專利名稱：：感光性組合物、感光性膜、使用該感光性組合物的永久圖案形成方法和印制電路板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性優(yōu)異，能夠高效地形成高精細(xì)圖案(保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案等)的感光性組合物、感光性膜、使用該感光性組合物的永久圖案形成方法及通過該永久圖案形成方法形成永久圖案的印制電路板。
背景技術(shù)：
：一直以來，在形成阻焊圖案等永久圖案時(shí)，使用在支承體上涂布感光性組合物進(jìn)行干燥從而形成有感光層的感光性膜。作為上述永久圖案的制造方法，例如在形成有上述永久圖案的覆銅層疊板等的基體上層疊上述感光性膜而形成層疊體，對該層疊體的上述感光層進(jìn)行曝光，在該曝光后將上述感光層顯影形成圖案，之后進(jìn)行固化處理等，從而形成上述永久圖案。在上述感光性組合物中，為了提高穩(wěn)定性等，提出了含有下述高分子化合物的感光性組合物，所述高分子化合物為，在具有碳原子數(shù)16個(gè)的脂肪族烴基的(甲基)丙烯酰單體與(甲基)丙烯酸的共聚物上加成具有環(huán)氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物后的高分子化合物(參照專利文獻(xiàn)1)。另外，出于與上述提案基本相同的目的，提出了含有下述高分子化合物的感光性組合物，所述高分子化合物為，在側(cè)鏈具有羧基的共聚物上加成具有脂環(huán)式環(huán)氧基的不飽和化合物后的高分子化合物(參照專利文獻(xiàn)2)。另外，為了提高耐熱性或耐化學(xué)藥品性等的性能，提出了在組合物中含有具有不飽和雙鍵且具有特定范圍的酸值、分子量的粘合劑聚合物及具有不飽和雙鍵且具有特定的酸值、環(huán)氧等量的環(huán)氧樹脂的感光性樹脂組合物(參照專利文獻(xiàn)3)。但是，在這些感光性組合物中，感光度和保存穩(wěn)定性均不充分，特別是在利用激光掃描曝光的圖案潛像形成中具有以下問題由于曝光部的固化不充分，而在堿顯影工序中圖像部被除去，或者在將感光性組合物膜化制成長尺輥形狀時(shí)，經(jīng)時(shí)地發(fā)生端面的熔融，該熔融部分在層疊時(shí)落至層疊體的曝光面，從而在曝光時(shí)引起曝光圖案的斷線等。另外，使用了堿可溶性環(huán)氧樹脂的感光性組合物在鍍金處理過程中與基板的密合變得不良，觀察到感光性組合物浮起，發(fā)生可見鍍滲(日文；力o含潛!9)的現(xiàn)象等問題。因此，通過含有規(guī)定的高分子化合物，仍然無法提供感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性優(yōu)異、能夠高效地形成高精細(xì)永久圖案(保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案等)的感光性組合物、感光性膜、使用上述感光性膜的圖案形成方法以及通過該永久圖案形成方法形成有永久圖案的印制電路板，現(xiàn)狀是期待進(jìn)一步的改良開發(fā)。專利文獻(xiàn)1:日本特開平3-172301號公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本特開平10-10726號公報(bào)專利文獻(xiàn)3:日本特開平7-199457號公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明鑒于該現(xiàn)狀而完成，其課題在于解決以往的上述諸問題、達(dá)成以下的目的。即，本發(fā)明的目的在于提供感光性組合物的經(jīng)時(shí)的顯影穩(wěn)定性優(yōu)異、能夠高效地形成高精細(xì)永久圖案(保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案等)的感光性組合物、感光性膜、及使用上述感光性組合物和上述感光性膜的永久圖案形成方法以及通過該永久圖案形成方法形成有永久圖案的印制電路板。作為用于解決上述課題的方法如下所述。即<1>一種感光性組合物，其為至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)系化合物、熱交聯(lián)劑的感光性組合物，其中，將該感光性組合物層疊在基體上，在25。C于暗處放置20分鐘后，將利用顯影液除去層疊至上述基體的感光性組合物的未曝光部分所需要的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)作為TP對于層疊至上述基體的感光性組合物，將該感光性組合物在4(TC于暗處放置72小時(shí)后，將利用顯影液除去上述感光性組合物的未曝光部分所需要的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)作為丁2時(shí)，滿足0.5<丁2/1\<3的關(guān)系。<2>根據(jù)上述<1>所述的感光性組合物，其中，粘合劑含有在側(cè)鏈具有酸性基團(tuán)和乙烯性不飽和鍵的高分子化合物。<3>根據(jù)上述<1><2>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，粘合劑為選自于催化劑共存下在高分子化合物的酸性基團(tuán)的一部分加成含有環(huán)狀醚基的聚合性化合物后的高分子化合物和于催化劑共存下在高分子化合物的環(huán)狀醚基的一部分或全部上加成含有羧基的聚合性化合物后的高分子化合物中的任一種高分子化合物，上述催化劑選自酸性化合物和中性化合物中的任一種。<4>根據(jù)上述<1><3>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，粘合劑含有側(cè)鏈具有酸性基團(tuán)、可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)、乙烯性不飽和鍵的高分子化合物。<5>根據(jù)上述<2><4>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物含有0.53.0meq/g的乙烯性不飽和鍵。<6>根據(jù)上述<2><5>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物的側(cè)鏈具有羧基，所述羧基在高分子化合物中的含量為1.04.0meq/g。<7>根據(jù)上述<2><6>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物的質(zhì)均分子量為10000以上且小于100000。<8>根據(jù)上述<2><7>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物含有20mol。/。以上的下述結(jié)構(gòu)式(I)所示的結(jié)構(gòu)單元。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>結(jié)構(gòu)式(I)上述結(jié)構(gòu)式(I)中，Rt、R2、R3表示氫原子或1價(jià)的有機(jī)基團(tuán)。L表示有機(jī)基團(tuán)，也可以沒有，Ar表示可含雜環(huán)的芳香族基團(tuán)。<9〉根據(jù)上述<1><8>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，聚合性化合物含有具有1個(gè)以上乙烯性不飽和鍵的化合物。<10>根據(jù)上述<1><9>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，聚合性化合物含有至少l種具有(甲基)丙烯?；膯误w。<11>根據(jù)上述<1><10>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，光聚合引發(fā)劑含有選自鹵化烴衍生物、六芳基二咪唑、肟衍生物、有機(jī)過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鏡鹽、金屬茂類、?；⒀趸锘衔镏械闹辽?種。<12>根據(jù)上述<1><11>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑為選自環(huán)氧化合物、氧雜環(huán)丁垸化合物、聚異氰酸酯化合物、使封端劑與聚異氰酸酯化合物反應(yīng)而獲得的化合物以及蜜胺衍生物的任一種中的至少1種。<13>根據(jù)上述<1><12>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑為堿不溶性。<14>根據(jù)上述<1><13>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比為0.11.5。<15>根據(jù)上述<1><13>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比為0.21.3。<16〉根據(jù)上述<1〉<13>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比為0.31.2。<17>根據(jù)上述<1><16>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，感光性組合物含有增敏劑。<18>根據(jù)上述<1><17>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，增敏劑為雜稠環(huán)系化合物。<19〉根據(jù)上述<1><18>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其為存在于感光性組合物中的部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為5%以下、部分結(jié)構(gòu)中具有堿性取代基的總堿成分量為7%以下中的至少任l種。<20>根據(jù)上述<1><18>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其為存在于感光性組合物中的部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為4%以下、部分結(jié)構(gòu)中具有堿性取代基的總堿成分量為5%以下中的至少任l種。<21>根據(jù)上述<1><18>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其為存在于感光性組合物中的部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為2%以下、部分結(jié)構(gòu)中具有堿性取代基的總堿成分量為4%以下中的至少任l種。<22>根據(jù)上述<1><18>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其為存在于感光性組合物中的部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為1%以下、部分結(jié)構(gòu)中具有堿性取代基的總堿成分量為2%以下中的至少任1種。<23>根據(jù)上述<19><22>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，堿性取代基為選自伯叔氨基、季銨鹽基、含有氨基三嗪的基團(tuán)、含有咪唑的基團(tuán)、胍基的任一種。<24>根據(jù)上述<1><23>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，T,為5120秒、上述丁2為5240秒。<25>根據(jù)上述<1〉<24>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，在曝光和顯影前后不改變曝光部分的厚度的上述曝光中所用光的最小能量為0.1500mJ/cm2。<26>根據(jù)上述<1><25>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，光聚合引發(fā)劑為選自?；⒀趸锵祷衔锖屯衔锏娜我环N。<27>—種感光性膜，其中，具有支承體和在該支承體上的由上述<1><26>中任一項(xiàng)所述感光性組合物構(gòu)成的感光層而得。<28>根據(jù)上述<27>所述的感光性膜，其中，在支承體上依次具有熱塑性樹脂層和感光層。<29>根據(jù)上述<27><28>中任一項(xiàng)所述的感光性膜，其為長條狀、巻繞成輥狀而成。<30>根據(jù)上述<27><29>中任一項(xiàng)所述的感光性膜，其中，感光層的厚度為1100(im。<31>根據(jù)上述<27><30>中任一項(xiàng)所述的感光性膜，其中，支承體含有合成樹脂且為透明。<32>根據(jù)上述<27〉<31〉中任一項(xiàng)所述的感光性膜，其中，感光層上具有保護(hù)膜。<33>—種永久圖案形成裝置，其中，至少具有能夠照射光的光照射機(jī)構(gòu)；調(diào)制來自該光照射機(jī)構(gòu)的光，對將<1><26>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物涂布在基體的表面上進(jìn)行干燥后而形成的感光層，進(jìn)行曝光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)。在上述<33>所述的永久圖案形成裝置中，上述光照射機(jī)構(gòu)朝向上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)照射光。上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)將從上述光照射機(jī)構(gòu)接收的光調(diào)制。使通過上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制的光相對于上述感光層曝光。例如，然后將上述感光層顯影，形成高精細(xì)的圖案。以曝光、顯影為特征的永久圖案形成方法。<34>—種永久圖案形成裝置，其具備上述<27><32>中任一項(xiàng)所述的感光性膜，其中，至少具有能夠照射光的光照射機(jī)構(gòu)；調(diào)制來自該光照射機(jī)構(gòu)的光，對上述感光性膜的感光層進(jìn)行曝光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)。在上述<34>所述的永久圖案形成裝置中，上述光照射機(jī)構(gòu)朝向上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)照射光。上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)將從上述光照射機(jī)構(gòu)接收的光調(diào)制。使通過上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制的光相對于上述感光層曝光。例如，然后將上述感光層顯影，形成高精細(xì)的圖案。<35>根據(jù)上述<33>和<34>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成裝置，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)還具有根據(jù)所形成的圖案信息產(chǎn)生控制信號的圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，根據(jù)該圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)所產(chǎn)生的控制信號使從光照射機(jī)構(gòu)照射的光調(diào)制。在上述<35>所述的永久圖案形成裝置中，上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)通過具有上述圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，對應(yīng)該圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)所產(chǎn)生的控制信號使從光照射機(jī)構(gòu)照射的光調(diào)制。<36>根據(jù)上述<33><35>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成裝置，其中光調(diào)制機(jī)構(gòu)具有n個(gè)描素部，可以根據(jù)所形成的圖案信息控制從該n個(gè)描素部中開始連續(xù)配置的任意少于n個(gè)的上述描素部。在上述<36>所述的永久圖案形成裝置中，通過根據(jù)圖案信息控制從上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的n個(gè)描素部中開始連續(xù)配置的任意少于n個(gè)的描素部，高速地調(diào)制來自上述光照射機(jī)構(gòu)的光。<37〉上述<33><36>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成裝置，其中光調(diào)制機(jī)構(gòu)為空間光調(diào)制元件。<38>上述<37>所述的永久圖案形成裝置，其中，空間光調(diào)制元件為數(shù)字微反射鏡設(shè)備(DMD)。<39〉上述<36><38>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成裝置，其中描素部為微反射鏡。<40>上述<33><39>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成裝置，其中光照射機(jī)構(gòu)能夠合成2種以上的光進(jìn)行照射。上述<40>所述的永久圖案形成裝置中，上述光照射機(jī)構(gòu)通過能夠合成2種以上的光進(jìn)行照射，曝光通過焦點(diǎn)深度深的曝光光進(jìn)行。結(jié)果，對上述感光層的曝光極為高精細(xì)地進(jìn)行。之后對上述感光層進(jìn)行顯影時(shí)，形成極為高精細(xì)的圖案。<41>上述<33><40>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成裝置，其中，光照射機(jī)構(gòu)具有多個(gè)激光、多模式光纖維、將由該多個(gè)激光分別照射的激光光聚光結(jié)合在上述多模式光纖維上的集合光學(xué)體系。上述<41〉所述的永久圖案形成裝置中，上述光照射機(jī)構(gòu)通過能夠利用上述集合光學(xué)體系將由上述多個(gè)激光分別照射的激光光聚光、結(jié)合在上述多模式光纖維上，曝光通過焦點(diǎn)深度深的曝光光進(jìn)行。結(jié)果，對上述感光層的曝光極為高精細(xì)地進(jìn)行。之后對上述感光層進(jìn)行顯影時(shí)，形成極為高精細(xì)的圖案。<42>—種永久圖案形成方法，其特征在于，至少包括在加熱或加壓的至少任1情況下將上述<27><32>任一項(xiàng)所述的感光性膜的感光層層疊在基體的表面上后，對該感光性進(jìn)行曝光。<43>上述<42>所述的永久圖案形成方法，其中曝光是使用350415nm波長的激光光進(jìn)行的。<44>上述<42><43〉中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中曝光是根據(jù)所形成的圖案信息形象地進(jìn)行。<45>上述<42><44>中任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，曝光使用曝光頭，其具備光照射機(jī)構(gòu)以及具有接收并將來自上述光照射機(jī)構(gòu)的光射出的n個(gè)(n為2以上的自然數(shù))配置成2維狀的描素部、根據(jù)圖案信息能夠控制所述描素部的光調(diào)制機(jī)構(gòu)，相對于該曝光頭的掃描方向，所述描素部的列方向按照成所需設(shè)定傾斜角度e而配置，對于所述曝光頭，通過使用描素部指定機(jī)構(gòu)在能夠使用的所述描素部中指定用于N重曝光(N為2以上的自然數(shù))的所述描素部，對于所述曝光頭，按照利用描素部控制機(jī)構(gòu)僅將由所述使用描素部指定機(jī)構(gòu)指定的所述描素部曝光，控制所述描素部，相對于所述感光層，在掃描方向上相對地移動(dòng)所述曝光頭。在上述<45>所述的永久圖案形成方法中，對于所述曝光頭，通過使用描素部指定機(jī)構(gòu)在能夠使用的所述描素部中指定用于N重曝光(N為2以上的自然數(shù))的所述描素部，利用描素部控制機(jī)構(gòu)，按照僅由所述使用描素部指定機(jī)構(gòu)指定的所述描素部曝光，控制所述描素部。通過將所述曝光頭相對于所述感光層在掃描方向上相對地移動(dòng)進(jìn)行曝光，由于所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏移而導(dǎo)致的形成在所述感光層被曝光面的所述圖案的分辨率不均或濃度不均被均化。結(jié)果，對上述感光層的曝光極為高精細(xì)地進(jìn)行。之后對上述感光層進(jìn)行顯影時(shí)，形成極為高精細(xì)的圖案。<46>上述<45>所述的永久圖案形成方法，其中，曝光使用多個(gè)曝光頭進(jìn)行，使用描素部指定機(jī)構(gòu)在與作為由多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域的曝光有關(guān)的描素部中，指定用于實(shí)現(xiàn)所述頭之間連接區(qū)域的N重曝光而使用的所述描素部。在上述<46>所述的永久圖案形成方法中，曝光使用多個(gè)曝光頭進(jìn)行，通過使用描素部指定機(jī)構(gòu)在與作為由多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域的曝光有關(guān)的描素部中指定用于實(shí)現(xiàn)所述頭之間連接區(qū)域的N重曝光的所述描素部，由于所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏移而導(dǎo)致的形成在所述感光層被曝光面的頭之間連接區(qū)域的所述圖案的分辨率不均或濃度不均被均化。結(jié)果，高精細(xì)地進(jìn)行上述感光層的曝光。之后通過對上述感光層進(jìn)行顯影，形成高精細(xì)的圖案。<47>上述<46>所述的永久圖案形成方法，其中，曝光使用多個(gè)曝光頭進(jìn)行，使用描素部指定機(jī)構(gòu)在與作為由多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的多個(gè)曝光區(qū)域的頭之間連楚區(qū)域以外的曝光有關(guān)的描素部中指定用于實(shí)現(xiàn)所述頭之間連接區(qū)域以外區(qū)域的N重曝光而使用的所述描素部。在上述<47>所述的永久圖案形成方法中，曝光使用多個(gè)曝光頭進(jìn)行，通過使用描素部指定機(jī)構(gòu)在與作為由多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域以外的曝光有關(guān)的描素部中指定用于實(shí)現(xiàn)所述頭之間連接區(qū)域以外的N重曝光而使用的所述描素部，由于所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏移而導(dǎo)致的形成在所述感光層被曝光面的頭之間連接區(qū)域以外的所述圖案的分辨率不均或濃度不均被均化。結(jié)果，高精細(xì)地進(jìn)行上述感光層的曝光。之后通過對上述感光層進(jìn)行顯影，形成高精細(xì)的圖案。<48>上述<45><47>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，設(shè)定傾斜角度e相對于N重曝光數(shù)的N、描素部的列方向的個(gè)數(shù)s、所述描素部的列方向的間隔p、在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下沿著與該曝光頭掃描方向垂直方向的描素部列方向的間距S，相對于滿足下式spsineidea^NS的0ideal，按照滿足e^eid^的關(guān)系設(shè)定。<49>上述<45><48〉任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，N重曝光的N為3以上的自然數(shù)。上述<49>所述的永久圖案形成方法中，通過N重曝光的N為3以上的自然數(shù)，進(jìn)行多重描繪。結(jié)果，通過補(bǔ)償?shù)男Ч捎谒銎毓忸^的安裝位置或安裝角度的偏移而導(dǎo)致的形成在所述感光層被曝光面上的所述圖案的分辨率不均或濃度不均被更為精密地均化。<50>上述<45><49>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，使用描素部指定機(jī)構(gòu)具備在被曝光面上檢測由描素部產(chǎn)生的作為構(gòu)成被曝光面上曝光區(qū)域的描素單元的光點(diǎn)位置的光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)、根據(jù)上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)的檢測結(jié)果選擇用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的描素部的描素部選擇機(jī)構(gòu)。<51>上述<45〉<50>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，使用描素部指定機(jī)構(gòu)以行單位指定用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的使用描素部。<52>上述<50><51>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)根據(jù)所檢測的至少2個(gè)光點(diǎn)位置特定傾斜曝光頭的狀態(tài)下的被曝光面上光點(diǎn)列方向與所述曝光頭的掃描方向所成實(shí)際傾斜角度e'，描素部選擇機(jī)構(gòu)按照吸收所述實(shí)際傾斜角度e'與設(shè)定傾斜角度e的誤差而選擇使用描素部。<53>上述<52>所述的永久圖案形成方法，其中，實(shí)際傾斜角度e，為傾斜曝光頭的狀態(tài)的被曝光面上的光點(diǎn)列方向與所述曝光頭掃描方向所成多個(gè)實(shí)際傾斜角度的平均值、中央值、最大值和最小值的任一個(gè)。<54>上述<50><53>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描素部選擇機(jī)構(gòu)根據(jù)實(shí)際傾斜角度e，，導(dǎo)出接近于滿足ttan9，=N(N表示N重曝光的N)關(guān)系的t的自然樹T，選擇排列m行(m表示2以上的自然數(shù))的描素部中的第1行開始至上述第T行的所述描素部作為使用描素部。<55>上述<50><54>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描素部選擇機(jī)構(gòu)根據(jù)實(shí)際傾斜角度0'，導(dǎo)出接近于滿足ttan6，=N(N表示N重曝光的N)關(guān)系的t的自然樹T，將排列m行(m表示2以上的自然數(shù))的描素部中的第(T+l)行開始至第m行的所述描素部作為不使用描素部特定，選擇除去該不使用描素部的所述描素部作為使用描素部。<56>上述<50><55>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描素部選擇機(jī)構(gòu)在至少含有由多個(gè)描素部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中為下述裝置的任一種(1)相對于理想的N重曝光，按照曝光過多區(qū)域和曝光不足區(qū)域的總面積達(dá)到最小，選擇使用描素部的裝置、(2)相對于理想的N重曝光，按照曝光過多區(qū)域的描素單元數(shù)和曝光不足區(qū)域的描素單元數(shù)相等，選擇使用描素部的裝置、(3)相對于理想的N重曝光，按照曝光過多區(qū)域的面積最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域，選擇使用描素部的裝置、(4)相對于理想的N重曝光，按照曝光不足區(qū)域的面積最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光過多的區(qū)域，選擇使用描素部的裝置。<57〉上述<50><56〉任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描素部選擇機(jī)構(gòu)在作為由多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域中為下述裝置的任一種(1)相對于理想的N重曝光，按照曝光過多區(qū)域和曝光不足區(qū)域的總面積達(dá)到最小，從所述頭之間連接區(qū)域的曝光有關(guān)的描素部中特定不使用描素部，選擇除去該不使用描素部的所述描素部作為使用描素部的裝置、(2)相對于理想的N重曝光，按照曝光過多區(qū)域的描素單元數(shù)和曝光不足區(qū)域的描素單元數(shù)相等，從所述頭之間連接區(qū)域的曝光有關(guān)的描素部中特定不使用描素部，選擇除去該不使用描素部的所述描素部作為使用描素部的裝置、(3)相對于理想的N重曝光，按照曝光過多區(qū)域的面積最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域，從所述頭之間連接區(qū)域的曝光有關(guān)的描素部中特定不使用描素部，選擇除去該不使用描素部的所述描素部作為使用描素部的裝置、(4)相對于理想的N重曝光，按照曝光不足區(qū)域的面積最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光過多的區(qū)域，從所述頭之間連接區(qū)域的曝光有關(guān)的描素部中特定不使用描素部，選擇除去該不使用描素部的所述描素部作為使用描素部的裝置。<58>上述<57>所述的永久圖案形成方法，其中不使用描素部以行單位特定。<59>上述<45><58>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，在使用描素部指定機(jī)構(gòu)中為了指定使用描素部，在能夠使用的所述描素部中，相對于N重曝光的N，僅使用構(gòu)成每(N-l)列的描素部列的所述描素部進(jìn)行參照曝光。在上述<59>所述的永久圖案形成方法中，在使用描素部指定機(jī)構(gòu)中為了指定使用描素部，在能夠使用的所述描素部中，相對于N重曝光的N，僅使用構(gòu)成每(N-l)列的描素部列的所述描素部進(jìn)行參照曝光，獲得略1重描繪的單純圖案。結(jié)果，容易地指定上述頭之間連接區(qū)域的所述描素部。<60>上述<45><58>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，在使用描素部指定機(jī)構(gòu)中為了指定使用描素部，在能夠使用的所述描素部中，相對于N重曝光的N，僅使用構(gòu)成每1/N行的描素部行的所述描素部進(jìn)行參照曝光。在上述<60>所述的永久圖案形成方法中，在使用描素部指定機(jī)構(gòu)中為了指定使用描素部，在能夠使用的所述描素部中，相對于N重曝光的N，僅使用構(gòu)成每1/N行的描素部行的所述描素部進(jìn)行參照曝光，獲得略1重描繪的單純永久圖案。結(jié)果，容易地指定上述頭之間連接區(qū)域的所述描素部。<61>上述<45><60>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，使用描素部指定機(jī)構(gòu)具有作為光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)的夾縫和光檢測器以及作為描素部選擇機(jī)構(gòu)的與所述光檢測器相連的演算裝置。<62>上述<45><61>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，N重曝的N為3以上7以下的自然數(shù)。<63>上述<45><62>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)進(jìn)一步具有根據(jù)所形成的圖案信息產(chǎn)生控制信號的圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，根據(jù)該圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號將由光照射機(jī)構(gòu)照射的光調(diào)制。上述<63>所述的永久圖案形成裝置中，上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)通過具有上述圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，根據(jù)該圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號將由所述光照射機(jī)構(gòu)照射的光調(diào)制。<64>上述<45〉<63〉任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)為空間光調(diào)制元件。<65>上述<64>所述的永久圖案形成方法，其中，空間光調(diào)制元件為數(shù)字微反射鏡設(shè)備(DMD)。<66>上述<45><65>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描素部為微反射鏡。<67>上述<45〉<66>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其具有按照圖案信息所示圖案的規(guī)定部分尺寸與通過所指定的使用描素部能夠?qū)崿F(xiàn)的對應(yīng)部分尺寸一致而變換所述圖案信息的變換裝置。<68>上述<45><67>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光照射機(jī)構(gòu)能夠合成2種以上的光進(jìn)行照射。所述<68>所述的永久圖案形成方法中，由于上述光照射機(jī)構(gòu)能夠合成2種以上的光進(jìn)行照射，曝光通過焦點(diǎn)深度深的曝光光進(jìn)行。結(jié)果，極為高精細(xì)地進(jìn)行上述感光性膜的曝光。之后對所述感光層顯影時(shí)，形成極為高精細(xì)的永久圖案。<69〉上述<45><68>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光照射機(jī)構(gòu)具有多個(gè)激光、多模式光纖維和將由該多個(gè)激光分別照射的激光光聚光使其結(jié)合在所述多模式光纖維上的集合光學(xué)體系。所述<69>所述的永久圖案形成方法中，由于所述光照射機(jī)構(gòu)能夠利用所述集合光學(xué)體系將由所述多個(gè)激光分別照射的激光光聚光、并結(jié)合在所述多模式光纖維上，因此曝光以焦點(diǎn)深度深的曝光光進(jìn)行。結(jié)果，極為高精細(xì)地進(jìn)行上述感光性膜的曝光。之后對所述感光層顯影時(shí)，形成極為高精細(xì)的永久圖案。<70>上述<42><69>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，在進(jìn)行曝光后進(jìn)行感光層的顯影。所述<70>所述的永久圖案形成方法中，在進(jìn)行所述曝光后，將所述感光層顯影，從而形成高精細(xì)的圖案。<71>上述<70>所述的永久圖案形成方法，其中，在進(jìn)行顯影后，進(jìn)行永久圖案的形成。<72>上述<71>所述的永久圖案形成方法，其中，在進(jìn)行顯影后，對感光層進(jìn)行固化處理。<73>上述<72>所述的永久圖案形成方法，其中，固化處理為全面曝光處理和在120200"C下進(jìn)行的全面加熱處理的至少1種。<74>上述<72><73>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其形成保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案的至少任1個(gè)。上述<74>所述永久圖案形成方法中，由于形成保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案的至少任l個(gè)，因此利用該膜具有的絕緣性、耐熱性等，保護(hù)導(dǎo)線避免來自外部的沖擊或彎曲等。<75>—種印制電路板，其特征在于，通過上述<42><74>任一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法形成永久圖案。根據(jù)本發(fā)明可以提供能夠解決以往的問題，通過含有所需的高分子化合物，感光性組合物的經(jīng)時(shí)顯影穩(wěn)定性優(yōu)異、高效地形成高精細(xì)永久圖案(保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案等)的感光性組合物、感光性膜、使用所述感光性膜的永久圖案形成方法及利用該永久圖案形成方法形成永久圖案的印制電路板。而且，通過規(guī)定與高分子化合物共存的化合物的種類和量，可以提供在熱交聯(lián)劑存在下的經(jīng)時(shí)顯影穩(wěn)定性優(yōu)異的感光性組合物、感光性膜、使用所述感光性膜的永久圖案形成方法及利用該永久圖案形成方法形成永久圖案的印制電路板。圖1為表示圖案形成裝置的一例的外觀的立體圖。圖2為表示圖案形成裝置的掃描器的結(jié)構(gòu)的一例的立體圖。圖3A為表示形成于感光層的被曝光面上的經(jīng)曝光區(qū)域的平面圖。圖3B為表示該曝光頭所產(chǎn)生的曝光區(qū)域的排列的平面圖。圖4為表示曝光頭的大致結(jié)構(gòu)的一例的立體圖。圖5A為表示曝光頭的詳細(xì)構(gòu)成一例的俯視圖。圖5B為表示曝光頭的詳細(xì)構(gòu)成一例的側(cè)面圖。圖6為表示圖1的圖案形成裝置的DMD—例的部分放大圖。圖7A為用于說明DMD的工作的立體圖。圖7B為用于說明DMD的工作的立體圖。圖8為表示在具有曝光頭的安裝角度誤差和圖案歪曲時(shí)在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的不均的說明圖。圖9為表示1個(gè)DMD產(chǎn)生的曝光區(qū)域與相應(yīng)夾縫的位置關(guān)系的俯視圖。圖IO為用于說明使用夾縫測定被曝光面上光點(diǎn)位置的方法的俯視圖。圖11為表示曝光中僅使用所選微反射鏡的結(jié)果、產(chǎn)生于被曝光面的圖案中的不均有所改善的狀態(tài)的說明圖。圖12為表示相鄰曝光頭之間具有相對位置的偏移時(shí)，產(chǎn)生于被曝光面上的圖案中的不均的例子的說明圖。圖13為表示相鄰2個(gè)曝光頭所產(chǎn)生的曝光區(qū)域與相應(yīng)夾縫的位置關(guān)系的俯視圖。圖14為表示說明使用夾縫測定被曝光面上的光點(diǎn)位置的方法的俯視圖。圖15為表示僅圖12的例中所選使用像素實(shí)際工作、產(chǎn)生于被曝光面上的圖案中的不均有所改善的狀態(tài)的說明圖。圖16為表示在相鄰曝光頭之間具有相對位置的偏離和安裝角度誤差時(shí)產(chǎn)生于被曝光面的圖案中的不均的例子的說明圖。圖17為表示僅使用圖16的例中所選使用描素部的曝光的說明圖。圖18A為表示倍率歪曲的例子的說明圖。圖18B為表示光束徑歪曲的例子的說明圖。圖19A為表示使用單一曝光頭的參照曝光第一例的說明圖。圖19B為表示使用單一曝光頭的參照曝光第一例的說明圖。圖20為表示使用多個(gè)曝光頭的參照曝光第一例的說明圖。圖21A為表示使用單一曝光頭的參照曝光第二例的說明圖。圖21B為表示使用單一曝光頭的參照曝光第二例的說明圖。圖22為表示使用多個(gè)曝光頭的參照曝光第二例的說明圖。具體實(shí)施方式(感光性組合物)本發(fā)明的感光性組合物至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、熱交聯(lián)劑，優(yōu)選含有增敏劑，進(jìn)而根據(jù)需要含有著色顏料、底質(zhì)顏料、熱固化劑(熱交聯(lián)劑的固化促進(jìn)劑)、熱聚合停止劑、表面活性劑等其它成分。另外，對由上述感光性組合物構(gòu)成的感光層進(jìn)行曝光、顯影時(shí)，不使該感光層曝光部分厚度在該曝光和顯影后改變的所述曝光所用光的最小能量為0.1500mJ/cm2。對上述感光層進(jìn)行曝光、顯影時(shí)，作為不使該感光層的曝光部分厚度在該曝光和顯影后改變的上述曝光所用的光的最小能量只要為0.1500mJ/cm2，則無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)貨Q定，例如優(yōu)選為0.2200mJ/cm2、更優(yōu)選為0.5100mJ/cm2、特別優(yōu)選為150mJ/cm2。上述最小能量小于0.1mJ/cm2時(shí)，在黃色燈下加工處理工序中會(huì)發(fā)生灰霧，超過500mJ/cr^時(shí)，曝光所需要的時(shí)間延長、處理速度變慢。這里"不使該感光層的曝光部分厚度在該曝光和顯影后改變的上述曝光所用的光的最小能量"是指所謂的顯影感光度，例如可以由表示對上述感光層進(jìn)行曝光時(shí)的上述曝光所用光的能量(曝光量)與通過上述曝光之后的上述顯影處理而產(chǎn)生的上述固化層厚度的關(guān)系的曲線(敏感度曲線)求得。上述固化層的厚度隨著上述曝光量的增加而增加，之后，達(dá)到與上述曝光前的上述感光層的厚度基本一致且基本一定。上述顯影感光度為通過讀取上述固化層厚度基本達(dá)到一定時(shí)的最小曝光量而求得的值。這里，當(dāng)上述固化層的厚度與上述曝光前的上述感光層的厚度為士l^m以內(nèi)時(shí)，視為上述固化層的厚度沒有因曝光和顯影而變化。作為上述固化層和上述曝光前的上述感光層的厚度的測定方法并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，可以舉出使用膜厚測定裝置、表面粗糙度測定機(jī)(例如廿一73A1400D(東京精密(株)制))等進(jìn)行測定的方法。而且，在將該感光性組合物層疊于基體上，在25'C于暗處放置20分鐘后，利用顯影液除去層疊于上述基體的感光性組合物的未曝光部分所必需的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)作為T1;對于層疊于上述基體的感光性組合物，將該感光性組合物在5(TC于暗處放置24小時(shí)后，利用顯影液除去上述感光性組合物的未曝光部分所必需的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)作為丁2時(shí)，有必要滿足0.5〈T/T^3。此時(shí)的T！為5120秒、丁2為5240秒，更優(yōu)選T/T!滿足0.6<T2/T^2.7、更優(yōu)選滿足0,7<T2/T^2.4、特別優(yōu)選滿足0.8<T/I^S2。T/T,為上述范圍外時(shí)，感光組合物的經(jīng)時(shí)保存穩(wěn)定性不良、有顯影時(shí)間的變化，難以在將感光性組合物涂布于基體上的狀態(tài)下進(jìn)行保存，難以作為在支承體上設(shè)置感光層、以被保護(hù)膜挾持結(jié)構(gòu)的所謂長條狀、輥狀的干躁膜形態(tài)利用。予以說明，上述感光性組合物用于后述的永久圖案形成方法，該永久圖案形成方法通過將該上述感光性組合物的感光層在基體上的層疊而進(jìn)行。這里，上述感光層的鹵原子的含有率優(yōu)選為5000ppm以下、更優(yōu)選為2000ppm以下、進(jìn)一步優(yōu)選為1000ppm以下、在無鹵素的環(huán)境對應(yīng)方面特別優(yōu)選500ppm以下。另外，上述"25。C下暗處放置20分鐘后"是指"在遮光狀態(tài)下一邊保持在25。C一邊經(jīng)過20分鐘后"。<粘合劑>上述粘合劑優(yōu)選不溶于水中且通過堿性水溶液膨潤或溶解的化合物。上述粘合劑優(yōu)選側(cè)鏈含有酸性基團(tuán)和乙烯性不飽和鍵的高分子化合物。酸性基團(tuán)可以舉出羧基、磷酸基、磺酸基等，從原料獲得的方面出發(fā)優(yōu)選羧基。另外，上述粘合劑可以使用分子內(nèi)至少一個(gè)的能夠聚合的雙鍵、例如(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰胺基等丙烯?；Ⅳ人岬囊蚁┗?、乙烯醇、烯丙醚等各種聚合性雙鍵。更具體地說，可以舉出使含有環(huán)狀醚基的聚合性化合物例如丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、桂皮酸等不飽和脂肪酸的縮水甘油酯，或具有脂環(huán)式環(huán)氧基(例如同一分子中氧化環(huán)己烯等環(huán)氧基)和(甲基)丙烯?；幕衔锏群h(huán)氧基的聚合性化合物加成于含有羧基作為酸性基團(tuán)的丙烯酸樹脂而獲得的化合物等。另外，還可以舉出使異氰酸酯乙基(甲基)丙烯酸酯等含異氰酸酯基的聚合性化合物加成于含有酸性基團(tuán)和羥基的丙烯酸樹脂而獲得的化合物、使(甲基)丙烯酸羥基烷酯等含羥基的聚合性化合物加成于含有酸酐基的丙烯酸樹脂而獲得的化合物等。另外，還可以舉出將甲基丙烯酸縮水甘油酯等含環(huán)狀醚基的聚合性化合物與(甲基)丙烯?；榛サ鹊囊蚁┗鶈误w共聚，在側(cè)鏈的環(huán)氧基上加成(甲基)丙烯酸而獲得的化合物等。這些例子可以舉出日本專利2763775號公報(bào)、日本特開平3-172301號公報(bào)、日本特開2000-232264號公報(bào)等。這些物質(zhì)中，上述粘合劑優(yōu)選為選自在高分子化合物的酸性基團(tuán)的一部分上加成含有環(huán)狀醚基(例如部分結(jié)構(gòu)具有環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁垸基的基團(tuán))的聚合性化合物后的高分子化合物和在高分子化合物的環(huán)狀醚基的一部分或全部上加成含羧基聚合性化合物后的高分子化合物中的任一種高分子化合物。此時(shí)，酸性基團(tuán)與具有環(huán)狀醚基的化合物的加成反應(yīng)優(yōu)選在催化劑的存在下實(shí)施，該催化劑特別優(yōu)選選自酸性化合物和中性化合物。其中，從感光性組合物的經(jīng)時(shí)顯影穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)，粘合劑優(yōu)選側(cè)鏈含有羧基和可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)以及側(cè)鏈具有乙烯性不飽和鍵的高分子化合物。-可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)-上述可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)(下文也僅稱為"芳香族基團(tuán)")例如可以舉出苯環(huán)、2個(gè)3個(gè)苯環(huán)形成稠合環(huán)的基團(tuán)、苯環(huán)與5元不飽和環(huán)形成稠合環(huán)的基團(tuán)等。上述芳香族基團(tuán)的具體例子可以舉出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、苑基、苯并吡咯環(huán)基、苯并呋喃環(huán)基、苯并噻吩環(huán)基、吡唑環(huán)基、異隨唑環(huán)基、異噻唑環(huán)基、吲唑環(huán)基、苯并異瞎、唑環(huán)基、苯并異噻唑環(huán)基、咪唑環(huán)基、螺唑環(huán)基、噻唑環(huán)基、苯并咪唑環(huán)基、苯并瞎唑環(huán)基、苯并噻唑環(huán)基、卩比啶環(huán)基、喹啉環(huán)基、異喹啉環(huán)基、噠嗪環(huán)基、嘧啶環(huán)基、吡嗪環(huán)基、酞嗪環(huán)基、喹唑啉環(huán)基、喹喔啉環(huán)基、氮丙啶環(huán)基(aziridinering)、菲啶環(huán)基、咔唑環(huán)基、嘌呤環(huán)基、吡喃環(huán)基、哌啶環(huán)基、哌嗪環(huán)基、B引哚環(huán)基、吲哚嗪環(huán)基、色烯環(huán)基、噌啉環(huán)基、吖啶環(huán)基、吩噻嗪環(huán)基、四唑環(huán)基、三嗪環(huán)基等。這些物質(zhì)中優(yōu)選烴基芳香族基，更優(yōu)選苯基、萘基。上述芳香族基團(tuán)可以舉出取代基，上述取代基例如可以舉出鹵原子、可以具有取代基的氨基、烷氧基羰基、羥基、醚基、巰基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、分別可以具有取代基的烷基、鏈烯基、炔基、芳基、雜環(huán)基等。上述垸基例如可以舉出碳原子數(shù)120的直鏈狀垸基、支鏈狀的烷基、環(huán)狀的烷基等。上述烷基的具體例子可以舉出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一垸基、十二烷基、十三烷基、十六垸基、十八垸基、二十烷基、異丙基、異丁基、仲丁基、叔丁基、異戊基、新戊基、l-甲基丁基、異己基、2-乙基己基、2-甲基己基、環(huán)己基、環(huán)戊基、2-降冰片基等。這些物質(zhì)中，優(yōu)選碳原子數(shù)112的直鏈狀垸基、碳原子數(shù)312的支鏈狀烷基、碳原子數(shù)510的環(huán)狀垸基。上述烷基可以具有的取代基例如可以舉出除去氫原子的一元非金屬原子團(tuán)所構(gòu)成的基團(tuán)。這種取代基例如可以舉出鹵原子(-F、-Br、-Cl-、-1)、羥基、垸氧基、芳氧基、巰基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N,N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N,N-二芳基氨基、N-垸基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N,N-二垸基氨基甲酰氧基、N,N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基次硫酸基(alkylsulfoxygroup)、芳基次硫酸基、酰硫基、酰氨基、N-垸基酰氨基、N-芳基酰氨基、脲基、N'-烷基脲基、N',N'-二垸基脲基、N'-芳基脲基、N'，N'-二芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N-垸基脲基、N-芳基脲基、N'-垸基-N-垸基脲基、N'-烷基-N-芳基脲基、N'，N'-二烷基-N-垸基脲基、N'，N'-二烷基-N-芳基脲基、N，—芳基-N-烷基脲基、N，-芳基-N-芳基脲基、N',N'-二芳基-N-垸基脲基、N，,N，-二芳基-N-芳基脲基、N，-垸基-N'-芳基-N-垸基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-芳基脲基、垸氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲?；?、酰基、羧基、垸氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲?；?、N-烷基氨基甲?；?、N,N-二垸基氨基甲?；-芳基氨基甲?；?、N，N-二芳基氨基甲?；?、N-烷基-N-芳基氨基甲?；?、烷基亞硫酰基、芳基亞硫?；③酋；⒎蓟酋；⒒腔?-S03H)及其共軛堿基(稱作磺酸根合基(sulfonato))、烷氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)、N-烷基司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)、N,N-二烷基司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)、N-芳基司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)、N,N-二芳基司盧非納莫基(sulfmamoylgroup)、N-'掠基-N-芳基司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)、氨磺?；-垸基氨磺?；,N-二垸基氨磺?；-芳基氨磺?；,N-二芳基氨磺?；-垸基-N-芳基氨磺?；?、膦酰基(-P03H2)及其共軛堿基(稱作膦酸根合基(phosphonato))、二烷基膦?；?-P03(alkyl)2)(以下"alkyl"是指烷基)、二芳基膦酰基(-P03(aryl)2)(以下"aryl"是指芳基)、烷基芳基膦?；?-P03(alkyl)(aryl))、單垸基膦?；?-P03(alkyl))及其共軛堿基(稱作烷基膦酸根合基)、單芳基膦?；?-P03H(aryl))及其共軛堿基(稱作芳基膦酸根合基)、膦酰氧基(-OP03H2)及其共軛堿基(稱作膦酸根合氧基(phosphomatoxy))、二烷基膦酰氧基(-OP03H(alkyl)2)、二芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl)2)、烷基芳基膦酰氧基(-OP03(alkyl)(aryl))、單烷基膦酰氧基(-OP03H(alkyl)))及其共軛堿基(稱作烷基膦酰氧基)、單芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl)))及其共軛堿基(稱作芳基膦酰氧基)、氰基、硝基、芳基、鏈烯基、炔基、雜環(huán)基、甲硅烷基等。這些取代基的烷基的具體例子可以舉出上述垸基。上述取代基的芳基的具體例子可以舉出苯基、聯(lián)苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、菜基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羥基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲基硫苯基、苯基硫苯基、甲基氨基苯基、二甲基氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基苯基羰基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲?；交⑶杌交?、磺苯基、磺萘基、膦?；交㈧⑺岣媳交?。上述取代基的鏈烯基的具體例子可以舉出乙烯基、l-丙烯基、1-丁烯基、桂皮?；?、2-氯-l-乙烯基等。上述取代基的炔基的具體例子可以舉出乙炔基、l-丙炔基、l-丁炔基、三甲基甲硅垸基乙炔基等。上述取代基的?；?RQ1CO-)的R^可以舉出氫原子、上述烷基、芳基等。這些取代基中，優(yōu)選鹵原子(-F、-Br、-Cl-、-1)、垸氧基、芳氧基、垸基硫基、芳基硫基、N-烷基氨基、N,N-二垸基氨基、酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、?；被⒓柞；Ⅴ；?、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲?；-垸基氨基甲?；,N-二烷基氨基甲?；?、N-芳基氨基甲?；?、N-烷基-N-芳基氨基甲?；?、磺基、磺酸根合基、氨磺酰基、N-烷基氨磺?；?、N,N-二烷基氨磺?；?、N-芳基氨磺?；-烷基-N-芳基氨磺?；?、膦?；?、膦酸根合基、二烷基膦?；?、二芳基膦?；瓮榛Ⅴ；?、垸基膦酸根合基、單芳基膦酰基、芳基膦酸根合基、膦酰氧基、膦酸根合氧基、芳基、鏈烯基等。另外，上述取代基的雜環(huán)基例如可以舉出吡啶基、哌啶基等，上述取代基的甲硅烷基可以舉出三甲基甲硅垸基等。另一方面，上述垸基的亞烷基例如可以舉出將上述碳原子數(shù)120的烷基上的氫原子的任一個(gè)除去后的2價(jià)有機(jī)殘基，例如碳原子數(shù)112的直鏈狀亞烷基、碳原子數(shù)312的支鏈狀亞烷基、碳原子數(shù)510的環(huán)狀亞烷基等。通過組合這種取代基與亞烷基而獲得的取代烷基的優(yōu)選具體例子可以舉出氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、異丙氧基甲基、丁氧基甲基、仲丁氧基丁基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲基硫甲基、甲苯基硫甲基、吡啶基甲基、四甲基哌啶基甲基、N-乙?；募谆哙せ谆⑷谆坠柰榛谆?、甲氧基乙基、乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、嗎啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-環(huán)己基氨基甲酰氧基乙基、N-苯基氨基甲酰氧基乙基、乙?；被一-甲基苯甲?；被?、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧基丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲?；谆-甲基氨基甲?；一?、N，N-二丙基氨基甲?；谆-(甲氧基苯基)氨基甲?；一-甲基-N-(磺苯基)氨基甲?；谆⒒嵌』?、磺酸根合丁基、氨磺?；』?、N-乙基氨磺?；谆?、N,N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺?；?、N-甲基-N-(膦?；交?氨磺?；粱?、膦酰基丁基、膦酸根合己基、二乙基膦?；』⒍交Ⅴ；?、甲基膦?；』⒓谆⑺岣隙』?、甲苯基膦?；夯?、甲苯基膦酸根合己基、膦酰氧基丙基、膦酸氧基丁基、芐基、苯乙基、a-甲基節(jié)基、l-甲基-l-苯基乙基、對甲基芐基、桂皮?；⑾┍?、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基等。上述芳基例如可以舉出苯環(huán)、2個(gè)3個(gè)苯環(huán)形成稠合環(huán)的基團(tuán)、苯環(huán)與5元環(huán)形成稠合環(huán)的基團(tuán)等。上述芳基的具體例子例如可以舉出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基等。其中優(yōu)選苯基、萘基。上述烷基可以具有取代基，作為這種具有取代基的芳基(以下也稱作"取代芳基")例如可以舉出在上述芳基的環(huán)形成碳原子上具有由氫原子以外的一價(jià)非金屬原子構(gòu)成的基團(tuán)作為取代基者。作為上述芳基可以具有的取代基例如優(yōu)選作為上述烷基、取代烷基、上述烷基可以具有的取代基所示例的基團(tuán)。上述取代芳基的優(yōu)選具體例可以舉出聯(lián)苯基、甲苯基、二甲苯基、茶基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羥基苯基、甲氧基苯基、甲氧基乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧基苯基、甲基硫苯基、甲苯基硫苯基、乙基氨基苯基、二乙基氨基苯基、嗎啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、N-環(huán)己基氨基甲酰氧基苯基、N-苯基氨基甲酰氧基苯基、乙?；被交?、N-甲基苯甲?；被交?、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基、氯苯氧基羰基苯基、氨基甲?；交?、N-甲基氨基甲酰基苯基、N，N-二丙基氨基甲?；交?、N-(甲氧基苯基)氨基甲?；交-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基苯基、磺苯基、磺酸根合苯基、氨磺?；交?、N-乙基氨磺?；交?、N,N-二丙基氨磺?；交?、N-甲苯基氨磺?；交?、N-甲基-N-(膦?；交?氨磺酰基苯基、膦?；交?、膦酸根合苯基、二乙基膦?；交⒍交Ⅴ；交?、甲基膦酰基苯基、甲基膦酸根合基苯基、甲苯基膦?；交?、甲苯基膦酸根合苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基、3-丁炔基苯基等。上述鏈烯基(-C(RQ2)=C(RQ3)(RQ4))和炔基(-C三C(R06))例如可以舉出RQ2、RQ3、RM和RM由一價(jià)非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。上述R。2、RQ3、RM和ROs例如可以舉出氫原子、鹵原子、垸基、取代烷基、芳基、取代芳基等。它們的具體例子可以舉出上述例子示出的基團(tuán)。這些中，優(yōu)選氫原子、鹵原子、碳原子數(shù)110的直鏈狀垸基、支鏈狀烷基、環(huán)狀烷基o上述鏈烯基和炔基的優(yōu)選具體例可以舉出乙烯基、l-丙烯基、1-丁烯基、l-戊烯基、l-己烯基、l-辛烯基、l-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丁烯基、2-苯基-l-乙烯基、2-氯-l-乙烯基、乙炔基、l-丙炔基、l-丁炔基、苯基乙炔基等。上述雜環(huán)基例如可以舉出作為取代烷基的取代基示例的基團(tuán)等。上述氧基(RQ60-)可以舉出RM由氫原子以外的一價(jià)非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。這種氧基例如可以舉出烷氧基、芳氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-垸基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N,N-二烷基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基磺?；?alkylsulfoxy)、芳基磺酰基(arylsulfoxy)、膦酰氧基、膦酸根合氧基等。它們中的烷基和芳基可以舉出作為上述垸基、取代烷基、芳基、取代芳基示例的基團(tuán)。另外，酰氧基的?；?R07CO-)可以舉出^7為作為之前例子舉出的烷基、取代烷基、芳基以及取代芳基的?；?。這些取代基中，更優(yōu)選烷氧基、芳氧基、酰氧基、芳基磺酰基(arylsulfoxy)。優(yōu)選的氧基的具體例子可以舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二垸氧基、芐氧基、烯丙氧基、苯乙氧基、羧基乙基氧基、甲氧基羰基乙基氧基、乙氧基羰基乙基氧基、甲氧基乙氧基、苯氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、嗎啉代乙氧基、嗎啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧基乙氧基、苯氧基、甲苯基氧基、二甲苯基氧基、萊基氧基、茶基氧基、枯烯基氧基、甲氧基苯基氧基、乙氧基苯基氧基、氯苯基氧基、溴苯基氧基、乙酰氧基、苯甲酰氧基、萘氧基、苯基磺酰氧基、膦酰氧基、膦酸根合氧基等。可以含有酰胺基的氨基(RQ8NH-、(RG9)(R01Q)N-)例如可以舉出RQ8、R^和R,由除了氫原子的一價(jià)非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。予以說明，RQ9和R,可以鍵合形成環(huán)。上述氨基例如可以舉出N-垸基氨基、N，N-二垸基氨基、N-芳基氨基、N,N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰基氨基、N-烷基酰基氨基、N-芳基酰基氨基，脲基J'-烷基脲基,N',N'-二烷基脲基,N'-芳基脲基，N'，N'-二芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基脲基、N-垸基脲基、N-芳基脲基、N'-烷基-N-垸基脲基、N'-垸基-N-芳基脲基、N',N'-二垸基-N-垸基脲基、N'-烷基-N，-芳基脲基、N，,N，-二垸基-N-垸基脲基、N，，N'-二烷基-N'-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N，，N'-二芳基-N-垸基脲基、N',N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-烷基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-垸基-N-烷氧基羰基氨基、N-垸基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基等。它們中的垸基和芳基可以舉出作為上述烷基、取代垸基、芳基、取代芳基示例過的基團(tuán)。另外，?；被?、N-烷基?；被?、N-芳基?；被絮；?R°7CO-)的R^如上所述。這些中，更優(yōu)選N-烷基氨基、N,N-二垸基氨基、N-芳基氨基、酰基氨基。優(yōu)選的氨基的具體例子可以舉出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、嗎啉基、哌啶子基、吡咯垸子(pyrrolidine))基、苯基氨基、苯甲?；被?、乙?；被?。上述磺酰基(RQ11-S02-)例如可以舉出RQ11由一價(jià)非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。這種磺?；鐑?yōu)選垸基磺酰基、芳基磺酰基等。它們的烷基和芳基可以舉出作為上述烷基、取代烷基、芳基、取代芳基示例過的基團(tuán)。上述磺?；木唧w例子可以舉出丁基磺?；?、苯基磺酰基、氯苯基磺?；?。上述磺酸根合基(-S03-)如上所述，表示磺基(-S03H)的共軛堿陰離子基，通常優(yōu)選與對陽離子一起使用。這種對陽離子可以適當(dāng)使用一般已知的離子，例如鏡類(例如銨類、锍類、膦類、碘餘類、疊氮錙(7、y-二々A)類等)、金屬離子類(例如Na+、K+、Ca2+、Z^+等)。上述羰基(RQ13-CO-)例如可以舉出RQ13由一價(jià)非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。這種羰基例如可以舉出甲?；?、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲?；-烷基氨基甲?；?、N,N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲?；?、N,N-二芳基氨基甲?；?、N-烷基-N'-芳基氨基甲?；?。它們中的烷基和芳基可以舉出作為上述垸基、取代烷基、芳基、取代芳基示例過的基團(tuán)。上述羰基優(yōu)選甲?；Ⅴ；Ⅳ然?、垸氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲?；.N-二烷基氨基甲?；?、N-芳基氨基甲?；?，更優(yōu)選甲酰基、?；?、烷氧基羰基、芳氧基羰基。上述羰基的具體例子可以優(yōu)選地舉出甲?；?、乙酰基、苯甲?；?、羧基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、烯丙氧基羰基、二甲基氨基苯基乙烯基羰基、甲氧基羰基甲氧基羰基、N-甲基氨基甲?；-苯基氨基甲?；,N-二乙基氨基甲?；?、嗎啉代羰基等。上述亞磺?；?RQ14-SO-)例如可以舉出RQ14由一價(jià)非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。這種亞磺?；缈梢耘e出烷基亞磺?；⒎蓟鶃喕酋；⑺颈R非鈉莫基(sulfmamoylgroup)、N-烷基司盧非鈉莫基(sulfmamoylgroup)、N，N-二烷基司盧非鈉莫基(sulfmamoylgroup)、N-芳基司盧非鈉莫基(sulfmamoylgroup)、N,N-二芳基司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)、N-烷基-N-芳基司盧非鈉莫基(sulfinamoylgroup)。它們中的烷基和芳基可以舉出作為上述烷基、取代烷基、芳基、取代芳基示例過的基團(tuán)。其中優(yōu)選垸基亞磺酰基、芳基亞磺?；Ｉ鲜鋈〈鷣喕酋；木唧w例子可以優(yōu)選地舉出己基亞磺?；?、芐基亞磺?；?、甲苯基亞磺?；?。上述膦酰基是指膦?；系牧u基的一個(gè)兩個(gè)被其它有機(jī)氧代基團(tuán)取代后的基團(tuán)，例如優(yōu)選上述二烷基膦?；?、二芳基膦?；?、烷基芳基膦?；?、單垸基膦?；畏蓟Ⅴ；?。其中，更優(yōu)選二垸基膦?；?、二芳基膦?；Ｉ鲜鲮Ⅴ；膬?yōu)選具體例可以舉出二乙基膦?；?、二丁基膦?；?、二苯基膦?；?。上述膦酸根合基(_P03H2-、-P03H-)如上所述，是指來自膦酰基(-P03H2-)的酸第一解離、酸第二解離的共軛堿陰離子基團(tuán)。通常優(yōu)選與對陽離子一起使用。這種對陽離子可以適當(dāng)選擇一般已知的基團(tuán)，例如镥類(例如銨類、锍類、轔類、碘錯(cuò)類、疊氮鏡類等)、金屬離子類(例如Na+、K+、Ca2+、Zn"等)。上述膦酸根合基可以是膦?；辛u基取代為一個(gè)有機(jī)氧代基團(tuán)的共軛堿陰離子基，這種具體例子可以舉出上述單烷基膦酰基(-P03H(alkyl))、單芳基膦?；?-P03H(aryl))的共軛堿。上述芳香族基團(tuán)可以通過使1種以上含有芳香族基團(tuán)的自由基聚合性化合物與1種以上根據(jù)需要作為共聚成分的其它自由基聚合性化合物發(fā)生通常的自由基聚合法而制造。上述自由基聚合法例如一般可以舉出懸浮聚合法或溶液聚合法等。作為具有含有上述芳香族基團(tuán)的自由基聚合性化合物例如優(yōu)選結(jié)構(gòu)式(A)所示的化合物、結(jié)構(gòu)式(B)所示的化合物。3結(jié)構(gòu)式(A)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>上述結(jié)構(gòu)式(A)中，Ri、R2、R3表示氫原子或1價(jià)有機(jī)基團(tuán)。L表示有機(jī)基團(tuán)，可以沒有。Ar表示可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>結(jié)構(gòu)式(B)上述結(jié)構(gòu)式(B)中，R,、R2、R3以及Ar表示與上述結(jié)構(gòu)式(A)相同的意義。上述L的有機(jī)基團(tuán)例如可以為非金屬原子構(gòu)成的多價(jià)有機(jī)基團(tuán)，可以具有由160個(gè)碳原子、010個(gè)氮原子、050個(gè)氧原子、1100個(gè)氫原子、020個(gè)硫原子構(gòu)成的基團(tuán)。更具體地說，上述L的有機(jī)基團(tuán)可以舉出下述結(jié)構(gòu)單元組合構(gòu)成的基團(tuán)、多價(jià)萘、多價(jià)蒽等。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula>上述L連接基團(tuán)可以具有取代基，上述取代基可以舉出上述鹵原子、羥基、羧基、磺酸根合基、硝基、氰基、酰胺基、氨基、垸基、鏈烯基、炔基、芳基、取代氧基、取代磺酰基、取代羰基、取代亞磺?；?、磺基、膦酰基、膦酸根合基、甲硅垸基、雜環(huán)基。上述結(jié)構(gòu)式(A)所示的化合物和結(jié)構(gòu)式(B)所示化合物中，從感光度的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選結(jié)構(gòu)式(A)。上述結(jié)構(gòu)式(A)中，從穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選具有連接基團(tuán)的，上述L的有機(jī)基團(tuán)從非顯影部的除去性(顯影性)的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選碳原子數(shù)14的亞垸基。上述結(jié)構(gòu)式(A)所示的化合物成為含有下述結(jié)構(gòu)式(I)結(jié)構(gòu)單元的化合物。另外，上述結(jié)構(gòu)式(B)所示的化合物成為含有下述結(jié)構(gòu)式(II)結(jié)構(gòu)單元的化合物。其中，從保存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選結(jié)構(gòu)式(I)的結(jié)構(gòu)單元。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula>結(jié)構(gòu)式(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula>結(jié)構(gòu)式(n)—r上述結(jié)構(gòu)式(I)禾n(II)中，Ri、R2、R3以及Ar表示與上述結(jié)構(gòu)式(A)禾卩(B)相同的意義。上述結(jié)構(gòu)式(I)和(II)中，從非圖像部的除去性(顯影性)的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選R,、R2為氫原子、R3為甲基。另外，從非圖像部的除去性(顯影性)的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選上述結(jié)構(gòu)式(I)的L為碳原子數(shù)14的亞垸基。上述結(jié)構(gòu)式(A)所示化合物或結(jié)構(gòu)式(B)所示化合物并無特別限定，例如可以舉出下述化合物(1)(30)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>(8)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>(14)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>(7)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>(15)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>(8)<table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>(18)上述示例化合物(1)(30)中，優(yōu)選(5)、(6)、(11)、(14)和(28)，其中從保存穩(wěn)定性和顯影性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選(5)和(6)。上述可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)的上述粘合劑的含量并無特別限定，在以高分子化合物的全部結(jié)構(gòu)單元作為100摩爾％時(shí)，優(yōu)選含有20摩爾％以上的上述結(jié)構(gòu)式(I)所示結(jié)構(gòu)單元、更優(yōu)選含有3045摩爾％。上述含量小于20摩爾％時(shí)，保存穩(wěn)定性會(huì)降低，超過45摩爾％時(shí)，顯影性會(huì)降低。-乙烯性不飽和鍵-上述乙烯性不飽和鍵并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選用下述結(jié)構(gòu)式(III)(V)表示。O<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>>=<結(jié)構(gòu)式(皿)R1R2—Y-(|>=^結(jié)構(gòu)式OV)尺5R了<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>—ZH結(jié)構(gòu)式(v)上述結(jié)構(gòu)式(III)(V)中，R,Ru各自獨(dú)立地表示1價(jià)有機(jī)基團(tuán)。X和Y各自獨(dú)立地表示氧原子、硫原子或-N-R4。Z表示氧原子、硫原子、-N-R4、或亞苯基。R4表示氫原子或l價(jià)有機(jī)基團(tuán)。上述結(jié)構(gòu)式(III)中，R,優(yōu)選各自獨(dú)立地表示例如氫原子、可以具有取代基的垸基等，從自由基反應(yīng)性高的方面出發(fā)更優(yōu)選氫原子、甲基。上述R2和R3各自獨(dú)立地舉出例如氫原子、鹵原子、氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳氧基、可具有取代基的烷基氨基、可具有取代基的芳基氨基、可具有取代基的垸基磺酰基、可具有取代基的芳基磺?；?，從自由基反應(yīng)性高的觀點(diǎn)出發(fā)更優(yōu)選氫原子、羧基、烷氧基羰基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基。上述R4例如優(yōu)選可具有取代基的烷基等，由于自由基反應(yīng)性高，因此更優(yōu)選氫原子、甲基、乙基、異丙基。這里，可以導(dǎo)入的上述取代基例如可以舉出烷基、鏈烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、鹵原子、氨基、垸基氨基、芳基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、酰胺基、烷基磺?；⒎蓟酋；?。上述結(jié)構(gòu)式(4)中，R4Rs例如可以舉出氫原子、鹵原子、氨基、二烷基氨基、羧基、垸氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳氧基、可具有取代基的烷基氨基、可具有取代基的芳基氨基、可具有取代基的烷基磺?；⒖删哂腥〈姆蓟酋；?，更優(yōu)選氫原子、羧基、烷氧基羰基、可具有取代基的垸基、可具有取代基的芳基?？梢詫?dǎo)入的上述取代基例如可以舉出在上述結(jié)構(gòu)式(III)中舉出的例子。上述結(jié)構(gòu)式(5)中，R9例如可以舉出氫原子、可具有取代基的垸基等，從自由基反應(yīng)性高的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選氫原子、甲基。上述RU)、Ru各自獨(dú)立地優(yōu)選例如氫原子、鹵原子、氨基、二烷基氨基、羧基、垸氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳氧基、可具有取代基的垸基氨基、可具有取代基的芳基氨基、可具有取代基的烷基磺?；?、可具有取代基的芳基磺?；?，由于自由基反應(yīng)性高，因此更優(yōu)選氫原子、羧基、烷氧基羰基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基。可以導(dǎo)入的上述取代基例如可以舉出在上述結(jié)構(gòu)式(III)中舉出的例子。上述Z表示氧原子、硫原子、-NR13-、或可具有取代基的亞苯基。R13表示可具有取代基的烷基，由于自由基反應(yīng)性高，因此優(yōu)選氫原子、甲基、乙基、異丙基。上述結(jié)構(gòu)式(III)(V)所示的側(cè)鏈乙烯性不飽和鍵中，結(jié)構(gòu)式(III)者的聚合反應(yīng)性更高、感光度更高，更為優(yōu)選。上述乙烯性不飽和鍵的上述高分子化合物的含量并無特別限定，優(yōu)選為0.53.0meq/g、更優(yōu)選1.03.0meq/g、特別優(yōu)選1.52.8meq/g。上述含量小于0.5meq/g時(shí)，由于固化反應(yīng)量少，因此成為低感光度，超過3.0meq/g時(shí)，保存穩(wěn)定性會(huì)惡化。這里，上述含量(meq/g)例如可以通過碘價(jià)滴定測定。作為在側(cè)鏈導(dǎo)入上述結(jié)構(gòu)式(III)所示的乙烯性不飽和鍵的方法并無特別限定，例如可以舉出使側(cè)鏈含有羧基的高分子化合物與具有乙烯性不飽和鍵和環(huán)氧基的化合物加成反應(yīng)而獲得。上述側(cè)鏈含有羧基的高分子化合物例如可以使1種以上含有羧基的自由基聚合性化合物與根據(jù)需要的作為共聚成分的1種以上的其它自由基聚合性化合物發(fā)生通常的自由基聚合法而制造，上述自由基聚合法例如可以舉出懸浮聚合法、溶液聚合法等。上述具有乙烯性不飽和鍵和環(huán)氧基的化合物并無特別限定，例如優(yōu)選下述結(jié)構(gòu)式(VI)所示的化合物和(VII)所示的化合物。特別是從高感光度化的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選使用結(jié)構(gòu)式(VI)所示化合物。上述結(jié)構(gòu)式(VI)中，Ri表示氫原子或甲基。Li表示有機(jī)基團(tuán)。上述結(jié)構(gòu)式(VII)中，R2表示氫原子或甲基。L2表示有機(jī)基團(tuán)。w表示47元環(huán)的脂肪族烴基。上述結(jié)構(gòu)式(VI)所示化合物和結(jié)構(gòu)式(VII)所示化合物中，優(yōu)選結(jié)構(gòu)式(VI)所示的化合物，上述結(jié)構(gòu)式(VI)中，L,更優(yōu)選碳原子數(shù)l4的亞烷基。上述結(jié)構(gòu)式(VI)所示化合物和結(jié)構(gòu)式(VII)所示化合物并無特別限定，例如可以舉出下述化合物(31)(40)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>上述含有羧基的自由基聚合性化合物例如有丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、音巴豆酸(incrotonicacid)、馬來酸、對羧基苯乙烯等，特別優(yōu)選丙烯酸、甲基丙烯酸等。作為上述側(cè)鏈上的導(dǎo)入反應(yīng)，例如可以通過以三乙胺、芐基甲基胺等叔胺，十二垸基三甲基氯化銨、四甲基氯化銨、四乙基氯化銨等季銨鹽，吡啶，三苯基膦等作為催化劑，在有機(jī)溶劑中反應(yīng)溫度5015(TC下反應(yīng)數(shù)小時(shí)數(shù)十小時(shí)，從而進(jìn)行。上述側(cè)鏈具有乙烯性不飽和鍵的結(jié)構(gòu)單元并無特別限定，例如優(yōu)選下述結(jié)構(gòu)式(i)所示的結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)式(ii)所示的結(jié)構(gòu)以及它們的混合所表示的結(jié)構(gòu)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>結(jié)構(gòu)式(i〉<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>結(jié)構(gòu)式(ii〉上述結(jié)構(gòu)式(i)和(ii)中，RaRc表示氫原子或l價(jià)有機(jī)基團(tuán)。R,表示氫原子或甲基。L,表示可具有連接基團(tuán)的有機(jī)基團(tuán)。上述結(jié)構(gòu)式(i)所示結(jié)構(gòu)及結(jié)構(gòu)式(ii)所示結(jié)構(gòu)在高分子化合物中的含量優(yōu)選為20摩爾°/。以上、更優(yōu)選為2050摩爾％、特別優(yōu)選為2545摩爾％。上述含量小于20摩爾％時(shí)，由于固化反應(yīng)量少，因此變?yōu)榈透泄舛?，多?0摩爾％時(shí)，保存穩(wěn)定性會(huì)惡化。本發(fā)明的高分子化合物中，為了提高非圖像部除去性等諸性能，可以含有羧基。上述羧基可以通過使具有酸性基團(tuán)的自由基聚合性化合物共聚而賦予至上述高分子化合物。這種具有自由基聚合性的酸性基團(tuán)例如可以舉出羧基、磺酸、磷酸基等，特別優(yōu)選羧酸。具有上述羧基的自由基聚合性化合物并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，例如可以舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、音巴豆酸(incrotonicadd)、馬來酸、對羧基苯乙烯等，特別優(yōu)選丙烯酸、甲基丙烯酸、對羧基苯乙烯等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用l種還可以并用2種以上。上述羧基在粘合劑中的含量為1.04.0meq/g、優(yōu)選1.53.0meq/g。上述含量小于1.0meq/g時(shí)，顯影性會(huì)變得不足，超過4.0meq/g時(shí)，易于受到堿水顯影所導(dǎo)致的圖像強(qiáng)度破壞。本發(fā)明的高分子化合物為了提高圖像強(qiáng)度等諸性能，除了上述自由基聚合性化合物之外，優(yōu)選進(jìn)一步共聚其它自由基聚合性化合物。上述其它自由基聚合性化合物例如可以舉出選自丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、苯乙烯類等的自由基聚合性化合物等。具體地可以舉出丙烯酸垸基酯等丙烯酸酯類，丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸烷基酯等甲基丙烯酸酯類，甲基丙烯酸芳基酯、苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯類，烷氧基苯乙烯、鹵代苯乙烯等。上述丙烯酸酯類優(yōu)選垸基的碳原子數(shù)為120者，例如可以舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸叔辛酯、丙烯酸氯乙酯、丙烯酸2，2-二甲基羥基丙酯、丙烯酸5-羥基戊酯、三羥甲基丙垸單丙烯酸酯、季戊四醇單丙烯酸酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸甲氧基芐酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四氫糠酯等。上述丙烯酸芳基酯例如可以舉出丙烯酸苯酯等。上述甲基丙烯酸酯類優(yōu)選垸基的碳原子數(shù)為120者，例如可以舉出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸氯芐酯、甲基丙烯酸辛酯、4-羥基丁基甲基丙烯酸酯、5-羥基戊基甲基丙烯酸酯、2，2-二甲基-3-羥基丙基甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷單甲基丙烯酸酯、季戊四醇單甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯等。上述甲基丙烯酸芳基酯例如可以舉出甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲苯酯、甲基丙烯酸萘酯等。上述苯乙烯類例如可以舉出甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、環(huán)己基苯乙烯、癸基苯乙烯、芐基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等。上述垸氧基苯乙烯例如可以舉出甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等。上述鹵代苯乙烯例如可以舉出氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等。這些自由基聚合性化合物可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。合成本發(fā)明高分子化合物時(shí)使用的溶劑并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，例如可以舉出二氯乙烯、環(huán)己酮、甲乙酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、2-甲氧基乙基乙酸酯、l-甲氧基-2-丙醇、l-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用1種，還可以混合使用2種以上。本發(fā)明的高分子化合物的分子量以質(zhì)均分子量表示優(yōu)選為10000以上、更優(yōu)選為1000050000。上述質(zhì)均分子量低于10000時(shí)，有固化膜強(qiáng)度不足的情況，超過50000時(shí)，有顯影性降低的傾向。另外，本發(fā)明的高分子化合物中可以含有未反應(yīng)的單體。此時(shí)，上述單體在上述高分子化合物中的含量優(yōu)選為15質(zhì)量％以下。本發(fā)明的高分子化合物可以單獨(dú)使用1種，還可以混合使用2種以上。另外，還可以混合使用其它高分子化合物。此時(shí)，上述其它高分子化合物在上述本發(fā)明高分子化合物中的含量優(yōu)選為50質(zhì)量％以下、更優(yōu)選為30質(zhì)量％以下。上述粘合劑在上述感光性組合物中的固態(tài)成分含量優(yōu)選為580質(zhì)量%、更優(yōu)選為1070質(zhì)量％。[聚合性化合物]上述聚合性化合物并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，例如優(yōu)選具有1個(gè)以上乙烯性不飽和鍵的化合物。上述乙烯性不飽和鍵例如可以舉出(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基、乙烯基酯或乙烯基醚等乙烯基、烯丙基醚或烯丙基酯等的烯丙基等。作為上述具有1個(gè)以上乙烯性不飽和鍵的化合物并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以優(yōu)選地舉出選自具有(甲基)丙烯酸基的單體的至少1種。上述具有(甲基)丙烯酸基的單體并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，例如可以舉出聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯，聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯，苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等單官能丙烯酸酯或單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，三羥甲基乙垸三丙烯酸酯，三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，三羥甲基丙垸二丙烯酸酯，新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯，己二醇二(甲基)丙烯酸酯，三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚，三(丙烯酰氧基乙基)異氰酸酯，三(丙烯酰氧基乙基)氰酸酯，甘油三(甲基)丙烯酸酯，在三羥甲基丙垸或甘油、雙酚等多官能醇上加成反應(yīng)環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷后而(甲基)丙烯酸酯化的產(chǎn)物，日本特公昭48-41708號公報(bào)，日本特公昭50-6034號，日本特開昭51-37193號各公報(bào)所記載的氨基甲酸乙酯丙烯酸酯類；日本特開昭48-64183號、日本特公昭49-43191號、日本特公昭52-30490號各公報(bào)所記載的聚酯丙烯酸酯類；作為環(huán)氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應(yīng)產(chǎn)物的環(huán)氧基丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。其中，特別優(yōu)選三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。上述聚合性化合物在上述感光性組合為固態(tài)成分中的固態(tài)成分含量優(yōu)選為550質(zhì)量％、更優(yōu)選為1040質(zhì)量％。該固態(tài)成分含量小于5質(zhì)量%時(shí)，會(huì)發(fā)生顯影性惡化、曝光感光度降低等問題，超過50質(zhì)量％時(shí)，感光層的粘合性變得過強(qiáng)。<光聚合引發(fā)系化合物>上述光聚合引發(fā)系化合物可以含有光聚合引發(fā)劑(自由基產(chǎn)生劑和供氫體等)、還可以含有增敏劑。上述光聚合引發(fā)系化合物只要具有引發(fā)上述聚合性化合物的聚合的能力，則無特別限定，可以從公知的光聚合引發(fā)劑中適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選相對于紫外線區(qū)域可見光的光線具有感光性的物質(zhì)，還可以是與光激發(fā)的上述增敏劑發(fā)生某種作用產(chǎn)生活性自由基的活性劑，還可以是對應(yīng)單體的種類引發(fā)陽離子聚合的引發(fā)劑。上述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選含有至少1種在約300800nm(更優(yōu)選330500nm)的范圍內(nèi)至少具有約50分子吸光系數(shù)的成分。光聚合引發(fā)劑》上述光聚合引發(fā)劑例如可以舉出具有鹵化烴衍生物(例如具有三嗪骨架者、具有螺二唑骨架者等)、六芳基二咪唑、肟衍生物、有機(jī)過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族錯(cuò)鹽、金屬茂類、酰基膦氧化物化合物等。從保存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)，光聚合引發(fā)劑優(yōu)選酰基膦氧化物化合物、酮化合物。上述具有三嗪骨架的卣化烴化合物例如可以舉出若林等著Bull.Chem.Soc.Japan，42、2924(1969)記載的化合物、英國專利1388492號說明書記載的化合物、日本特開昭53-133428號公報(bào)記載的化合物、德國專利3337024號說明書記載的化合物、F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)記載的化合物、日本特開昭62-58241號公報(bào)記載的化合物、日本特開平5-281728號公報(bào)記載的化合物、日本特開平5-34920號公報(bào)記載化合物等，作為具有嗨二唑骨架的化合物例如可以舉出美國專利第4212976號說明書記載的化合物等。上述若林等著Bull.Chem.Soc.Japan，42、2^4(1969)記載的化合物例如可以舉出2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(2，4-二氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2_甲基_4,6-雙(三氯甲基)-1,3，5-三嗪、2-正壬基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(a,(x,p-三氯乙基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。上述英國專利1388492號說明書記載的化合物例如可以舉出2-苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4-氨基-6-三氯甲基-1,3,5-三嗪等。上述日本特開昭53-133428號公報(bào)記載的化合物例如可以舉出2-(4-甲氧基-萘-l-基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2隱(4-乙氧基-萘_1-基)-4,6-雙(三氯甲基)畫1，3,5陽三嗪、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘-l-基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4,7-二甲氧基-萘-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(苊并-5-基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪等。上述德國專利3337024號說明書記載的化合物例如可以舉出2-(4-苯乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯乙烯基)苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(l-萘基亞乙烯基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-氯苯乙烯基苯基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-噻吩-2-亞乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-噻吩-3-亞乙烯基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-呋喃-2-亞乙烯基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-苯并呋喃-2-亞乙烯基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪等。上述F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)記載的化合物例如可以舉出2-甲基-4,6-雙(三溴甲基)-1,3,5-三嗪、2,4，6-三(三溴甲基)-1,3,5-三嗪、2,4，6-三(二溴甲基)-1,3,5-三嗪、2-氨基-4-甲基-6-三(溴甲基)-1，3,5-三嗪、2-甲氧基-4-甲基-6-三氯甲基-l，3,5-三嗪等。上述日本特開昭62-58241號公報(bào)記載的化合物例如可以舉出2-(4-苯基乙炔基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-萘基-1-乙炔基苯基畫4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基乙炔基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯基)乙炔基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-異丙基苯基乙炔基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-乙基苯基乙炔基)苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪等。上述日本特開平5-281728號公報(bào)記載的化合物例如可以舉出2-(4-三氟甲基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3，5-三嗪、2-(2,6-二氟苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(2，6-二氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(2,6-二溴苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3，5-三嗪等。上述日本特開平5-34920號公報(bào)記載化合物例如可以舉出2,4-雙(三氯甲基)-6-[4-(N，N-二乙氧基羰基甲基氨基)-3-溴苯基]-l,3,5-三嗪、美國專利4239850號說明書記載的三鹵甲基-s-三嗪化合物、2,4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-雙(三溴甲基)-s-三嗪等。上述美國專利第4212976號說明書記載的化合物例如可以舉出2-三氯甲基-5-苯基-l,3，4-螺二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-1,3,4-嚼、二唑、2-三氯甲基-5-(l-萘基)-1，3,4-嗨二唑、2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-瞎二唑、2-三溴甲基-5-苯基-l，3,4-嗨二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1，3,4-瞎二唑；2-三氯甲基-5-苯乙烯基-l，3,4-卩惡二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-1,3，4-瞎二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基)-1，3,4-螺二唑、2-三氯甲基_5-(l-萘基)-1，3，4-隨二唑、2-三氯甲基-5-(4-正丁氧基苯乙烯基)-1,3,4-瞎二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-l，3，4-噁二唑等。上述六芳基二咪唑例如可以舉出2，2'-雙(2-氯苯基)-4，4',5，5'-四苯基二咪唑、2,2，-雙(鄰-氯苯基)-4,4，,5，5，-四苯基二咪唑、2,2，-雙(2-溴苯基)-4,4，,5,5，-四苯基二咪唑、2,2，-雙(2，4-二氯苯基)-4,4，,5,5，-四苯基二咪唑、2,2，-雙(2-氯苯基)-4，4'，5,5'-四(3-甲氧基苯基)二咪唑、2，2，-雙(2-氯苯基)-4，4，，5，5，-四(4-甲氧基苯基)二咪唑、2，2，-雙(4-甲氧基苯基)-4,4，,5，5，-四苯基二咪唑、2，2，-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2，-雙(2-硝基苯基)-4，4，，5，5，-四苯基二咪唑、2，2，-雙(2-甲基苯基)-4，4，,5,5，-四苯基二咪唑、2,2，-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4，,5,5，-四苯基二咪唑、WO00/52529號公報(bào)所記載的化合物等。上述二咪唑類例如可以通過Bull.Chem.Soc.Japan,33,565(1960)和J.Org.Chem,36(16)2262(1971)公開的方法容易地合成。上述肟衍生物例如可以舉出3-苯甲酰氧基亞氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亞氨基丁垸-2酮、3-丙酰氧基亞氨基丁垸-2酮、3-乙酰氧基亞氨基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亞氨基-l-苯基丙烷-l酮、2-苯甲酰氧基亞氨基-l-苯基丙垸_1_酮、3_(4-甲苯磺酰氧基)亞氨基丁烷-2-酮、2-乙氧基羰基氧基亞氨基-l-苯基丙垸-l-酮等。上述酮化合物例如可以舉出二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮、2-乙氧基羰基二苯甲酮、二苯甲酮四羧酸或其四甲基酯、4，4，-雙(二垸基氨基)二苯甲酮類(例如4,4'-雙(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4，-雙(二環(huán)己基氨基)二苯甲酮、4,4，-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4，-雙(二羥基乙基氨基)二苯甲酮、4-甲氧基-4，-二甲基氨基二苯甲酮、4,4，-二甲氧基二苯甲酮、4-二甲基氨基二苯甲酮、4-二甲基氮基苯乙酮、聯(lián)苯甲酰、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、菲醌、咕噸酮、硫雜咕噸酮、2-氯-硫雜咕噸酮、2,4-二乙基硫雜咕噸酮、芴酮、2-芐基-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-l-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫)苯基]-2-嗎啉代-l-丙酮、2-羥基-2-甲基-[4-(l-甲基乙烯基)苯基]丙醇寡聚物、苯偶姻、苯偶姻醚類(例如苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻苯基醚、苯偶酰二甲基縮酮)、吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等。上述金屬茂類例如可以舉出雙(1!5-2,4-環(huán)戊二烯-1-基)雙(2，6-二氟-3-(lH-吡咯陽l-基)-苯基)鈦、"5-環(huán)戊二烯-116-枯基-鐵(1+)-六氟磷酸酯(l-)、日本特開昭53-133428號公報(bào)、日本特公昭57-1819號公報(bào)、日本特公昭57-6096號公報(bào)和美國專利第3615445號說明書記載的化合物等。上述?；⒀趸锘衔锢缈梢耘e出雙(2，4,6-三甲基苯甲?；?-苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲基苯甲酰基)-2,4，4-三甲基-戊基苯基膦氧化物、LucirinTPO、LucirinTPO-L等。另外，上述以外的光聚合引發(fā)劑可以舉出吖啶衍生物(例如9-苯基吖啶、1，7-雙(9，9'-吖啶基)庚垸等)、N-苯基甘氨酸等、多鹵化合物(例如四氯化碳、苯基三溴甲基砜、苯基三氯甲基酮等)、香豆素類(例如3-(2-苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯甲?；?-7-(l-吡咯垸基)香豆素、3-苯甲?；?7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3,3，-羰基雙(5,7-二正丙氧基香豆素)、3，3，-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂?；?-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲?；?5,7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素、日本特開平5-19475號、日本特開平7-271028號、日本特開2002-363206號、日本特開2002-363207號、日本特開2002-363208號、日本特開2002-363209號公報(bào)等記載的香豆素化合物等)、胺類(例如4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸正丁酯、4-二甲基氨基苯甲酸苯乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-鄰苯二甲酰亞胺乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、五亞甲基雙(4-二甲基氨基苯甲酸酯)、3-二甲基氨基苯甲酸的苯乙酯、五亞甲基酯、4-二甲基氨基苯甲醛、2-氯_4-二甲基氨基苯甲醛、4-二甲基氨基芐醇、乙基(4-二甲基氨基苯甲酰基)乙酸酯、4-哌啶基苯乙酮、4-二甲基氨基苯偶姻、N,N-二甲基-4-甲苯胺、N,N-二乙基-3-氨基苯乙醚、三芐基胺、二芐基苯基胺、N-甲基-N-苯基芐基胺、4-溴-N,N-二甲基苯胺、三(十二烷基)胺、氨基熒垸類(ODB、ODBII等)、結(jié)晶紫內(nèi)酯、隱色結(jié)晶紫等)等。進(jìn)而還可以舉出美國專利第2367660號說明書所記載的連位聚縮酮多尼爾(bicynalpolyketaldonyl)化合物、美國專利第2448828號說明書所記載的偶姻醚化合物、美國專利第2722512號說明書所記載的a-烴所取代的芳香族偶姻化合物、美國專利第3046127號說明書和美國專利第2951758號說明書所記載的多核醌化合物、日本特開2002-229194號公報(bào)所記載的有機(jī)硼化合物、自由基引發(fā)劑、三芳基锍鹽(例如與六氟銻、六氟磷酸鹽的鹽)、轔鹽化合物(例如(苯基硫代苯基)二苯基锍鹽)(作為陽離子聚合引發(fā)劑有效)、WO01/71428號公報(bào)記載的錙鹽化合物等。上述光聚合引發(fā)劑可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。上述光聚合引發(fā)劑的特別優(yōu)選例可以舉出在后述曝光中能夠?qū)?yīng)波長405nm激光的上述膦氧化物類、上述a-氨基烷基酮類、組合有上述具有三嗪骨架的鹵化烴化合物和作為后述增敏劑的胺化合物的復(fù)合光引發(fā)劑、六芳基二咪唑化合物或茂鈦等。上述光聚合引發(fā)劑在上述感光性組合物中的含量優(yōu)選為0.130質(zhì)量Q/。、更優(yōu)選為0.520質(zhì)量％、特別優(yōu)選為0.515質(zhì)量％?！对雒酏R廿》為了調(diào)整對上述感光層曝光的曝光感光度和感光波長，除了上述光聚合引發(fā)劑之外，還可以添加增敏劑。上述增敏劑可以根據(jù)作為后述光照射機(jī)構(gòu)的可見光線或紫外光激光和可見光激光等適當(dāng)選擇。上述增敏劑由于活性能量射線而成為激發(fā)狀態(tài)，通過與其它物質(zhì)(例如自由基引發(fā)劑、氧產(chǎn)生劑等)相互作用(例如能量移動(dòng)、電子移動(dòng)等)，有可能產(chǎn)生自由基或氧等有用基團(tuán)。上述光聚合引發(fā)劑和上述增敏劑的組合例如可以舉出日本特開2001-305734號公報(bào)所記載的電子移動(dòng)型引發(fā)劑[(1)供電子型引發(fā)劑和增感色素、(2)受電子型引發(fā)劑及增感色素、(3)供電子型引發(fā)劑、增感色素和受電子型引發(fā)劑(三元引發(fā)劑)]等的組合。上述增敏劑并無特別限定，可以從公知的增敏劑中適當(dāng)選擇，例如可以舉出公知的多核芳香族類(例如芘、菲、苯并[9，10]菲)、咕噸類(例如熒光素、曙紅、赤蘚紅、羅丹明B、玫瑰紅)、花青類(例如吲哚羰花青(indocarbocyanine)、硫雜羰花青、氧雜羰花青)、部花青類(例如部花青、卡伯邁璐花青(carbomelocyanine)、噻嗪類(例如硫堇、亞甲基藍(lán)、甲苯胺藍(lán))、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素、吖啶黃、9-苯基吖啶、1,7雙(9，9'-吖啶基)庚烷)、蒽醌類(例如蒽醌)、方像(squalium)類(例如方鏡)、吖啶酮類(例如吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮(例如2-氯-10-丁基吖啶酮等)等)、香豆素類(例如3-(2-苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯甲?；?-7-(l-吡咯烷基)香豆素、3-苯甲?；?7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3,3，-羰基雙(5,7-二正丙氧基香豆素)、3,3，-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲?；?7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?；?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲?；?5,7-二丙氧基香豆素、日本特開平5-19475號、日本特開平7-271028號、日本特開2002-363206號、日本特開2002-363207號、日本特開2002-363208號、日本特開2002-363209號公報(bào)等記載的香豆素化合物等)、硫雜咕噸酮化合物(硫雜卩占噸酮、異丙基硫雜咕噸酮、2,4-二乙基硫雜卩占噸酮、l-氯-4-丙基氧基硫雜咕噸酮、QuantacureQTX等)等，其中，優(yōu)選芳香族環(huán)、雜環(huán)經(jīng)環(huán)縮后的化合物(縮環(huán)系化合物)，以及至少2個(gè)芳香族烴環(huán)和芳香族雜環(huán)的任一個(gè)被取代后的胺系化合物。上述縮環(huán)系化合物中，更優(yōu)選雜縮環(huán)系酮化合物(吖啶酮系化合物、硫雜咕噸酮系化合物、香豆素系化合物)和吖啶系化合物。上述雜縮環(huán)系酮化合物中，特別優(yōu)選吖啶化合物和硫雜咕噸酮化合物。上述至少2個(gè)芳香族烴環(huán)和芳香族雜環(huán)的任一個(gè)被取代的胺系化合物優(yōu)選相對于330450nm的波長區(qū)域光具有最大吸收的增敏劑，例如可以舉出二取代氨基二苯甲酮系化合物，相對于苯環(huán)上的氨基、對位的碳原子上具有雜環(huán)基作為取代基的二取代氨基-苯系化合物，相對于苯環(huán)上的氨基、對位的碳原子上具有含有磺酰亞胺基的取代基的二取代氨基-苯系化合物，形成有喹諾酮骨架的二取代氨基-苯系化合物以及作為部分結(jié)構(gòu)含有具有至少2個(gè)芳香族環(huán)鍵合在氮原子上的結(jié)構(gòu)的化合物等的二取代氨基-苯的化合物。上述增敏劑可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。上述增敏劑的配合量優(yōu)選為上述感光性組合物總固態(tài)成分中的0.014質(zhì)量％、更優(yōu)選為0.022質(zhì)量％、特別優(yōu)選為0.051質(zhì)量％。上述含量小于0.01質(zhì)量％時(shí)，感光度會(huì)降低，超過4質(zhì)量％時(shí)，圖案的形狀會(huì)惡化。<熱交聯(lián)劑>上述熱交聯(lián)劑并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，為了改良使用上述感光性組合物形成的感光層的固化后膜強(qiáng)度，可以在不對顯影性等產(chǎn)生不良影響的范圍內(nèi)使用例如1分子內(nèi)具有至少2個(gè)環(huán)氧乙烷基的環(huán)氧化合物、1分子內(nèi)具有至少2個(gè)氧雜環(huán)丁垸基的氧雜環(huán)丁垸化合物。上述1分子中具有至少2個(gè)環(huán)氧乙烷基的環(huán)氧化合物例如可以舉出對二甲苯酚型或雙酚型環(huán)氧樹脂("YX4000日本環(huán)氧樹脂社制"等)或它們的混合物、具有異氰酸酯骨架的雜環(huán)式環(huán)氧樹脂("TEPIC;日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)(株)制")、"7，^夕M卜PT810;汽巴精化社制"等)、雙酚A型環(huán)氧樹脂、清漆型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、氫化雙酚A型環(huán)氧樹脂、雙酚S型環(huán)氧樹脂、酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、甲酚清漆型環(huán)氧樹脂、鹵化環(huán)氧樹脂(例如低溴化環(huán)氧樹脂、高鹵化環(huán)氧樹脂、溴化酚醛清漆型環(huán)氧樹脂等)、含烯丙基的雙酚A型環(huán)氧樹脂、三苯酚甲烷型環(huán)氧樹脂、二苯基二甲醇型環(huán)氧樹脂、雙酚聯(lián)苯型環(huán)氧樹脂、二環(huán)戊二烯型環(huán)氧樹脂("HP-7200、HP-7200巧大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制等")、縮水甘油胺型環(huán)氧樹脂(二氨基二苯基甲烷型環(huán)氧樹脂、二縮水甘油苯胺、三縮水甘油氨基苯酚等)；縮水甘油酯型環(huán)氧樹脂(鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、己二酸二縮水甘油酯、六氫苯二甲酸二縮水甘油醚、二聚酸二縮水甘油酯等)、乙內(nèi)酰脲型環(huán)氧樹脂、脂環(huán)式環(huán)氧樹脂(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基甲基-3，，4'-環(huán)氧基環(huán)己烷羧酸酯、雙(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基甲基)己二酸酯、二環(huán)戊二烯二環(huán)氧化物、"GT-300、GT-400、ZEHPE315Q大賽璐化學(xué)工業(yè)制"等)、酰亞胺型脂環(huán)式環(huán)氧樹脂、三羥基苯基甲烷型環(huán)氧樹脂、雙酚A清漆型環(huán)氧樹脂、四苯基乙烷型環(huán)氧樹脂、苯二甲酸縮水甘油酯樹脂、四縮水甘油基二甲苯酚乙烷樹脂、含萘基的環(huán)氧樹脂(萘酚芳垸型環(huán)氧樹脂、萘酚清漆型環(huán)氧樹脂、4官能萘型環(huán)氧樹脂、市售品"ESN-190、ESN-360;新日鐵化學(xué)(株)制")、"HP-4032、EXA-4750、EXA-4700;大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制等"、苯酚化合物與二乙烯基苯或二環(huán)戊二烯等二烯烴化合物的加成反應(yīng)而獲得的聚苯酚化合物與表氯醇的反應(yīng)物、用過乙酸等將4-乙烯基環(huán)己烯-l-氧化物的開環(huán)聚合物環(huán)氧化的產(chǎn)物、具有線狀含磷結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂、具有環(huán)狀含磷結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂、ct-甲基苯乙烯型液晶環(huán)氧樹脂、二苯甲酰氧基苯型液晶環(huán)氧樹脂、偶氮苯基型液晶環(huán)氧樹脂、偶氮甲堿苯基型液晶環(huán)氧樹脂、聯(lián)萘型液晶環(huán)氧樹脂、吖嗪型環(huán)氧樹脂、縮水甘油基甲基丙烯酸酯共聚系環(huán)氧樹脂("CP-50S、CP-50M;日本油脂(株)制"等)、環(huán)己基馬來酰亞胺與縮水甘油基甲基丙烯酸酯的共聚環(huán)氧樹脂、雙(縮水甘油氧基苯基)芴型環(huán)氧樹脂、雙(縮水甘油氧基苯基)金剛垸型環(huán)氧樹脂等，但并非局限于這些。這些環(huán)氧樹脂可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。另外，除了1分子中具有至少2個(gè)環(huán)氧乙垸基的上述環(huán)氧化合物以外，還可以使用至少1分子中含有2個(gè)卩位具有烷基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物，特別優(yōu)選含有P位被垸基取代的環(huán)氧基(更具體地P-垸基取代縮水甘油基等)的化合物。上述至少含有卩位具有烷基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物可以是分子中所含2個(gè)以上的環(huán)氧基全部為P-垸基取代縮水甘油基，還可以是至少1個(gè)的環(huán)氧基為(3-烷基取代縮水甘油基。上述含有卩位具有烷基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物從室溫下的保存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選上述感光性組合物中所含的上述環(huán)氧化合物總量中的總環(huán)氧基中的(3-垸基取代縮水甘油基的比例為30%以上、更優(yōu)選為40%以上、特別優(yōu)選為50%以上。上述P-垸基取代縮水甘油基并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇，例如可以舉出P-甲基縮水甘油基、P-乙基縮水甘油基、P-丙基縮水甘油基、(3-丁基縮水甘油基等，其中，從提高上述感光性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)以及合成容易性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選(3-甲基縮水甘油基。作為上述含有P位具有烷基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物例如優(yōu)選由多酚化合物與(3-烷基表氯醇衍生的環(huán)氧化合物。上述P-垸基表氯醇并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出P-甲基表氯醇、(3-甲基表溴醇、P-甲基表氟醇等|3-甲基表^醇；(3-乙基表氯醇、P-乙基表溴醇、(3-乙基表氟醇等P-乙基表鹵醇；(3-丙基表氯醇、卩-丙基表溴醇、P-丙基表氟醇等(3-丙基表鹵醇；(3-丁基表氯醇、(3-丁基表溴醇、p-丁基表氟醇等p-丁基表鹵醇等。其中，從與多酚化合物的反應(yīng)性和流動(dòng)性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選p-甲基表鹵醇。上述多酚化合物只要是1分子中含有2個(gè)以上芳香族羥基的化合物則無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)決定，例如可以舉出雙酚A、雙酚F、雙酚S等雙酚化合物，聯(lián)苯、四甲基聯(lián)苯等聯(lián)苯化合物，二羥基萘、聯(lián)萘等萘酚化合物，苯酚-甲醛縮聚物等酚醛清漆型樹脂、甲酚-甲醛縮聚物等碳原子數(shù)110的單烷基取代苯酚-甲醛縮聚物、二甲苯酚-甲醛縮聚物等碳原子數(shù)110的二垸基取代苯酚-甲醛縮聚物、雙酚A-甲醛縮聚物等雙酚化合物-甲醛縮聚物、苯酚與碳原子數(shù)110的單烷基取代苯酚與甲醛的共縮聚物、苯酚化合物與二乙烯基苯的加成聚合物等。其中，在以提高流動(dòng)性和保存穩(wěn)定性為目的進(jìn)行選擇時(shí)，優(yōu)選上述雙酚化合物。作為上述含有卩位具有烷基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物例如可以舉出雙酚A的二-P-烷基縮水甘油醚、雙酚F的二-(3-烷基縮水甘油醚、雙酚S的二-P-垸基縮水甘油醚等雙酚化合物的二-卩-烷基縮水甘油醚;聯(lián)苯的二-卩-烷基縮水甘油醚、四甲基聯(lián)苯的二-(3-烷基縮水甘油醚等聯(lián)苯化合物的二-(3-烷基縮水甘油醚；二羥基萘的二-P-烷基縮水甘油醚、聯(lián)萘的二-(3-烷基縮水甘油醚等萘酚化合物的P-烷基縮水甘油醚；苯酚-甲醛縮聚物的多-(3-烷基縮水甘油醚、甲酚-甲醛縮聚物的多-(3-垸基縮水甘油醚等碳原子數(shù)110的單烷基取代苯酚-甲醛縮聚物的多-P-烷基縮水甘油醚；二甲苯酚-甲醛縮聚物的多-P-烷基縮水甘油醚等碳原子數(shù)110的二烷基取代苯酚-甲醛縮聚物的多-卩-烷基縮水甘油醚、雙酚A-甲醛縮聚物的多-J3-垸基縮水甘油醚等雙酚化合物-甲醛縮聚物的多-(3-垸基縮水甘油醚；苯酚化合物與二乙烯基苯的加成聚合物的多-(3-烷基縮水甘油醚等。其中，優(yōu)選下述結(jié)構(gòu)式(Hi)所示的雙酚化合物、由其與表氯醇等獲得的聚合物衍生的P-垸基縮水甘油醚、下述結(jié)構(gòu)式(iv)所示苯酚化合物-甲醛縮聚物的多-P-烷基縮水甘油醚。上述結(jié)構(gòu)式(iii)中，R表示氫原子和碳原子數(shù)16的烷基的任一種，n表示020的整數(shù)。上述結(jié)構(gòu)式(iv)中，R表示氫原子和碳原子數(shù)16的垸基的任一種，R"表示氫原子和CH3的任一個(gè)，n表示020的整數(shù)。這些含有卩位具有垸基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物可以單獨(dú)使用1種，還可以并用2種以上。另外，還可并用l分子中具有至少2個(gè)環(huán)氧乙烷基的.環(huán)氧化合物以及含有卩位具有垸基的環(huán)氧基的環(huán)氧化合物。上述氧雜環(huán)丁烷化合物，除了可以舉出雙[(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]醚、雙[(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁垸基甲氧基)甲基]醚、1,4-雙[(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]苯、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]苯、丙烯酸(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁垸基)甲酯、丙烯酸(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-甲基-3-氧雜環(huán)丁烷基)甲酉旨、甲基丙烯酸(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁烷基)甲酯和它們的寡聚物或共聚物等多官能氧雜環(huán)丁垸類之外，還可以舉出具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物與清漆型樹脂、聚(對羥基苯乙烯)、硝鹵水型(caldo-type)雙酚類、杯芳烴類、杯間苯二酚芳'烴(calixresorcinarene)類、硅倍半氧烷(silsesquioxane)等具有結(jié)構(gòu)式(iii)羥基的樹脂等的醚化合物，另外，還可以舉出具有氧雜環(huán)丁烷環(huán)的不飽和單體與(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物等。另外，為了促進(jìn)上述環(huán)氧化合物或上述氧雜環(huán)丁烷化合物的熱固化，例如可以使用胺化合物(例如雙氰胺、節(jié)基二甲胺、4-(二甲基氨基)-N,N-二甲基芐胺、4-甲氧基-N，N-二甲基芐胺、4-甲基-N,N-二甲基芐胺等)、季銨鹽化合物(例如三乙基芐基氯化銨等)、嵌段異氰酸酯化合物(例如二甲基胺等)、咪唑衍生物二環(huán)式脒化合物及其鹽(例如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑、1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑等)、磷化合物(例如三苯基膦等)、胍胺化合物(例如蜜胺、胍胺、乙酰基胍胺、苯并胍胺等)、S-三嗪衍生物(例如2,4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-S-三嗪衍生物、2-乙烯基-2，4-二氨基-S-三嗪、2-乙烯基-4，6-二氨基-S-三嗪'異氰脲酸加成物、2，4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-S-三嗪'異氰脲酸加成物等)等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。予以說明，只要是上述環(huán)氧樹脂化合物或上述氧雜環(huán)丁垸化合物的固化催化劑或者是能夠促進(jìn)它們與羧基的反應(yīng)的物質(zhì)，則無特別限定，可以使用上述以外的能夠促進(jìn)熱固化的化合物。上述環(huán)氧樹脂化合物、上述氧雜環(huán)丁垸化合物以及能夠促進(jìn)它們與羧酸的熱固化的化合物在上述感光性組合物固態(tài)成分中的固態(tài)成分含量通常為0.0115質(zhì)量％。另外，上述熱交聯(lián)劑可以使用日本特開平5-9407號公報(bào)所記載的聚異氰酸酯化合物，該聚異氰酸酯化合物可以由含有至少2個(gè)異氰酸酯基的脂肪族、環(huán)式脂肪族或芳香族取代脂肪族化合物衍生。具體地可以舉出2官能異氰酸酯(例如1，3-苯二異氰酸酯與1，4-苯二異氰酸酯的混合物、2,4-和2,6-甲苯二異氰酸酯、1，3-和1，4-二甲苯二異氰酸酯、雙(4-異氰酸酯-苯基)甲烷、雙(4-異氰酸酯環(huán)己基)甲外、異氟爾酮二異氰酸酯、1，6-己二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯等)、該2官能異氰酸酯與三羥甲基丙烷、季戊四醇、甘油等的多官能醇；該多官能醇的垸氧化物加成體與上述2官能異氰酸酯的加成體；1,6-己二異氰酸酯、六亞甲基-l，6-二異氰酸酯及其衍生物的環(huán)式三聚體等。而且，為了提高本發(fā)明感光性組合物的保存性，還可以使用使封端劑與上述聚異氰酸酯及其衍生物的異氰酸酯基反應(yīng)而獲得的化合物。上述異氰酸酯基封端劑可以舉出醇類(例如異丙醇、叔丁醇等)、內(nèi)酯類(例如e-己內(nèi)酯等)、酚類(例如苯酚、甲酚、對叔丁基苯酚、對仲丁基苯酚、對仲戊基苯酚、對辛基苯酚、對壬基苯酚等)、雜環(huán)式羥基化合物(例如3-羥基吡啶、8-羥基喹啉等)、活性亞甲基化合物(例如馬來酸二垸基酯、甲乙酮肟、乙酰丙酮、垸基乙酰乙酸酯肟、丙酮肟、環(huán)己酮肟等)等。另外，還可以使用日本特開平6-295060號公報(bào)記載的分子內(nèi)具有至少1個(gè)能夠聚合的雙鍵和至少1個(gè)封端異氰酸酯基中的任一者的化合物等。另外，上述熱交聯(lián)劑可以使用蜜胺衍生物。該蜜胺衍生物例如可以舉出羥甲基蜜胺、烷基化羥甲基蜜胺(用甲基、乙基、丁基等將羥甲基醚化的化合物)等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用1種，還可并用2種以上。其中，從保存穩(wěn)定性良好、感光層的表面硬度或固化膜的膜強(qiáng)度本身的提高有效的方面出發(fā)，優(yōu)選烷基化羥甲基蜜胺，特別優(yōu)選六甲基化羥甲基蜜胺。上述熱交聯(lián)劑在上述感光性組合物固態(tài)成分中的固態(tài)成分含量優(yōu)選為150質(zhì)量％、更優(yōu)選為330質(zhì)量％。該固態(tài)成分含量小于1質(zhì)量％時(shí)，未見固化膜的膜強(qiáng)度提高，超過50質(zhì)量％時(shí)，會(huì)發(fā)生顯影性降低或曝光感光度降低。<其它成分>上述其它成分例如可以舉出熱聚合停止劑、增塑劑、著色劑(著色顏料或染料)、底質(zhì)顏料等，還可以并用對基體表面的密合促進(jìn)劑及其輔助劑類(例如導(dǎo)電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、均化劑、剝離促進(jìn)劑、抗氧化劑、香料、表面張力調(diào)整劑、鏈轉(zhuǎn)移劑等)。通過適當(dāng)含有這些成分，可以調(diào)整目標(biāo)感光性組合物或后述感光性膜的穩(wěn)定性、照片性、膜物性等性質(zhì)。熱聚合停止劑》上述熱聚合停止劑可以為了防止上述聚合性化合物的熱聚合或經(jīng)時(shí)聚合而添加。上述熱聚合停止劑例如可以舉出4-甲氧基苯酚、氫醌、烷基或芳基取代氫醌、叔丁基鄰苯二酚、1,2，3-苯三酚、2-羥基二苯甲酮、4-甲氧基-2-羥基二苯甲酮、氯化亞銅、吩噻嗪、氯醌、萘胺、卩-萘酚、2,6-二叔丁基-4-甲酚、2,2，-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亞甲藍(lán)、與銅的有機(jī)螯合劑反應(yīng)物、水楊酸甲酯、吩噻嗪、亞硝基化合物、亞硝基化合物與Al的螯合劑等。上述熱聚合停止劑的含量相對于上述聚合性化合物優(yōu)選為0.0015質(zhì)量％、更優(yōu)選為0.0052質(zhì)量％、特別優(yōu)選為0.011質(zhì)量％。該含量小于0.001質(zhì)量％時(shí)，保存時(shí)的穩(wěn)定性會(huì)降低，超過5質(zhì)量％時(shí)，相對于活性射線的感光度會(huì)降低。<<著色顏料>>上述著色顏料并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如維多利亞純藍(lán)BO(C丄42595)、金胺(C丄41000)、脂肪黑HB(C.I.26150)、Monolight黃GT(C,I.顏料黃12)、永固黃GR(C.I.顏料黃17)、永固黃HR(C.I.顏料黃83)、永固洋紅色FBB(C丄顏料紅146)、郝司他噴姆(Hostaperm)紅ESB(C.I.顏料紫19)、永固紅玉色FBH(C.I.顏料紅11)、FastelPinkBSpura(C.I.顏料紅81)、Monastral永固藍(lán)(C丄顏料藍(lán)15)、Monastral永固黑(C丄顏料黑1)、炭、C.I.顏料紅97、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅168、C丄顏料紅177、C.I.顏料紅180、C.I.顏料紅192、C.I.顏料紅215、C.I.顏料藍(lán)7、C丄顏料藍(lán)36、C丄顏料藍(lán)15:1、C.I.顏料藍(lán)15:4、C.I.顏料藍(lán)15:6、C.I.顏料藍(lán)22、C丄顏料藍(lán)60、C丄顏料藍(lán)64等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。另外，還可以根據(jù)需要使用從公知染料中適當(dāng)選擇的染料。上述著色顏料在上述感光性組合物固態(tài)成分中的固態(tài)成分含量可以考慮永久圖案形成時(shí)的感光層的曝光感光度、分辨率等決定，隨上述著色顏料的種類而不同，一般優(yōu)選為0.0510質(zhì)量％、更優(yōu)選為0.15質(zhì)量％。<<底質(zhì)顏料>〉上述感光性組合物中，為了提高永久圖案的表面硬度、將線膨脹系數(shù)抑制到較低或者將固化膜本身的介電常數(shù)或介質(zhì)損耗正切抑制到較低，可以根據(jù)需要添加無機(jī)鹽料或有機(jī)微粒子。上述無機(jī)鹽料并無特別限定，可以從公知物質(zhì)中適當(dāng)選擇，例如可以舉出高嶺土、硫酸鋇、鈦酸鋇、氧化硅粉、微粉狀氧化硅、氣相法二氧化硅、無定形二氧化硅、結(jié)晶性二氧化硅、熔融二氧化硅、球狀二氧化硅、滑石、粘土、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鋁、氫氧化鋁、云母等。上述無機(jī)鹽料的平均粒徑優(yōu)選小于l(Him、更優(yōu)選3^im以下。該平均粒徑為10|im以上時(shí)，由于光散射會(huì)發(fā)生分辨率降低。上述有機(jī)微粒子并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出蜜胺樹脂、苯并胍胺樹脂、交聯(lián)苯乙烯樹脂等。另外，可以使用平均粒徑l5i^m、吸油量100200mVg左右的二氧化硅、由交聯(lián)樹脂而成的球狀多孔微粒等。上述底質(zhì)顏料的添加量優(yōu)選為560質(zhì)量％。該添加量少于5質(zhì)量％時(shí)，有時(shí)無法充分地降低線膨脹系數(shù)，超過60質(zhì)量％時(shí)，則在感光層表面上形成固化膜時(shí)，該固化膜的膜質(zhì)變脆，在使用永久圖案形成導(dǎo)線時(shí)，會(huì)有損作為導(dǎo)線的保護(hù)膜的功能。<<密合促進(jìn)劑>>為了提高各層間的密合性、感光層與基體的密合性，可以在各層中使用公知的所謂密合促進(jìn)劑。上述密合促進(jìn)劑例如可以優(yōu)選地舉出日本特開平5-11439號公報(bào)、日本特開平5-341532號公報(bào)、日本特開平6-43638號公報(bào)等所記載的密合促進(jìn)劑。具體地可以舉出苯并咪唑、苯并隨唑、苯并噻唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并瞎唑、2-巰基苯并噻唑、3-嗎啉代甲基-l-苯基-三唑-2-硫、3-嗎啉代甲基-5-苯基-嗯二唑-2-硫、5-氨基-3-嗎啉代甲基-噻二唑-2-硫、2-巰基-5-甲基硫代-噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含氨基的苯并三唑、硅烷偶聯(lián)劑等。上述密合促進(jìn)劑的含量相對于上述感光性組合物中的總成分優(yōu)選為0.001質(zhì)量％20質(zhì)量％、更優(yōu)選為0.0110質(zhì)量％、特別優(yōu)選為0.1質(zhì)量%5質(zhì)量％。上述感光層的形成方法作為第1方式可以舉出將上述感光性組合物涂布在上述基體的表面上進(jìn)行干燥的方法，作為第2方式可以舉出在對感光性膜進(jìn)行加熱和加壓的至少1情況下層疊于基體表面上的方法。上述第1方式的感光層的形成方法為在上述基體上涂布上述感光性組合物并干燥，形成感光層。上述涂布和干燥的方法并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出將上述感光性組合物溶解于水中或溶劑中，使其乳化或分散制備感光性組合物溶液，將該溶液直接涂布在上述基體的表面上進(jìn)行干燥，從而進(jìn)行層疊的方法。上述感光性組合物溶液的溶劑并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇類；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮、二異丁基酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、苯二甲酸二甲酯、苯甲酸乙酯、甲氧基丙基乙酸酯等酯類；甲苯、二甲苯、苯、乙基苯等芳香族烴類；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、l，l，l-三氯乙垸、二氯甲垸、單溴苯等鹵化烴類；四氫呋喃、二乙基醚、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、l-甲氧基-2-丙醇等醚類；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、環(huán)丁砜等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。另外，還可以添加公知的表面活性劑。上述涂布方法并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以使用旋涂機(jī)、夾縫旋涂機(jī)、輥涂機(jī)、模涂機(jī)、簾式涂布機(jī)等直接涂布在上述基體上的方法。上述干燥條件隨各成分、溶劑的種類、使用比例等不同，通常為60ll(TC的溫度下進(jìn)行30秒鐘15分鐘左右。上述感光層的厚度并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選為3100|im、更優(yōu)選為570pm。上述第2方式的感光層形成方法為在加熱和加壓的至少任一情況下將具有支承體以及將感光性組合物層疊在該支承體上而成的感光層的感光性膜層疊在上述基體的表面上。予以說明，當(dāng)上述感光性膜具有后述保護(hù)膜時(shí)，優(yōu)選將該保護(hù)膜剝離，以上述感光層與上述基體重疊的方式而層疊。(感光性膜)上述感光性膜至少具有支承體和感光層，優(yōu)選具有保護(hù)膜而成，進(jìn)而根據(jù)需要具有緩沖層、阻氧層(PC層)等其它層。上述感光性膜的形態(tài)并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出在上述支承體上按順序具有上述感光層、上述保護(hù)膜而成的形態(tài)，在上述支承體上按順序具有上述PC層、上述感光層、上述保護(hù)膜而成的形態(tài)，在上述支承體上按順序具有上述緩沖層、上述PC層、上述感光層、上述保護(hù)膜而成的形態(tài)等。予以說明，上述感光層可以為單層，可以為多層。<支承體>上述支承體并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選能夠剝離上述感光層、且透光性良好，更優(yōu)選表面的平滑性良好。上述支承體優(yōu)選為合成樹脂制、且透明，例如可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、聚(甲基)丙烯酸垸基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、玻璃紙、聚偏氯乙烯共聚物、聚酰胺、聚酰亞胺、氯乙烯.醋酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纖維素系膜、尼考膜等各種塑料膜，其中，特別優(yōu)選聚對苯二甲酸乙二醇酯。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用l種，還可以并用2種以上。予以說明，上述支承體例如可以使用日本特開平4-208940號公報(bào)、日本特開平5-80503號公報(bào)、日本特開平5-173320號公報(bào)、日本特開平5-72724號公報(bào)等記載的支承體。上述支承體的厚度并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選為4300,、更優(yōu)選為5175,。上述支承體的形狀并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選長條狀。上述長條狀支承體的長度并無特別限定，例如可以舉出1020000m的長度。-感光性膜的感光層-上述感光性膜的感光層由上述感光性組合物形成。上述感光層在上述感光性膜中的設(shè)置位置并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，通常層疊在上述支承體上。上述感光性膜的感光層的厚度并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選為3100(im、更優(yōu)選為570|am。上述感光性膜的感光層的形成可以通過同樣的方法在上述基體上涂布和干燥上述感光性組合物溶液(上述第1方式的感光層的形成方法)而進(jìn)行，例如可以舉出使用旋涂機(jī)、夾縫旋涂機(jī)、輥涂機(jī)、模涂機(jī)、簾式涂布機(jī)等涂布該感光性組合物溶液的方法。<保護(hù)膜>上述保護(hù)膜具有防止上述感光層的污染或損傷、進(jìn)行保護(hù)的功能。上述保護(hù)膜在上述感光性膜中的設(shè)置位置并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，通常層疊在上述感光層上。上述保護(hù)膜例如可以舉出上述支承體中使用的保護(hù)膜，有機(jī)硅紙，層疊有聚乙烯、聚丙烯的紙，聚烯烴或聚四氟乙烯片材等，其中優(yōu)選聚乙烯膜、聚丙烯膜。上述保護(hù)膜的厚度并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選為5100(im、更優(yōu)選為830pm。使用上述保護(hù)膜時(shí)，優(yōu)選上述感光層和上述支承體的粘接力A與上述感光層和保護(hù)膜的粘接力B為粘接力A〉粘接力B的關(guān)系。上述支承體和保護(hù)膜的組合(支承體/保護(hù)膜)例如可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚乙烯、聚氯乙烯/玻璃紙、聚酰亞胺/聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚對苯二甲酸乙二醇酯等。另外，通過對支承體和保護(hù)膜的至少1者實(shí)施表面處理，可以滿足上述粘接力的關(guān)系。上述支承體的表面處理可以為了提高與上述感光層的粘接力而實(shí)施，例如可以舉出底涂層的涂設(shè)、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻率照射處理、電弧放電照射處理、活性等離子體照射處理、激光光線照射處理等。另外，上述支承體與上述保護(hù)膜的靜摩擦系數(shù)優(yōu)選為0.31.4、更優(yōu)選為0.51.2。上述靜摩擦系數(shù)小于0.3時(shí)，由于過滑，因此在制成輥狀時(shí)會(huì)發(fā)生巻繞錯(cuò)位，超過1.4時(shí)，難以巻成良好的輥狀。上述感光性膜例如優(yōu)選巻繞成圓筒狀的巻芯，以長條狀巻成輥狀而保管。上述長條狀的感光性膜的長度并無特別限定，例如可以從1020000m的范圍內(nèi)適當(dāng)選擇。另外，為了使用者易于使用，還可以進(jìn)行剪切加工，將1001000m范圍的長尺體制成輥狀。予以說明，此時(shí)優(yōu)選按照上述支承體處于最外側(cè)而巻繞。另外，還可以將上述輥狀的感光性膜剪切成片狀。從保管時(shí)進(jìn)行端面的保護(hù)、防止邊緣粗糙的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在端面上設(shè)置隔離物(特別是防濕性隔離物、裝有干燥劑的隔離物)，另外包裝也優(yōu)選使用透濕性低的原料。上述保護(hù)膜為了調(diào)整上述保護(hù)膜與上述感光層的粘結(jié)性可以進(jìn)行表面處理。上述表面處理例如為在上述保護(hù)膜的表面上形成聚有機(jī)硅氧烷、氟化聚烯烴、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物構(gòu)成的底涂層。該底涂層的形成可以如下進(jìn)行將上述聚合物的涂布液涂布在上述保護(hù)膜的表面上后，在30150°C(特別5012(TC)下干燥130分鐘，從而形成。另外，除了上述感光層、上述支承體、上述保護(hù)膜之外，還可以舉出緩沖層、阻氧層(PC層)、剝離層、粘接層、光吸收層、表面保護(hù)層等層。上述緩沖層是常溫下沒有緩沖性，在真空.加熱條件下進(jìn)行層疊時(shí)熔融、流動(dòng)的層。上述PC層通常為以聚乙烯醇為主成分形成的0.55pm左右的覆膜。(感光性組合物的制造方法)上述感光性組合物例如可以如下制造。首先將上述感光性組合物所含的材料溶解于水或有機(jī)溶劑中使其乳化或分散，制備感光性組合物用的感光性組合物溶液。另外，可以添加公知的表面活性劑。接著，在上述基體上或上述支承體上涂布上述感光性組合物溶液將其干燥，形成感光層，可以制造感光性組合物。上述感光性組合物溶液的涂布方法并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)決定，例如可以舉出噴霧法、輥涂法、旋涂法、夾縫涂布法、擠出涂布法、簾式涂布法、模涂法、凹版涂布法、絲棒涂布法、刮刀涂布法等各種涂布方法。上述干燥條件隨各成分、溶劑的種類、使用比例等不同，通常在60100。C的溫度下干燥30秒15分鐘左右。<層疊體的形成>使用本發(fā)明的感光性組合物進(jìn)行圖案形成時(shí)，將該感光性組合物的感光層層疊在基體上形成層疊體。上述基體并無特別限定，可以從公知的材料中適當(dāng)選擇表面平滑性高具有凹凸表面的基體，優(yōu)選板狀的基體(印制電路板)，具體地說可以舉出公知的印制布線板形成用基板(例如覆銅層疊板)、玻璃板(例如堿玻璃板等)、合成樹脂性膜、紙、金屬板等。上述層疊體的層構(gòu)成并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選按順序具有上述基體、上述感光層和上述支承體的層構(gòu)成。予以說明，上述感光性組合物具有上述保護(hù)膜時(shí)，優(yōu)選將該保護(hù)膜剝離，按照感光層重疊在上述基體上進(jìn)行層疊。該層疊體的形成方法并無特別限定，可以適當(dāng)選擇，優(yōu)選在上述基體上涂布感光性組合物的感光性組合物進(jìn)行干燥從而進(jìn)行層疊的方式，以及在加熱和加壓的至少任一情況下將上述感光性組合物層疊于上述基體上的方式。上述加熱溫度并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選為70130°C、更優(yōu)選為80110°C。上述加壓的壓力并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選為0.011.0MPa、更優(yōu)選為0.051.0MPa。進(jìn)行上述加熱和加壓的至少任一種的裝置并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選地舉出加熱板、加熱輥層疊器(例如大成，J冬一卜(株)制、VP-II)、真空層疊器(例如二千3"—乇一卜^(株)制、VP130)本發(fā)明的感光性組合物通過含有規(guī)定的高分子化合物，感光度和保存穩(wěn)定性優(yōu)異，能夠高效地形成高精細(xì)的圖案，因而可以優(yōu)選用于保護(hù)膜、層間絕緣膜、阻焊圖案等永久圖案等各種圖案形成用，濾光器、柱材、肋條材料、隔離物、隔壁等液晶結(jié)構(gòu)部件的制造用，全息圖案(hologmm)、微型機(jī)器、校樣等圖案形成用等中，特別是可以優(yōu)選用于印制電路板的永久圖案形成用。本發(fā)明的圖案形成裝置具備本發(fā)明的上述感光性層疊體，至少具有光照射機(jī)構(gòu)和光調(diào)制機(jī)構(gòu)。本發(fā)明的永久圖案形成方法至少包含曝光工序，含有適當(dāng)選擇的顯影工序等其它工序。予以說明，本發(fā)明的上述圖案形成裝置通過本發(fā)明上述永久圖案形成方法的說明可了解。[曝光工序]上述曝光工序?yàn)閷Ρ景l(fā)明的感光性組合物的感光層進(jìn)行曝光的工序。本發(fā)明的上述感光性組合物和基體的材料如上所述。上述曝光的對象只要是上述感光性組合物的感光層則無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如如上所述，優(yōu)選對在進(jìn)行加熱和加壓的至少任一情況下將感光性組合物層疊在基體上而形成的層疊體進(jìn)行。上述曝光并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出數(shù)字曝光、模擬曝光等，其中優(yōu)選數(shù)字曝光。上述數(shù)字曝光并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選使用根據(jù)所形成的圖案形成信息產(chǎn)生控制信號、并根據(jù)該控制信號進(jìn)行調(diào)制的光，例如優(yōu)選進(jìn)行如下方法使用曝光頭，所述曝光頭具有相對于上述感光層的光照射機(jī)構(gòu)、以及接收來自上述光照射機(jī)構(gòu)的光并將其射出的n個(gè)(n為2以上的自然數(shù))排列為2維狀的描素部，并具備根據(jù)圖案信息能夠控制上述描素部的光調(diào)制機(jī)構(gòu)，并且該曝光頭中所述描素部的列方向相對于該曝光頭的掃描方向被配置成規(guī)定的設(shè)定傾斜角度e，對于上述曝光頭，利用使用描素部指定機(jī)構(gòu)在能夠使用的上述描素部中指定用于N重曝光(N為2以上的自然數(shù))的上述描素部，對于上述曝光頭，利用描素部控制機(jī)構(gòu)按照僅用上述使用描素部指定機(jī)構(gòu)指定的上述描素部與曝光相關(guān)的方式進(jìn)行上述描素部的控制，并相對于上述感光層使上述曝光頭在掃描方向上相對地移動(dòng)。本發(fā)明中"N重曝光"是指在上述感光層的被曝光面上曝光區(qū)域的基本所有區(qū)域上，按照平行于所述曝光頭掃描方向的直線與照射在上述被曝光面上的N根光點(diǎn)列(像素列)相交而設(shè)定，從而進(jìn)行的曝光。這里"光點(diǎn)列(像素列)"是指在作為由上述描素部所產(chǎn)生的描素單元的光點(diǎn)(像素)的排列中，與上述曝光頭的掃描方向所成角度為更小的方向的排列。予以說明，上述描素部的配置并非必須為矩形格子狀，例如還可以為平行四邊形狀的配置等。這里，曝光區(qū)域的"基本所有區(qū)域"的原因在于在各描素部的兩側(cè)緣部處，通過傾斜描素部列，與平行于上述曝光頭掃描方向的直線相交的使用描素部的描素部列的數(shù)量減少；即便在該情況下連接多個(gè)曝光頭迸行使用，由于該曝光頭的安裝角度或配置等的誤差，也會(huì)微量地增減與平行于掃描方向的直線相交的使用描素部的描素部列的數(shù)量；在各使用描素部的描素部列間的連接的分辨率以下的極少部分處，由于安裝角度或描素部配置等的誤差，沿著與掃描方向垂直方向的描素部的間隔不會(huì)嚴(yán)密地與其它部分的描素部間隔一致，與平行于掃描方向的直線相交的使用描素部的描素部列的數(shù)量會(huì)在il的范圍內(nèi)增減。予以說明，以下的說明中，將N為2以上自然數(shù)的N重曝光總稱作"多重曝光"。在以下的說明中，對于作為描繪裝置或描繪方法實(shí)施本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法的方式，作為對應(yīng)于"N重曝光"或"多重曝光"的用語使用"N重描繪"和"多重描繪"的用語。上述N重曝光的N只要為2以上的自然數(shù)則無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選為3以上的自然數(shù)、更優(yōu)選為3以上7以下的自然數(shù)。參照本發(fā)明永久圖案形成方法所涉圖案形成裝置的一例。上述圖案形成裝置是所謂的平板型曝光裝置，如圖1所示，具備將層疊上述感光性組合物的至少上述感光層而成的片狀感光材料12(以下稱作"感光層12")吸附在表面上、進(jìn)行保持的平板狀移動(dòng)臺14。在被4根腳部16支撐的厚板狀的設(shè)置臺18的上面設(shè)置有沿著臺移動(dòng)方向延伸的2根導(dǎo)軌20。臺14按照其長邊方向朝向臺移動(dòng)方向而配置、同時(shí)能夠被導(dǎo)軌20往復(fù)移動(dòng)地支撐。予以說明，該圖案形成裝置10設(shè)有沿著導(dǎo)軌20驅(qū)動(dòng)臺14的臺驅(qū)動(dòng)裝置(未圖示)。在設(shè)置臺18的中央部上按照跨越臺14的移動(dòng)路徑而設(shè)置3字狀的柵22。3字狀柵22的各個(gè)端部固定在設(shè)置臺18的兩側(cè)面上。以挾持該柵22的方式在一側(cè)設(shè)置掃描器24，在另一側(cè)設(shè)置檢測感光材料12的前端和后端的多個(gè)(例如2個(gè))傳感器26。掃描器24和傳感器26分別安裝在柵22上，固定配置于臺14的移動(dòng)路徑的上方。予以說明，掃描器24和傳感器26連接于控制它們的未圖示控制器。這里，為了說明，在平行于臺14表面的平面內(nèi)如圖l所示，規(guī)定相互垂直的X軸和Y軸。沿著臺14的掃描方向，在上游側(cè)(以下僅稱作"上游側(cè)")的端緣部上等間隔地形成10根朝向X軸方向打開的形成為"〈"字型的夾縫28。各夾縫28由位于上游側(cè)的夾縫28a和位于下游側(cè)的夾縫28構(gòu)成。夾縫28a和夾縫28b相互垂直，同時(shí)相對于X軸夾縫28具有-45度、夾縫28b具有+45度的角度。夾縫28的位置與上述曝光頭30的中心基本一致。另外，各個(gè)夾縫28的大小為充分覆蓋對應(yīng)的曝光頭30所產(chǎn)生的曝光區(qū)域32幅度的大小。另外，夾縫28的位置可以與相鄰經(jīng)曝光的區(qū)域34間的重復(fù)部分的中心位置基本一致。此時(shí)，各夾縫28的大小為充分覆蓋經(jīng)曝光區(qū)域34間的重復(fù)部分幅度的大小。在臺14內(nèi)部的各夾縫28的下方位置上分別組裝在后述的使用描素部制定處理中作為光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)來檢測作為描素單元的光點(diǎn)的單一池型光檢測器(未圖示)。另外，各光檢測器連接于在后述使用描繪部指定處理中作為進(jìn)行上述描素部選擇的描素部選擇機(jī)構(gòu)的演算裝置(未圖示)。作為曝光時(shí)的上述圖案形成裝置的工作方式可以是在不停地移動(dòng)曝光頭的同時(shí)連續(xù)地進(jìn)行曝光的方式；在階段地移動(dòng)曝光頭的同時(shí)，在各移動(dòng)前端的位置處使曝光頭靜止進(jìn)行曝光動(dòng)作的方式。曝光頭》各曝光頭30安裝在掃描器24上，使得后述內(nèi)部的數(shù)字微反射鏡設(shè)備(DMD)36的各描素部(微反射鏡)列方向與掃描方向成所需的設(shè)定傾斜角度6。因此，各曝光頭30所形成的曝光區(qū)域32成為相對于掃描方向傾斜的矩形區(qū)域。隨著臺14的移動(dòng)，在感光層12上每個(gè)曝光頭30地形成帶狀經(jīng)曝光區(qū)域34。在圖2和圖3B所示例中，掃描器24具備排列成2行5列的略矩陣狀的10個(gè)曝光頭。予以說明，以下中表示排列在第m行的第n列的各個(gè)曝光頭時(shí)，表述為曝光頭30mn,表示由排列在第m行的第n列的各個(gè)曝光頭所產(chǎn)生的曝光區(qū)域時(shí)，表述為曝光區(qū)域32^。另外，如圖3A和圖3B所示，按照帶狀的經(jīng)曝光區(qū)域34分別與相鄰經(jīng)曝光區(qū)域34部分重疊的方式，將排列為線狀的各行曝光頭30分別距離規(guī)定間隔(曝光區(qū)域的長邊的自然數(shù)倍、本實(shí)施方式為2倍)配置在其排列方向上。因此，第1行曝光區(qū)域32和曝光區(qū)域3212之間的無法曝光部分可以用第2行的曝光區(qū)域3221進(jìn)行曝光。曝光頭30分別如圖4、圖5A和圖5B所示，作為對應(yīng)圖像數(shù)據(jù)每個(gè)描素部地調(diào)制所入射的光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)(每個(gè)描素部地進(jìn)行調(diào)制的空間光調(diào)制元件)具備DMD36(美國亍>社制)。該DMD36連接于具備數(shù)據(jù)處理器和反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部的作為描素部控制機(jī)構(gòu)的控制器。該控制器的數(shù)據(jù)處理部中，根據(jù)所輸入的圖像數(shù)據(jù)，每個(gè)曝光頭30地產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)控制DMD36上使用區(qū)域內(nèi)的各微反射鏡的控制信號。另外，在反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部中，根據(jù)由圖像數(shù)據(jù)處理部產(chǎn)生的控制信號，每個(gè)曝光頭30地控制DMD36的各微反射鏡反射面的角度。如圖4所示，在DMD36的光入射側(cè)按順序配置纖維陣列光源38、校正從光纖維陣列光源38射出的激光并使激光聚集在DMD上的透鏡系40、將透過該透鏡系40的激光朝向DMD36反射的反射鏡42，其中所述光纖維陣列光源38具備光纖維的出射端部(發(fā)光點(diǎn))沿著與曝光區(qū)域32長邊方向一致的方向被排列成一列的激光出射部。予以說明，圖4中概略地顯示透鏡系40。上述透鏡系40如圖5A和圖5B所示，由將從纖維陣列光源38射出的激光平行光化的1對組合透鏡44、進(jìn)行校正使得經(jīng)平行光化的激光的光量分布變得均勻的1對組合透鏡46和將光量分布經(jīng)校正的激光聚集在DMD36上的聚光透鏡48構(gòu)成。另外，DMD36的光反射側(cè)上配置有將被DMD36反射的激光成像在感光層12的被曝光面上的透鏡系50。透鏡系50由按照DMD36與感光層12的被曝光面處于共軛關(guān)系而配置的2張透鏡52和54構(gòu)成。本實(shí)施方式中，從纖維陣列光源38射出的激光按照基本被擴(kuò)大5倍后、來自DMD36上的各微反射鏡的光線被上述透鏡系50減徑至約5pm的方式進(jìn)行設(shè)定。-光調(diào)制機(jī)構(gòu)-上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)只要是具有n個(gè)(n為2以上的自然數(shù))排列為2維狀的上述描素部，且可以根據(jù)上述圖案信息控制上述描素部的裝置，則無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選空間光調(diào)制元件。上述空間光調(diào)制元件例如可以舉出數(shù)字微反射鏡設(shè)備(DMD)、MEMS(光電機(jī)械系統(tǒng))型的空間光調(diào)制元件(SLM:空間光調(diào)制器)、通過電光學(xué)效果調(diào)制透射光的光學(xué)元件(PLZT元件)、液晶光柵(FLC)等，其中優(yōu)選DMD。上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)優(yōu)選具有根據(jù)所形成的圖案信息產(chǎn)生控制信號的圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)。此時(shí)，上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)根據(jù)上述圖案信號產(chǎn)生機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號來調(diào)制光。上述控制信號并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選地舉出數(shù)字信號。以下參照上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的一例。DMD36是如圖6所示，在SRAM單元(存儲(chǔ)單元)56上作為構(gòu)成各個(gè)描素(像素)的描素部，多個(gè)微反射鏡58排列成格子狀而成的反射鏡設(shè)備。本實(shí)施方式中使用1024列x768行微反射鏡58排列而成的DMD36，但其中能夠通過連接于DMD36的控制器驅(qū)動(dòng)的、即能夠使用的微反射鏡58僅為1024列x256行。DMD36的數(shù)據(jù)處理速度具有界限，由于與所用微反射鏡數(shù)成比例地決定每列的調(diào)制速度，因此通過如此僅使用一部分的微反射鏡，每列的調(diào)制速度增加。各微反射鏡58被支柱支撐，在其表面上蒸鍍有鋁等反射率高的材料。予以說明，本實(shí)施方式中，各微反射鏡58的反射率為90%以上，其排列間隔在縱方向、橫方向上均為13.7)im。SRAM單元56是介由包含鉸鏈和軛狀物的支柱利用通常的半導(dǎo)體儲(chǔ)存器的生產(chǎn)線制造的硅柵的CMOS，整體構(gòu)成為單片(一體型)。在DMD36的SRAM單元(存儲(chǔ)單元)56上寫入用2值表示構(gòu)成所需2維圖案的各點(diǎn)濃度的圖像信號時(shí)，被支柱支撐的各微反射鏡58以對角線為中心相對于配置有DMD36的基板側(cè)以士a度(例如士10度)的任一種傾斜。圖7A表示微反射鏡58處于開(on)狀態(tài)的+a度傾斜的狀態(tài)，圖7B表示微反射鏡58處于關(guān)(off)狀態(tài)的-a度傾斜的狀態(tài)。如此，對應(yīng)圖像信號，通過如圖6所示地控制DMD36的各像素的微反射鏡58的傾斜，入射到DMD36的激光B在各個(gè)微反射鏡58的傾斜方向上被反射。圖6表示放大DMD36的一部分、各微反射鏡58控制在+a度或a度的狀態(tài)的一例。各個(gè)微反射鏡58的開關(guān)控制通過連接在DMD36的上述控制器進(jìn)行。另外，在被關(guān)狀態(tài)配置光吸收體(未圖示)。-光照射機(jī)構(gòu)-上述光照射機(jī)構(gòu)并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出(超)高壓水銀燈、氙燈、碳弧燈、鹵燈、復(fù)印機(jī)用等熒光管、LED、半導(dǎo)體激光等公知光源、或者能夠合成2種以上的光進(jìn)行照射的裝置，其中優(yōu)選能夠合成2種以上的光進(jìn)行照射的裝置。作為從上述光照射機(jī)構(gòu)照射的光例如在介由支承體進(jìn)行光照射時(shí)，可以舉出透過該支承體、且活化所用光聚合引發(fā)劑或增敏劑的電磁波、紫外可見光線、電子射線、x射線、激光等，其中優(yōu)選激光，更優(yōu)選合成2種以上光的激光(下文稱作"合波激光")。另夕卜，即便在剝離支承體后進(jìn)行光照射時(shí)，也可以使用同樣的光。上述紫外可見光線的波長例如優(yōu)選為3001500nm、更優(yōu)選為320800nm、特別優(yōu)選為330650nm。上述激光的波長例如優(yōu)選為2001500nm、更優(yōu)選為300800nm、進(jìn)一步優(yōu)選為330500nm、特別優(yōu)選為400450nm。作為能夠照射上述合波激光的機(jī)構(gòu)例如優(yōu)選具有多個(gè)激光、多模式光纖維、將由該多個(gè)激光分別照射的激光束聚光并結(jié)合在上述多模式光纖維上的集合光學(xué)體系的機(jī)構(gòu)。作為能夠照射上述合波激光的機(jī)構(gòu)(纖維陣列光源)例如可以舉出日本特開2005-258431號公報(bào)所記載的裝置。<<使用描素部指定機(jī)構(gòu)》上述使用描素部指定機(jī)構(gòu)優(yōu)選至少具備在被曝光面上檢測作為描素單元的光點(diǎn)位置的光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)、根據(jù)利用上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)的檢測結(jié)果選擇用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的描素部的描素部選擇機(jī)構(gòu)。以下，對于利用上述使用描素部指定機(jī)構(gòu)的用于N重曝光的描素部的指定方法的例子進(jìn)行說明。(1)單一曝光頭內(nèi)的使用描素部的指定方法本實(shí)施方式(1)中，說明利用圖案形成裝置10對感光材料12進(jìn)行2重曝光的情況，即減輕各曝光頭30的安裝角度誤差所引起的分辨率的不均和濃度不均、用于實(shí)現(xiàn)理想2重曝光的使用描素部的指定方法。作為描素部(微反射鏡58)的列方向相對于曝光頭30的掃描方向的設(shè)定傾斜角度e，只要是沒有曝光頭30的安裝角度誤差等的理想狀態(tài)，則采用相比較于使用能夠使用的1024列x256行描素部恰好達(dá)到2重曝光的角度ek^大若干度的角度。該角度9k^如下求得對于N重曝光的數(shù)N、能夠使用的微反射鏡58的列方向的個(gè)數(shù)s、能夠使用的微反射鏡58的列方向間隔p以及在傾斜曝光頭30的狀態(tài)下由微反射鏡形成的掃描線的間隔5，用下述式1spsin0^NS(式1)求得。本實(shí)施方式的DMD36如上所述，由于縱橫的配置間隔相等的多個(gè)微反射鏡58配置成矩形格子狀，因此為pCOS0idea尸5(式2)，上述式1成為staneideal=N(式3)。本實(shí)施方式(1)中，如上所述，s=256、N=2，因此由上述式3，角度0i^約為O.45度。因而，設(shè)定傾斜角度e例如可以采用0.50度左右的角度。圖案形成裝置IO在能夠調(diào)整的范圍內(nèi)進(jìn)行初期調(diào)整，使得各曝光頭30、即各DMD36的安裝角度達(dá)到接近該設(shè)定傾斜角度e的角度。圖8為如上經(jīng)初期調(diào)整的圖案形成裝置10中，由于1個(gè)曝光頭30的安裝角度誤差和圖案歪曲的影響而在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的不均的說明圖。以下的附圖和說明中，對于由各描素部(微反射鏡)產(chǎn)生、構(gòu)成被曝光面上的曝光區(qū)域的描素單元的光點(diǎn)，將第m行的光點(diǎn)表述為r(m)、將第n列的光點(diǎn)表述為c(n)、將第m行第n列的光點(diǎn)表述為P(m，n)。圖8的上段部分表示在使臺14靜止的狀態(tài)下投影于感光材料12的被曝光面上、來自能夠使用的微反射鏡58的光點(diǎn)群的圖案；下段部分表示在上段部分所示光點(diǎn)群的圖案呈現(xiàn)的狀態(tài)下移動(dòng)臺14進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，形成在被曝光面上的曝光圖案的狀態(tài)。予以說明，圖8中為了說明方便，分開表示能夠使用的微反射鏡58的奇數(shù)列所形成的曝光圖案和偶數(shù)列所形成的曝光圖案，實(shí)際的被曝光面上的曝光圖案為重疊這2個(gè)曝光圖案的結(jié)果。圖8的例子中，作為采用比上述角度6id^大若干角度的設(shè)定傾斜角度0的結(jié)果、另外由于曝光頭30的安裝角度的微調(diào)困難因而實(shí)際安裝角度與上述設(shè)定角度e存在誤差的結(jié)果，在被曝光面上的任何區(qū)域上均會(huì)產(chǎn)生濃度不均。具體地說，奇數(shù)列微反射鏡所產(chǎn)生的曝光圖案和偶數(shù)列微反射鏡所產(chǎn)生的曝光圖案兩者在由多個(gè)描素部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域中，相對于理想的2重曝光，曝光變得過多，產(chǎn)生描繪變得冗長的區(qū)域、發(fā)生濃度不均。而且，圖8的例子為呈現(xiàn)于被曝光面上的圖案歪曲的一例，發(fā)生投影于被曝光面上的各像素列的傾斜角度變得不均勻的"角度歪曲"。作為這種角度歪曲產(chǎn)生的原因，可以舉出DMD36與被曝光面間的光學(xué)體系的各種象差或調(diào)整偏離、以及DMD36本身的歪曲或微反射鏡的配置誤差等。圖8例所呈現(xiàn)的角度歪曲是相對于掃描方向的傾斜角度越靠圖左側(cè)列越小、越靠圖右側(cè)列越大的形態(tài)的歪曲。該角度歪曲的結(jié)果為，成為曝光過多的區(qū)域在圖左側(cè)所示被曝光面上越來越小、在圖右側(cè)所示被曝光面上越來越大。為了減少上述由多個(gè)描素部列形成的、被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的濃度不均，作為上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)使用夾縫28和光檢測器的組，每個(gè)曝光頭30地特定實(shí)際傾斜角度e，，根據(jù)該實(shí)際傾斜角度e，，作為上述描素部選擇機(jī)構(gòu)使用連接于上述光檢測器的上述演算裝置，選擇實(shí)際曝光所用的微反射鏡進(jìn)行處理。實(shí)際傾斜角度e，為根據(jù)光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)檢測的至少2個(gè)光點(diǎn)位置，利用使曝光頭傾斜的狀態(tài)下的被曝光面上的光點(diǎn)列方向與上述曝光頭掃描方向所成的角度特定。以下使用圖9和圖io，說明上述實(shí)際傾斜角度e'的特定和使用像素選擇處理。-實(shí)際傾斜角度e'的特定-圖9為表示1個(gè)DMD36所產(chǎn)生的曝光區(qū)域32與對應(yīng)夾縫28的位置關(guān)系的俯視圖。夾縫28的大小為充分覆蓋曝光區(qū)域32幅度的大小。本實(shí)施方式(1)的例子中，測定位于曝光區(qū)域32大致中心的第512列的光點(diǎn)列和曝光頭30掃描方向所成之角度作為上述實(shí)際傾斜角度e，。具體地說，使DMD36的第1行第512列的微反射鏡58和第256行第512列的微反射鏡58處于打開狀態(tài)，檢測各個(gè)對應(yīng)的被曝光面上的光點(diǎn)P(1，512)和P(256，512)的位置，將連接上述位置的直線與曝光頭掃描方向所成之角度作為實(shí)際傾斜角度e'特定。圖IO為說明光點(diǎn)P(256，512)位置的檢測方法的俯視圖。首先，在照亮第256行第512列的微反射鏡58的狀態(tài)下，慢慢移動(dòng)臺14、使夾縫28沿著Y軸方向相對地移動(dòng)，使夾縫28位于光點(diǎn)P(256，512)在上右流夾縫28a和下游側(cè)夾縫28b之間移動(dòng)的任意位置上。將此時(shí)的夾縫28a和夾縫28b的交點(diǎn)的坐標(biāo)作為(X0，Y0)。該坐標(biāo)(X0，Y0)的值由臺14移動(dòng)至賦予臺14的驅(qū)動(dòng)信號所示上述位置的移動(dòng)距離和已知夾縫28的X方向位置決定，進(jìn)行記錄。接著，移動(dòng)臺14，使夾縫28沿著Y軸向圖IO的右側(cè)相對地移動(dòng)。如圖10中雙點(diǎn)劃線所示，當(dāng)光點(diǎn)P(256，512)的光通過左側(cè)的夾縫28b、用光檢測器能夠檢測時(shí)停止臺14。.此時(shí)的夾縫28a和夾縫28b的交點(diǎn)坐標(biāo)(X0，Yl)作為光點(diǎn)P(256，512)的位置記錄。接著，使臺14在相反方向上移動(dòng)，使夾縫28沿著Y軸向圖IO的左側(cè)相對地移動(dòng)。然后，如圖IO中雙點(diǎn)劃線所示，當(dāng)光點(diǎn)P(256，512)的光通過右側(cè)的夾縫28a、用光檢測器能夠檢測時(shí)停止臺14。記錄此時(shí)的夾縫28a和夾縫28b的交點(diǎn)坐標(biāo)(X0，Y2)作為光點(diǎn)P(256，512)的位置。由以上的測定結(jié)果，通過乂=乂0+(Yl-Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的計(jì)算，決定表示光點(diǎn)P(256，512)在被曝光面上的位置的坐標(biāo)(X，Y)。通過同樣的測定決定表示P(1，512)位置的坐標(biāo)，導(dǎo)出連接各個(gè)坐標(biāo)的直線與曝光頭30掃描方向所成的傾斜角度，將其作為實(shí)際傾斜角度e'特定。-使用描素部的選擇-使用如此特定的實(shí)際傾斜角度e'，連接于上述光檢測器的上述演算裝置導(dǎo)出最接近于滿足下述式4ttane，=N(式4)關(guān)系的t的自然數(shù)T，進(jìn)行選擇DMD36上的第1行第T行的微反射鏡作為主曝光時(shí)實(shí)際使用的微反射鏡的處理。由此，在第512列附近的曝光區(qū)域上，相對于理想的2重曝光，可以選擇曝光過多區(qū)域與曝光不足區(qū)域的總面積達(dá)到最小的微反射鏡作為實(shí)際所用的微反射鏡。這里，還可以代替導(dǎo)出最接近上述值t的自然數(shù)，導(dǎo)出值t以上的最小自然數(shù)。此時(shí)，在第512列附近的曝光區(qū)域上，相對于理想的2重曝光，可以選擇曝光過多的區(qū)域的面積成為最小且不產(chǎn)生曝光不足區(qū)域的微反射鏡作為實(shí)際所用的微反射鏡。另外，還可以導(dǎo)出值t以下的最大自然數(shù)。此時(shí)，在第512列附近的曝光區(qū)域上，相對于理想的2重曝光，可以選擇曝光不足的區(qū)域的面積成為最小且不產(chǎn)生曝光過多區(qū)域的微反射鏡作為實(shí)際所用的微反射鏡。圖11為顯示僅使用如上作為實(shí)際所用微反射鏡選擇的微反射鏡所產(chǎn)生的光點(diǎn)進(jìn)行的曝光中，圖8所示被曝光面上的不均如何被改善的說明圖。該例中，作為上述自然數(shù)丁導(dǎo)出丁=253，選擇第1行第253行的微反射鏡。相對于未選擇的第254行第256行的微反射鏡，利用上述描素部控制機(jī)構(gòu)送出經(jīng)常設(shè)定為關(guān)閉狀態(tài)的角度的信號，這些微反射鏡與曝光基本無關(guān)。如圖11所示，在第512列附近的曝光區(qū)域上，曝光過多和曝光不足基本被完全解除，實(shí)現(xiàn)極為接近理想2重曝光的均勻曝光。另一方面，在圖11的左側(cè)區(qū)域(圖中c(1)附近)處，由于上述角度歪曲，被曝光面上的光點(diǎn)列的傾斜角度小于中央附近區(qū)域(圖中c(512)附近)區(qū)域的光線列的傾斜角度。因此，在僅利用根據(jù)以c(512)為基準(zhǔn)測定的實(shí)際傾斜角度e'選擇的微反射鏡的曝光中，分別在偶數(shù)列所形成的曝光圖案和奇數(shù)列所形成的曝光圖案中稍微產(chǎn)生相對于理想2重曝光成為曝光不足的區(qū)域。但是，在重疊圖示的奇數(shù)列所形成的曝光圖案和偶數(shù)列所形成的曝光圖案而成的實(shí)際曝光圖案中，成為曝光量不足的區(qū)域互相補(bǔ)充，可以通過利用2重曝光的補(bǔ)償效果使上述角度歪曲所導(dǎo)致的曝光不均為最小。另外，圖ll右側(cè)的區(qū)域(圖中c(1024)附近)由于上述角度歪曲，被曝光面上的光線列的傾斜角度大于中央附近(圖中c(512)附近)區(qū)域的光線列的傾斜角度。因此，在利用根據(jù)以c(512)為基準(zhǔn)測定的實(shí)際傾斜角度e，所選的微反射鏡的曝光中，如圖所示，稍微產(chǎn)生相對于理想2重曝光成為曝光過多的區(qū)域。但是，在重疊圖示的奇數(shù)列所形成的曝光圖案和偶數(shù)列所形成的曝光200780008327.1說明書第67/98頁圖案而成的實(shí)際曝光圖案中，成為曝光過多的區(qū)域相互補(bǔ)充，可以用利用2重曝光的補(bǔ)償效果使上述角度歪曲所產(chǎn)生的濃度不均達(dá)到最小。本實(shí)施方式(1)中，如上所述，測定第512列光線列的實(shí)際傾斜角度e，，使用該實(shí)際傾斜角度e，，根據(jù)由上述式(4)導(dǎo)出的T選擇所用微反射鏡58，作為上述實(shí)際傾斜角度e，的特定方法，還可以分別測定多個(gè)描素部的列方向(光點(diǎn)列)與所述曝光頭掃描方向所成的多個(gè)實(shí)際傾斜角度，將它們的平均值、中央值、最大值和最小值的任一個(gè)作為實(shí)際傾斜角度e'特定，通過上述式4等選擇實(shí)際曝光時(shí)實(shí)際使用的微反射鏡。使上述平均值或上述中央值作為實(shí)際傾斜角度e'時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)相對于理想n重曝光、曝光過多區(qū)域和曝光不足區(qū)域的平衡性良好的曝光。例如，可以將曝光過多區(qū)域與曝光量不足區(qū)域的總面積抑制在最小、且能夠?qū)崿F(xiàn)曝光過多區(qū)域的描素單元數(shù)(光點(diǎn)數(shù))和曝光不足區(qū)域的描素單元數(shù)(光電數(shù))相等的曝光。另外，當(dāng)使上述最大值為實(shí)際傾斜角度e'時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)更加重視排除相對于理想n重曝光成為曝光過多的區(qū)域的曝光，例如可以將曝光不足的區(qū)域的面積抑制在最小、且能夠?qū)崿F(xiàn)不產(chǎn)生曝光過多區(qū)域的曝光。而且，當(dāng)使上述最小值為實(shí)際傾斜角度e'時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)更加重視排除相對于理想n重曝光成為曝光不足的區(qū)域的曝光，例如可以將曝光過多的區(qū)域的面積抑制在最小、且能夠?qū)崿F(xiàn)不產(chǎn)生曝光不足區(qū)域的曝光。另一方面，上述實(shí)際傾斜角度e'的特定并非限于基于同一描素部的列(光電列)中至少2個(gè)光點(diǎn)位置的方法。例如可以將由同一描素部列c(n)中的1個(gè)或多個(gè)光點(diǎn)位置和該c(n)附近列中的1個(gè)或多個(gè)光點(diǎn)位置求得的角度作為實(shí)際傾斜角度e'特定。具體地說，可以檢測c(n)中的l個(gè)光點(diǎn)位置和沿著曝光頭掃描方向在直線上且附近光點(diǎn)列所含1個(gè)或多個(gè)光點(diǎn)位置，由它們的位置信息求得實(shí)際傾斜角度e，。而且，還可以將根據(jù)c(n)列附近的光點(diǎn)列中的至少2個(gè)光點(diǎn)(例如按照跨越c(n)而配置的2個(gè)光點(diǎn))的位置求得的角度作為實(shí)際傾斜角度e'特定。如上所述，通過使用圖案形成裝置IO的本實(shí)施方式(1)的使用描素部的指定方法，可以減輕由于各曝光頭的安裝角度誤差或者圖案歪曲的影響所導(dǎo)致的分辨率不均或濃度不均，可以實(shí)現(xiàn)理想的N重曝光。(2)多個(gè)曝光頭間的使用描素部的指定方法<1〉本實(shí)施方式(2)中，說明當(dāng)利用圖案形成裝置IO對感光材料12進(jìn)行2重曝光的情況下，在作為由多個(gè)曝光頭30形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，減少由于2個(gè)曝光頭(作為一個(gè)例子，曝光頭3012和302,)在X軸方向上的相對位置從理想狀態(tài)偏離所引起的分辨率不均和濃度不均、用于實(shí)現(xiàn)理想2重曝光的使用描素部的指定方法。作為各曝光頭30、即各DMD36的設(shè)定傾斜角度e，當(dāng)為沒有曝光頭30的安裝角度誤差等的狀態(tài)時(shí)，采用使用能夠使用的1024列x256行描素部微反射鏡58、恰好成為2重曝光的角度0i^。該角度eid^與上述實(shí)施方式(1)同樣由上述式13求得。本實(shí)施方式(2)中，圖案形成裝置10按照各曝光頭30、即各DMD36的安裝角度達(dá)到該角度0ided進(jìn)行初期調(diào)整。圖12為表示如上經(jīng)初期調(diào)整的圖案形成裝置10中，由于2個(gè)曝光頭(作為一個(gè)例子，曝光頭3012和3021)在X軸方向上的相對位置從理想狀態(tài)偏離的影響，在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的濃度不均的說明圖。各曝光頭在X軸方向的相對位置的偏離是由于曝光頭之間的相對位置的微調(diào)困難所引起的。圖12的上段部分為在使臺14靜止的狀態(tài)下投影于感光材料12的被曝光面上的、來自具有曝光頭3012和3021的DMD36的能夠使用的微反射鏡58的光點(diǎn)群的圖案的圖。圖12的下段部分為在上段部分所示光點(diǎn)群的圖案呈現(xiàn)的狀態(tài)下移動(dòng)臺14進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，對于曝光區(qū)域3212和3221顯示形成在被曝光面上的曝光圖案的狀態(tài)。予以說明，圖12中為了說明方便，以像素列群A所產(chǎn)生的曝光圖案和像素列B所產(chǎn)生的曝光圖案分別顯示能夠使用的微反射鏡58的每隔1列的曝光圖案，但實(shí)際被曝光面上的曝光圖案為重疊這2個(gè)曝光圖案的結(jié)果。圖12的例子中，作為上述乂軸方向的曝光頭3012和3021之間的相對位置偏離理想狀態(tài)的結(jié)果為像素列群A所產(chǎn)生的曝光圖案和像素列B所產(chǎn)生的曝光圖案在曝光區(qū)域3212和3221的上述頭之間連接區(qū)域上產(chǎn)生相比較于理想2重曝光狀態(tài)為曝光量過多的部分。為了減輕上述呈現(xiàn)在由多個(gè)上述曝光頭形成于被曝光面上的上述頭之間連接區(qū)域的濃度不均，本實(shí)施方式(2)中使用夾縫28和光檢測器的組作為上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)，對于來自曝光頭3012和3021的光點(diǎn)群中構(gòu)成形成于被曝光面上的上述頭之間連接區(qū)域的光點(diǎn)中的數(shù)個(gè)檢測其位置(坐標(biāo))。根據(jù)該位置(坐標(biāo))，使用連接于上述光檢測器的演算裝置作為上述描素部選擇機(jī)構(gòu)，進(jìn)行選擇實(shí)際曝光所用微反射鏡的處理。-位置(坐標(biāo))的檢測-圖13為表示與圖12同樣的曝光區(qū)域3212和3221與相應(yīng)夾縫28的位置關(guān)系的俯視圖。夾縫28的大小為充分覆蓋曝光頭3012和3021所產(chǎn)生的經(jīng)曝光區(qū)域34間的重復(fù)部分幅度的大小，即充分覆蓋由曝光頭3012和3021形成于被曝光面上的上述頭之間連接區(qū)域的大小。圖14為作為一例說明檢測曝光區(qū)域32a的光點(diǎn)P(256，1024)的位置時(shí)的檢測方法的俯視圖。首先，在照亮第256行第1024列的微反射鏡的狀態(tài)下，慢慢移動(dòng)臺14、使夾縫28沿著Y軸方向相對移動(dòng)，使夾縫28位于光點(diǎn)P(256，1024)在上游側(cè)夾縫28a和下游側(cè)夾縫28b之間移動(dòng)的任意位置上。將此時(shí)的夾縫28a和夾縫28b的交點(diǎn)的坐標(biāo)作為(X0，Y0)。該坐標(biāo)(X0，Y0)的值由臺14移動(dòng)至賦予臺14的驅(qū)動(dòng)信號所示上述位置的移動(dòng)距離和已知夾縫28的X方向位置決定，進(jìn)行記錄。接著，移動(dòng)臺14，使夾縫28沿著Y軸向圖14的右側(cè)相對地移動(dòng)。如圖14中雙點(diǎn)劃線所示，當(dāng)光點(diǎn)P(256，1024)的光通過左側(cè)的夾縫28b、用光檢測器能夠檢測時(shí)停止臺14。此時(shí)的夾縫28a和夾縫28b的交點(diǎn)坐標(biāo)(X0，Yl)作為光點(diǎn)P(256，1024)的位置記錄。接著，使臺14在相反方向上移動(dòng)，使夾縫28沿著X軸向圖14的左側(cè)相對地移動(dòng)。然后，如圖14中雙點(diǎn)劃線所示，當(dāng)光點(diǎn)P(256，1024)的光通過右側(cè)的夾縫28a、用光檢測器能夠檢測時(shí)停止臺14。此時(shí)的夾縫28a和夾縫28b的交點(diǎn)坐標(biāo)(X0，Y2)作為光點(diǎn)P(256，1024)的位置記錄。由以上的測定結(jié)果，通過X-X0十(Yl-Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的計(jì)算，決定表示光點(diǎn)P(256，1024)在被曝光面上的位置的坐標(biāo)(X，Y)。-不使用描素部的特定-圖12的例子中，首先利用夾縫28和光檢測器的組作為上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)檢測曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P(256，1)的位置。接著，按順序?qū)⑵毓鈪^(qū)域3212的第256行光點(diǎn)行1"(256)上的各光點(diǎn)位置檢測為P(256，1024)、P(256，1023)…，當(dāng)檢測到顯示比曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P(256，1)更大X坐標(biāo)的曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(256，n)時(shí)，結(jié)束檢測動(dòng)作。然后，將對應(yīng)于構(gòu)成曝光區(qū)域32i2的光點(diǎn)列c(n+l)c(1024)的光點(diǎn)的微反射鏡作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡(不使用描素部)特定。例如，圖12中，當(dāng)曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P(256，1020)顯示大于曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P(256，1)的X坐標(biāo)、檢測到該曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P(256，1020)時(shí)，結(jié)束檢測動(dòng)作，則將對應(yīng)于構(gòu)成相當(dāng)于圖15中斜線覆蓋部分70的曝光區(qū)域3212的第10211024行的光點(diǎn)的微反射鏡作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡特定。接著，對于N重曝光的數(shù)N，檢測曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(256，N)的位置。本實(shí)施方式(2)中，由于N二2，因此檢測光點(diǎn)P(256，2)的位置。接著，在曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)列中，除了作為對應(yīng)于上述主曝光時(shí)不使用的微反射鏡的光點(diǎn)列特定者之外，將構(gòu)成最右側(cè)的第1020列的光點(diǎn)的位置從P(1，1020)按順序檢測為P(1，1020)、P(2，1020)…，在檢測到顯示比曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(256，2)更大X坐標(biāo)的光點(diǎn)P(m，1020)時(shí)，結(jié)束檢測動(dòng)作。之后，在連接于上述光檢測器的演算裝置中，比較曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P(256，2)的X坐標(biāo)和曝光區(qū)域32!2的光點(diǎn)P(m，1020)和P(m-l，1020)的X坐標(biāo)，當(dāng)曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P(m，1020)的X坐標(biāo)接近曝光區(qū)域32u的光點(diǎn)P(256，2)的X坐標(biāo)時(shí)，對應(yīng)于曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P(1，1020)P(m-l，1020)的微反射鏡作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡特定。另外，當(dāng)曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(m-l，1020)的X坐標(biāo)接近于曝光區(qū)域32n的光點(diǎn)P(256，2)的X坐標(biāo)時(shí)，對應(yīng)于曝光區(qū)域32^的光點(diǎn)P(1，1020)P(m-2，1020)的微反射鏡作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡特定。而且，對于曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(256，N-l)、即光點(diǎn)P(256，1)的位置與構(gòu)成作為曝光區(qū)域3212下一列的第1019列的各光點(diǎn)位置，也進(jìn)行同樣的檢測處理和不使用的微反射鏡的特定。結(jié)果，例如追加對應(yīng)于構(gòu)成圖15網(wǎng)格所覆蓋區(qū)域72的光點(diǎn)的微反射鏡作為實(shí)際曝光中不使用的微反射鏡。向這些微反射鏡送出經(jīng)常將該微反射鏡角度設(shè)定為關(guān)閉狀態(tài)的角度的信號，這些微反射鏡在曝光中基本不使用。這樣，通過特定實(shí)際曝光中不使用的微反射鏡、選擇除了該未使用微反射鏡之外的微反射鏡作為實(shí)際曝光時(shí)使用的微反射鏡，可以在曝光區(qū)域3212和3221的上述頭之間連接區(qū)域上將相對于理想2重曝光成為曝光過多的區(qū)域和成為曝光不足的區(qū)域的總面積達(dá)到最小，如圖15的下段所示，能夠?qū)崿F(xiàn)極為接近理想的2重曝光的均勻曝光。予以說明，上述例子中，在特定構(gòu)成圖15中被網(wǎng)格覆蓋區(qū)域72的光點(diǎn)時(shí)，還可以不比較曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(256，2)的X坐標(biāo)與曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(m，1020)和P(m-l，1020)的X坐標(biāo)、立即將對應(yīng)曝光區(qū)域3212的光點(diǎn)P(1，1020)P(m-2，1020)的微反射鏡作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡特定。此時(shí)，可以選擇在上述頭之間連接區(qū)域上相對于理想2重曝光為曝光過多的區(qū)域的面積成為最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光不足區(qū)域的微反射鏡作為實(shí)際使用的微反射鏡。另夕卜，還可以將對應(yīng)曝光區(qū)域32,2的光點(diǎn)P(1，1020)(m-l，1020)的微反射鏡作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡特定。此時(shí)，可以選擇在上述頭之間連接區(qū)域上相對于理想2重曝光為曝光不足的區(qū)域的面積成為最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光過多區(qū)域的微反射鏡作為實(shí)際使用的微反射鏡。而且，還可以按照在上述頭之間連接區(qū)域上相對于理想2重曝光為曝光過多的區(qū)域的描素單元數(shù)(光點(diǎn)數(shù))與曝光不足區(qū)域的描素單元數(shù)(光點(diǎn)數(shù))相等，選擇實(shí)際使用的微反射鏡。如上所述，通過使用圖案形成裝置10的本實(shí)施方式(2)的使用描素部的指定方法，可以減輕多個(gè)曝光頭X軸方向的相對位置偏離所引起的分辨率不均和濃度不均、實(shí)現(xiàn)理想的N重曝光。(3)多個(gè)曝光頭之間的使用描素部的指定方法<2>本實(shí)施方式(3)中，說明當(dāng)利用圖案形成裝置10對感光材料12進(jìn)行2重曝光的情況下，在作為由多個(gè)曝光頭30形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，減少由于2個(gè)曝光頭(作為一個(gè)例子，曝光頭3012和302。在X軸方向上的相對位置從理想狀態(tài)偏離以及各曝光頭的安裝角度誤差和2個(gè)曝光頭之間的相對安裝角度誤差所引起的分辨率不均和濃度不均、用于實(shí)現(xiàn)理想2重曝光的使用描素部的指定方法。作為各曝光頭30、即各DMD36的設(shè)定傾斜角度，當(dāng)為沒有曝光頭30的安裝角度誤差等的狀態(tài)時(shí)，采用若干大于使用能夠使用的1024列x256行描素部(微反射鏡58)、恰好成為2重曝光的角度eideal的角度。該角度eid^是使用上述式.13與上述(l)的實(shí)施方式同樣求得的值，本實(shí)施方式中，如上所述由于s-256、N=2，因此角度eid^約為0.45度。因此，設(shè)定傾斜角度e例如可以采用0.50度左右的角度。圖案形成裝置10按照在能夠調(diào)整的范圍內(nèi)各曝光頭30、即各DMD36的安裝角度接近該設(shè)定傾斜角度e的角度，進(jìn)行初期調(diào)整。圖16為顯示在上述各曝光頭30、即各DMD36的安裝角度經(jīng)初期調(diào)整的圖案形成裝置10中，由于2個(gè)曝光頭(作為一個(gè)例子，曝光頭3012和3021)的安裝角度誤差和各曝光頭3012和3021之間的相對安裝角度誤差和相對位置的偏移的影響，產(chǎn)生于被曝光面上圖案的不均的說明圖。圖16的例子中，作為與圖12的例子同樣的X軸方向的曝光頭3012和3021的相對位置偏移的結(jié)果，每隔一列的光點(diǎn)群(像素列群A和B)所形成的曝光圖案的兩者在曝光區(qū)域3212和3221的被曝光面上的與上述曝光頭掃描方向垂直的坐標(biāo)軸上重復(fù)的曝光區(qū)域上，相比較于理想的2重曝光狀態(tài)，產(chǎn)生曝光量過多的區(qū)域74，這會(huì)引起濃度不均。而且，圖16的例子中，由于使各曝光頭的設(shè)定傾斜角度e大于滿足上述式(1)的角度eid^若干的結(jié)果以及各曝光頭的安裝角度的微調(diào)困難，因此作為實(shí)際安裝角度從上述設(shè)定傾斜角度e偏離的結(jié)果是，即便是被曝光面上的與上述曝光頭掃描方向垂直的坐標(biāo)軸上重復(fù)的曝光區(qū)域以外的區(qū)域，每隔一列的光點(diǎn)群(像素列群A和B)所產(chǎn)生的曝光圖案的兩者在由多個(gè)描素部列形成的作為被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的描素部列間連接區(qū)域上，產(chǎn)生相比較于理想2重曝光狀態(tài)的曝光量過多的區(qū)域76，這會(huì)引起進(jìn)一步的濃度不均。本實(shí)施方式(3)中，首先進(jìn)行用于減輕由于各曝光頭3012和3021的安裝角度誤差和相對安裝角度偏移的影響所導(dǎo)致的濃度不均的使用像素選擇處理。具體地說，使用夾縫28和光檢測器的組作為上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)，對于曝光頭3012和3021分別特定實(shí)際傾斜角度e'，根據(jù)該實(shí)際傾斜角度e'，作為上述描素部選擇機(jī)構(gòu)使用連接于光檢測器的演算裝置，進(jìn)行選擇實(shí)際曝光所用微反射鏡的處理。-實(shí)際傾斜角度e'的特定-實(shí)際傾斜角度e，的特定為分別利用上述實(shí)施方式(2)所用夾縫28和光檢測器的組，對于曝光頭3012檢測曝光區(qū)域3212內(nèi)的光點(diǎn)？(1，1)和P(256，1)的位置，對于曝光頭3021檢測曝光區(qū)域3221內(nèi)的光點(diǎn)？(1，1024)和P(256，1025)的位置，測定連接它們的直線的傾斜角度與曝光頭的掃描方向所成角度，從而進(jìn)行。-不使用描素部的特定-使用如此特定的實(shí)際傾斜角度e'，連接于光檢測器的演算裝置與上述實(shí)施方式(1)的演算裝置同樣，對于曝光頭3012和3021分別導(dǎo)出最接近于滿足下述式4ttane，=N(式4)的關(guān)系的值t的自然數(shù)T，進(jìn)行將DMD36上的第(T+l)行第256行的微反射鏡特定為主曝光中不使用的微反射鏡的處理。例如，對于曝光頭3012導(dǎo)出T=254、對于曝光頭3021導(dǎo)出丁=255時(shí)，對應(yīng)于構(gòu)成圖17中被斜線覆蓋的部分78和80的光點(diǎn)的微反射鏡作為主曝光中不使用的微反射鏡特定。由此，在曝光區(qū)域3212和3221中的頭之間連接區(qū)域以外的各區(qū)域上，可以使相對于理想2重曝光的曝光過多區(qū)域和曝光不足區(qū)域的總面積為最小。這里，還可以取代導(dǎo)出最接近于上述值t的自然數(shù)，導(dǎo)出值t以上的最小自然數(shù)。此時(shí)，在曝光區(qū)域3212和3221的作為由多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域以外的各區(qū)域上，可以使得相對于理想2重曝光成為曝光量過多的面積達(dá)到最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光量不足的面積。或者，還可以導(dǎo)出值為t以下的最大自然數(shù)。此時(shí)，在曝光區(qū)域3212和3221的作為由多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域以外的各區(qū)域上，可以使得相對于理想2重曝光成為曝光不足的面積達(dá)到最小、且不會(huì)產(chǎn)生曝光過多的區(qū)域。還可以在作為由多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域以外的各區(qū)域上，按照相對于理想2重曝光成為曝光過多區(qū)域的描素單元數(shù)(光點(diǎn)數(shù))與成為曝光不足區(qū)域的描素單元數(shù)(光點(diǎn)數(shù))相等，特定主曝光時(shí)不使用的微反射鏡。之后，對于對應(yīng)于構(gòu)成圖17中被斜線覆蓋區(qū)域78和80的光點(diǎn)以外的光點(diǎn)的微反射鏡而言，進(jìn)行與使用圖12圖16說明的本實(shí)施方式(3)同樣的處理，特定對應(yīng)于構(gòu)成圖17中被斜線覆蓋區(qū)域82和被網(wǎng)格覆蓋區(qū)域84的光點(diǎn)的微反射鏡，作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡追加。相對于這些作為曝光時(shí)不使用的微反射鏡特定的微反射鏡，利用上述描素部控制機(jī)構(gòu)送出經(jīng)常設(shè)定為關(guān)閉狀態(tài)的角度的信號，這些微反射鏡與曝光基本無關(guān)。如上所述，通過使用圖案形成裝置10的本實(shí)施方式(3)的使用描素部的指定方法，可以減輕由于多個(gè)曝光頭在X軸方向的相對位置偏移、各曝光頭的安裝角度誤差和曝光頭之間的相對安裝角度誤差所引起的分辨率不均和濃度不均，可以實(shí)現(xiàn)理想的N重曝光。以上詳細(xì)地說明了利用圖案形成裝置10的使用描素部指定方法，但上述實(shí)施方式(1)(3)不過是一例，可以在不脫離本發(fā)明的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變更。另外，在上述實(shí)施方式(1)(3)中，作為用于檢測被曝光面上的光點(diǎn)位置的裝置使用夾縫28和單一池型的光檢測器的組，但并非局限于此，可以使用任何形態(tài)的裝置，例如可以使用2維檢測器等。而且，上述實(shí)施方式(1)(3)中，由利用夾縫28和光檢測器的組的被曝光面上的光點(diǎn)位置檢測結(jié)果，求得實(shí)際傾斜角度e，，根據(jù)該實(shí)際傾斜角度e'選擇使用的微反射鏡，但也可以為不介由實(shí)際傾斜角度e'的導(dǎo)出選擇能夠使用的微反射鏡的方式。而且，例如進(jìn)行使用全部能夠使用的微反射鏡的參照曝光，通過參照曝光結(jié)果的利用目視確認(rèn)分辨率或濃度不均等，操作者手動(dòng)地指定所用微反射鏡的方式也包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。予以說明，能夠產(chǎn)生于被曝光面上的圖案歪曲中除了上述例子中說明的角度歪曲之外，還存在各種方式。作為一例，如圖18A所示，有來自DMD36上的各微反射鏡58的光線以不同的倍率到達(dá)曝光面上的曝光區(qū)域32的倍率歪曲的方式。另外，作為其它例子，如圖18B所示，還有來自DMD36上的各微反射鏡58的光線以不同的光束徑到達(dá)被曝光面上的曝光區(qū)域32的光束徑歪曲的方式。這些倍率歪曲和光束歪曲主要是由于DMD36與被曝光面間的光學(xué)體系的各種象差或調(diào)整偏離所引起的。進(jìn)而，作為其它的例子還有來自DMD36上的各微反射鏡58的光線以不同的光量到達(dá)被曝光面上的曝光區(qū)域32的光量歪曲的方式。該光量歪曲除了各種象差或調(diào)整偏離之外，還由于DMD36與被曝光面之間的光學(xué)要素(例如作為1張透鏡的圖5A和圖5B的透鏡52和54)的透射率的位置依賴性或DMD36本身所導(dǎo)致的光量不均所引起的。這些方式的圖案歪曲也會(huì)在形成于被曝光面上的圖案中產(chǎn)生分辨率或濃度的不均。通過上述實(shí)施方式(1)(3)，選擇主曝光中實(shí)際使用的微反射鏡后的這些方式的圖案歪曲的殘留要素也與上述角度歪曲的殘留要素同樣，可以通過利用多重曝光的補(bǔ)償效果均化，可以在各曝光頭的整個(gè)曝光區(qū)域上減輕分辨率或濃度不均。<<參照曝光>>作為上述實(shí)施方式(1)(3)的變更例，按照僅使用能夠使用的微反射鏡中構(gòu)成每隔(N-l)列的微反射鏡列或相當(dāng)于總光點(diǎn)行中的1/N行的相鄰行的微反射鏡群進(jìn)行參照曝光、可以實(shí)現(xiàn)均勻的曝光，從而可以特定上述參照曝光中使用的微反射鏡中實(shí)際曝光時(shí)不使用的微反射鏡。將利用上述參照曝光裝置的參照曝光結(jié)果采樣輸出，相對于該輸出的參照曝光結(jié)果，確認(rèn)分辨率的不均或濃度的不均，進(jìn)行推測實(shí)際傾斜角度等的分析。上述參照曝光的結(jié)果分析可以是利用操作者目視的分析。圖19A和圖19B是顯示使用單一曝光頭，僅使用每隔(N-l)列的微反射鏡進(jìn)行參照曝光的方式之一例的說明圖。該例中，主曝光時(shí)為2重曝光，因此N-2。首先，僅使用對應(yīng)圖19A實(shí)線所示奇數(shù)列的光點(diǎn)列的微反射鏡進(jìn)行參照曝光，將參照曝光結(jié)果采樣輸出。根據(jù)上述采樣輸出的參照曝光結(jié)果，確認(rèn)分辨率的不均或濃度的不均，推測實(shí)際傾斜角度，從而可以指定在主曝光時(shí)使用的微反射鏡。例如，對應(yīng)圖19B被斜線覆蓋的的光點(diǎn)列的微反射鏡以外的微反射鏡作為在構(gòu)成奇數(shù)列光點(diǎn)列的微反射鏡中在主曝光中實(shí)際使用的微反射鏡。對于偶數(shù)列的光點(diǎn)列，可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定主曝光時(shí)使用的微反射鏡，還可以使用與相對于奇數(shù)列的光點(diǎn)列的圖案相同的圖案。通過如此指定主曝光時(shí)使用的微反射鏡，在使用奇數(shù)列和偶數(shù)列兩者的微反射鏡的主曝光中，可以實(shí)現(xiàn)接近理想2重曝光的狀態(tài)。圖20為顯示使用多個(gè)曝光頭，僅使用隔(N-l)列的微反射鏡進(jìn)行參照曝光的方式之一例的說明圖。該例子中，主曝光時(shí)為2重曝光，因此N二2。首先，僅使用對應(yīng)圖20A實(shí)線所示X軸方向的相鄰2個(gè)曝光頭(作為一例，曝光頭3012和3021)的奇數(shù)列的光點(diǎn)列的微反射鏡進(jìn)行參照曝光，將參照曝光結(jié)果采樣輸出。根據(jù)上述采樣輸出的參照曝光結(jié)果，確認(rèn)通過2個(gè)曝光頭形成在被曝光面上的頭之間連接區(qū)域以外的區(qū)域的分辨率不均或濃度不均，推測實(shí)際傾斜角度，從而可以指定在主曝光時(shí)使用的微反射鏡。例如，對應(yīng)圖20B被斜線覆蓋的區(qū)域86和網(wǎng)格所示區(qū)域88內(nèi)的光點(diǎn)列的微反射鏡以外的微反射鏡作為在構(gòu)成奇數(shù)列光點(diǎn)的微反射鏡中在主曝光中實(shí)際使用的微反射鏡指定。對于偶數(shù)列的光點(diǎn)列，可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定主曝光時(shí)使用的微反射鏡，還可以使用與相對于奇數(shù)列像素列的圖案相同的圖案。通過如此指定主曝光時(shí)實(shí)際使用的微反射鏡，在使用奇數(shù)列和偶數(shù)列兩者的微反射鏡的主曝光中，在由2個(gè)曝光頭形成在被曝光面上的上述頭之間連接區(qū)域以外的區(qū)域中，可以實(shí)現(xiàn)接近理想2重曝光的狀態(tài)。圖21A和圖21B為顯示使用單一曝光頭，僅使用構(gòu)成相當(dāng)于總光點(diǎn)行數(shù)的1/N行的相鄰行的微反射鏡群進(jìn)行參照曝光的方式之一例的說明圖。該例中，主曝光時(shí)為2重曝光，因此忖=2。首先，僅使用對應(yīng)圖21A實(shí)線所示第1行第128(=256/2)行的光電的微反射鏡進(jìn)行參照曝光，將參照曝光結(jié)果采樣輸出。根據(jù)上述采樣輸出的參照曝光結(jié)果，可以指定在主曝光時(shí)使用的微反射鏡。例如，對應(yīng)于圖21B被斜線覆蓋的光點(diǎn)群的微反射鏡以外的微反射鏡作為在第1行第128行的微反射鏡中在主曝光中實(shí)際使用的微反射鏡。對于第129行第256行的微反射鏡，可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定主曝光時(shí)使用的微反射鏡，還可以使用與相對于第1行第128行的微反射鏡的圖案相同的圖案。通過如此指定主曝光時(shí)實(shí)際使用的微反射鏡，在使用全體微反射鏡的主曝光中，可以實(shí)現(xiàn)接近理想2重曝光的狀態(tài)。圖22為顯示使用多個(gè)曝光頭，對于X方向上相鄰2個(gè)曝光頭(作為一例為曝光頭3012和3021)，僅分別使用構(gòu)成相當(dāng)于總光點(diǎn)行數(shù)的1/N行的相鄰行的微反射鏡群進(jìn)行參照曝光的方式之一例的說明圖。該例中，主曝光時(shí)為2重曝光，因此N-2。首先，僅使用對應(yīng)圖22A實(shí)線所示第1行第128(=256/2)行光點(diǎn)的微反射鏡進(jìn)行參照曝光，將參照曝光結(jié)果采樣輸出。根據(jù)上述采樣輸出的參照曝光結(jié)果，可以指定在主曝光時(shí)使用的微反射鏡，使得能夠?qū)崿F(xiàn)將由2個(gè)曝光頭形成于被曝光面上的頭之間連接區(qū)域以外區(qū)域的分辨率不均或濃度不均抑制在最小限的主曝光。例如，對應(yīng)圖22被斜線覆蓋的區(qū)域90和網(wǎng)格所示區(qū)域92內(nèi)光點(diǎn)列的微反射鏡以外的微反射鏡作為在第1行第128行的微反射鏡中在主曝光中實(shí)際使用的微反射鏡指定。對于第129行第256行的微反射鏡，可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定主曝光中使用的微反射鏡，還可以使用與相對于第1行第128行的微反射鏡的圖案相同的圖案。通過如此指定主曝光時(shí)實(shí)際使用的微反射鏡，可以在由2個(gè)曝光頭形成于被曝光面上的頭之間連接區(qū)域以外的區(qū)域上實(shí)現(xiàn)接近理想2重曝光的狀態(tài)。在以上實(shí)施方式(1)(3)和變更例中，均對使主曝光為2重曝光的情況進(jìn)行了說明，但并非限定于此，還可以是2重曝光以上的任何多重曝光。特別是通過成為3重曝光7重曝光左右，可以實(shí)現(xiàn)確保高分辨率、分辨率的不均和濃度不均所有減輕的曝光。另外，上述實(shí)施方式和變更例所涉及的曝光裝置中優(yōu)選設(shè)有轉(zhuǎn)換圖像數(shù)據(jù)的裝置，使得圖像數(shù)據(jù)表示的2維圖案的規(guī)定部分的尺寸與通過所選使用像素能夠?qū)崿F(xiàn)的對應(yīng)部分的尺寸一致。通過如此轉(zhuǎn)換圖像數(shù)據(jù)，可以在被曝光面上形成如所需2維圖案的高精細(xì)圖案。[顯影工序]上述顯影通過除去上述感光層的未曝光部位而進(jìn)行。上述未固化區(qū)域的除去方法并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出使用顯影液除去的方法等。上述顯影液并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出堿性水溶液、水性顯影液、有機(jī)溶劑等，其中優(yōu)選弱堿性的水溶液。該弱堿性水溶液的堿成分例如可以舉出氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、磷酸鈉、磷酸鉀、焦磷酸鈉、焦磷酸鉀、硼砂等。上述弱堿性的水溶液的pH例如優(yōu)選約為812、更優(yōu)選約為911。上述弱堿性的水溶液例如可以舉出0.15質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液或碳酸鉀水溶液。上述顯影液的溫度可以對應(yīng)上述感光層的顯影性適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選約為2540°C。上述顯影液還可以與表面活性劑、消泡劑、有機(jī)堿(例如乙二胺、乙醇胺、四甲基氫氧化銨、二乙三胺、三乙五胺、嗎啉、三乙醇胺等)、用于促進(jìn)顯影的有機(jī)溶劑(例如醇類、酮類、酯類、醚類、酰胺類、內(nèi)酯類等)等并用。另外，上述顯影液可以是混合有水或堿水溶液與有機(jī)溶液的水性顯影液，還可以是有機(jī)溶劑單獨(dú)。[固化處理工序]上述固化處理工序?yàn)樵谶M(jìn)行上述顯影工序之后，對所形成的圖案的感光層進(jìn)行固化處理的工序。上述固化處理工序并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選舉出全面曝光處理、全面加熱處理等。上述全面曝光處理的方法例如可以舉出在上述顯影后，對形成上述永久圖案的上述層疊體上的整個(gè)面進(jìn)行曝光的方法等。通過該全面曝光，形成上述感光層的感光性組合物中的樹脂的固化被促進(jìn)，上述永久圖案的表面被固化。作為進(jìn)行上述全面曝光的裝置并無特別限定，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以優(yōu)選地舉出超高壓水銀燈等的UV曝光機(jī)。上述全面加熱處理的方法可以舉出在上述顯影后加熱形成有上述永久圖案的上述層疊體上的整個(gè)面的方法。通過該全面加熱，上述永久圖案的表面的膜強(qiáng)度提高。上述全面加熱的加熱溫度優(yōu)選為120250°C、更優(yōu)選為120200°C。該加熱溫度小于12(TC時(shí)，無法利用加熱處理獲得膜強(qiáng)度的提高，超過25(TC時(shí)，發(fā)生上述感光性組合物中的樹脂分解、膜質(zhì)變脆。上述全面加熱的加熱時(shí)間優(yōu)選為10120分鐘、更優(yōu)選為1560分鐘。進(jìn)行上述全面加熱的裝置并無特別限定，可以從公知的裝置中根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出干燥烘箱、加熱板、IR加熱器等。-保護(hù)膜、層間絕緣膜、阻焊永久圖案形成方法-上述圖案的形成方法為形成保護(hù)膜、層間絕緣膜和阻焊圖案的至少任一者的永久圖案形成方法時(shí)，可以通過利用上述永久圖案形成方法在印制布線板上形成永久圖案，進(jìn)而如下進(jìn)行焊錫。艮口，通過上述顯影形成作為上述永久圖案的固化層，金屬層露出至上述印制布線板表面。相對于露出至該印制布線板表面的金屬層的部位進(jìn)行鍍金后，進(jìn)行焊錫。然后再進(jìn)行焊錫的部位上安裝半導(dǎo)體或部件等。此時(shí)，利用上述固化層的永久圖案發(fā)揮作為保護(hù)膜或絕緣膜(層間絕緣膜)、阻焊劑的功能，防止來自外部的沖擊或相鄰電極的導(dǎo)通。在上述圖案形成裝置和永久圖案形成方法中，通過上述永久圖案形成方法形成的永久圖案為上述保護(hù)膜或上述層間絕緣膜時(shí)，可以保護(hù)導(dǎo)線避免來自外部的沖擊或彎曲，特別是為上述層間絕緣膜時(shí)，例如對于半導(dǎo)體或部件在多層導(dǎo)線基板或積累導(dǎo)線基板等上的高密度安裝有用。本發(fā)明的上述永久圖案形成方法由于使用本發(fā)明上述感光性組合物，因而可以優(yōu)選用于保護(hù)膜、層間絕緣膜、阻焊圖案等永久圖案等各種圖案形成用，濾光器、柱材、肋條材料、隔離物、隔壁等液晶結(jié)構(gòu)構(gòu)件的制造用，全息圖像、微型機(jī)器、校樣等圖案形成用等中，特別是可以優(yōu)選用于印制電路板的永久圖案形成用。實(shí)施例以下，通過實(shí)施例更加具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并非局限于此。(合成例1)在lOOOmL三頸燒瓶中放入l-甲氧基-2丙醇159g，在氮?dú)饬飨录訜嶂?5°C。向其中用2小時(shí)的時(shí)間滴加63.4g甲基丙烯酸節(jié)酯、72.3g甲基丙烯酸、4.15gV-601(和光純藥(株)制)的l-甲氧基-2-丙醇159g溶液。滴加結(jié)束后進(jìn)一步加熱反應(yīng)5小時(shí)。接著，停止加熱，獲得甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸(30/70mol。/。比)的共聚物。接著，將上述共聚物溶液內(nèi)的120.0g移至300mL三頸燒瓶中，加入16.6g甲基丙烯酸縮水甘油酯、0.16g對甲氧基苯酚，攪拌使其溶解。溶解后加入三苯基膦2.4g，加熱至100。C，進(jìn)行加成反應(yīng)。利用氣相色譜法確認(rèn)甲基丙烯酸縮水甘油酯的消失，停止加熱。加入l-甲氧基-2-丙醇，制備固態(tài)成分30質(zhì)量％的下述表1所示高分子化合物1的溶液。利用以聚苯乙烯為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的凝膠滲透色譜法(GPC)測定所得高分子化合物的質(zhì)均分子量(Mw)，結(jié)果為15000。另外，由使用氫氧化鈉的滴定可知，單位固態(tài)成分的酸值為2.2meq/g。而且，通過碘滴定法求得的單位固態(tài)成分的乙烯性不飽和鍵的含量(CKM介)為2.1meq/g。(合成例227)為了獲得目標(biāo)高分子化合物，將合成例1的甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸和甲基丙烯酸縮水甘油酯適當(dāng)變更為任意單體，除此之外與合成例1同樣地分別制備表1表5所示高分子化合物227。<table>tableseeoriginaldocumentpage85</column></row><table>表2<table>tableseeoriginaldocumentpage86</column></row><table>表3<table>tableseeoriginaldocumentpage87</column></row><table>表4<table>tableseeoriginaldocumentpage88</column></row><table>表5<table>tableseeoriginaldocumentpage89</column></row><table>表1表5中，*1表示下述結(jié)構(gòu)式(a)所示結(jié)構(gòu)和下述結(jié)構(gòu)式(b)所示架構(gòu)的混合，*2表示下述結(jié)構(gòu)式(c)所示結(jié)構(gòu)和下述結(jié)構(gòu)式(d)所示結(jié)構(gòu)的混合。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage89</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage90</formula>結(jié)構(gòu)式(c)結(jié)構(gòu)式(d)(合成例28)在lOOOmL三頸燒瓶中放入l-甲氧基-2丙醇159g，在氮?dú)饬飨录訜嶂?5°C。向其中用2小時(shí)的時(shí)間滴加36g甲基丙烯酸甲酯、72.3g甲基丙烯酸、4.15gV-601(和光純藥(株)制)的l-甲氧基-2-丙醇159g溶液。滴加結(jié)束后進(jìn)一步加熱反應(yīng)5小時(shí)。接著，停止加熱，獲得甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸G0/70mol。/。比)的共聚物。接著，將上述共聚物溶液內(nèi)的120.0g移至300mL三頸燒瓶中，加入16.6g甲基丙烯酸縮水甘油酯、0.16g對甲氧基苯酚，攪拌使其溶解。溶解后加入三苯基膦2.4g，加熱至100'C，進(jìn)行加成反應(yīng)。利用氣相色譜法確認(rèn)甲基丙烯酸縮水甘油酯的消失，停止加熱。加入l-甲氧基-2-丙醇，制備固態(tài)成分30質(zhì)量％的下述結(jié)構(gòu)式所示高分子化合物28的溶液。利用以聚苯乙烯為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的凝膠滲透色譜法(GPC)測定所得高分子化合物的質(zhì)均分子量(Mw)，結(jié)果為15000。另外，由使用氫氧化鈉的滴定可知，單位固態(tài)成分的酸值為2.3meq/g。而且，通過碘滴定法求得的單位固態(tài)成分的乙烯性不飽和鍵的含量(C=Ci/h)為2.6meq/g。離分子化合物28(實(shí)施例1)-感光性組合物的制備-以下述量配合各成分，制備感光性組合物溶液。[感光性組合物溶液的各成分量]-高分子化合物(上述l-甲氧基-2-丙醇溶液中固態(tài)成分質(zhì)量30質(zhì)量%)......87.4質(zhì)量份-二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)......14質(zhì)量份Lucirin-TPO(?；⒀趸锘衔?、光聚合引發(fā)劑)......6質(zhì)量份.工水卜一卜YD-8125(環(huán)氧基等量170g/eq、雙酚A系環(huán)氧樹脂)堿不溶性的熱交聯(lián)劑......7.8質(zhì)量份-熱固化劑(雙氰胺)......0.77質(zhì)量份-氟系表面活性劑(乂力'77'7夕F-176、大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制、30質(zhì)量％2-丁垸溶液)......0.2質(zhì)量份-硫酸鋇分散液(堺化學(xué)工業(yè)(株)B-30)......80質(zhì)量份-甲乙酮......15質(zhì)量份予以說明，上述硫酸鋇分散液如下制備預(yù)先混合硫酸鋇(堺化學(xué)工業(yè)(株)、B30)30質(zhì)量份、高分子化合物1(上述l-甲氧基-2-丙醇溶液中固態(tài)成分質(zhì)量30質(zhì)量％)溶液29.2質(zhì)量份、0.2質(zhì)量份C.I.顏料藍(lán)15:3、0.05質(zhì)量份C.I.顏料黃185、40.55質(zhì)量份甲乙酮，使用電動(dòng)攪拌器M-200(74萬一社制)用直徑l.Omm的二氧化鋯株粒以周速9m/s分散3.5小時(shí)，從而制備。予以說明，本實(shí)施例1中，"熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比，，為(7,8/170)/(87.4*0.3*0.0022+29.2*0.3*0.8*0.0022)=0.63。另外，部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為0%，部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的總堿成分量是雙氰胺的0.9%。-感光性膜的制造-利用棒涂機(jī)將所得感光性組合物溶液涂布在作為上述支承體的厚度16,(東麗(株)制、16FB50)、寬300mm、長200m的PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)膜上，在8(TC熱風(fēng)循環(huán)式干燥機(jī)中干燥，形成厚度30pm的感光層。接著，在該感光層上利用層疊機(jī)層疊作為保護(hù)膜的膜厚20pm、寬度310mm、長度210m的聚丙烯膜(王子制紙(株)制、E-200)，制造上述感光性膜。--感光性膜輥的制作一使用巻繞機(jī)巻繞上述感光性膜，制造感光性膜原反輥。使用同軸切條機(jī)剪切所得上述感光性膜原反輥，以250mm寬度巻繞在長度300mm、內(nèi)徑76mm的ABS樹脂制圓筒狀巻繞芯上，巻繞150m，制作感光性膜輥。用黑色聚乙烯制筒狀袋(膜厚80(im、水蒸氣透過率25g/m2.24hr以下)包裹如此獲得的上述感光性膜輥，將聚丙烯制套襯擠入巻繞芯的兩一山順。-永久圖案的形成---感光性層疊體的制備一接著，作為上述基體，對印制基板、即經(jīng)導(dǎo)線形成的覆銅層疊板(無穿通孔、銅厚度12pm)的表面實(shí)施化學(xué)研磨處理進(jìn)行制備。在該覆銅層疊板上，一邊按照上述感光性膜的感光層與上述覆銅層疊板相接觸的方式剝離上述感光性膜的保護(hù)膜，一邊使用真空層疊機(jī)(二千f一壬一卜>(株)制、VP130)將其層疊，制備按順序?qū)盈B有上述覆銅層疊板、上述感光層、上述聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(支承體)的感光性層疊體。壓接條件為抽真空的時(shí)間40秒、壓接溫度70"C、壓接壓力0.2MPa、加壓時(shí)間IO秒鐘。對于上述感光性層疊體，進(jìn)行最短顯影時(shí)間、感光度、分辨率、保存穩(wěn)定性和邊緣粗糙的評價(jià)。結(jié)果示于表6。<分辨率的評價(jià)>(1)最短顯影時(shí)間的評價(jià)方法從上述感光性層疊體上剝離聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(支承體)，以0.15MPa的壓力將3(TC的1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液噴霧在覆銅層疊板上的上述感光層整個(gè)面上，測定從碳酸鈉水溶液的噴霧開始至覆銅層疊板上的感光層被溶解除去所需要的時(shí)間，將其作為最短顯影時(shí)間。(2)感光度的評價(jià)方法對于上述制備的感光性層疊體的感光性膜的感光層，由上述支承體側(cè)使用以下說明的圖案形成裝置，以0.1mJ/cn^2^倍間隔照射光能量不同直至100mJ/cn^的光，進(jìn)行2重曝光，使上述感光層的一部分區(qū)域固化。在室溫下靜置10分鐘后，將上述支承體從上述感光性層疊體上剝離，在覆銅層疊板上的感光層整個(gè)面上以0.15MPa噴霧30°C的1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液，噴霧時(shí)間2倍于上述(1)求得的最短顯影時(shí)間，將未固化的區(qū)域溶解除去，測定剩余固化區(qū)域的厚度。接著，對光照射量與固化層厚度的關(guān)系做曲線，獲得感光度曲線。由該感光度曲線，將固化區(qū)域厚度與曝光前感光層相同、達(dá)到30^m時(shí)的光能量作為用于固化感光層所必需的能量。<<圖案形成裝置〉>使用圖案形成裝置10，其具備作為上述光照射機(jī)構(gòu)的日本特開2005-258431號公報(bào)所記載的合波激光光源；作為上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的按照在圖6所示概略圖的主掃描方向上排列有1024個(gè)微反射鏡58的微反射鏡列、但在副掃描方向排列的768組中僅驅(qū)動(dòng)1024個(gè)x256列而控制的DMD36;具有將圖5A和圖5B所示光成像在上述感光性膜的光學(xué)體系的曝光頭30。作為各曝光頭30、即各DMD36的設(shè)定傾斜角度，采用若干大于使用能夠使用的1024列x256行的微反射鏡58恰好達(dá)到2重曝光的角度6ideal的角度。該角度9id^如下求得對于N重曝光的數(shù)N、能夠使用的微反射鏡58的列方向的個(gè)數(shù)s、能夠使用的微反射鏡58的列方向間隔p以及在傾斜曝光頭30的狀態(tài)下由微反射鏡形成的掃描線的間隔S，用下述式1spsin0^N5(式1)求得。本實(shí)施方式的DMD36如上所述，由于縱橫的配置間隔相等的多個(gè)微反射鏡58配置成矩形格子狀，因此為pcos9ideal=5(式2)、上述式1成為stan0ideal=N(式3)，由于3=256、N=2，因此角度eidea,約為0.45度。因而，設(shè)定傾斜角度e例如可以采用0.50度左右的角度。首先，為了校正2重曝光的分辨率不均和曝光不均，研究被曝光面的曝光圖案的狀態(tài)。結(jié)果示于圖16。圖16表示在使臺14靜止的狀態(tài)下投影于感光性膜12的被曝光面上的、來自具有曝光頭3012和3021的DMD36的能夠使用的微反射鏡58的光點(diǎn)群圖案。另外，下段部分表示在呈現(xiàn)示于上段部分的光點(diǎn)群的圖案的狀態(tài)下移動(dòng)臺14進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，對于曝光區(qū)域3212和3221顯示形成在被曝光面上的曝光圖案的狀態(tài)。予以說明，圖16中為了說明方便，以像素列群A所產(chǎn)生的曝光圖案和像素列B所產(chǎn)生的曝光圖案分別顯示能夠使用的微反射鏡58的每隔1列的曝光圖案，但實(shí)際的被曝光面上的曝光圖案為重疊這2個(gè)曝光圖案的結(jié)果。如圖16所示，作為曝光頭3012和3021之間的相對位置偏離理想狀態(tài)的結(jié)果，為像素列群A所產(chǎn)生的曝光圖案和像素列B所產(chǎn)生的曝光圖案兩者在垂直于曝光區(qū)域3212和3221的上述曝光頭掃描方向的坐標(biāo)軸上重復(fù)的曝光區(qū)域上產(chǎn)生相比較于理想2重曝光狀態(tài)曝光量過多的區(qū)域。作為上述光點(diǎn)位置檢測機(jī)構(gòu)使用夾縫28和光檢測器的組，對于曝光頭3012檢測曝光區(qū)域3212內(nèi)的光點(diǎn)P(1，1)和P(256，1)的位置，對于曝光頭302,檢測曝光區(qū)域322,內(nèi)的光點(diǎn)P(1，1024)和P(256，1024)的位置，測定連接它們的直線的傾斜角度與曝光頭掃描方向所成的角度。使用實(shí)際傾斜角度e，，對于曝光區(qū)域3012和3021分別導(dǎo)出最接近于滿足下述式4ttan6，=N(式4)關(guān)系的t的自然數(shù)T。對于曝光頭3012導(dǎo)出T=254、對于曝光頭3021導(dǎo)出T=255時(shí)，結(jié)果，特定構(gòu)成圖17中被斜線覆蓋的部分78和80的微反射鏡作為主曝光中不使用的微反射鏡。之后，對于構(gòu)成圖17中被斜線覆蓋的部分78和80的光點(diǎn)以外的光點(diǎn)的微反射鏡，同樣地特定對應(yīng)于構(gòu)成圖17中被斜線覆蓋的區(qū)域82和被網(wǎng)格覆蓋區(qū)域84的光點(diǎn)的微反射鏡，作為主曝光時(shí)不使用的微反射鏡追加。相對于這些作為曝光時(shí)不使用的微反射鏡而特定的微反射鏡，利用上述描素部控制機(jī)構(gòu)送出經(jīng)常設(shè)定為關(guān)閉狀態(tài)的角度的信號，進(jìn)行控制使得這些微反射鏡與曝光基本無關(guān)。由此，在曝光區(qū)域3212和3221中，在作為由多個(gè)上述曝光頭形成的被曝光面上重復(fù)曝光區(qū)域的頭之間連接區(qū)域以外的各區(qū)域上，可以使相對于理想2重曝光的成為曝光過多區(qū)域和成為曝光不足區(qū)域的總面積為最小。(4)分辨率的評價(jià)方法在與上述(1)的最短顯影時(shí)間評價(jià)方法相同的方法和條件下制作上述感光性層疊體，在室溫(23°C、55%RH)下靜置IO分鐘。由所得層疊體的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(支承體)上，使用上述圖案形成裝置以線/間隔=1/1用lpm刻痕進(jìn)行各線寬的曝光，至線寬10100pim。此時(shí)的曝光量為用于固化上述(2)測定的上述感光性膜的感光層而必需的光能量。在室溫下靜置10分鐘后，從上述感光性層疊體上剝?nèi)【蹖Ρ蕉姿嵋叶减ツ?支承體)。以噴霧壓0.15MPa將3(TC的1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液噴霧在覆銅層疊板上的感光層整個(gè)面上，時(shí)間2倍于上述(1)求得的最短顯影時(shí)間，溶解除去未固化區(qū)域。利用光學(xué)顯微反射鏡觀察如此獲得的帶固化樹脂粘合劑的覆銅層疊板的表面，固化樹脂粘合劑在線中沒有堵塞、錯(cuò)位等異常，且測定能夠形成間隔的最小線寬，將其作為分辨率。該分辨率的數(shù)值越小則越良好。結(jié)果示于表1中。<保存穩(wěn)定性(顯影時(shí)間的經(jīng)時(shí)變化率)的評價(jià)>-顯影時(shí)間的測定-(顯影時(shí)間T!的測定)在25。C下暗處放置上述層疊體20分鐘后，剝?nèi)【蹖Ρ蕉姿嵋叶减ツ?支承體)，對上述感光層進(jìn)行顯影處理。上述顯影處理為使用1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液作為堿顯影液、在30。C下噴淋于覆銅層疊板上的上述感光層整個(gè)面上，從而進(jìn)行，測定上述感光層完全被除去的所需時(shí)間，將其作為顯影時(shí)間T,。(顯影時(shí)間T2的測定)將上述層疊體放入防潮袋(黑色聚乙烯制的筒狀袋、膜厚80pm、水蒸汽透過率25g/m2'24hr以下)，在溫度4(TC的環(huán)境下靜置72小時(shí)，之后，通過與上述顯影時(shí)間Ti的測定方法相同的方法測定顯影時(shí)間(T2)。(顯影時(shí)間變化率的計(jì)算)根據(jù)由所測定顯影時(shí)間T2和上述顯影時(shí)間T,計(jì)算的顯影時(shí)間的變化率(TVT。和下述評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)，評價(jià)保存穩(wěn)定性。[評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)]◎…顯影時(shí)間的變化滿足0.5<(T2/1\)<2.50…顯影時(shí)間的變化滿足0.5<(丁2/1\)<3X…顯影時(shí)間的變化不滿足0.5<(丁2/^)<3將如此求得的T"T2、(T2/T。和評價(jià)結(jié)果示于表6。(實(shí)施例2實(shí)施例7和比較例13)實(shí)施例1中，除了將上述高分子化合物分別取代為下述表6所示高分子化合物之外，與實(shí)施例1同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。另外，對于上述感光性膜和感光性層疊體與實(shí)施例1同樣地評價(jià)感光度、分辨率、保存穩(wěn)定性。結(jié)果示于表6。予以說明，下述表6中，比較例l使用的高分子化合物(B-l)、比較例2使用的高分子化合物(B-2)分別如下合成。另外，下述表6中，比較例3使用的高分子化合物(B-3)采用下述結(jié)構(gòu)式(e)所示高分子化合物(Mw:8000、酸值80mgKOH/g)。(合成例29)除了將合成例1的三苯基膦2.4g改變?yōu)樗囊一然@2.4g之外，同樣地合成，獲得高分子化合物(B-l)。(合成例30)除了將合成例28的三苯基膦2.4g改變?yōu)樗囊一然@2.4g之外，同樣地合成，獲得高分子化合物(B-2)。表6<table>tableseeoriginaldocumentpage97</column></row><table>(實(shí)施例8)以下述量配合各成分，制備感光性組合物溶液，除此之外與實(shí)施例1同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。[感光性組合物溶液的各成分量]-高分子化合物(上述l-甲氧基-2-丙醇溶液中固態(tài)成分質(zhì)量30質(zhì)量%)......87.4質(zhì)量份-二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)......14質(zhì)量份IrgaCure819(酰基膦氧化物化合物、汽巴精化社制、光聚合引發(fā)劑)......4質(zhì)量份-工*°卜一卜YDF-8170C(環(huán)氧基等量155g/eq、雙酚A系環(huán)氧樹脂、堿不溶性的熱交聯(lián)劑)......U.3質(zhì)量份-熱固化劑(雙氰胺)......0.77質(zhì)量份'氟系表面活性劑(乂力'77'7夕F_176、大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)帝ij、30質(zhì)量％2-丁垸溶液)......0.2質(zhì)量份-硫酸鋇分散液(堺化學(xué)工業(yè)(株)B-30)......80質(zhì)量份-甲乙酮......30質(zhì)量份予以說明，上述硫酸鋇分散液與實(shí)施例1同樣地制備。本實(shí)施例8中，"熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比，，為1.3/155)/(87.4*0.3*0.0022+29.2*0.3*0.8*0.0022)=1.0。另外，部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為0%，部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的總堿成分量是雙氰胺的0.9%。另外，對于上述感光性膜和感光性層疊體，與實(shí)施例1同樣地評價(jià)感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性。顯影后用超高壓水銀燈以50mJ/ci^全面曝光。通過以下方法也評價(jià)無電解鍍金耐性。結(jié)果示于表7。<無電解鍍金耐性的評價(jià)>根據(jù)后述的工序?qū)ι鲜鲈囼?yàn)基板進(jìn)行非電解鍍金，對于該試驗(yàn)基板進(jìn)行外觀的變化和使用膠帶的剝離試驗(yàn)，用以下標(biāo)準(zhǔn)評價(jià)抗蝕劑覆膜的剝離狀態(tài)。-評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)-〇沒有外觀變換、完全沒有抗蝕劑覆膜的剝離沒有外觀變換、但抗蝕劑覆膜稍有剝離X:可見抗蝕劑覆膜的浮起，可見電鍍潛影，在剝離試驗(yàn)中抗蝕劑覆膜的剝離大-非電解鍍金工序一將形成有阻焊圖案(永久圖案)的試驗(yàn)基板浸漬在3(TC的酸性脫脂液(日本7夕夕'一s7卜(株)帝ij、MetexL-5B的20質(zhì)量％水溶液)3分鐘后，浸漬于流水中3分鐘進(jìn)行水洗。接著，在14.3質(zhì)量％過硫酸銨水溶液中室溫下浸漬3分鐘后，在流水中浸漬3分鐘進(jìn)行水洗，進(jìn)而在10質(zhì)量％硫酸水溶液室溫下浸漬試驗(yàn)基板1分鐘后，浸漬在流水中30秒1分鐘進(jìn)行水洗。接著，將該基板浸漬在30。C的催化劑液(乂》亍〃夕^社制、乂夕A7。^一卜7夕f《一夕一3so的10質(zhì)量％水溶液)7分鐘后，在流水中浸漬3分鐘進(jìn)行水洗，接著浸漬在85。C的鍍鎳液(乂》于'77,社制、乂、7yk—卜Ni-865M、20容量％水溶液、pH4.6)20分鐘，進(jìn)行非電解鍍鎳后，在室溫下浸漬于10質(zhì)量％硫酸水溶液1分鐘后，在流水中浸漬30秒1分鐘進(jìn)行水洗。接著，將試驗(yàn)基板浸漬于75。C的鍍金液(奧野制藥工業(yè)(株)制、OPC厶亍">3"—》卜"、pH1213、加厚鍍金0.3pm)4分鐘，進(jìn)行非電解鍍金后，在流水中浸漬3分鐘進(jìn)行水洗后，進(jìn)而用60。C的溫水浸漬3分鐘充分地水洗后干燥，獲得無電解鍍金的試驗(yàn)基板。(實(shí)施例913)實(shí)施例8中，除了將上述高分子化合物分別替換為下述表7所示高分子化合物之外，與實(shí)施例8同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。另外，對于上述感光性膜和感光性層疊體與實(shí)施例8同樣地評價(jià)感光度、分辨率、非電解鍍金耐性和保存穩(wěn)定性。結(jié)果示于表7。(比較例4)實(shí)施例8中，除了將上述高分子化合物替換為下述結(jié)構(gòu)式(f)所示高分子化合物(B-4，Mw:30000、酸值2.0meq/g)之外，與實(shí)施例8同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。結(jié)構(gòu)式(f)表7高分子化合物感光度(MJ/cm2)分辨率(wm)非電解鍍金耐性Tz保存穩(wěn)定性實(shí)施例814828〇15241.6◎?qū)嵤├?74828〇25401.6◎?qū)嵤├?085933〇12292,42◎?qū)嵤├?1115329〇15354.33◎?qū)嵤├?12125030〇15322.13◎?qū)嵤├?3134930〇15342.27◎比較例4B-417035X15473.13X(實(shí)施例14)以下述量配合各成分，制備感光性組合物溶液，除此之外與實(shí)施例1同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。[感光性組合物溶液的各成分量]-高分子化合物(上述l-甲氧基-2-丙醇溶液中固態(tài)成分質(zhì)量30質(zhì)量%)......87.4質(zhì)量份-二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)......14質(zhì)量份-下述結(jié)構(gòu)式(g)所示的增敏劑……0.6質(zhì)量份'lrgacure907(汽巴精化社制、含氨基垸基的堿性、溶劑可溶性的光聚合引發(fā)劑)......1.5質(zhì)量份-TEPIC-5(環(huán)氧基等量99g/eq、難溶性環(huán)氧樹脂、堿不溶性的熱交聯(lián)劑)......3.73質(zhì)量份-熱固化劑(雙氰胺)......0.77質(zhì)量份-氟系表面活性劑(乂力'77'7夕F_i76、大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制、30質(zhì)量％2-丁垸溶液)......0.2質(zhì)量份-硫酸鋇分散液(堺化學(xué)工業(yè)(株)B-30)......80質(zhì)量份-甲乙酮......15質(zhì)量份予以說明，上述硫酸鋇分散液與實(shí)施例1同樣地制備。本實(shí)施例14中，"熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比，，為(3.73/99)/(87.4*0.3*0.0022+29.2*0.3*0.8*0.0022)=0.52。另外，部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為1.9%，部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的總堿成分量是雙氰胺的2.8%。另外，對于上述感光性膜和感光性層疊體，與實(shí)施例1同樣地評價(jià)感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性。結(jié)果示于表8。oci(實(shí)施例15和比較例5)實(shí)施例14中，除了將上述高分子化合物的種類如表8所示進(jìn)行替代之外，與實(shí)施例14同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。另外，對于上述感光性膜和感光性層疊體與實(shí)施例14同樣地評價(jià)感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性。結(jié)果示于表8。結(jié)構(gòu)式(g)表8<table>tableseeoriginaldocumentpage101</column></row><table>(實(shí)施例16)實(shí)施例8中，將光聚合引發(fā)劑"lrgacure819(?；⒀趸锘衔铩⑵途缰?"4質(zhì)量份"改為"lrgacure651(垸基二苯甲酮型、汽巴精化社制)3質(zhì)量份，將堿不溶性的熱交聯(lián)劑"二水卜一卜YDF-8170C(環(huán)氧基等量155g/eq、雙酚F系環(huán)氧樹脂)"11.3質(zhì)量份改為"工水卜一卜YDCN-701(環(huán)氧基等量196g/eq.熱塑型環(huán)氧樹脂)11.3質(zhì)量份"之外，與實(shí)施例8同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。相對于該感光性層疊體，另外制作具有與實(shí)施例1同樣圖案的玻璃制負(fù)掩模，將該負(fù)掩模接觸于層疊體上利用超高壓水銀燈以100mJ/cV的曝光量進(jìn)行曝光。之后，利用與實(shí)施例1同樣的方法進(jìn)行顯影，進(jìn)行分辨率評價(jià)，同時(shí)與實(shí)施例1同樣地對上述感光性膜進(jìn)行保存穩(wěn)定性的評價(jià)。結(jié)果示于表9。(實(shí)施例17和比較例6)實(shí)施例16中，除了將上述高分子化合物的種類如表9所示進(jìn)行替代之外，與實(shí)施例16同樣地制造感光性膜和感光性層疊體。另外，對于上述感光性膜和感光性層疊體與實(shí)施例16同樣地評價(jià)感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性。結(jié)果示于表9。表9<table>tableseeoriginaldocumentpage101</column></row><table>由表69的結(jié)果可知，使用含有本發(fā)明高分子化合物的實(shí)施例117的感光性組合物形成感光層而成的感光性膜的保存穩(wěn)定性高，而且通過實(shí)施例117的曝光方法形成的永久圖案的感光度和分辨率也不會(huì)受損，高效地形成高精細(xì)的永久圖案(保護(hù)膜、層間絕緣膜、阻焊圖案等)。另外，由實(shí)施例813可知，除了上述性能之外，還可以賦予非電解鍍金耐性。該非電解鍍金耐性的提高通過使用堿不溶性的熱交聯(lián)劑而表現(xiàn)。而且，由于使用普通且廉價(jià)的熱交聯(lián)劑發(fā)揮上述效果，因此可以減輕熱交聯(lián)劑所需要的成本，拓寬該熱交聯(lián)劑的選擇范圍。產(chǎn)業(yè)實(shí)用性本發(fā)明的感光性組合物和感光性膜通過含有規(guī)定的高分子化合物，感光度、分辨率和保存穩(wěn)定性優(yōu)異，能夠高效地形成高精細(xì)的圖案，因而可以優(yōu)選用于保護(hù)膜、層間絕緣膜、阻焊圖案等永久圖案等各種圖案形成用，濾光器、柱材、肋條材料、隔離物、隔壁等液晶結(jié)構(gòu)構(gòu)件的制造用，全息圖像、微型機(jī)器、校樣等圖案形成用等中，特別是可以優(yōu)選用于印制電路板的永久圖案形成用。本發(fā)明的永久圖案形成方法由于使用本發(fā)明的上述感光性組合物，因而可以優(yōu)選用于保護(hù)膜、層間絕緣膜、阻焊圖案等永久圖案等各種圖案形成用，濾光器、柱材、肋條材料、隔離物、隔壁等液晶結(jié)構(gòu)構(gòu)件的制造用，全息圖像、微型機(jī)器、校樣等圖案形成用等中，特別是可以優(yōu)選用于印制電路板的永久圖案形成用。權(quán)利要求1.一種感光性組合物，其為至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)系化合物以及熱交聯(lián)劑的感光性組合物，其特征在于，T1和T2滿足0.5<T2/T1<3的關(guān)系，所述T1為將該感光性組合物層疊在基體上，在25℃于暗處放置20分鐘后，利用顯影液除去層疊在上述基體的感光性組合物的未曝光部分所需要的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)；所述T2為相對于層疊在上述基體的感光性組合物將該感光性組合物在40℃于暗處放置72小時(shí)后，利用顯影液除去上述感光性組合物的未曝光部分所需要的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性組合物，其中，粘合劑含有在側(cè)鏈具有酸性基團(tuán)和乙烯性不飽和鍵的高分子化合物。3.根據(jù)權(quán)利要求12中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，粘合劑為選自在催化劑共存下在高分子化合物的酸性基團(tuán)的一部分加成含有環(huán)狀醚基的聚合性化合物后的高分子化合物和在催化劑共存下在高分子化合物的一部分或全部的環(huán)狀醚基上加成含有羧基的聚合性化合物后的高分子化合物中的任一種的高分子化合物，上述催化劑選自酸性化合物和中性化合物中的任一種。4.根據(jù)權(quán)利要求13中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，粘合劑含有側(cè)鏈具有酸性基團(tuán)、可含有雜環(huán)的芳香族基團(tuán)、乙烯性不飽和鍵的高分子化合物。5.根據(jù)權(quán)利要求24中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物含有0.53.0meq/g的乙烯性不飽和鍵。6.根據(jù)權(quán)利要求25中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物的側(cè)鏈具有羧基，所述羧基在高分子化合物中的含量為1.04.0meq/g。7.根據(jù)權(quán)利要求26中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物的質(zhì)均分子量為10000以上且小于100000。8.根據(jù)權(quán)利要求27中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，高分子化合物含有20mol。/。以上的下述結(jié)構(gòu)式(I)所示的結(jié)構(gòu)單元，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>上述結(jié)構(gòu)式(I)中，Ri、R2、R3表示氫原子或1價(jià)的有機(jī)基團(tuán)；L表示有機(jī)基團(tuán)，可以沒有；Ar表示可含雜環(huán)的芳香族基團(tuán)。9.根據(jù)權(quán)利要求18中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，聚合性化合物含有具有1個(gè)以上乙烯性不飽和鍵的化合物。10.根據(jù)權(quán)利要求19中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑為選自環(huán)氧化合物、氧雜環(huán)丁垸化合物、聚異氰酸酯化合物、使封端劑與聚異氰酸酯化合物反應(yīng)而獲得的化合物以及蜜胺衍生物的任一種中的至少1種。11.根據(jù)權(quán)利要求110中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑為堿不溶性。12.根據(jù)權(quán)利要求111中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，熱交聯(lián)劑的交聯(lián)基的摩爾比/粘合劑的酸性基團(tuán)的摩爾比為0.11.5。13.根據(jù)權(quán)利要求112中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其滿足下述中的任一種，存在于感光性組合物中的部分結(jié)構(gòu)具有堿性取代基的溶劑可溶性成分的總量為5%以下、以及部分結(jié)構(gòu)中具有堿性取代基的總堿成分量為7%以下。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的感光性組合物，其中，堿性取代基選自伯叔氨基、季銨鹽基、含有氨基三嗪的基團(tuán)、含有咪唑的基團(tuán)、胍基的任一種。15.根據(jù)權(quán)利要求114中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，T,為5120秒、上述丁2為5240秒。16.根據(jù)權(quán)利要求115中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，光聚合弓1發(fā)劑選自?；⒀趸锵祷衔锖屯衔镏械娜我环N。結(jié)構(gòu)式(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>17.—種感光性膜，其特征在于，具有支承體、在該支承體上的由權(quán)利要求116中任一項(xiàng)所述感光性組合物構(gòu)成的感光層而成。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的感光性膜，其為長條狀、且被巻繞成輥狀而得的感光性膜。19.一種永久圖案形成方法，其特征在于，將權(quán)利要求116中任一項(xiàng)所述感光性組合物涂布在基體的表面上，進(jìn)行干燥形成感光層后，再進(jìn)行曝光、顯影。20.—種永久圖案形成方法，其特征在于，在加熱和加壓的至少任一種情況下將權(quán)利要求1718中任一項(xiàng)所述感光性膜層疊在基體的表面上后，進(jìn)行曝光、顯影。21.—種印制電路板，其特征在于，通過權(quán)利要求1920中任一項(xiàng)所述永久圖案形成方法形成永久圖案。全文摘要本發(fā)明提供兼顧優(yōu)異的保存穩(wěn)定性和高感光度、能夠高精細(xì)地且高效地形成保護(hù)膜、絕緣膜等永久圖案的感光性組合物、感光性膜、使用該感光性組合物的永久圖案形成方法及通過該永久圖案形成方法形成永久圖案的印制電路板。因此，將至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)系化合物、熱交聯(lián)劑的該感光性組合物層疊在基體上，在25℃下暗處放置20分鐘后，將利用顯影液除去層疊在所述基體的感光性組合物的未曝光部分所需要的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)作為T₁；相對于層疊在所述基體的感光性組合物將該感光性組合物在40℃下暗處放置72小時(shí)后，將利用顯影液除去所述感光性組合物的未曝光部分所需要的時(shí)間(最短顯影時(shí)間)作為T₂時(shí)，滿足0.5＜T₂/T₁＜3的關(guān)系。文檔編號G03F7/004GK101401039SQ20078000832公開日2009年4月1日申請日期2007年2月6日優(yōu)先權(quán)日2006年3月8日發(fā)明者神川弘,藤牧一廣,高島正伸申請人:富士膠片株式會(huì)社