加熱處理。
23. 如權(quán)利要求20的反射板的制造方法，其中通過(guò)在顯影之后將 其暴露于藥物流體、藥物流體的蒸汽或同時(shí)暴露于二者，從而將該凹 陷或突出部分大體上形成為圓形。
24. 如權(quán)利要求20的反射板的制造方法，其中A1、 Ag、或A1和 Ag的合金被用于反射膜。
25. 如權(quán)利要求20的反射板的制造方法，其中為掩模上的單元形 狀設(shè)置兩種或更多種透光度。
26. —種反射板，其包括不均勻圖案，其中，在如下條件下單 元形狀是如下直線形成的密集圖形，所述直線連接在連接鄰近的凹陷 部分或鄰近的突出部分的中點(diǎn)的線的中心之間，該密集圖形包圍該中 點(diǎn)；以及假定在反射板上存在包括網(wǎng)格狀圖案間隔的任意的有序方式 的網(wǎng)格狀圖案，其中該網(wǎng)格狀圖案間隔近似等于連接在鄰近的凹陷部 分或鄰近的突出部分的中點(diǎn)之間的線的平均值，在單元形狀內(nèi)存在有序方式的網(wǎng)格狀圖案的單個(gè)格點(diǎn)。
27. —種液晶顯示設(shè)備，包括權(quán)利要求l的反射板。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于即使在高精細(xì)的液晶顯示設(shè)備中也能容易并可靠地抑制反射光的干涉。該反射板包括凹陷或突出部分以及形成在該凹陷或突出部分上的反射膜。凹陷或突出部分的單元形狀是多邊形，除了構(gòu)成凹陷或突出部分的多邊形的質(zhì)心之外的任意點(diǎn)被設(shè)置在如下的位置處，所述位置是與作為原點(diǎn)的有序方式的格點(diǎn)一致，以及每個(gè)單元形狀的多邊形被布置在相對(duì)于原點(diǎn)隨機(jī)旋轉(zhuǎn)的位置處。
文檔編號(hào)G03F7/00GK101118295SQ20071014372
公開(kāi)日2008年2月6日 申請(qǐng)日期2007年8月2日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月2日
發(fā)明者中謙一郎, 小林昭雄, 工藤泰樹(shù) 申請(qǐng)人:Nec液晶技術(shù)株式會(huì)社