專利名稱：用于一顯影機臺的液體回收裝置及包含該裝置的顯影機臺的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于一顯影機臺的液體回收裝置，尤其涉及一種防止顯影 液與空氣大量接觸的液體回收裝置，可應用于須使用顯影工藝的設備，尤其是
薄膜晶體管(thin-film transistor, TFT)的工藝設備。
背景技術：
為了達到組件微小化的目的，目前工業(yè)界常使用顯影工藝制造元件，例如 制造電子工業(yè)的電子元件、機械工業(yè)的微機械、顯示器工業(yè)的薄膜晶體管等等。 顯影工藝簡言之，先于一工件(例如一基板)上均勻涂布一合適的液體，之后 將該基板烘烤及曝光，并進行后續(xù)程序。
圖1所示為一現有技術顯影機臺的涂布區(qū)域示意圖，該顯影機臺運作方式 簡述如下 一基板101通過一輸送裝置103沿一運送方向105輸送一涂布區(qū)域 107。當基板101通過一位于涂布區(qū)域107中的液體施配裝置109的噴嘴 (nozzle)(圖未標示)下方時，液體施配裝置109將欲配施的一液體(例如 含四甲基氫氧化銨((CH3)4N0H， TMAH)的顯影液)由噴嘴流出，使該液體(圖未 繪示)均勻涂布于該基板101的上表面。待基板101完全通過液體施配裝置 109后，該基板101的上表面將布滿該液體。
然而，當系統(tǒng)于閑置狀態(tài)(idle)時，意即當無任何基板101通過液體施 配裝置109下方時，該液體仍持續(xù)由液體施配裝置109的噴嘴流出。于此一狀 態(tài)下，液體將通過一回流路徑(例如一導板113)回流至液體回收槽111，以 便回收再使用。當液體回流至液體回收槽lll的途中，因回流路徑為一開放空 間，將致使顯影液與空氣大量接觸。某些顯影液中的某些化學成分一例如前述 顯影液的TMAH—可與空氣產生額外的化學反應。當額外的化學反應產生時， 可能致使顯影液的反應濃度下降，導致其與光阻反應速度減緩、顯影后產品的 質量不穩(wěn)定及無法掌握穩(wěn)定的顯影參數的問題。而且當機臺閑置后復機時，為 改善濃度降低所造成的問題，必須更換顯影液，此將造成顯影液成本的提升、
且工藝更加復雜。
以含TMAH的顯影液為例，顯影液包含TMAH及水，其中TMAH為顯影液的 主成分及主要反應物。于顯影液回流路徑中，空氣中的二氧化碳(C02)將溶于 水，并產生碳酸(H2C03)，而碳酸會與TMAH產生一如下的酸堿中和反應 C02 + H20 — H2C03 " H+ +線—
(CH3)4NOH + H2C03 h H20 + (CH)4N-C03H
此一中和反應會致使TMAH的可反應濃度下降，進而導致前述的問題發(fā)生。 有鑒于此，提供用于一顯影機臺的液體回收裝置以減少顯影液與空氣接 觸，乃為業(yè)界急待解決的問題。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題在于提供一種用于一顯影機臺的液體回收裝 置及包含該液體回收裝置的顯影機臺。
為實現上述目的，本發(fā)明所提供的顯影機臺，包含一液體施配裝置，用以 配施液體； 一輸送裝置，用以將一基板沿一方向運送，進入一涂布區(qū)域，以將 該液體施配裝置所配施的液體均布于該基板的一表面上；以及一液體回收裝 置，包含 一液體容器；以及一驅動裝置，其裝設于該液體容器的一側，用以 帶動該液體容器至一位置，承接該所配施的液體。
而且，為實現上述目的，本發(fā)明所提供的液體回收裝置則包含 一液體容 器；以及一驅動裝置，其裝設于該液體容器的一側，用以帶動該液體容器至一 第一位置，承接該所配施的液體。本發(fā)明的液體回收裝置可減少顯影液與空氣 進行化學反應，以保持顯影液的濃度，使得顯影反應的速度達到均一穩(wěn)定，從 而改善產品質量，提升良率，并可進一步避免機臺閑置后復機時，因濃度降低 而必須更換顯影液所浪費的成本。
為讓本發(fā)明的上述目的、技術特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文以較佳實施 例配合所附附圖進行詳細說明。
圖1現有技術顯影機臺的涂布區(qū)域示意圖2A本發(fā)明液體回收裝置的液體容器位于第二位置示意圖2B本發(fā)明液體回收裝置的液體容器位于第一位置示意圖；以及
圖3本發(fā)明另一態(tài)樣中液體回收裝置的液體容器位于第二位置示意圖。
射，附圖標記
皿、201、 301:基板
103、203、 303:輸送裝置
105、205、 305:運送方向
107、207、 307:涂布區(qū)域
109、209、 309:液體施配裝置
m、211、 311:液體回收槽
210、310:導流裝置
213、313:液體回收裝置
2133、3133:驅動裝置
2131、3131:液體容器
215、315:感應裝置
2151、3151:第一感應器
2153、3153:第二感應器
具體實施例方式
首先參考圖2A，為一用于一顯影機臺的液體回收裝置213的示意圖?；?板201置于輸送裝置203上，并沿一運送方向205通過一涂布區(qū)域207，以進 行涂布顯影液的程序。液體施配裝置209設置于涂布區(qū)域207中。液體施配裝 置209具有一噴嘴(nozzle)(圖未標示)，當基板201通過其下方時，液體 施配裝置209將一液體(例如含TMAH的顯影液)由噴嘴流出，使該液體(圖 未繪示)均勻涂布于基板201的上表面。液體回收裝置213設置于機臺中的一 適切位置，且包含一液體容器2131及一驅動裝置2133。驅動裝置2133通常 設于液體容器2131的一側。以本實施態(tài)樣為例，液體回收裝置213設置于輸 送裝置203下方，驅動裝置2133裝設于液體容器2131的下方。
接著參考圖2B。當基板201離開涂布區(qū)域207后，顯影機臺進入閑置狀 態(tài)，液體回收裝置213將進行液體回收的程序。進行液體回收的程序時，驅動
裝置2133將帶動液體容器2131至一第一位置(如圖2B中液體容器2131所在 的位置)停留，以便承接由液體施配裝置209流出的液體，并使液體經由一導 流裝置210 (較佳者為一封閉的導流裝置)流至液體回收槽211。當液體容器 2131于第一位置時，較佳者使液體容器2131與液體施配裝置209相接且形成 一密閉空間，如此可更進一步減少液體與大氣接觸機會。
驅動裝置2133可包含一伺服馬達、油壓裝置、氣動裝置、其它合宜的驅 動裝置或前述的組合。使液體由液體施配裝置209流回至液體回收槽211的導 流裝置210可為現有技術任何液體導流裝置，例如以一導流管連接液體施配裝 置209及液體回收槽211，使液體通過該導流管流至液體回收槽211;或者也 可使用自該液體回收槽向該液體容器延伸的一導流板，使液體通過該導流板流 至液體回收槽211，甚至也可混合使用前述導流管與導流板。
當另一基板(圖未繪示)進入涂布區(qū)域207時，顯影機臺離開閑置狀態(tài)， 液體回收裝置213的液體容器2131將被驅動裝置2133帶動，由第一位置移至 一第二位置停留。以本態(tài)樣為例，該第二位置位于該輸送裝置203的下方(例 如圖2A中液體容器2131所在的位置)，此時由液體施配裝置209與液體容器 2131所共同界定的一密閉空間將開啟。如此，該液體施配裝置209可將欲配 施的液體均勻地涂布于該基板的一表面上，完成下一涂布程序。
為明確得知基板201是否位于涂布區(qū)207內，以便決定液體容器2131的 停留位置，本發(fā)明的液體回收裝置213可進一步設置一感應裝置215，并使其 電性連接驅動裝置2133。感應裝置215由第一感應器2151與第二感應器2153 所組成，其中第二感應器2153沿著基板201的運送方向205，與第一感應器 2151相對設置。
第一感應器2151與第二感應器2153將定義一區(qū)域(圖未標示)，該區(qū)域 包含涂布區(qū)域207;當然，也適可等同于該涂布區(qū)域207。當基板201前緣通 過該第一感應器2151，進入該區(qū)域時，驅動裝置2133將接受一來自第一感應 器2151的信號，隨即將液體容器2131由第一位置移往第二位置停留。當基板 201離開涂布區(qū)域207且其后緣通過該第二感應器2153時，第二感應器2153 將提供一信號予驅動裝置2133，使驅動裝置2133將液體容器2131由第二位 置移往第一位置停留，以便承接由液體施配裝置209所流出的液體。
第一感應器2151及第二感應器2153可視應用上的需求，選用光電式感應
器、機械式感應器、其它合宜的感應器或前述的組合。
圖3揭示本發(fā)明的另一實施方式。類似圖2A，基板301置于輸送裝置303 上，并沿一運送方向305通過涂布區(qū)域307，以使液體施配裝置309將一液體 (圖未繪示)由其噴嘴(圖未標示)流出，達均勻涂布液體于基板301上表面 的目的。如圖3所示實施態(tài)樣，液體回收裝置313設置于輸送裝置303上方及 液體施配裝置309的一左側，而驅動裝置3133裝設于液體容器3131的左側。 而經由導流裝置310使液體自液體容器3131流至液體回收槽311。
上述各態(tài)樣中的液體回收裝置于機臺中的設置位置、液體容器與驅動裝置 的相對位置或液體容器的形態(tài)等，均不限于附圖所示的內容，尤其本領域技術 人員參考在此揭露的技術內容，當能想到各式不同的實施樣態(tài)。例如，上述第 二位置不限于如圖2A所示液體容器2131的位置，即輸送裝置203的下方，或 如圖3所示液體容器3131的位置，即輸送裝置303的上方、液體施配裝置309 的一側。更明確說明，第二位置可為液體容器停留于遠離液體施配裝置(意即 遠離第一位置)的位置，使液體施配裝置適可于基板上涂布一液體。
綜上所述，本發(fā)明提供一液體回收裝置，其可有效避免機臺在閑置時，該 顯影劑不斷地與空氣接觸而產生額外的反應，如此可使得顯影反應的速度達到 均一穩(wěn)定，進而改善產品質量，提升良率，也可減少復機后必須更換顯影液所 浪費的成本。
當然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質的情 況下，熟悉本領域的普通技術人員當可根據本發(fā)明做出各種相應的改變和變 形，但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明所附的權利要求的保護范圍。
權利要求
1、 一種用于一顯影機臺的液體回收裝置，該顯影機臺包含一液體施配裝 置及一輸送裝置，該輸送裝置將一基板沿一方向運送，進入一涂布區(qū)域，以將 該液體施配裝置所配施的液體，均布于該基板的一表面上，其特征在于，該液 體回收裝置包含一液體容器；以及一驅動裝置，其裝設于該液體容器的一側，用以帶動該液體容器至一第一 位置，承接該所配施的液體。
2、 根據權利要求l所述的液體回收裝置，其特征在于，另包含一感應裝置， 與該驅動裝置電性連接，用以感應基板通過該涂布區(qū)域，該感應裝置具有一第一感應器；以及一第二感應器，沿該基板的運送方向，與該第一感應器相對設置，其中該 第一感應器與該第二感應器所界定的一區(qū)間包含該涂布區(qū)域，當該基板的一前 緣通過該第一感應器而進入該涂布區(qū)域時，該第一感應器將提供一信號予該驅 動裝置，使該驅動裝置將該液體容器朝遠離該第一位置的一第二位置帶動；當 該基板離開該涂布區(qū)域且其一后緣通過該第二感應器時，該第二感應器將提供 一信號予該驅動裝置，使該驅動裝置將該液體容器朝趨近該第一位置帶動，以 承接由該液體施配裝置所流出的液體。
3、 根據權利要求2所述的液體回收裝置，其特征在于，該第一感應器與 該第二感應器所界定的一區(qū)間為該涂布區(qū)域。
4、 根據權利要求1所述的液體回收裝置，其特征在于，另包含 一導流裝置及一液體回收槽，該導流裝置設于該液體容器及該液體回收槽之間，以將該液體容器內的液體導引至該液體回收槽。
5、 根據權利要求4所述的液體回收裝置，其特征在于，該導流裝置包含 一導流管，連通于該液體容器及該液體回收槽之間。
6、 根據權利要求4所述的液體回收裝置，其特征在于，該導流裝置包含 一導流板，自該液體回收槽內向該液體容器延伸。
7、 根據權利要求1所述的液體回收裝置，其特征在于，該驅動裝置包含 一伺服馬達。
8、 根據權利要求1所述的液體回收裝置，其特征在于，該驅動裝置包含 一油壓裝置。
9、 根據權利要求1所述的液體回收裝置，其特征在于，該驅動裝置包含 一氣動裝置。
10、 根據權利要求2所述的液體回收裝置，其特征在于，該感應裝置包含一光電感應器。
11、 根據權利要求2所述的液體回收裝置，其特征在于，該感應裝置包含 一機械式感應器。
12、 根據權利要求1所述的液體回收裝置，其特征在于，該液體容器處于 該第一位置時，與該液體施配裝置共同界定一密閉空間。
13、 根據權利要求2所述的液體回收裝置，其特征在于，該第二位置位于 該輸送裝置的上方。
14、 根據權利要求2所述的液體回收裝置，其特征在于，當該第二位置位 于該輸送裝置的下方。
15、 一種顯影機臺，其特征在于，包含 一液體施配裝置，用以配施液體；一輸送裝置，用以將一基板沿一方向運送，進入一涂布區(qū)域，以將該液體施配裝置所配施的液體均布于該基板的一表面上；以及 一液體回收裝置，包含 一液體容器；以及一驅動裝置，其裝設于該液體容器的一側，用以帶動該液體容器至一位置， 承接該所配施的液體。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于一顯影機臺的液體回收裝置及包含該裝置的顯影機臺，其中該顯影機臺包含一液體施配裝置及一輸送裝置，該輸送裝置將一基板沿一方向運送，進入一涂布區(qū)域，以將該液體施配裝置所配施的液體，均布于該基板的一表面上；該液體回收裝置包含一液體容器以及一驅動裝置，其裝設于該液體容器的一側，用以帶動該液體容器至一第一位置，承接該所配施的液體。
文檔編號G03F7/26GK101122751SQ20071014573
公開日2008年2月13日 申請日期2007年8月31日 優(yōu)先權日2007年8月31日
發(fā)明者倪仲遠, 吳昌樺 申請人:友達光電股份有限公司