專利名稱：：感光體外涂層掩蔽劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本公開(kāi)內(nèi)容一般性涉及電子照相成像元件，并且更具體地涉及具有改進(jìn)的外涂層的多層感光體結(jié)構(gòu)。特別地，本公開(kāi)內(nèi)容涉及具有包括新掩蔽劑的改進(jìn)外涂層的電子照相成像元件。本公開(kāi)內(nèi)容還涉及制造和使用該成像元件的方法。
背景技術(shù)：
：現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)建議使用醇可溶性聚酰胺的各種外涂層。最早的外涂層之一為包括沒(méi)有任何甲基甲氧基的醇可溶性聚酰胺(Elvamide)的外涂層，所述醇可溶性聚酰胺含有N，N'-二苯基-N，N'-雙(3-羥苯基)-[l,l'-聯(lián)苯]-4，4'-二胺。這種外涂層記栽在US5,368,967中。雖然該外涂層在使用電暈器帶電的設(shè)備中具有極低磨損速率，但是磨損速率在使用偏壓帶電輥(BCR)的設(shè)備中較高。交聯(lián)的聚酰胺外涂層克服了這一缺點(diǎn)。這種外涂層包括含有N，N'-二苯基-N，N'-雙(3-羥苯基Hl,l'-聯(lián)苯]-4，4'-二胺的交聯(lián)的聚酰胺(例如Luckamide)。為了得到交聯(lián)聚酰胺聚合物，具有甲基甲氧基的Luckamide與例如乙二酸的催化劑一起使用。這種強(qiáng)韌的外涂層記栽在US5,702，854中。由于這種外涂層，在使用偏壓帶電輥(BCR)和偏壓轉(zhuǎn)印輥(BTR)的設(shè)備中得到極低磨損速率。已經(jīng)使用乙二酸和三嗜烷制備含有交聯(lián)聚酰胺(例如Luckamide)的耐用感光體外涂層，以改善感光體壽命至少3到4倍，該交聯(lián)聚酰胺含有N，N'-二苯基-N,N'-雙(3-羥苯基)-[l，l'.聯(lián)笨_4，4'-二胺(DHTBD)(Luckamide-DHTBD)。BCR耐磨性的這種改進(jìn)包括在熱處理下，例如U0。C-12(TC使Luckamide交聯(lián)30分鐘。但是，這種外涂層與含有某些聚碳酸酯(例如Z型300)和電荷傳輸材料(例如雙->4,^1-(3,4-二甲基苯基)->}-(4-聯(lián)苯)胺和N,N'-二笨基-1^,:^-雙(3-甲基苯基)-[1,1'-聯(lián)苯]-4，4'-二胺)的某些感光體電荷傳輸層的粘合性在這種干燥條件下極大地降低。另一方面，在低于約ll(TC的干燥條件下，外涂層對(duì)電荷傳輸層的粘合性良好，但是外涂層具有高磨損速率。因此，對(duì)于要達(dá)到粘合性和磨損速率指標(biāo)的外涂層存在不可接受的窄的干燥條件窗口。電子照相成像元件或感光體通常包括在導(dǎo)電性基材上形成的光電導(dǎo)層。光電導(dǎo)層在黑暗中為絕緣體，使得電荷保持在其表面上。當(dāng)暴露于光線時(shí)，電荷被消耗。許多先期的成像系統(tǒng)基于使用小直徑感光體轉(zhuǎn)鼓。使用小直徑轉(zhuǎn)鼓對(duì)感光體壽命提供保險(xiǎn)。限制復(fù)印機(jī)和打印機(jī)中感光體壽命的主要因素為磨損。使用小直徑轉(zhuǎn)鼓感光體使磨損問(wèn)題加劇，因?yàn)槌上駟巫帜赋叽?letter-size)頁(yè)需要例如三到十個(gè)循環(huán)。為復(fù)制單字母尺寸頁(yè)，可能需要小直徑轉(zhuǎn)鼓感光體的多次循環(huán)，對(duì)于商業(yè)體系的理想目標(biāo)，為得到100,000次印制，可能需要來(lái)自感光體轉(zhuǎn)鼓的高達(dá)一百萬(wàn)次循環(huán)。對(duì)于小體積復(fù)印機(jī)和打印機(jī)，因?yàn)樵诔上裰芷谶^(guò)程中幾乎沒(méi)有或沒(méi)有臭氧產(chǎn)生，所以偏壓帶電輥(BCR)是理想的。但是，充電過(guò)程中由BCR產(chǎn)生的微量電暈損害感光體，導(dǎo)致成像表面，例如電荷傳輸層的暴露表面快速磨損。例如，磨損速率可以高達(dá)每100,000個(gè)成像周期約16微米。采用偏壓轉(zhuǎn)印輥(BTR)系統(tǒng)遇到類似問(wèn)題。得到更長(zhǎng)感光體轉(zhuǎn)鼓壽命的一種方法是在成像表面，例如感光體的電荷傳輸層上形成保護(hù)外涂層。這種外涂層必須滿足許多要求，包括傳輸空穴、抗圖像刪除、抗磨損和避免涂布過(guò)程中底層的擾動(dòng)。穩(wěn)固的外涂層被設(shè)計(jì)用于長(zhǎng)壽命感光體應(yīng)用，其滿足所需的電性能，顯示改善的抗開(kāi)裂和抗劃性、抗刪除并提供優(yōu)異的打印質(zhì)量。這些外涂層設(shè)計(jì)的穩(wěn)固性質(zhì)主要?dú)w因于由強(qiáng)酸催化的大規(guī)模交聯(lián)。雖然強(qiáng)酸能夠縮短固化期，但是其降低溶液存放期并因此限制涂層產(chǎn)生。先化功能。這種配方已經(jīng)顯示改善的溶液存放期和合適的電特性。但是，吡啶是一種高毒性化合物。對(duì)于能延長(zhǎng)溶液存放期并顯示優(yōu)異電特性，同時(shí)滿足環(huán)境健康和安全標(biāo)準(zhǔn)的掩蔽劑仍然存在需求。
發(fā)明內(nèi)容本公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)提供改善的感光體外涂層而解決一些或所有上述問(wèn)題等，所述外涂層包括用新的掩蔽劑掩蔽的酸催化劑。在一個(gè)實(shí)施方案中，掩蔽劑為通常用于飼料添加劑和藥物的維生素B3的衍生物。包括掩蔽劑的外涂層溶液具有改善的存放期，同時(shí)引入改善的外涂層的感光體顯示優(yōu)異的電特性。在一個(gè)實(shí)施方案中，本公開(kāi)內(nèi)容提供一種涂料組合物，包括含有至少一種酸催化劑和掩蔽刑的聚合物樹(shù)脂組合物，其中掩蔽劑選自化合物A和化合物B?！?009]化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(I)其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基?；衔顱由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(II)其中Y和Z獨(dú)立地表示-OH或-NH2。本公開(kāi)內(nèi)容還提供成像元件，其具有包括由這種涂料組合物形成的膜的層。另外，本公開(kāi)內(nèi)容還提供包括這種電子照相成像元件的電圖像法圖像顯影設(shè)備。還提供使用這種電子照相成像元件的成像方法。在另一個(gè)實(shí)施方案中，本公開(kāi)內(nèi)容提供一種形成電子照相成像元件的方法，包括提供包括基材、電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的電子照相成像元件；在其上形成包括聚合物樹(shù)脂組合物的外涂層，所述聚合物樹(shù)脂組合物包括電荷傳輸組分、固化劑、聚合物基料、酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A和化合物B;和通過(guò)加熱固化該外涂層?；衔顰由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage7</formula>其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基?；衔顱由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage8</formula>(II)其中Y和Z獨(dú)立地表示-OH或-NH2。具體實(shí)施例方式在此7〉開(kāi)如下實(shí)施方案。方案i.一種涂料組合物，包括含有至少酸催化劑和掩蔽劑的聚合物樹(shù)脂組合物，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的?；苌?；其中化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage8</formula>(I)其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage8</formula>(II)其中Y和Z獨(dú)立地表示-OH或-NH2。方案2.根椐方案l的涂料組合物，其中掩蔽劑為化合物A。方案3.根據(jù)方案2的涂料組合物，其中烴基為具有1到約20個(gè)碳原子的取代或未取代、直鏈或支化烷基、鏈烯基或炔基。方案4,根據(jù)方案2的涂料組合物，其中X表示-OR基團(tuán)，其中R表示具有1到約6個(gè)碳原子的烷基。方案5.根據(jù)方案1的涂料組合物，其中掩蔽劑為化合物B。方案6.根椐方案5的涂料組合物，其中Y和Z各自表示-OH。方案7.根椐方案1的涂料組合物，其中掩蔽劑選自吡，胺、吡噴素、煙酸及吡。多胺和吡噴素的?；苌?。方案8.根據(jù)方案1的涂料組合物，其中掩蔽劑為煙酸曱酯。方案9,根據(jù)方案1的涂料組合物，其中酸催化劑為具有1到約30個(gè)碳原子的有機(jī)磺酸。方案10.根椐方案9的涂料組合物，其中磺酸為甲苯磺酸。方案ll.根據(jù)方案1的涂料組合物，其中樹(shù)脂選自三聚氰胺-甲醛樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂和三聚氰胺-盼醛樹(shù)脂。方案12.根據(jù)方案1的涂料組合物，其中樹(shù)脂組合物進(jìn)一步包括聚合物基料。方案13.根據(jù)方案12的涂料組合物，其中聚合物基料為選自脂肪族聚酯多元醇、芳香族聚酯多元醇、丙烯酸酯化多元醇、脂肪族聚醚多元醇、芳香族聚醚多元醇、聚氨酯多元醇、(聚苯乙烯-共-聚丙烯酸酯)多元醇、聚乙烯醇縮丁醛(polyvinylbutylral)和聚(曱基丙烯酸2-羥乙酯)的多元醇。方案14.一種成像元件，包括包括由方案1的涂料組合物形成的膜的層。方案15.根據(jù)方案14的成像元件，其中涂料組合物進(jìn)一步包括選自叔芳基胺、吡唑啉、腙、嗜二唑和芪的電荷傳輸組分。方案16.根據(jù)方案14的成像元件，其中涂料組合物被熱交聯(lián)或固化。方案17.—種電子照相成像元件，包括基材；電荷產(chǎn)生層；電荷傳輸層；和外涂層，該外涂層包括由聚合物樹(shù)脂組合物形成的膜，所迷聚合物樹(shù)脂組合物含有至少電荷傳輸組分、固化劑、聚合物基料、酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的?；苌?；其中化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage10</formula>(I)其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage10</formula>其中Y和Z獨(dú)立地表示-OH或-NH2。方案18.根據(jù)方案17的成像元件，其中電荷傳輸組分由以下通式表示其中Ar1、Ar2、Ar3和A,各自獨(dú)立地為具有1到約25個(gè)碳原子的取代或未取代芳基；A—為具有1到約25個(gè)碳原子的取代或未取代芳基或亞芳基，和k為0或1;其中Ar1、A一和A—獨(dú)立地包括選自羥基、羥甲基和具有約2到約15個(gè)碳的烷氧基甲基的取代基。方案19.根椐方案17的成像元件，其中電荷傳輸組分選自以下結(jié)構(gòu)式<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage11</formula>及其混合物。方案20.根據(jù)方案17的成像元件，其中電荷傳輸層包括N,N'-二苯基-N,N'-雙(3-曱基苯基)-[l，r-聯(lián)苯]-4，4'-二胺或N，N,N',N'-四-對(duì)曱苯基聯(lián)苯-4，4'-二胺。方案21.根據(jù)方案17的成像元件，其中固化劑選自三聚氰胺-甲眵樹(shù)脂、盼醛樹(shù)脂和三聚氰胺-酚醛樹(shù)脂。方案22.根據(jù)方案17的成像元件，其中聚合物基料為選自聚酯多元醇、丙烯酸酯化多元醇和脂肪族聚醚多元醇的多元醇。方案23.根據(jù)方案17的成像元件，其中酸催化劑為具有1到約30個(gè)碳的有機(jī)磺酸。方案24.根椐方案17的成像元件，其中掩蔽劑為煙酸甲酯。方案25.根椐方案18的成像元件，其中樹(shù)脂組合物包括約30到約60wtn/。的電荷傳輸組分；約10到約50wtQ/o的固化劑；約5到約50wt。/。的聚合物基料；約0.1到約5wt。/。的酸催化劑；和至少一當(dāng)量掩蔽劑。方案26.根據(jù)方案17的成像元件，其中外涂層被熱固化。方案27.—種形成電子照相成像元件的方法，包括提供包括基材、電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的電子照相成像元件；在其上形成外涂層，該外涂層包括由聚合物樹(shù)脂組合物形成的膜，所迷聚合物樹(shù)脂組合物包括電荷傳輸組分、固化劑、聚合物基料、酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的酰化4汙生物，其中化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(I)其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出-.<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage12</formula>其中Y和Z獨(dú)立地表示-OH或-NH2;和通過(guò)加熱固化該外涂層。方案28.根據(jù)方案27的方法，其中涂料組合物進(jìn)一步包括醇溶劑。電子照相成像元件在本領(lǐng)域中是已知的。電子照相成像元件可以由任何合適的技術(shù)制備。通常，柔性或剛性基材配有導(dǎo)電性表面。電荷產(chǎn)生層然后被施加到導(dǎo)電性表面?？梢栽谑┘与姾僧a(chǎn)生層之前任選將電荷阻擋層施加到導(dǎo)電性表面。如果需要，可以在電荷阻擋層和電荷產(chǎn)生層之間使用粘合劑層。通常電荷產(chǎn)生層被施加到阻擋層上，并且電荷傳輸層在電荷產(chǎn)生層上形成。這種結(jié)構(gòu)可以在電荷傳輸層之上或之下具有電荷產(chǎn)生層。基材可以是不透明的或基本透明的，并且可以包括具有所需機(jī)械性能的任何合適的材料。因此，基材可以包括一層非導(dǎo)電性或?qū)щ娦圆牧?，例如無(wú)機(jī)或有機(jī)組合物。各種樹(shù)脂可以用作非導(dǎo)電性材料，包括聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚氨酯等，其作為薄網(wǎng)是柔性的。導(dǎo)電性基材可以為任何金屬，例如鋁、鎳、鋼、銅等，或用導(dǎo)電性物質(zhì)，例如碳、金屬粉末等填充的上述聚合物材料，或有機(jī)導(dǎo)電性材料。電學(xué)上絕緣或?qū)щ姷幕目梢詾榄h(huán)狀柔性帶、網(wǎng)、剛性圓柱體、片材等形式。基材層的厚度取決于許多因素，包括所需強(qiáng)度和經(jīng)濟(jì)考慮。因此，對(duì)于轉(zhuǎn)鼓，這種層可以具有例如高達(dá)幾厘米的大厚度或低于一毫米的最小厚度。類似地，柔性帶可以具有例如約250微米的大厚度，或低于50微米的最小厚度，條件是對(duì)最終的電子照相器件沒(méi)有不利影響。在其中基材層不導(dǎo)電的實(shí)施方案中，其表面可以由導(dǎo)電涂層賦予導(dǎo)電性。導(dǎo)電涂層的厚度可以在顯著寬的范圍之內(nèi)變化，取決于光學(xué)透明度、所需撓度和經(jīng)濟(jì)因素。因此，對(duì)于柔性光敏成像器件，為了導(dǎo)電性、柔韌性和透光性的最優(yōu)組合，導(dǎo)電涂層的厚度可以為約20埃到約750埃，例如約IOO埃到約200埃。柔性導(dǎo)電涂層可以為例如通過(guò)任何合適的涂布技術(shù)，例如真空沉積技術(shù)或電沉積，在基材上形成的導(dǎo)電金屬層。典型的金屬包括鋁、鋯、鈮、鉭、釩和鉿、鈦、鎳、不銹鋼、鉻、鴒、鉬等。任選的空穴阻擋層可以施加到基材?？梢允褂媚軌蛟谙噜彽墓怆妼?dǎo)層和基材的下部導(dǎo)電性表面之間形成對(duì)空穴的電子阻擋層的任何合適和常規(guī)的阻擋層。任選的粘合劑層可以施加到空穴阻擋層。可以使用本領(lǐng)域已知的任何合適的粘合劑層。典型的粘合劑層材料包括例如聚酯、聚氨酯等u利用約0.05微米(500埃)到約0.3微米(3，000埃)的粘合劑層厚度可以得到令人滿意的結(jié)果。將粘合劑層涂布混合物施加到電荷阻擋層的傳統(tǒng)方法包括噴涂、浸涂、輥涂、繞線棒涂、凹版涂布、Bird施涂器涂布等。千燥沉積的涂層可以由任何合適的常規(guī)方法，例如烘干、紅外線輻射干燥、空氣干燥等完成。在粘合劑層、阻擋層或基材上形成至少一個(gè)電子照相成像層。電子照相成像層可以為本領(lǐng)域中已知的執(zhí)行電荷產(chǎn)生和電荷傳輸兩種功能的單層，或者其可以包括多層，例如電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層。電荷產(chǎn)生層可以包括由真空蒸發(fā)或沉積制造的硒以及硒與砷、碲、鍺等的合金，氫化無(wú)定形硅，硅與鍺、碳、氧、氮等的化合物的無(wú)定形膜。電荷產(chǎn)生層還可以包括分散在成膜聚合物基料中并由溶劑涂布技術(shù)制造的結(jié)晶硒及其合金的無(wú)機(jī)顏料；II-VI族化合物；和有機(jī)顏料，例如全吖啶酮、多環(huán)顏料，例如二溴二苯并芘二酮顏料，3T和紫環(huán)酮(perinone)二胺，多核芳香族醌，偶氮顏料，包括二、三和四偶氮；和類似物。酞著已經(jīng)用作光產(chǎn)生材料，用于利用紅外曝光系統(tǒng)的激光打印機(jī)中。暴露于低成本半導(dǎo)體激光二極管光線曝光裝置的感光體需要紅外敏感度。酞寄的吸收光謙和光敏性取決于化合物的中心金屬原子。已經(jīng)報(bào)道許多金屬酞菁，包括氧釩酞著、氯鋁酞菁、銅酞著、氧鈦酞著、氯鎵酞胥、幾基鎵酞胥、鎂酞胥和不含金屬的酞著。酞菁以許多晶形存在，其對(duì)光產(chǎn)生具有強(qiáng)烈的影響?；蠈又械幕?。典型6^聚合物成月^材料包:例如US3,^21,006中所述的那些。因此，典型的有機(jī)聚合物成膜基料包括熱塑性和熱固性樹(shù)脂，例如聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、聚苯乙烯、聚芳醚、聚芳砜、聚丁二烯、聚砜、聚醚砜、聚乙紼、聚丙烯、聚酰亞胺、聚甲基戊烯、聚苯硫醚、聚乙酸乙烯酯、聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇縮醛、聚酰胺、聚酰亞胺、氨基樹(shù)脂、聚苯醚樹(shù)脂、對(duì)苯二甲酸樹(shù)脂、苯氧基樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、聚苯乙烯和丙烯腈共聚物、聚氯乙烯、氯乙烯和乙酸乙烯酯共聚物、丙烯酸酯共聚物、醇酸樹(shù)脂、纖維素成膜劑、聚(酰胺酰亞胺)、苯乙烯丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-氯乙烯共聚物、乙酸乙烯酯-偏二氯乙烯共聚物、苯乙烯-醇酸樹(shù)脂、聚乙烯葉唑等。這些聚合物可以是嵌段、無(wú)規(guī)或交替共聚物。光產(chǎn)生組合物或顏料以各種量存在于樹(shù)脂基料組合物中。通常，約5體積％到約90體積％的光產(chǎn)生顏料分散在約10體積％到約95體積％的樹(shù)脂基料中，例如約20體積％到約30體積％的光產(chǎn)生顏料分散在約70體積％到約80體積％的樹(shù)脂基料組合物中。在一個(gè)實(shí)施方案中，約8體積％的光產(chǎn)生顏料分散在約92體積％的樹(shù)脂基料組合物中。光產(chǎn)生層也可以由真空升華制造，在這種情況下，沒(méi)有基料。任何合適的和常規(guī)的技術(shù)可以用來(lái)混合并且隨后施加光產(chǎn)生層涂料混合物。典型的施涂技術(shù)包括噴涂、浸涂、輥涂、繞線棒涂、真空升華等。對(duì)于一些應(yīng)用，產(chǎn)生層可以以點(diǎn)或線的圖案制造。去除溶劑涂布層的溶劑可以由任何合適的常規(guī)技術(shù)，例如烘干、紅外線輻射干燥、空氣干燥等完成。電荷傳輸層可以包括溶解或以分子水平分散在例如聚碳酸酯的成膜電學(xué)惰性聚合物中的電荷傳輸小分子。如在此使用的，術(shù)語(yǔ)"溶解"在此定義為形成一種溶液，其中小分子溶于聚合物形成均相。如在此使用的，表迷"以分子水平分散"定義為分散在聚合物中的電荷傳輸小分子，該小分子以分子規(guī)模分散在聚合物中。任何合適的電荷傳輸或電活性小分子可以在電荷傳輸層中使用。術(shù)語(yǔ)電荷傳輸"小分子"在此定義為允許傳輸層中光生的自由電荷被傳輸穿過(guò)傳輸層的單體。典型的電荷傳輸小分子包括例如吡唑啉，例如l-苯基-3-(4'-二乙基氨基苯乙烯基)_5-(4"-二乙基氨基苯基)吡唑啉，二胺，例如>}，^-二苯基^，>^雙(3-甲基苯基)-(l,l'-聯(lián)苯)-4，4'-二胺，腙，例如N-笨基-N-甲基-3-(9-乙基)"t唑基腙和4-二乙基氨基苯曱醛-l,2-二苯基腙，和嗯二唑，例如2，5-雙(4-N，N'-二乙基氨基苯基)-l，2,4-嘴二唑，芪等。如上所述，合適的電活性小分子電荷傳輸化合物溶解或以分子水平分散在電不活潑聚合物成膜材料中。允許來(lái)自顏料的空穴以高效率注入電荷產(chǎn)生層并將它們以極短的轉(zhuǎn)移時(shí)間傳輸穿過(guò)電荷傳輸層的小分子電荷傳輸化合物可以為N，N'-二苯基-N，N'-(3-甲基苯基)-(1,1'-聯(lián)苯)-4,4'-二胺或N,N，N',N'-四-對(duì)曱苯基聯(lián)笨-4，4'-二胺。如果需要，電荷傳輸層中的電荷傳輸材料可以包括聚合物電荷傳輸材料或小分子電荷傳輸材料和聚合物電荷傳輸材料的組合?？梢栽陔姾蓚鬏攲又惺褂貌蝗苡谟脕?lái)施涂外涂層的醇溶劑的任何合適的電不活潑的樹(shù)脂基料。典型的不活潑的樹(shù)脂基料包括聚碳酸酯樹(shù)脂、聚酯、聚芳酯、聚砜等。分子量可以為例如約20,000到約150,000。示例性基料包括聚碳酸酯，例如聚(4,4'-異亞丙基-二亞苯基)碳酸酯(也稱為雙酚-A-聚碳酸酯)、聚(4,4'-環(huán)亞己基二亞苯基)碳酸酯(稱為雙盼-Z-聚碳酸酯)、聚(4，4'-異亞丙基-3,3'-二甲基-二苯基)碳酸酯(也稱為雙酚-C-聚碳酸酯)等。任何合適的電荷傳輸聚合物也可以在電荷傳輸層中使用。電荷傳輸聚合物應(yīng)不溶于用來(lái)施涂下述后續(xù)外涂層的任何溶劑，例如醇溶劑。這些電活性的電荷傳輸聚合物材料應(yīng)能夠幫助來(lái)自電荷產(chǎn)生材料的光生空穴的注入并且不能允許這些空穴穿過(guò)其傳輸。任何合適的和常規(guī)的技術(shù)可以用來(lái)混合并且隨后施加電荷傳輸層涂料混合物到電荷產(chǎn)生層。典型的施涂技術(shù)包括噴涂、浸涂、輥涂、繞線棒涂等。干燥沉積涂層可以由任何合適的常規(guī)技術(shù)，例如烘干、紅外線輻射干燥、空氣干燥等完成。通常，電荷傳輸層的厚度為約10到約50微米，但是也可以使用這些范圍之外的厚度空穴傳輸層應(yīng)為達(dá)到如下程度的絕緣體在沒(méi)有照明存在下以足以防止靜電潛像在其上形成和保留的速率，空穴傳輸層上布置的靜電荷不被傳導(dǎo)。通常，空穴傳輸層對(duì)電荷產(chǎn)生層的厚度比理想地保持在約2:1到200:1,并且在一些情況下為如400:1那樣大。電荷傳輸層基本不吸收可見(jiàn)光或預(yù)期使用區(qū)域內(nèi)的輻射，但是是電"活性的"，也即其允許光生空穴從光電導(dǎo)層(即電荷產(chǎn)生層)的注入，并且允許這些空穴經(jīng)由自身傳輸以選擇性地將活性層表面上的表面電荷放電。為改善感光體耐磨性，在電荷傳輸層之上提供保護(hù)外涂層。外涂層通常包括成膜樹(shù)脂組合物，例如包括至少三聚氰胺化合物、多元醇和空穴傳輸分子的成膜組合物。外涂層可以例如由成膜樹(shù)脂組合物與其它任選的添加劑的溶液或其它合適混合物形成。例如，外涂層可以由在溶劑中包括至少三聚氰胺化合物或樹(shù)脂、多元醇和電荷傳輸化合物的成膜樹(shù)脂組合物的溶液形成。在實(shí)施方案中，成膜樹(shù)脂組合物可以包括約5到約80wt。/o的電荷傳輸化合物，約5到約90wt。/。的多元醇聚合物，約70到約5wto/。的三聚氰胺化合物，和約5到約60wt。/。的固化劑，但是可以使用其它量和其它組分。這些外涂層的其它實(shí)例記栽在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2006/0105264中。多元醇通常定義為含有若干側(cè)桂羥基的化合物或聚合物。這種多元醇聚合物的實(shí)例包括脂肪族聚酯多元醇、芳香族聚酯多元醇、丙烯酸酯化多元醇、脂肪族聚醚多元醇、芳香族聚醚多元醇、(聚苯乙烯-共-聚丙烯酸酯)多元醇、聚乙烯醇縮丁搭、聚(甲基丙烯酸2-羥乙S旨)等。例如，在實(shí)施方案中，多元醇聚合物可以為聚酯多元醇或丙烯酸酯化多元醇，例如高度支化聚酯多元醇或丙烯酸酯化多元醇。術(shù)語(yǔ)"高度支化"例如表示使用大量三官能醇，例如三醇合成的預(yù)聚物以形成具有很多聚合物主鏈分支的聚合物。其不同于僅含有雙官能單體，并因此幾乎沒(méi)有或沒(méi)有聚合物主鏈的分支的線性預(yù)聚物。術(shù)語(yǔ)"聚酯多元醇，，表示例如在分子中包括若干酯基和若干醇基(羥基)并且其可以包括其它基團(tuán)，例如醚基等的此類化合物。在實(shí)施方案中，聚酯多元醇因此可以包括醚基或可以不含醚基。同樣，術(shù)語(yǔ)"丙烯酸酯化多元醇"表示例如在分子中包括若干醚基和若干醇基(羥基)并且其可以包括丙紼酸酯基團(tuán)，例如甲基丙烯酸酯基等的此類化合物。多元醇的實(shí)例包括但不限于得自Bayer的Desmophen-800、得自O(shè)PCPolymers的7558畫(huà)B60，或得自JohnsonPolymers的Joncryl-587和Joncryl-510。在實(shí)施方案中，外涂層可以含有任何合適的成膜樹(shù)脂，包括上述用于成像元件其它層的那些的任一種。在這些實(shí)施方案中，成膜樹(shù)脂可以是電絕緣的、半導(dǎo)體的或?qū)щ姷?，并且可以是空穴傳輸?shù)幕虿皇强昭▊鬏數(shù)?。因此，例如，合適的成膜樹(shù)脂可以選自熱塑性和熱固性樹(shù)脂，例如聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、聚苯乙烯、聚芳醚、聚芳石風(fēng)、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、聚乙酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇縮^、聚酰胺、聚酰亞胺、氨基樹(shù)脂、聚苯醚樹(shù)脂、苯氧基樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、盼醛樹(shù)脂、聚苯乙烯與丙烯腈共聚物、乙酸乙烯酯共聚物、丙烯酸酯共聚物、醇酸樹(shù)脂、苯乙烯丁二烯共聚物、苯乙烯-醇酸樹(shù)脂、聚乙烯,唑等。這些聚合物可以為嵌段、無(wú)規(guī)或交替共聚物。在形成用于外涂層的基料材料中，可以以用于已知目的的已知量包括任何合適的交聯(lián)劑、催化劑等。例如，在實(shí)施方案中，交聯(lián)劑或促進(jìn)劑，例如三聚氰胺交聯(lián)劑或促進(jìn)劑可以包括在聚酯多元醇或丙烯酸酯化多元醇內(nèi)用于形成外涂層。引入交聯(lián)劑或促進(jìn)劑提供與聚酯多元醇或丙烯酸酯化多元醇互相作用的反應(yīng)位置，提供一種支化的、交聯(lián)的結(jié)構(gòu)。當(dāng)這樣引入時(shí)，可以使用任何合適的交聯(lián)劑或促進(jìn)劑，包括例如三嗜烷、三聚氰胺化合物及其混合物。當(dāng)三聚氰胺化合物或樹(shù)脂用于外涂層時(shí)，可以使用任何合適的三聚氰胺化合物。三聚氰胺化合物可以適當(dāng)官能化，成為例如三聚氰胺甲醛、烷基化三聚氰胺-甲醛化合物或樹(shù)脂，例如其中烷基具有約一個(gè)到約十個(gè)或一個(gè)到約四個(gè)碳原子，甲氧基曱基化三聚氰胺化合物，例如甘脲-甲醛和苯并瓜胺-甲醛等。合適的甲氧基甲基化三聚氰胺化合物的實(shí)例為Cymel303(購(gòu)自CytecIndustries)，其為具有式(CH3OCH2)6N3C3N3和以下結(jié)構(gòu)的甲氧基曱基化三聚氰胺化合物<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage17</formula>典型的三聚氰胺樹(shù)脂包括聚(三聚氛胺-甲醛)、烷基化聚(三聚氛胺-甲酪)，例如甲基化聚(三聚氰胺-甲^)、丁基化聚(三聚氰胺-甲醛)、異丁基化聚(三聚氰胺-甲醛)、甲基化/丁基化聚(三聚氰胺-曱醛)等。交聯(lián)通常通過(guò)在催化劑存在下進(jìn)行加熱實(shí)現(xiàn)。因此，成膜組合物的溶液也可以包括合適的催化劑。可以使用任何合適的催化劑。典型的催化劑包括例如乙二酸、馬來(lái)酸、carbollylicacid、抗壞血酸、丙二酸、丁二酸、酒石酸、檸檬酸、甲磺酸等及其混合物。酸催化劑可以為具有1到約30個(gè)碳原子的有機(jī)磺酸，例如甲苯磺酸，包括對(duì)甲苯磺酸。在實(shí)施方案中，外涂層包括掩蔽劑。掩蔽劑可用于在需要酸催化劑功能以前"牽制，，或阻斷催化劑的酸性作用以提供溶液穩(wěn)定性。因此，例如，掩蔽劑可以在溶液溫度升高超過(guò)臨界溫度以前阻斷酸性作用。例如，一些掩蔽劑可用于在溶液溫度升高超過(guò)約IO(TC以前阻斷酸性作用。在那時(shí)，掩蔽劑從酸解離并蒸發(fā)。未締合的酸于是自由催化聚合。一些或全部掩蔽劑可以殘留在固化層中或者蒸發(fā)。先前的外涂層配方已經(jīng)使用吡啶作為掩蔽劑。但是，近代研究提出一些吡啶具有環(huán)境問(wèn)題。如由OSHA設(shè)定的吡啶的容許暴露限度(PEL)和鬮限值(TLV)均為5ppm。長(zhǎng)時(shí)間暴露于吡啶有時(shí)可能引起累加的肝臟、腎臟和骨髓破壞，并且可能不利地影響中樞神經(jīng)系統(tǒng)。參見(jiàn)http:〃www.osha.gov/dts/chemicalsampling/data/CH—265300.html。在一個(gè)實(shí)施方案中，當(dāng)在外涂層溶液中用作掩蔽劑時(shí)，維生素B3衍生物煙酸甲酯提供令人驚訝的結(jié)果。相比沒(méi)有掩蔽劑的外涂層溶液，該外涂層溶液顯示改善的存放期。另外，引入使用煙酸甲酯作為掩蔽劑的外涂層的感光體顯示優(yōu)異的電特性。另外，煙酸曱酯被認(rèn)為對(duì)人和動(dòng)物消耗是安全的，因?yàn)槠渫ǔＳ糜陲暳咸砑觿┖退幬镏?。煙酸甲酯可?gòu)自例如Sigma-Aldrich,并且具有以下結(jié)構(gòu)在其它實(shí)施方案中，同樣合適的是使用由以下結(jié)構(gòu)表示任何數(shù)目的煙酸甲酯的衍生物作為掩蔽劑<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage19</formula>其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基。烴基可以為例如具有1到約20個(gè)碳原子，例如1到約10個(gè)或1到約6個(gè)碳原子的取代或未取代的、直鏈或支化烷基、鏈烯基或炔基。在實(shí)施例中，X表示-OR基團(tuán)，其中R為具有1到約6個(gè)碳原子的烷基。在其它實(shí)施方案中，掩蔽劑可以選自由以下結(jié)構(gòu)表示的化合物<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage19</formula>其中Y和Z獨(dú)立地代表-OH或-NH2。掩蔽劑也可以為這些化合物的酰化衍生物。具體的合適的掩蔽劑包括煙酸甲酯、吡,胺、吡哆素、煙酸以及吡嗜胺和吡,素的?；苌铮且部梢允褂闷渌衔?。用于交聯(lián)的溫度隨具體的催化劑和使用的加熱時(shí)間以及所需的交聯(lián)度而變化。通常，選擇的交聯(lián)度依賴于最終感光體的所需柔韌性。例如，完全交聯(lián)可以用于剛性轉(zhuǎn)鼓或板狀感光體。但是，部分交聯(lián)對(duì)于具有例如網(wǎng)或帶構(gòu)造的柔性感光體可能是有利的。交聯(lián)度可以由使用的催化劑相對(duì)量控制。得到所需交聯(lián)度需要的催化劑量將根據(jù)用于反應(yīng)的具體涂料溶液材料，例如多元醇、催化劑、溫度和時(shí)間而變化。在實(shí)施方案中，多元醇在約100'C到約150'C交聯(lián)。利用對(duì)曱苯磺酸作為催化劑，用于多元醇的典型交聯(lián)溫度為低于約140'C約40分鐘。酸催化劑的典型濃度為約0.01到約5.0wt%，基于多元醇重量。需要至少一當(dāng)量掩蔽劑以充分掩蔽酸催化劑。交聯(lián)之后，外涂層應(yīng)基本不溶于溶劑，其中在交聯(lián)之前，其是可溶的。因此，當(dāng)用浸泡在溶劑中的布摩擦?xí)r，沒(méi)有外涂層材料會(huì)被去除。交聯(lián)導(dǎo)致三維網(wǎng)絡(luò)形成，其限制交聯(lián)聚合物網(wǎng)絡(luò)中轉(zhuǎn)移分子。任何合適的醇溶劑可以用于成膜聚合物。典型的醇溶刑包括例如丁醇、丙醇、曱醇、l-曱氧基-2-丙醇等及其混合物?？梢杂糜谛纬赏馔繉尤芤旱钠渌线m的溶劑包括例如四氬呋喃、一氯苯及其混合物。除了上述醇溶劑之外或代替上述醇溶劑，可以使用這些溶劑，或者它們可以完全省略。但是，在一些實(shí)施方案中，應(yīng)避免較高沸點(diǎn)醇溶劑，因?yàn)樗鼈兛赡芊恋K所需的交聯(lián)反應(yīng)。任何合適的空穴傳輸材料可以用于外涂層。但是，為提供一種或多種所需的優(yōu)點(diǎn)，包括抗開(kāi)裂性、所需的機(jī)械性能、抗圖像刪除性等，實(shí)施方案包括含羥基空穴傳輸化合物作為空穴傳輸分子。示例性含羥基空穴傳輸化合物包括下式的那些其中Q表示電荷傳輸組分，L表示二價(jià)鍵合基團(tuán)，n表示重復(fù)鏈段或基團(tuán)的數(shù)目，例如為1到約8。任何合適的電荷傳輸化合物可以用作部分Q。例如，合適的電荷傳輸化合物包括胺，例如叔芳基胺，吡唑啉，腙，噃二唑，芪及其混合物。更具體地，在實(shí)施方案中，Q由以下通式表示其中Ar1、Ar2、Ar3、Ar4和Ar5各自獨(dú)立地表示取代或未取代的芳基，或ArS獨(dú)立地表示取代或未取代的亞芳基，k表示0或1，其中Ar1、Ar2、A一和A盧的至少一個(gè)連接到鍵合基團(tuán)L。例如，在實(shí)施方案中，Ar1、Ar2、Ar3、A一和Ar5各自獨(dú)立地表示取代或未取代的芳基，例如<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage20</formula>其中R選自具有1到約IO個(gè)碳原子的烷基，例如-CH3、-C2H5、-C3H7和-QH9，或AfS獨(dú)立地表示取代或未取代的亞芳基，例如<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage21</formula>其中R選自具有1到約IO個(gè)碳原子的烷基，例如-CH3、-C2H5.和-QH9。當(dāng)k大于0時(shí)，對(duì)于Ar5,其它合適的基團(tuán)包括<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage21</formula>其中n為0或l，Ar為對(duì)于Ar1、Ar2、Ar3、Ar4和Ar5定義的以上基團(tuán)的任一個(gè)，并且X選自<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage21</formula>其中s為0、1或2。在實(shí)施方案中，更具體地，Q為選自以下的化合物:及其混合物，其中R,到R，9獨(dú)立地選自氫原子、例如具有1到約20個(gè)碳原子的烷基、例如具有4到約20個(gè)碳原子的環(huán)烷基、例如具有1到約20個(gè)碳原子的烷氧基和卣素，并且下標(biāo)a到p各自獨(dú)立地表示1或2的整數(shù)。在其它實(shí)施方案中，電荷傳輸化合物Q選自以下及其混合物。在上述示例性含羥基空穴傳輸化合物中，L表示二價(jià)健合基團(tuán)。在實(shí)施方案中，二價(jià)鍵合L可以為例如含有1到約20個(gè)碳原子或1到約15個(gè)碳原子的二價(jià)烴基，任選進(jìn)一步含有例如氧、硫、硅和氮的雜原子。合適的二價(jià)鍵合基團(tuán)L的具體實(shí)例包括烷基-(-CH2)y-,其中y為1到約15或1到約IO的整數(shù)，例如亞甲基或亞乙基，<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage23</formula>及其組合。在上述示例性含羥基空穴傳輸化合物中，n表示1到約8的整數(shù)。在實(shí)施方案中，n為1到約3或1到約4,例如1、2、3或4。例如，當(dāng)n=2時(shí)，該化合物表示為二羥基烷基芳基胺化合物空穴傳輸分子。如果需要，含羥基空穴傳輸化合物，例如羥基烷基芳基胺，可以以兩種或多種，例如兩種、三種、四種或更多不同的含羥基空穴傳輸化合物組合使用，或者一種或多種含羥基空穴傳輸化合物可以與一種或多種其它類型的空穴傳輸分子組合使用。通常，含羥基空穴傳輸化合物可以由已知方法容易地制備。例如，示例性化合物N，N-雙(4-羥基甲基笨基)-3,4-二甲基笨基胺可以由鹵代二甲苯和二苯胺才艮據(jù)以下反應(yīng)歷程制備<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage23</formula>N，N-二苯基-3,4-二甲基苯基胺可以由已知的Ulmann縮合法制備。N,N-二笨基-3,4-二甲基苯基胺的雙醛化得到雙醛化的芳基胺中間體。還原該醛得到最終產(chǎn)物，N，N-雙(4-輕基甲基苯基)-3，4-二甲基苯基胺。其它含羥基空穴傳輸化合物可以由上述反應(yīng)歷程的改良法容易地制備。選擇的連續(xù)外涂層的厚度取決于使用的系統(tǒng)中的帶電(例如偏壓帶電輥)、清潔(例如刮刀或網(wǎng))、顯影(例如刷子)、轉(zhuǎn)印(例如偏壓轉(zhuǎn)印輥)等的磨損，并且可以為約l或約2微米直至約10或約15微米或更高。在實(shí)施方案中，需要約1微米到約5微米的厚度。典型的施涂技術(shù)包括噴涂、浸涂、輥涂、繞線棒涂等。干燥沉積的涂層可以由任何合適的常規(guī)方法，例如烘干、紅外線輻射干燥、空氣千燥等完成。本公開(kāi)內(nèi)載荷子;度。夕i涂層中的自由栽荷子濃度使暗衰減升高。在實(shí)施方案中，外涂層的暗衰減應(yīng)大概與沒(méi)有外涂層的裝置的暗衰減相同。在干燥的外涂層中，該組合物可以包括約10到約90wt。/。成膜基料，和約90到約10wt。/?？昭▊鬏敺肿?。例如，在實(shí)施方案中，空穴傳輸分子可以以約20到約70wt%,例如約33wt。/。的量引入到外涂層中。根據(jù)需要，外涂層也可以以任何合適的和已知的量包括其它材料，例如導(dǎo)電填料、耐磨填料等。在實(shí)施方案中，由本公開(kāi)內(nèi)容提供的優(yōu)點(diǎn)包括提供理想的電學(xué)和機(jī)械性能的穩(wěn)固的外涂層，其可以在環(huán)境和健康安全標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)制造。在實(shí)施方案中，外涂層顯示優(yōu)異的耐磨性、耐刻劃性和耐開(kāi)裂性，不會(huì)不利地影響感光體的電學(xué)性能。因此，涂布的感光體器件顯示延長(zhǎng)的使用期限同時(shí)保持理想的圖像質(zhì)量。此外，包括在本公開(kāi)內(nèi)容范圍內(nèi)的是用在此說(shuō)明的成像元件進(jìn)行成像和打印的方法。這些方法通常包括在成像元件上形成靜電潛像；隨后用由例如熱塑性樹(shù)脂，色料，例如顏料，電荷添加劑(chargeadditive)和表面添加劑組成的調(diào)色劑組合物顯影圖像，參考US4,560,635、4,298,697和4,338,390，隨后將該圖像轉(zhuǎn)印到合適的基材；和將圖像永久地附著在其上。在其中裝置以打印模式使用的那些環(huán)境中，成像方法包括相同的步驟，除了可以用激光設(shè)備或成像棒完成膝光步驟。下面給出實(shí)施例，并說(shuō)明可以用于實(shí)施本公開(kāi)內(nèi)容的不同的組合物和條件。除非另有說(shuō)明，所有比例按重量計(jì)。但是，顯而易見(jiàn)的是根據(jù)以上公開(kāi)內(nèi)容和如以下指出的，本公開(kāi)內(nèi)容可以用許多種類的組合物實(shí)施，并且可以具有許多不同的應(yīng)用。實(shí)施例通過(guò)在醇溶劑中混合煙酸甲酯和酸催化劑(對(duì)曱笨磺酸)與曱氧基曱基丁氧基甲基三聚氰胺、酚醛樹(shù)脂和空穴傳輸分子的溶液制備外涂層溶液。制備之后立即用凝膠滲透色語(yǔ)法分析得到的外涂層溶液，然后在4(TC加速老化16小時(shí)。計(jì)算溶液中低聚物的百分比含量并在表1中示出。對(duì)比例1如實(shí)施例1制備外涂層溶液，除了省略掩蔽劑煙酸甲酯。制備之后立即用凝膠滲透色鐠法分析得到的外涂層溶液，然后在40。C加速老化16小時(shí)。計(jì)算溶液中低聚物的百分比含量并在表1中示出。表1.封閉和未封閉的酸催化劑對(duì)外涂層溶液中低聚物形成的影響<table>complextableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>實(shí)施例2如實(shí)施例1制備外涂層溶液。將外涂層溶液涂布在感光體器件上并在125。C固化2分鐘。然后分析感光體的電學(xué)性能。結(jié)果示于表2。由該結(jié)果，根椐Vr的細(xì)微改變顯而易見(jiàn)的是，顯然包括煙酸甲酯不會(huì)不利地影響器件的電學(xué)性能，并且同時(shí)使保存期穩(wěn)定性提高。實(shí)施例3如實(shí)施例1制備外涂層溶液。將外涂層溶液老化10天，然后涂布在感光體器件上并在125。C固化2分鐘。然后分析感光體的電學(xué)性能。結(jié)果示于表2。表2.時(shí)間零點(diǎn)電學(xué)性<table>complextableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>權(quán)利要求1.一種涂料組合物，包括含有至少酸催化劑和掩蔽劑的聚合物樹(shù)脂組合物，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的?；苌?；其中化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出id="icf0001"file="A2007101667110002C1.gif"wi="27"he="36"top="65"left="90"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>其中X代表選自-OR和-NR′R″的取代基，其中R、R′和R″各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出id="icf0002"file="A2007101667110002C2.gif"wi="38"he="38"top="127"left="84"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>其中Y和Z獨(dú)立地代表-OH或-NH2。2.—種電子照相成像元件，包括基材；電荷產(chǎn)生層；電荷傳輸層；和外涂層，該外涂層包括由聚合物樹(shù)脂組合物形成的膜，所述聚合物樹(shù)脂組合物含有至少電荷傳輸組分、固化劑、聚合物基料、酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的?；苌铮黄渲谢衔顰由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(I)其中X代表選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氬原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(II)其中Y和Z獨(dú)立地代表-OH或-NHz。3,—種形成電子照相成像元件的方法，包括提供包括基材、電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的電子照相成像元件；在其上形成外涂層，該外涂層包括由聚合物樹(shù)脂組合物形成的膜,所迷聚合物樹(shù)脂組合物包括電荷傳輸組分、固化劑、聚合物基料、酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的?；苌铮渲谢衔顰由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(I)其中X代表選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、R'和R"各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出(II)<formula>complexformulaseeoriginaldocumentpage4</formula>其中Y和Z獨(dú)立地表示-OH或-NH2;和通過(guò)加熱固化該外涂層。全文摘要本發(fā)明公開(kāi)了感光體外涂層掩蔽劑，以及一種具有聚合物樹(shù)脂組合物的涂料組合物，該聚合物樹(shù)脂組合物含有至少一種酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A、化合物B和化合物A的?；苌?，其中化合物A由結(jié)構(gòu)式(Ⅰ)給出，其中X代表選自-OR和-NR′R″的取代基，其中R、R′和R″各自獨(dú)立地表示氫原子或烴基；和化合物B由結(jié)構(gòu)式(Ⅱ)給出，其中Y和Z獨(dú)立地代表-OH或-NH₂。文檔編號(hào)G03G5/147GK101196697SQ20071016671公開(kāi)日2008年6月11日申請(qǐng)日期2007年11月5日優(yōu)先權(quán)日2006年11月6日發(fā)明者H·阿茲茲,K·L·德永,N·-X·胡申請(qǐng)人:施樂(lè)公司