專利名稱：：帶有罩面層的光致聚合物印刷版的加工方法帶有罩面層的光致聚合物印刷版的加工方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及加工具有罩面層的依圖像曝光平版印刷版的方法，特別是其中罩面層的去除、顯影和涂膠在無任何中間洗滌步驟的情況下在單一步驟中進行的方法。平版印刷基于油和水的不混溶性，其中圖像區(qū)域優(yōu)選接受油性材料或印刷油墨，非圖像區(qū)域優(yōu)選接受水或潤版液。當適當制成的表面被水潤濕并施加印刷油墨時，背景或非圖像區(qū)域接受水并推斥印刷油墨，而圖像區(qū)域接受印刷油墨并推斥水。圖像區(qū)域中的印刷油墨隨后轉(zhuǎn)移到要在其上形成圖像的如紙、織物之類的材料表面上。但是，通常，首先將印刷油墨轉(zhuǎn)移到被稱作墊帶(blanket)的中間材料上，其隨后將印刷油墨轉(zhuǎn)移到要在其上形成圖像的材料表面上；這種技術被稱作膠版印刷。常用類型的平版印刷版前體包含施加到鋁基基底上的光敏涂層。該涂層可以對輻射起反應以致曝光的部分變得如此可溶以便在顯影過程中除去。這種版被稱作正性工作。另一方面，如果涂層的曝光部分通過輻射硬化，版被稱作負性工作。在這兩種情況下，留下的圖像區(qū)域接受印刷油墨，即是親油的，且非圖像區(qū)域(背景)接受水，即是親水的。圖像和非圖像區(qū)域之間的差異在曝光過程中發(fā)生，膠片(film)在真空下粘貼到印刷版前體上以確保良好的接觸。然后借助輻射源使該版曝光，該輻射源的一部分由UV輻射構成。當使用正性版時，膠片上的與版上的圖像對應的區(qū)域如此不透明以致光不會到達該版，而膠片上的與非圖像區(qū)域?qū)膮^(qū)域是透明的并允許光透過涂層，該涂層的溶解度提高。在負性版的情況下，發(fā)生相反情況膠片上的與版上的圖像對應的區(qū)域是透明的，而非圖像區(qū)域不透明。透明膠片區(qū)域下方的涂層由于入射光而硬化(例如通過光致聚合)，同時在顯影過程中除去不受光影響的區(qū)域。因此，負性工作版的光硬化表面是親油的并接受印刷油墨，而要被通過顯影劑除去的涂層涂布的非圖像區(qū)域的感光性降低并因此親水?；蛘?，該版也可以在無膠片的情況下以數(shù)字方式依圖像曝光。根據(jù)最近的開發(fā)，使用帶有熱敏層的版前體，其中通過依圖像直接加熱或用轉(zhuǎn)化成熱的紅外線輻射，產(chǎn)生涂層的加熱和未加熱區(qū)域的顯影劑溶解度4的差異。有時，使用水溶性聚合物作為具有氧敏涂層如可光致聚合涂層的平版印刷版前體上的臨時涂層(有時被稱作"罩面層")。水溶性聚合物具有在儲存、曝光過程中，特別是在曝光和進一步加工(顯影和類似加工)之間的期間保護該涂層免受大氣氧作用的功能。在此期間，臨時涂層必須表現(xiàn)出與光敏基底的充足粘合性以便在層不撕裂的情況下確保安全操作(制造、包裝、運輸、曝光等)。在顯影前，優(yōu)選通過用水洗滌，除去罩面層。對整潔的印刷圖像而言，圖像區(qū)域(即依圖像留下的涂層)必須很好地接受印刷油墨，而非圖像區(qū)域(即依圖像曝光出的基底，如鋁基底)不應該接受印刷油墨。為了保護依圖像曝光出的基底，如鋁基底免于出現(xiàn)指印、形成氧化鋁、腐蝕和機械侵蝕，如劃痕，在將印刷版安裝在印刷機中時，即為了保持和可能改進非圖像區(qū)域的親水性，通常對顯影的印刷版施以"涂膠"處理(也稱作"精加工")。在儲存之前或在印刷機長期靜置之前將版涂膠確保非圖像區(qū)域保持親水。在印刷開始時，涂膠溶液必須能夠用潤版液從版上迅速洗除，以便圖像區(qū)域能夠立即接受油墨。涂膠溶液長期已知并例如公開在DE2926645、DE2042217A1、US4,880，555Al、US4,033,919Al和US4,162,920Al中?，F(xiàn)有技術中所述的涂膠組合物的共同點在于，它們包含水溶性膠體或粘合劑，如阿拉伯樹膠、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、羧曱基纖維素、山梨醇或聚丙烯酰胺，且它們通常調(diào)節(jié)至pH值<6。在DE10345388Al中公開了用優(yōu)選含有tetraborat的水溶性淀粉或淀粉衍生物的堿性溶液涂膠；在涂膠步驟之前進行洗除罩面層和顯影的單獨步驟。具有罩面層的平版印刷版前體的加工是耗時的并產(chǎn)生大量廢水，因為在曝光和任選預熱步驟后通常需要下列步驟。(1)通過用水洗滌來除去罩面層(2)通過用水性堿性顯影劑處理來除去非圖像區(qū)域(3)用水漂洗(4)用通常酸性的涂膠組合物涂膠。在US6,482,578B2、US6,383,717Bl和WO02/31599A2中描述了負性工作前體的水性顯影劑；但是，在漂洗顯影的版后進行顯影和涂膠之前，在處理器的預洗段中洗除罩面層。適用于負性工作前體的顯影劑也描述在US4,370,406和US4,350,756中；但是這些專利不涉及具有罩面層的前體。在US5,155,011中，描述了帶有罩面層的再生層用的水性顯影劑，其包含有機溶劑、堿試劑、陰離子型表面活性劑、鏈烷酸、乳化劑、絡合劑和緩沖物質(zhì)；該專利沒有涉及涂膠。在GB1,148,362中，公開了帶有罩面層的可光致聚合的元件；該元件通過用顯影劑處理曝光的元件，用水漂洗并任選涂膠來加工。US2003/0165777Al和US2004/0013968Al公開了用于負性前體的非堿性的水性顯影劑。對于無罩面工藝的前體，在現(xiàn)有技術中描述了同時顯影和涂膠的方法。例如，DE2530502Al公開了用于可光固化層的同時顯影和涂膠的方法和裝置；所用液體包含水、有機溶劑和水溶性膠體。其中沒有公開帶有罩面層的負性前體的處理。US4,200，688涉及可用于除去非圖像區(qū)域和用于在顯影后保留非圖像部分的具有水相和水不混溶相的乳狀液；這些乳狀液容易在加載過程中變不穩(wěn)定，且沒有描述帶有罩面層的負性前體。在US4,381,340中，描述了可用于同時顯影和整理(finishing)的包含2-丙氧基乙醇、HLB值大于17的非離子型表面活性劑、無機鹽和聚合成膜劑的組合物；沒有描述帶有罩面層的前體的處理。WO02/101469描述了用包含特定多羥基化合物的水性堿性顯影-涂膠溶液的前體加工；沒有描述帶有罩面層的負性工作前體。在US4,873,174中公開了含有特定醇、磷酸鹽、特定聚合物、檸檬酸或苯甲酸、辛基硫酸鹽、苯曱酸鹽、檸檬酸鹽和溶劑合物作為必要組分的顯影和整理組合物；沒有公開帶有罩面層的前體。在WO2005/111727Al中公開了用pH值最多9的膠料溶液顯影帶有可光致聚合層的前體。本發(fā)明的目的是提供簡化具有罩面層的負性工作前體的加工并由此節(jié)省時間和金錢(由于使用小和便宜的處理機)并減少廢水量同時不影響可顯影性、光敏性和巻起(roll叩)(也稱作啟動(startup))的方法。令人驚訝地通過下列方法實現(xiàn)該目的，該方法包括(a)用可自由基聚合涂層對其敏感的輻射依圖像曝光負性工作的平版印刷版前體，該前體包含(i)具有親水表面的基底(ii)可自由基聚合涂層和(111)不透氧的水溶性或分散性罩面層，(b)用水性石咸性加工液處理依圖像曝光的前體，該加工液包含(i)水(ii)至少一種表面活性劑(lii)至少一種水溶性成膜親水聚合物(iv)至少一種堿性試劑，其量足以獲得pH9.5至14,和(v)任選一種或多種選自有機溶劑、抗微生物劑、絡合劑、緩沖物質(zhì)、濾光染料、防沫劑、防腐蝕劑和自由基抑制劑的添加劑，(c)從步驟(b)中獲得的處理過的前體中除去任何過量的加工液，(d)任選干燥，(e)任選烘烤，(f)將步驟(c)、(d)或(e)中獲得的前體安裝在印刷機上并隨后使其同時或接連與潤版液和印刷油墨接觸，前提是在步驟(a)至(f)任意之間沒有洗滌步驟，進一步前提是步驟(c)不是洗滌步驟且進一步前提是在步驟(b)后沒有涂膠步驟。負性工作的平版印刷版前體根據(jù)本發(fā)明的方法成像的前體是負性工作的并包含具有親水表面的基底、可自由基聚合涂層和不透氧罩面層?；子糜谇绑w的基底優(yōu)選為尺寸穩(wěn)定的板或箔形材料，如已經(jīng)用作印刷品基底的材料。此類基底的實例包括紙、涂有塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的紙、金屬板或箔，如鋁(包括鋁合金)、鋅和銅板、由例如二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、硝酸纖維素、聚對苯二曱酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制成的塑料薄膜，和由紙或塑料薄膜和上述金屬之一制成的層壓材料，或已經(jīng)通過氣相沉積法金屬化的紙/塑料薄膜。在這些基底中，鋁板或箔尤其優(yōu)選，因為其表現(xiàn)出顯著程度的尺寸穩(wěn)定性、便宜并且還表現(xiàn)出與輻射敏感涂層的優(yōu)異粘合性。此外，可以使用復合薄膜，其中鋁箔層壓到塑料薄膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜，或紙張，或已通過氣相沉積法在其上施加了鋁的塑料薄膜上。7金屬基底，特別是鋁基底，優(yōu)選經(jīng)過表面處理，例如通過在干狀態(tài)下刷擦或用磨料懸浮液刷擦來顆粒化，或電化學顆粒化，例如借助鹽酸電解質(zhì)或HN03,和任選陽極化，例如在硫酸或磷酸中。優(yōu)選具有0.1至0.7毫米，更優(yōu)選0.15至0.5毫米厚度的鋁箔是尤其優(yōu)選的基底。該箔優(yōu)選顆?；?優(yōu)選電化學方式)，并隨后表現(xiàn)出0.2至1微米，尤其優(yōu)選0.3至0.8微米的平均粗糙度。根據(jù)尤其優(yōu)選的實施方案，顆?；匿X箔進一步陽極化。所得氧化鋁的層重量優(yōu)選為1.5至5克/平方米，尤其優(yōu)選2至4克/平方米。此外，為了改進已經(jīng)顆?；腿芜x陽極化的金屬基底的表面的親水性質(zhì)，可以用例如硅酸鈉、氟化鈣鋯、聚乙烯基膦酸或磷酸的水溶液對該金屬基底施以后處理。上述基底處理的細節(jié)是本領域技術人員公知的?？勺杂苫酆贤繉?UV/VIS和IR)負性工作的涂層包含，作為必要要素，(a)至少一種選自光引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系的吸收劑組分，其吸收波長250至1200納米的輻射并且能夠引發(fā)自由基聚合，和(b)至少一種可自由基聚合的單體、低聚物和/或預聚物。吸收劑組分吸收劑組分選自光引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系。選擇吸收劑組分以使其能夠在隨后成像過程中使用的輻射源發(fā)出的范圍內(nèi)顯著吸收；優(yōu)選地，吸收劑表現(xiàn)出在此范圍內(nèi)的最大吸收。因此，如果輻射敏感元件例如要借助紅外激光成像，吸收劑應該基本吸收在大約750至1200納米范圍內(nèi)的輻射并優(yōu)選表現(xiàn)出在此范圍內(nèi)的最大吸收。另一方面，如果成像要借助UV/VIS輻射進行，吸收劑應該基本吸收在大約250至750納米范圍內(nèi)的輻射并優(yōu)選表現(xiàn)出在此范圍內(nèi)的最大吸收。合適的光引發(fā)劑和/或敏化劑是本領域技術人員已知的，或可以容易地通過簡單試驗確定在所需波長范圍內(nèi)是否發(fā)生顯著吸收(例如記錄吸收譜)。在本發(fā)明中，光引發(fā)劑是在曝光時能夠吸收輻射并且能夠單獨，即在不添加共引發(fā)劑的情況下形成自由基的化合物。合適的吸收UV或VIS輻射的光引發(fā)劑的實例包括帶有1至3個CX3基團(其中每個X獨立地選自氯或溴原子，優(yōu)選為氯原子)的三嗪衍生物、六芳基雙咪唑化合物、安息香醚、偶苯?？s酮、肟醚、肟酯、a-羥基-或a-氨基-苯乙酮、?；ⅰⅤ；⒀趸铩Ⅴ；⒘蚧?、金屬茂、過氧化物等。合適的三嗪衍生物包括2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯曱基)-均三嗪、2-曱基-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪、2-(苯乙烯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對曱氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-曱氧基-萘酚_1_基)_4,6-雙(三氯曱基)-均三。秦、和2-(4-乙氧基-萘酚-l-基)-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘盼-1-基]-4,6-雙(三氯甲基)-均三。秦。合適的肟醚和肟酯是例如衍生自苯偶姻的那些。優(yōu)選的金屬茂是例如具有兩個五元環(huán)二烯基(如環(huán)戊二烯基)與一個或兩個含至少一個鄰位氟原子的六元芳基與任選的一個吡咯基的二茂鈦；最優(yōu)選的金屬茂是雙(環(huán)戊二烯基)-雙-[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]鈦和二環(huán)戊二烯-雙-2,4，6-三氟苯基-鈦或鋯。在本發(fā)明中，可以使用單一光引發(fā)劑或兩種或更多種的混合物。光引發(fā)劑可以單獨使用或與一種或多種共引發(fā)劑結合使用；共引發(fā)劑的添加可以提高光引發(fā)效率。對光引發(fā)劑的量沒有特別限制；但是，如果存在光引發(fā)劑，其優(yōu)選在干層重量的0.2至25重量％，尤其優(yōu)選0.5至15重量％的范圍內(nèi)。本發(fā)明中提到的敏化劑是在曝光時可吸收輻射但其自身不能，即在不添加共引發(fā)劑的情況下形成自由基的化合物?？晒庵卵趸蚬庵逻€原或能夠?qū)⑵浼ぐl(fā)能轉(zhuǎn)移到受體分子中的所有光吸收化合物是適用在本發(fā)明中的敏化劑。此類染料的實例包括花青染料、部花青染料、氧鏡醇類染料、二芳基曱烷染料、三芳基曱烷染料、口占噸染料、香豆素衍生物、香豆素酮類染料、吖啶染料、吩。秦染料、喹喔啉染料、p比咯镥染料或石危代他咯輸染料(thiapyrryliumdyes)、azaanulene染料(如酞菁染料和紫菜堿)、靛藍染料、蒽醌染料、聚芳撐、聚芳基多烯、2,5-二苯基異苯并呋喃、2,5-二芳基呋喃、2,5-二芳基硫代呋喃、2,5-二芳基吡咯、2,5-二芳基環(huán)戊二烯、聚芳基亞苯基、聚芳基-2-吡唑啉、羰基化合物，如芳族酮或醌，例如二苯曱酮衍生物、米貴酮、噻噸酮衍生物、蒽醌衍生物和藥酮衍生物。式(I)的香豆素敏化劑例如適用于電磁語的UV范圍其中R1、R16、R"和R"獨立地選自-H、鹵素原子、C廣C2o烷基、-OH、-0-I^和-NRSr6,其中！^是C廣C2o烷基、Cs-Co芳基或。6-(:30芳烷基(優(yōu)選d-C6烷基)，RS和RS獨立地選自氫原子和CrC2o烷基，或W和R16、R"和R"或R"和R"—起形成在與式(I)中所示的苯環(huán)相鄰的一個或兩個位置上具有選自N和O的雜原子的5-或6-元雜環(huán)，或R"或R"與其兩個相鄰取代基的每一個一起形成在與式(I)中所示的苯環(huán)相鄰的一個或兩個位置上具有選自N和O的雜原子的5-或6-元雜環(huán)，其中每個形成的5-或6-元雜環(huán)可以獨立地被一個或多個C廣C6烷基取代，條件是R1、R16、R"和Ris的至少一個不同于氫和CrC加烷基，112是氫原子、d-C2。烷基、C5-d。芳基或C6-C3o芳烷基，且R3是氫原子或選自下列的取代基-COOH、-COOR7、-COR8、-CONR9R1Q、-CN、C5-C1()芳基、C6-C3o芳烷基、任選苯并稠合的5-或6-元雜環(huán)基團、基團-CHK:H-R"和<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>其中R是d-C2o烷基，118是d-C2o烷基或5-或6-元雜環(huán)基團，119和R"獨立地選自氬原子和CrC2。烷基，RU是d-d2烷基或鏈烯基、雜環(huán)非芳族環(huán)或任選具有選自O、S和N的雜原子的CVC2。芳基，且1112是CVCk)芳基或5-或6-元雜環(huán)，任選為芳環(huán)；或112和W和與它們鍵合的碳原子一起形成5-或6-元環(huán)，任選為芳環(huán)。例如在WO2004/049068Al中更詳細描述了它們。此外，如WO2004/074929A2中更詳細描述的式(II)的二哺唑衍生物及類似物和如WO2004/074930A2中詳細描述的式(III)的-惡唑化合物適用于UV范圍，其中X是包含至少一個與雜環(huán)共軛的C-C雙鍵的間隔基，Y和Z獨立地代表任選被取代的稠合芳環(huán)，且V和W獨立地選自O、S和NR，其中R是任選可被單取代或多取代的烷基、芳基或芳烷基，其中R1、112和R各自獨立地選自卣素原子、任選被取代的烷基、可以也稠合的任選被取代的芳基、任選被取代的芳烷基、基團-忖114115和基團-OR6,其中R"和RS獨立地選自氫原子、烷基、芳基或芳烷基，W是任選被取代的烷基、芳基或芳烷基，或氫原子，且k、m和n獨立地為0或1至5的整數(shù)。如WO2004/111731Al中所述的式(IV)的1,4-二氫吡啶化合物是另一類適用于UV范圍的敏化劑的實例ii<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(IV)其中Ri選自氫原子、-C(O)OR7、任選被取代的烷基、任選被取代的芳基和任選被取代的芳烷基，r和r獨立地選自任選被取代的烷基、任選被取代的芳基、cn和氬原子，R4和R5獨立地選自-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(0)NR8R9和CN,或112和R"—起形成任選被取代的苯環(huán)或5-至7-元碳環(huán)或雜環(huán)，其中單元存在于與該二氫吡啶環(huán)的位置5相鄰的該碳環(huán)或雜環(huán)中，且其中該碳環(huán)或雜環(huán)任選包含附加的取代基，或R2和R4以及R3和R5都形成任選被取代的苯環(huán)或5-至7-元碳環(huán)或雜環(huán)，其中單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>存在于與該二氫吡啶環(huán)的位置3和5相鄰的該碳環(huán)或雜環(huán)中，且其中該碳環(huán)或雜環(huán)任選包含附加的取代基，或成對的R"R"和RVW之一形成5-至7-元碳環(huán)或雜環(huán)，其中單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>存在于與該二氫吡啶環(huán)的位置5或3相鄰的該碳環(huán)或雜環(huán)中，且其中該碳環(huán)或雜環(huán)任選包含附加的取代基，且另一對形成任選被取代的苯環(huán)，或R與W或113與W形成可任選包含一個或多個取代基且除了與1,4-二氫吡啶環(huán)共享的氮原子外還任選包含附加的氮原子、-NR13基團、-S-或-O-的5-至7-元雜環(huán)，R"選自氫原子、烷基、芳基和芳烷基，R6選自任選被由素原子或-C(O)基團取代的烷基、任選被取代的芳基、任選被取代的芳烷基、任選被取代的雜環(huán)基和基團Y是亞烷基或亞芳基，W是氫原子、芳基、芳烷基或烷基，其中該烷基和芳烷基的烷基單元任選包含一個或多個C-C雙鍵和/或C-C三鍵，且118和119獨立地選自氬原子、任選被取代的烷基、任選被取代的芳基和任選被取代的芳烷基。下列化合物也是適用于UV-敏感元件的敏化劑DE102004051810中更詳細描述的式(V)的敏化劑(v)其中@和各個@獨立地代表芳族或雜芳族單元，13各個R1和f獨立地選自卣素原子、烷基、芳基或芳烷基、基團^114115或基團-0116,R4、115和116獨立地選自烷基、芳基和芳烷基，n是至少為2的整數(shù)，且k和m獨立地代表0或1至5的整數(shù)，以及DE102004055733中更詳細描述的式(VI)的低聚或聚合化合物(vi)其中(5)是芳族或雜芳族單元或兩者的組合，使得在結構(i)中的兩個基團z之間存在共軛兀-體系，各個Z獨立地代表連接間隔基AS和共軛體系的雜原子，各個W和R獨立地選自卣素原子、烷基、芳基、烷芳基或芳烷基、基團-NRI^和基團-OR5,各個R3、114和115獨立地選自烷基、芳基、烷芳基和芳烷基，a和b獨立地代表0或1至4的整數(shù)，n具有M的值，且AS是脂族間隔基。如果輻射-敏感元件被VIS激光二極管照射，如WO03/069411Al中所述的氰基吡啶酮衍生物例如適合作為敏化劑。對于IR-敏感元件而言，敏化劑例如選自炭黑、酞菁顏料/染料和聚噻吩、方酸(squarylium)、噻唑镎、克酮酸酯(croconate)、部花青、花青、舊、吡喃鐨(pyrylium)或metaldithiolin類的顏料/染料，尤其優(yōu)選選自花青類。例如US6,326,122的表1中提到的化合物是合適的IR吸收劑。在US4,327,169、US4,756,993、US5,156,938、WO00/29214、US6,410,207和EP1176007Al中可以找到進一步的實例。根據(jù)一個實施方案，使用式(VII)的花青染料其中各個Z^蟲立地代表S、O、NRa或C(烷基)2;各個R'獨立地代表烷基、烷基磺酸根或烷基銨基團；R"代表卣素原子、SRa、ORa、S02Ra或NRa2(優(yōu)選為鹵素原子、SRa或NRa2);各個R'"獨立地代表氬原子、烷基、-COORa、-ORa、-SRa、-NRa2或卣素原子；R'"也可以是苯并稠環(huán)；A—代表陰離子；Rb和Re均代表氫原子，或和與它們鍵合的碳原子一起形成五元或六元碳環(huán)；Ra代表氫原子、烷基或芳基(在SRa中，Ra優(yōu)選為以S為芳環(huán)中的一員的芳基；在NR、中，各RM尤選為芳基)；各個b獨立地為0、1、2或3。如果R'代表烷基磺酸根，可以形成內(nèi)鹽，這樣陰離子A—不是必需的。如果R'代表烷基銨基團，需要與A—相同或不同的第二抗衡離子。在式(VII)的IR染料中，具有對稱結構的染料尤其優(yōu)選。尤其優(yōu)選的染料的實例包括2-[2-[2-苯基磺?；?3-[2-(l,3-二氫-l,3,3-三曱基-2H-吲哚-2-亞基)-亞乙基]-l-環(huán)己烯-l-基]-乙烯基]-l,3，3-三曱基-3H-吲哚錯氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(l,3-二氫-l,3，3-三曱基-2H-吲哚-2-亞基)-亞乙基]-l-環(huán)己烯-l-基]-乙烯基]-l,3,3-三甲基-3H-吲哚錯氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(l,3-二氫-l,3,3-三曱基-2H-吲哚-2-亞基)-亞乙基]-l-環(huán)戊烯-l-基]-乙烯基]-l，3,3-三曱基-3H-吲哚錯曱苯磺酸鹽，2-[2-[2-氯-3-[2-(l,3-二氫-U,3-三甲基-2H-苯并[e]-吲哚-2-亞基)-亞乙基]-l-環(huán)己烯-l-基]-乙烯基]-l,3,3-三甲基-lH-苯并[e]-吲哚镎曱苯磺酸鹽，5-氯-2腸(2-{3-[2-(5-氯-1-乙基-3,3曙二甲基-1,3-二氫-口引哚-2-亞基)誦亞乙基]-2-二苯基氨基-環(huán)戊-1-烯基}-乙烯基)-l-乙基-3,3-二甲基-3H-吲哚鏡鹽(例如，四氟硼酸鹽)和2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(311-苯并噻唑-2-亞基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑镎甲苯磺酸鹽。下列化合物也是適用于本發(fā)明的IR吸收劑<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>在本發(fā)明中，可以使用一種敏化劑或兩種或更多種的混合物。敏化劑與一種或多種共引發(fā)劑結合使用。另夕卜，可以使用光引發(fā)劑；但是，這不是優(yōu)選的。對敏化劑的量沒有特別限制；但是，如果存在敏化劑，其優(yōu)選為干層重量的0.2至15重量％,尤其優(yōu)選為0.5至10重量％。如果涂層中存在光引發(fā)劑和敏化劑，它們的總量優(yōu)選為干層重量的0.5至30重量％，尤其優(yōu)選為1至15重量％。本發(fā)明中被稱作共引發(fā)劑的是在被照射時基本不能吸收但與本發(fā)明中所用的吸收輻射的敏化劑一起形成自由基的化合物。該共引發(fā)劑例如選自鏞類化合物，例如這樣的錯類化合物——其中的錯陽離子選自碘錚(如三芳基碘镎鹽)、锍(如三芳基锍鹽)、磷鉻、氧基氧化锍(oxylsulfoxonium)、氧基锍(oxysulfonium)、氧化锍、銨、重氮(diazonium)、硒錯、砷錯和N-取代N-雜環(huán)镎陽離子，其中N被任選被取代的烷基、鏈烯基、鏈炔基或芳基取代；N-芳基甘氨酸及其衍生物(例如N-苯基甘氨酸)；芳族磺酰卣；三卣代甲基芳基砜；酰亞胺，如N-苯甲酰氧基鄰苯二曱酰亞胺；重氮磺酸鹽；9,10-二氬蒽衍生物；具有至少兩個羧基(其中至少一個鍵合到芳基單元的氮、氧或硫原子上)的N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸(例如苯胺二乙酸及其衍生物和US-A-5,629,354中所述的其它共引發(fā)劑)；六芳基聯(lián)咪唑；硫醇化合物(例如巰基苯并噻唑、巰基苯并咪唑和巰基三唑)；具有1至3個CX3基團的1,3,5-三嗪衍生物(其中每個X獨立地選自氯或溴原子，優(yōu)選為氯原子)，如2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯曱基)-均三嗪、2-曱基-4,6-雙(三氯曱基)-均三溱、2-苯乙烯基-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪、2-(對曱氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基-萘酚-l-基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-乙氧基-萘酚-l-基)-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘盼-l-基]-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪；肟醚和肟酯，如衍生自苯偶姻的那些；金屬茂(優(yōu)選二茂鈦，尤其優(yōu)選具有兩個5元環(huán)二烯基(如環(huán)戊二烯基)和一個或兩個含至少一個鄰位氟原子和任選吡咯基的六元芳基的那些，如雙(環(huán)戊二烯基)-雙-[2,6-二氟-3-(吡咯-l-基)-苯基]鈦和二環(huán)戊二烯-雙-2,4,6-三氟苯基-鈦或鋯)；?；⒀趸?、二?；⒀趸锖瓦^氧化物(例如EP1035435Al中作為有沖幾過氧化物型活化劑列出的那些)；a-羥基或a-氨基苯乙酮、?；?、?；⒘蚧?、羰基化合物，如芳族酮或醌，例如二苯甲酮衍生物、米蚩酮、噻噸酮衍生物、蒽醌衍生物和藥酮衍生物。合適的2,2',4,4',5,5'-六芳基聯(lián)咪唑(下文中簡稱為六芳基聯(lián)咪唑)表示為下式(VIII):A2A3A5A6NNa1(vm)A4其中A^八S是取代的或未取代的C5-C20芳基，它們彼此相同或不同，并且在其環(huán)中一個或多個碳原子可以任選被選自O、N和S的雜原子取代。適用于該芳基的取代基是不會抑制光誘發(fā)離解成三芳基咪唑基的那些，例如鹵素原子(氟、氯、溴、碘)、-CN、CrCs烷基(任選具有一個或多個選自卣素原子、-CN和-OH的取代基)、d-C6烷氧基、C廣C6烷基硫代、(d-C6烷基)磺?；?yōu)選的芳基是取代的和未取代的苯基、聯(lián)苯基、萘基、吡啶基、呋喃基和噻吩基。尤其優(yōu)選的是取代的和未取代的苯基，特別優(yōu)選的是鹵素取代的苯基。實例包才套2,2'-雙(溴苯基)-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對羧基苯基)-4,4',5,5"-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯笨基)-4,4',5,5'-四(對曱氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對氯苯基)-4,4',5,5'-四(對曱氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對氰基苯基)-4,4'5,5'-四(對曱氧基苯基)聯(lián)咪唑，232,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(2,4-二甲氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰乙氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基聯(lián)咪嗤，2,2'-雙(間氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰己氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰己基苯基)-4,4',5，5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(3,4-亞甲二氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(間曱氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四[間(p苯氧基-乙氧基苯基)]聯(lián)咪唑，2,2'-雙(2,6-二氯苯基)-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰曱氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對曱氧基苯基)-4,4'-雙(鄰曱氧基苯基)-5,5'-二苯基聯(lián)咪唑,2，2'-雙(鄰硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對苯基磺?；交?-4，4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(對氨磺?；交?-4，4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(2,4,5-三甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-4-聯(lián)苯基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-1-萘基-4,4',5,5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-二-9-菲基-4,4',5,5'-四(對曱氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-二苯基-4,4',5,5'-四-4-聯(lián)苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二苯基-4,4'，5,5'-四-2,4-二甲苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-3-吡啶基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-3-p塞吩基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-鄰曱苯基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-對曱苯基-4,4'-二-鄰曱苯基-5,5'-二苯基聯(lián)咪唑，2,2'-二-2,4-二曱苯基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'，4,4'，5,5'-六(對千基苯硫基)聯(lián)咪唑，2,2',4,4',5,5'-六-1-萘基聯(lián)咪唑，2,2',4,4',5,5'-六苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(2-硝基-5-曱氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰硝基苯基)-4，4',5,5'-四(間曱氧基苯基)聯(lián)咪唑，和2,2'-雙(2-氯-5-磺苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，尤其優(yōu)選的是2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑，2，2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5，5'-四(對氟苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四(對碘苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(對氯萘基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(對氯苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四(對氯-對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(鄰,對二氯苯基)聯(lián)咪唑，2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(鄰,對二溴苯基)聯(lián)咪唑，2，2'-雙(鄰溴苯基)-4,4'，5,5'-四(鄰,對二氯苯基)聯(lián)咪唑或2，2'-雙(鄰,對二氯苯基)-4,4',5,5'-四(鄰,對二氯苯基)聯(lián)咪唑；但本發(fā)明不限于這些化合物?？梢愿鶕?jù)已知方法制備合適的六芳基聯(lián)咪唑(參見例如US-A-3,445,232)。優(yōu)選方法是相應的三芳基咪唑與鐵-(III)-六氰基高鐵酸鹽(II)在堿溶液中的氧化二聚。對本發(fā)明目的而言，使用哪種六芳基聯(lián)咪唑異構體(或異構體混合物)是無關緊要的(例如1,2'-,l,r-,1,4',2,2'-,2,4'陽和4,4'-異構體),只要其是可光離解的并在該方法中提供三芳基咪唑基自由基。適合用作共引發(fā)劑的三卣甲基化合物能夠形成自由基。三鹵曱基取代的三。秦和三卣甲基-芳基砜是優(yōu)選的。作為實例可以提到下列化合物(本發(fā)明不限于這些化合物)2-(4-曱氧基苯基)-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪，2-(4-氯苯基)-4,6-雙-(三氯甲基)-均三嗪，2-苯基-4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪，2,4,6-三-(三氯甲基)-均三嗪，2,4,6-三-(三溴甲基)-均三嗪和三溴曱基苯基砜。許多共引發(fā)劑當暴露在其吸收譜帶中時也可以充當光引發(fā)劑。由此，可以獲得例如在寬的光譜范圍內(nèi)敏感的光敏層，因為光引發(fā)劑或敏化劑覆蓋長波長的光諳范圍(IR和/或可見光范圍)且共引發(fā)劑覆蓋短波長的光諳范圍(例如UV范圍)。如果用戶想要用不同的輻射源照射相同的材料，這種效果可能是有利的。在這種情況下，共引發(fā)劑在上文對IR或可見光范圍給出的定義的意義上充當實際共引發(fā)劑，同時其充當UV范圍的光引發(fā)劑。在本發(fā)明中，可以使用一種共引發(fā)劑或共引發(fā)劑混合物。對共引發(fā)劑的量沒有特別限制；但是其優(yōu)選為干層重量的0.2至25重量％，尤其優(yōu)選0.5至15重量％。在WO2004/041544、WO2000/48836和DE102004003143中也提到適用于IR-光敏涂層的敏化劑和共引發(fā)劑的進一步實例?？勺杂苫酆系慕M分可以使用包含至少一個非芳族C-C雙鍵的所有單體、低聚物和聚合物作為可自由基聚合的單體、低聚物和聚合物。也可以使用帶有C-C三鍵的單體/低聚物/聚合物，但是它們不優(yōu)選。合適的化合物是本領域技術人員公知的并可以沒有任何特別限制地用在本發(fā)明中。單體、低聚物或預聚物形式的含有一個或多個不飽和基團的丙烯酸和甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸和異巴豆酸、馬來酸和富馬酸的酯是優(yōu)選的。它們可以以固體或液體形式存在，其中固體和高粘形式是優(yōu)選的。適合作為單體的化合物包括例如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯或三曱基丙烯酸季戊四醇酯、雙季戊四醇單羥基五丙烯酸酯和五曱基丙烯酸酯、雙季戊四醇六丙烯酸酯和六曱基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、雙三幾曱基丙烷四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯和二曱基丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯和二曱基丙烯酸酯或四乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯。合適的低聚物和/或預聚物是例如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯或不飽和聚酯樹脂。除單體和/或低聚物外，也可以使用在主鏈或側鏈中包含可自由基聚合的c-c雙鍵的聚合物。其實例包括馬來酸酐共聚物與(甲基)丙烯酸羥烷基酯的反應產(chǎn)物(參見例如DE4311738Cl);用烯丙醇部分或全部酯化的(甲基)丙烯酸聚合物(參見例如DE3332640Al);聚合多元醇與異氰酸根合烷基(甲基)丙烯酸酯的反應產(chǎn)物；不飽和聚酯；(曱基)丙烯26酸酯封端的聚苯乙烯、聚(曱基)丙烯酸酯、聚(曱基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酰胺；用包含可自由基聚合基團的環(huán)氧化物部分或全部酯化的(曱基)丙烯酸聚合物；例如可通過(曱基)丙烯酸烯丙酯(任選與其它共聚單體)的聚合獲得的具有烯丙基側基的聚合物；用乙烯醇部分酯化的(甲基)丙烯酸聚合物；和用(曱基)丙烯酸乙二醇酯部分酯化的(曱基)丙烯酸聚合物。本發(fā)明中可用的可自由基聚合化合物也包括分子量為3，000或更低的化合物，并且是通過使二異氰酸酯與(i)含一個羥基的烯鍵式不飽和化合物和同時與(ii)含一個NH基團和一個OH基團的飽和有機化合物反應獲得的反應產(chǎn)物，其中反應物以符合下列條件的量使用異氰酸酯基團的摩爾數(shù)《OH+NH基團的摩爾數(shù)二異氰酸酯的實例如下式所示0=C=N-(CR92)a-D-(CR92)b-N=C=0(IX)其中a和b獨立地代表0或1至3的整數(shù)，各個R"蟲立地選自H和C廣C3烷基，且D是飽和或不飽和的間隔基，其可以任選包含除兩個異氰酸酯基團外的其它取代基。D可以是鏈型或環(huán)型單元。本發(fā)明中所用的術語"二異氰酸酯"是指包含兩個異氰酸酯基團但不含OH基團和仲氨基和伯氨基的有機化合物。D可以例如是亞烷基(CH2)w,其中w是1至12的整數(shù)，優(yōu)選1至6，且一個或多個氫原子任選被如烷基(優(yōu)選CrC6)的取代基替代；環(huán)亞烷基；亞芳基或飽和或不飽和二價雜環(huán)基。包含羥基的烯鍵式不飽和化合物(i)包含至少一個非芳族C-C雙鍵，其任選為端基。該羥基優(yōu)選不鍵合到雙重鍵合的碳原子上；該羥基不是羧基的一部分。除一個OH基團外，該烯鍵式不飽和化合物(i)不含任何可以與異氰酸酯反應的其它官能團，例如NH。烯鍵式不飽和化合物(i)的實例包括(曱基)丙烯酸羥基(Crd2)烷基酯(例如(曱基)丙烯酸2-羥乙基酯、(甲基)丙烯酸2-或3-羥丙基酯、(曱基)丙烯酸2-、3-或4-羥丁基酯)、羥基(Crd2)烷基-(曱基)丙烯酰胺(例如2-羥乙基(曱基)丙烯酰胺、2-或3-羥丙基(曱基)丙烯酰胺、2-、3-或4-羥丁基(曱基)丙烯酰胺)、低聚或聚合的乙二醇或丙二醇的單(甲基)丙烯酸酯(例如聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇單(甲基)丙烯酸酯)、烯丙醇、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、4-羥基(d-Cu)烷基苯乙烯(例如，4-羥曱基苯乙烯)、4-羥基苯乙烯、羥基環(huán)己基(甲基)丙烯酸酯。本發(fā)明通篇使用的術語"(曱基)丙烯酸酯"及類似術語表示甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯等。飽和有機化合物(ii)是具有一個OH和一個NH基團的化合物。該飽和有機化合物(ii)例如可以由下式(X)或(XI)表示其中R"是直鏈(優(yōu)選C廣d2、尤其優(yōu)選d-C4)、支鏈(優(yōu)選C3-Cu、尤其優(yōu)選C3-C6)或環(huán)狀(優(yōu)選CrCs、尤其優(yōu)選Cs-C6)烷基，E是直鏈(優(yōu)選CrC6、尤其優(yōu)選CrC2)、支鏈(優(yōu)選CVd2、尤其優(yōu)選C3-C6)或環(huán)狀(優(yōu)選C3-C8、尤其優(yōu)選C5-C6)亞烷基，Y代表含5至7個環(huán)原子的飽和雜環(huán)，其除如上所示的氮原子外任選還包含另一個選自S、O的雜原子和NR12,其中R^是任選被OH基團取代的烷基，R"是OH或被OH基團取代的直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基，且如果該雜環(huán)包含NR12且1112是被OH取代的烷基，z=0，且如果該飽和雜環(huán)不含NR^或如果該飽和雜環(huán)包含NR"且1112是未取代的烷基，z=1。異氰酸酯基團的摩爾數(shù)必須不超過OH基團和NH基團的總摩爾數(shù)，因為該產(chǎn)物不應該再包含自由異氰酸酯基團。在例如EP1176007A2中描述了其它合適的C-C不飽和可自由基聚合化合物。Rlu—N-E~OH當然可以使用不同類型的單體、低聚物或聚合物的混合物；此外，在本發(fā)明中可以使用單體和低聚物和/或聚合物的混合物，以及低聚物和聚合物的混合物。可自由基聚合的組分優(yōu)選以干層重量的5至95重量％,尤其優(yōu)選10至85重量％的量使用。無論該元件是UV/VIS-還是IR-敏感的，可光致聚合的涂層除了基本組分外還可以包含一種或多種下列任選組分。如果該涂層由幾層構成，任選組分可以存在于一層、幾層或所有層中?？梢源嬖谠诳梢姽庹Z范圍內(nèi)具有高吸收的染料或顏料以提高對比度("對比染料和顏料")。特別合適的染料和顏料是在用于涂布的溶劑或溶劑混合物中充分溶解或容易以顏料分散體形式引入的那些。合適的對比染料尤其包括若丹明染料、三芳基曱烷染料，如Victoria藍R和Victoria藍BO、結晶紫和甲基紫、蒽醌顏料、偶氮顏料和酞菁染料和/或顏料。著色劑優(yōu)選以干層重量的0至15重量％，更優(yōu)選0.5至10重量％,特別優(yōu)選1.5至7重量％的量存在。此外，該層可以包含表面活性劑(例如陰離子型、陽離子型、兩性的或非離子型表面活性劑或其混合物)。合適的實例包括含氟聚合物、具有環(huán)氧乙烷和/或環(huán)氧丙烷基團的聚合物、山梨糖醇-三-硬脂酸酯和烷基-二-(氨基乙基)-甘氨酸。它們優(yōu)選以干層重量的0至10重量％,更優(yōu)選0.1至5重量％,尤其優(yōu)選0.2至1重量％的量存在。該層還可以包含印出染料，如結晶紫內(nèi)酯或光致變色染料(例如螺環(huán)吡喃等)。它們優(yōu)選以干層重量的0至15重量％,尤其優(yōu)選0.5至5重量％的量存在。此外，層中可以存在流動改進劑，例如聚(甘醇)醚-改性的硅氧烷；它們優(yōu)選以干層重量的0至1重量％的量存在。該層可以進一步包含抗氧化劑，例如巰基化合物(2-巰基-苯并咪唑、2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并嗜唑和3-巰基-l,2,4-三唑)和磷酸三苯酯。它們優(yōu)選以干層重量的0至15重量％,尤其優(yōu)選0.5至5重量％的量存在。當然也可以存在其它涂料添加劑。可自由基聚合涂層的任選組々29是在可光致聚合涂層上施加罩面層以便在儲存、曝光過程中，特別在曝光和進一步加工之間的期間保護該涂層免受大氣氧作用。在此期況下確保安全操作(制造y包裝、運輸、、曝光等)。、、除了作為氧阻隔層的功能外，該罩面層也保護可光致聚合的涂層免受指印和機械破壞如劃痕。文獻中描迷了大量適合用于此類罩面層的水溶性聚合物。合適的實例是聚乙烯醇、也可以含有乙烯基醚和乙烯基縮醛單元的部分皂化的聚乙酸乙烯酯、聚乙烯基吡咯烷酮及其與乙酸乙烯酯和乙烯基醚的共聚物、羥烷基纖維素、明膠、聚丙烯酸、阿拉伯樹膠、聚丙烯酰胺、糊精、環(huán)糊精、烷基乙烯基醚和馬來酸酐的共聚物以及分子量高于5,000的環(huán)氧乙烷的水溶性高分子聚合物是特別合適的。聚乙烯醇是優(yōu)選的罩面層聚合物。也可以使用如WO99/06890中所述的與聚(l-乙烯基咪唑)或1-乙烯基-咪唑和至少一種其它單體的共聚物結合的聚乙烯醇。聚乙烯醇也可以與作為粘合劑的聚乙烯基吡咯烷酮結合使用。在US3,458,311、US4,072，527、US4,072，528、EP275147A1、EP403096Al、EP354475Al、EP465034Al和EP352630Al中也描述了罩面層。在優(yōu)選實施方案中，該罩面層包含聚乙烯醇或與聚(l-乙烯基咪唑)結合的聚乙烯醇(或其共聚物)。合適的聚乙烯醇可以以不貴的價格購得。它們通常具有0.1至30重量％的乙酸根殘留量。尤其優(yōu)選的是由殘留乙酸根含量為1.5至22重量%的聚乙酸乙烯酯獲得的聚乙烯醇。通過所用聚乙烯醇的分子量，可以控制本發(fā)明的罩面層的粘合性和水溶性。較低分子量有利于用水溶液除去罩面層?？梢酝ㄟ^熟練從業(yè)者已知的表面涂布法，如刮涂、輥涂、狹縫涂布、幕涂、噴涂或浸漬法施加水溶性罩面層。0.05至10克/平方米，更優(yōu)選0.2至3克/平方米，最優(yōu)選0.3至1克/平方米的干層重量是合適的。在許多情況下，在水溶液中施加水溶性罩面層是有利的。這對環(huán)境和人體具有最不有害的影響。但是，對一些用途而言，使用有機溶劑也有利。在一些基底中，在30涂布水溶液中加入0.5至60重量％的有機溶劑改進了粘合性。通過要被罩面的表面的輕微溶劑化，進一步提高本發(fā)明的罩面層的聚合物的粘合作用。這類充當溶劑的添加劑可以是例如醇或酮。為了均勻和迅速地潤濕要涂布的表面，可以在涂布溶液中加入陰離子型、陽離子型或非離子型潤濕劑。罩面層可以進一步包含穩(wěn)定劑、防腐劑、染料、泡沫分離劑和流變添加劑?！?濕本發(fā)明的方法中所用的加工液是pH值為9.5至14的堿性水溶液。,A可以使用自來水、去離子水或蒸餾水。水的量優(yōu)選為加工液總重量的45至95重量％,尤其優(yōu)選50至90重量％且特別優(yōu)選55至85重量％。減/擅為、石威性組分選自》咸金屬硅酸鹽、；威金屬氫氧化物、Na3P04、K3P04、NR4OH，其中各個R獨立地選自d-C4烷基和CrQ羥烷基，及其2種或更多種的混合物。選擇堿性組分的量(或在混合物的情況下，堿性組分的總量)以使加工液的pH值為9.5至14,優(yōu)選地，pH值為10.5至13。本發(fā)明中所用的術語"堿金屬硅酸鹽"還包括偏硅酸鹽和水玻璃。硅酸鈉和硅酸鉀是優(yōu)選的硅酸鹽。當使用堿金屬硅酸鹽時，硅酸鹽的量優(yōu)選為加工液的至少1重量％(按Sl02計算)。在石咸金屬氫氧化物中，NaOH和KOH尤其優(yōu)選。通常，使用堿金屬偏硅酸鹽容易在不用其它堿性添加劑如堿金屬氫氧化物的情況下提供大于12的pH值。當使用水玻璃時，如果需要高于12的pH值，還要使用堿金屬氫氧化物。優(yōu)選的季銨氫氧化物NR4OH包括例如四甲基氫氧化銨、三甲基乙醇氫氧化銨、曱基三乙醇氫氧化銨及其混合物；尤其優(yōu)選的氫氧化銨是四曱基氫氧化銨。對表面活性劑沒有具體限制，只要其與加工液的其它組分相容，并且可溶于pH值為9.5至14的堿性水溶液。該表面活性劑可以是陽離子型、陰離子型、兩性型或非離子型的。陰離子型表面活性劑的實例包括aliphates、松香鹽、羥基鏈烷磺酸鹽、烷基磺酸鹽、二烷基磺基丁二酸鹽、直鏈烷基苯磺酸鹽、支鏈烷基苯磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸鹽、聚氧乙烯烷基磺苯基醚的鹽、N-曱基-N-油烯基?；撬徕c、N-烷基磺基琥珀酸單酰胺二鈉、石油磺酸鹽、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂族烷基酯的硫酸酯的鹽、烷基硫酸酯的鹽、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂族甘油單酸酯的硫酸酯的鹽、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯的鹽、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯的鹽、烷基磷酸酯的鹽、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯的鹽、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯的鹽、苯乙烯馬來酸酐共聚物的部分鬼化的化合物、烯烴-馬來酸酐共聚物的部分皂化的化合物、萘磺酸酯-曱醛縮合物、十二烷基苯氧基苯二磺酸鈉、烷基化萘磺酸鈉鹽、亞甲基-二萘-二磺酸的二鈉鹽、十二烷基苯磺酸鈉、(二)磺酸化烷基二苯醚、全氟烷基磺酸的銨鹽或鉀鹽、以及二辛基-磺基丁二酸鈉。這些陰離子型表面活性劑中特別優(yōu)選的是烷基萘磺酸鹽、二磺酸化烷基二苯醚和烷基磺酸鹽。非離子型表面活性劑的合適實例包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物、甘油脂族酸的偏酯、脫水山梨醇脂族酸的偏酯、季戊四醇脂族酸的偏酯、丙二醇單脂族酸酯、蔗糖脂族酸的偏酯、聚氧乙烯脫水山梨醇脂族酸的偏酯、聚氧乙烯山梨糖醇脂族酸的偏酯、聚乙二醇脂族酯、聚-甘油脂族酸的偏酯、聚氧乙烯化蓖麻油、聚氧乙烯甘油脂族酸的偏酯、脂族二乙醇酰胺、N,N-雙-2-羥基烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂族酯、和三烷基胺氧化物。這些非離子型表面活性劑中特別優(yōu)選的是聚氧乙烯烷基苯基醚和聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物。此外，類似地可以使用氟類(fluorinic)和硅類(siliconic)陰離子型和非離子型表面活性劑。優(yōu)選的非離子型表面活性劑是聚氧乙烯和/或聚氧丙烯烷基醚。兩性表面活性劑是例如N-烷基氨基酸三乙醇銨鹽、椰油酰氨基丙基甜菜堿、椰油酰氨基烷基甘氨酸鹽、短鏈烷基氨基羧酸的鈉鹽、N-2-羥乙基-N-2-羧基乙基脂肪酸酰氨基乙胺鈉鹽和羧酸酰氨基醚丙酸鹽；優(yōu)選的是椰油酰氨基丙基甜菜堿。陽離子型表面活性劑的實例是四烷基氯化銨，如四丁基氯化銨和四曱基氯化銨，以及聚丙氧基化氯化季銨。非離子型、陰離子型和兩性表面活性劑及其混合物是優(yōu)選的。可以聯(lián)合使用兩種或更多種上述表面活性劑。對表面活性劑的量(或如果使用多于一種，則是表面活性劑的總量)沒有具體限制，但優(yōu)選為加工液總重量的0.01至20重量％,更優(yōu)選2至8重量％。加工液的另一基本組分是水溶性成膜親水聚合物。合適的聚合物的實例是阿拉伯樹膠、支鏈淀粉、纖維素衍生物如羧甲基纖維素、羧乙基纖維素或曱基纖維素，淀粉衍生物如(環(huán))糊精，聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、多羥基化合物如多糖，丙烯酸、曱基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物、乙烯基曱基醚與馬來酸肝的共聚物、乙酸乙烯酯與馬來酸酐的共聚物或苯乙烯與馬來酸肝的共聚物。優(yōu)選的聚合物是含有羧酸、磺酸或膦酸基團或其鹽的單體(例如(曱基)丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸和丙烯酰氨基丙烷磺酸)的均聚物或共聚物、多羥基化合物和淀粉衍生物。多羥基化合物和淀粉衍生物尤其優(yōu)選。淀粉衍生物應當是水溶性的，優(yōu)選可溶于冷水，并選自如糊精和環(huán)糊精的淀粉水解產(chǎn)物、如磷酸酯和氨基甲酸酯的淀粉酯、如陽離子型淀粉醚和羥丙基醚的淀粉醚，羧曱基淀粉和乙?；矸?；上述衍生物中糊精(包括含有四硼酸鈉并可以硼砂糊精為名購自EmslandStarkeGmbH的糊精)是優(yōu)選的。用作淀粉衍生物的原材料的淀粉可以是各種來源的，其可以獲自例如玉米、馬鈴薯、黑麥、小麥、水稻、木薯、木薯淀粉、栗子或橡子；玉米淀粉和馬鈴薯淀粉是優(yōu)選的。合適的水溶性多羥基化合物可以表示為下列結構R乂CHOH)nR233其中n是4至7;且或者(i)W是氫、芳基或CH20H;且W是氫、具有1至4個碳原子的烷基、其中的W是氫或具有1至4個碳原子的烷基的CH2OR3,其中的R4和RS各自獨立地為氫或具有1至4個碳原子的烷基的CH2N(R4R5),或C02H,或者(ii)R^和W—起形成碳-碳單鍵。在一組多羥基化合物中，Ri是氫或CH20H,且W是氫。在這些多羥基化合物的優(yōu)選組中，n是5或6。該組包括糖醇，結構為H(CHOH)nH的化合物，其不含游離醛或酮基團，并且沒有表現(xiàn)出還原性。糖醇可以獲自天然來源，或通過還原糖的氫化制備。優(yōu)選的糖醇包括甘露醇、山梨糖醇、木糖醇、核糖醇和阿拉伯糖醇。其它糖醇包括例如塔羅糖醇(ta固)、衛(wèi)矛醇和異衛(wèi)矛醇(allodulcitol)。在另一組多羥基化合物中，1^和112—起形成碳-碳單鍵。包括以下結構的碳環(huán)化合物(CHOH)n，其中n是4至7。在這些多羥基化合物的優(yōu)選組中，n是5或6，更優(yōu)選為6。1,2,3,4,5,6-六羥基環(huán)己烷有九種可能的立體異構體，其中幾種是天然存在的。優(yōu)選的多羥基化合物是內(nèi)消旋-肌醇(順式-l,2,3,5-反式-4,6-六羥基環(huán)己烷)。內(nèi)消旋-肌醇可以從玉米浸漬液體中分離。在另一組多羥基化合物中，W是氫、芳基或CH20H;且R是具有1至4個碳原子的烷基、其中的W是具有1至4個碳原子的烷基的CH2OR3、其中的I^和RS各自獨立地為H或具有1至4個碳原子的烷基的CH2N(R4R5)、或C02H。在另一組多羥基化合物中，W是氫或CH20H;且RS是C02H。更優(yōu)選地，W是H且n是4或5。該組包括結構H(CHOH)nC02H的多羥基化合物，其中n是4或5。概念上，這些多羥基化合物可以通過相應已糖或戊糖的氧化來制造，即己糖(如葡萄糖、半乳糖、阿洛糖、甘露糖等)的醛基的氧化，或戊糖(如阿拉伯糖、核糖、木糖等)的醛的氧化。特別優(yōu)選的多羥基化合物是上文提到的糖醇，如山梨糖醇。對成膜聚合物的量沒有具體限制；其優(yōu)選為加工液總重量的1至30重量％，更優(yōu)選5至20重量％。分(即表面活性劑、成膜親水聚合物和堿性化合物)夕卜，本發(fā)明中所用的加工液可以含有其它添加劑，如有才幾溶劑、抗微生物劑、絡合劑、緩沖物質(zhì)、染料、防沫劑、添味劑、防腐蝕劑和自由基抑制劑。合適的防沫劑包括例如市售SiliconeAntifoamEmulsionSE57(Wacker)、TRITONCF32(Rohm&Haas)、AKYPOLF(醚羧酸ChemY)、Agitan190(MiinzingChemie)、TEGOFoamese825(改性聚硅氧烷，TEGOChemieServiceGmbH,Germany)。有機硅基(Silicone-based)防沫劑是優(yōu)選的。它們可以分散或溶解在水中。加工液中防沫劑的量優(yōu)選為加工液重量的0至1重量％,尤其優(yōu)選0.01至0.5重量％?？梢証使用一種防沫劑或兩種或多種防沫劑的混合物。合適的緩沖物質(zhì)包括例如三(羥曱基)-氨基曱烷(TRIS)、磷酸氫鹽、甘氨酸、3-(環(huán)己氨基)-丙烷磺酸(CAPS)、碳酸氫鹽、包括硼砂的硼酸鹽、2-氨基-2-曱基-l-丙醇(AMP)、3-(環(huán)己氨基)-2-羥基-l-丙烷磺酸(CAPSO)、和2-(N-環(huán)己氨基)乙烷磺酸(CHES)。抗微生物劑應有效對抗細菌、真菌和/或酵母。合適的抗微生物劑包括例如N-羥曱基-氯乙酰胺、苯曱酸、苯酚或其衍生物、福爾馬林、咪唑衍生物、異噻唑啉酮衍生物、苯并三唑衍生物、脒類、胍衍生物、季銨鹽、吡咬、喹啉衍生物、二。秦、三唑衍生物、哺唑和哺。秦衍生物及其混合物。對它們的量沒有特殊限制，優(yōu)選在加工液中占該溶液總重量的0至10重量％,尤其優(yōu)選0.1至1重量％?？梢証使用一種抗;徵生物劑或兩種或多種抗微生物劑的混合物。合適的絡合劑的實例包括氨基多羧酸及其鹽，如乙二胺四乙酸及其鐘或鈉鹽、二亞乙基三胺五乙酸及其鉀或鈉鹽、三亞乙基四氨基-六乙酸及其鉀或鈉鹽、羥乙基乙二胺三乙酸及其鉀或鈉鹽、次氮基三乙酸及其鉀或鈉鹽、1,2-二氨基環(huán)己烷-四乙酸及其鐘或鈉鹽和1,3-二氨基-2-丙醇-四乙酸及其鉀或鈉鹽以及有機膦酸、膦酰基鏈烷三羧酸或其鹽，如2-膦?；⊥?l,2,4-三羧酸及其鉀或鈉鹽、膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸及其鉀或鈉鹽、膦酰基乙烷-2,2,2-三羧酸及其鉀或鈉鹽、氨基三-(亞甲基膦酸)及其鉀或鈉鹽、以及葡萄糖酸鈉。該絡合劑可以單獨使用，或兩種或多種混合使用。可以使用上述絡合劑的有機胺鹽代替其鉀或鈉鹽。絡合劑的量優(yōu)選在加工液中占該溶液總重量的0至5重量％,尤其優(yōu)選0.01至351重量％。該加工液還可以包含有機溶劑或有機溶劑的混合物。該加工液為單相。因此，有機溶劑必須可以與水混溶，或至少在加工液中可以溶解到將其添加到加工液中時不會發(fā)生相分離的程度。下列溶劑和這些溶劑的混合物適用在加工液中苯酚與環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應產(chǎn)物，如乙二醇苯醚；千醇；乙二醇和丙二醇與具有六個或更少碳原子的酸的酯，和乙二醇、二乙二醇和丙二醇與具有六個或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。可以使用單一有機溶劑或有機溶劑的混合物。該有機溶劑通常在加工液中以加工液重量的大約0重量％至大約15重量％的濃度存在，優(yōu)選為加工液重量的大約3重量％至大約5重量％。如在US6，383,717Bl和US6,482,578B2中詳細描述的那樣，由于可自由基聚合材料的累積，在顯影劑浴中可能形成淤渣。在加工液中存在至少一種選自濾光染料和自由基抑制劑的材料可以防止生成淤渣。濾光染料吸收環(huán)境紫外線和可見光輻射，并降低加載的加工液中存在的輻射敏感引發(fā)劑體系吸收的輻射量。自由基抑制劑抑制加載的加工液中單體的自由基聚合。濾光染料的吸收與輻射敏感的引發(fā)劑體系的吸收相配合，此外，濾光染料應該在加工液中穩(wěn)定并且不應該與加工液或輻射敏感層的組分發(fā)生任何化學反應或相互作用。在曰光或類似條件下產(chǎn)生穩(wěn)定化作用所需的濾光染料的濃度取決于許多因素；但是，濾光染料的濃度優(yōu)選為加工液重量的大約0至2重量％,優(yōu)選為加工液重量的大約0.4至2重量％。濾光染料必須充分可溶于加工液以使足夠的濾光染料可溶解在加工液中以吸收光"i普的大約350納米至大約650納米區(qū)域內(nèi)的輻射。凈皮一個或多個磺酸根取代的染料通常在顯影劑中具有足夠的可溶性。優(yōu)選的染料包括被磺酸根取代的淡黃色、黃色、橙色和紅色染料。尤其優(yōu)選的是磺化偶氮染料。合適的染料包括例如間胺黃(C丄13065)和其它類似的水溶性偶氮染料，例如曱基橙(C丄13025)、金蓮橙O(C.I.14270)、金蓮橙00(C.I.13080)、酒石黃(C.I.19140);氧镎醇黃(OxonolYellow)K(Riedel誦de-Haen);酸性黃類型的染料，如C.I.13900、C.I.14170、C.I.18835、C.I.18965、C.I.18890、C.I.18900、C.I.18950(普拉黃)、C.I.3622910和C丄25135;以及酸性紅類型的染料，如C.I.14710、C.I.14900、C丄17045、C.I.18050、C.I.18070和C.I.22890。其它合適的染料是本領域技術人員顯而易見的?？梢允褂脝我粸V光染料，或濾光染料的混合物。合適的自由基抑制劑(也稱為聚合物穩(wěn)定劑或自由基捕集劑)在單體和聚合物穩(wěn)定化領域是公知的。有可能可以使用能夠與自由基反應形成不會引發(fā)單體聚合，在加工液中具有足夠溶解度和穩(wěn)定性并且不會不利地影響加工液或印刷版的性質(zhì)的產(chǎn)物的任何材料。它們包括例如含有醌或氫醌部分的化合物，尤其是苯醌和取代苯醌，以及氬醌和取代氬醌，如氫醌單甲醚(4-曱氧基酚)、叔丁基氬醌(4-叔丁基酚，TBHQ)和叔丁基羥基苯甲醚(BHA);recorcinol、pyrrogallol、磷酸酯；以及受阻盼和雙酚，如2,6-二叔丁基-4-曱基酚(BHT)和2,6-二叔丁基-4-甲氧基酚、2,4,6-三叔丁基酚；穩(wěn)定的自由基，如二叔丁基硝基氧和2,2,6,6-四甲基-4-p比啶酮硝基氧；硝基取代的芳族化合物；氨基酚；吩噻嗪；和仲二芳基胺，如取代二苯胺、N,N'-二苯基-對苯二胺和N-苯基-萘基胺。優(yōu)選的自由基抑制劑是醌、氫醌、氬醌的醚以及受阻酚。更優(yōu)選的是氬醌類的醚，尤其是氫醌的醚，以及受阻酚。優(yōu)選的化合物是氫醌單甲醚(4-曱氧基酚)、2,6-二叔丁基-4-甲基酚和2,4,6-三叔丁基酚?？梢允褂脝我坏淖杂苫种苿蜃杂苫种苿┑幕旌衔?。該自由基抑制劑或自由基抑制劑混合物通常在加工液中以加工液重量的大約0重量％至大約3.0重量％的濃度存在，優(yōu)選為加工液重量的大約0.5重量％至大約1.5重量％。防腐蝕劑的實例是膦酸及其鹽，如羥乙基膦酸及其鹽、氨基三亞曱基膦酸及其鹽和二乙三胺五亞曱基膦酸及其鹽；磷酸鹽，如磷酸三鈉；硼酸鹽，如硼砂、；以及甘油和具有下式的甘醇R20"CH《CH2)Z-CH-R2'OHOH(其中z是0、1或2,R^和R"獨立地為氫或d-C3烷基)。防腐蝕劑或此類試劑的混合物通常在加工液中以加工液重量的大約0至10重量％的濃度存在，優(yōu)選為0.1至5重量％,在甘油或甘醇的情況下為5至10重量％。依圖像曝光如果可光致聚合涂層中所用的吸收劑組分吸收UV/VIS輻射，以本領域技術人員已知的方式用波長250至750納米的UV/VIS輻射將前體依圖像曝光。為此，可以使用普通燈，如碳孤燈、汞燈、氙燈和金屬鹵化物燈，或激光器或激光二極管。發(fā)射在大約405納米范圍內(nèi)(例如405±IO納米)的UV輻射的UV激光二極管、發(fā)射可見光范圍U88納米或514納米)的氬離子激光器和發(fā)射大約532納米的頻率加倍fd:Nd:YAG激光器特別可用作輻射源。激光輻射可以經(jīng)由電腦數(shù)字控制，即其可以經(jīng)由電腦中存儲的數(shù)字化信息開啟或切斷以便可以實現(xiàn)版的依圖像曝光；由此，可以獲得所謂的電腦制版(ctp)印刷版。如果吸收劑組分吸收IR輻射，即顯著吸收波長在大于750至1200納米范圍內(nèi)的輻射，并優(yōu)選在其吸收語中在此范圍內(nèi)表現(xiàn)出最大吸收，可以用IR輻射源進行依圖像曝光。合適的輻射源是例如半導體激光器或在750至1200納米范圍內(nèi)發(fā)光的激光二極管，例如Nd:YAG激光器(1,064納米)，在790至990納米之間發(fā)光的激光二極管，和Ti:藍寶石激光器。該激光輻射可以經(jīng)由電腦數(shù)字控制，即其可以經(jīng)由電腦中存儲的數(shù)字化信息開啟或切斷以便可實現(xiàn)版的依圖像曝光；由此，可以獲得所謂的電腦制版(ctp)印刷版?？梢允褂帽绢I域技術人員已知的配有IR激光器的任何圖像照排機(image-setters)。依圖像曝光的前體包含曝光和未曝光的涂層區(qū)域。曝光前體的力口工在曝光后，在沒有任何預洗步驟(其通常用于除去罩面層)的情況下將前體用加工液處理。一艮據(jù)一個實施方案，在曝光和用加工液處理之間進行預熱步驟。通過用加工液處理曝光的前體，在曝光和未曝光區(qū)域中除去罩面層，在單一步驟中除去輻射敏感涂層的未曝光區(qū)域和為顯影的前體提供保護性膠料。盡管在用堿性顯影劑處理之后在施加通常酸性涂膠溶液之前通常將前體用水漂洗，但根據(jù)本發(fā)明的方法不進行這種漂洗步驟。此外，根據(jù)本發(fā)明的方法，在已經(jīng)用加工液處理曝光前體后不進行涂膠步驟。38通常，通過用含這種液體的涂施器摩擦或擦拭可成像層，使曝光的前體與加工液接觸?；蛘?，可以用加工液刷拭曝光前體或可以將加工液通過噴涂施加到前體上。也可以通過將曝光前體浸在加工液浴中來用加工液進行處理。在任一情況下，制造無罩面層的顯影和涂膠的版。優(yōu)選地，可以在僅含一個加工液浴和干燥段的市售加工機，如TDP60(KodakPolychromeGraphics)中進行加工。另外，可以在加工機中并入電導率測量裝置。盡管可以使用配有浸漬型顯影浴、水漂洗段、涂膠段和干燥段的傳統(tǒng)加工機，但漂洗步驟和涂膠步驟不根據(jù)本發(fā)明的方法進行。本發(fā)明的優(yōu)點在于，可以使用僅含一個浴和干燥段的簡單加工機，因為這類加工機比帶有漂洗和涂膠段的加工機小和便宜得多，并因此節(jié)省空間和成本。另外，可以在加工機中并入電導率測量裝置以控制加工液的顯影劑活性。曝光的前體通常用加工液在18。C至大約28"下處理大約5秒至大約60秒。在已經(jīng)加工了一定數(shù)量的曝光前體后，加工液浴的顯影活性(例如通過滴定或電導率測量法測得)降至低于預定水平。在加工浴中加入新鮮加工液(也稱作"注滿"法)。通常每1平方米加工的前體必需大約30毫升至大約100毫升，通常大約50-80毫升的新鮮加工液以保持加工液的體積及其活性/電導率值常數(shù)。加工過的平版印刷版包含已經(jīng)除去可成像層以暴露出下方親水基底表面的區(qū)域，和沒有除去可成像層的補充(complimentary)區(qū)域。尚未除去可成像層的區(qū)域是接受墨的。可以加入補充劑來代替添加新鮮加工液，以使加工浴的活性保持恒定。補充劑合適地與新鮮加工液的不同之處在于，堿性試劑的濃度高于所用新鮮加工液中石咸性試劑的濃度；其它組分的濃度可以與新鮮加工液中相同或更高。在前體已經(jīng)與加工液接觸后，除去留在前體上的任何過量的所述加工液(例如借助擠壓輥)；這種除去步驟不在于或包含用液體(如水等)洗滌/漂洗前體。在后繼任選干燥步驟后，將加工過的前體轉(zhuǎn)移到印刷機。在印刷才幾上，4吏加工過的前體同時或接連(以任何次序，卩旦優(yōu)選先潤版液，再油墨)與潤版液和印刷油墨接觸。通過使前體與潤版液和油墨接觸，此后與紙接觸，除去通過用加工液處理尚未除去的任何殘留的多余39涂層(非圖像區(qū)域和/或罩面層中的輻射敏感涂層)。因此，本發(fā)明的方法可以被解釋為通過用加工液處理而進行的"傳統(tǒng)顯影"(即通過顯影劑水溶液除去輻射敏感涂層的未曝光區(qū)域)與在印刷機上(on-press)顯影的組合；在本發(fā)明中，用加工液處理不僅除去輻射敏感涂層的未曝光區(qū)域，還在單個步驟中也除去罩面層，并提供了涂膠，從而避免了罩面層洗除、漂洗和單獨涂膠的單獨步驟。在下列實施例中更詳細描述本發(fā)明；但是，它們不是要以任何方式限制本發(fā)明。使用下列縮寫Desmodur100<formula>formulaseeoriginaldocumentpage40</formula>實施例三官能異氰酸酯(己二異氰酸酯的縮二脲)，可獲自Bayer來自BASF的三芳基曱烷染料(2-羥乙基)丙烯酸酯(2-羥乙基)甲基丙烯酸酯2-(2-羥乙基)-哌啶六亞曱基二異氰酸酯來自SCJohnson&SonInc.USA的丙烯酸樹脂，酸值=162毫克KOH/克可獲自FEWChemicalsGmbH的IR吸收花青染料ciQ1摩爾磷酸和1.5摩爾羥乙基甲基丙烯酸酯的酉旨,可獲自NipponKayaku陰離子型表面活性劑(烷基萘磺酸，鈉鹽)，NKEsterBPE500NKEsterBPE-200PETAPCI199RenolblueB2G-HWREWOPOL⑧NLS28TEXAPON842AmphotensidB5Dowfax2A1Surfynol465Dowfax8390MergalK7Sorbidex200Emdex30AN45可獲自BASF乙氧基化雙酚A二甲基丙烯酸酯，可獲自ShinNakamuraLtd.乙氧基化雙酚A二曱基丙烯酸酯，可獲自ShinNakamuraLtd.季戊四醇三丙烯酸酯非離子型表面活性劑(乙氧基化/丙氧基化Cw-Cu醇)，可獲自Polygon分散在聚乙烯醇縮丁醛中的銅酞菁顏料，可獲自Clariant陰離子型表面活性劑(十二烷基硫酸鈉)，可獲自REWO陰離子型表面活性劑(辛基硫酸鈉)，可獲自Henkel兩性表面活性劑(椰油酰氨基丙基甜菜堿)，可獲自Zschimmer&SchwarzGmbH陰離子型表面活性劑(十二烷基二苯氧化物二石黃酸鈉，45%),可獲自DowChemicals非離子型表面活性劑(乙氧基化2,4,7,9-四曱基陽5陽發(fā)炔-4，7-二醇)，可獲自Airproducts陰離子型表面活性劑(正十六烷基二苯氧化物二石黃酸鈉，35%),可獲自DowChemicals防腐劑(曱基氯代-異噻唑啉酮)，可獲自Troy99。/oD-山梨糖醇，可獲自Ceresda來自馬鈴薯淀粉的糊精，可溶于冷水，可獲自EmslandStSrkeGmbH實施例1-10禾口只十比例1-15使用聚乙烯基膦酸(PVPA)水溶液后處理的電化學顆?；完枠O化的鋁箔在過濾溶液后用如表1至6中所示的組合物涂布。將版在90°C下干燥4分鐘；所得干涂層重量顯示在表l中。將所得樣品用聚(乙烯醇)(來自Airproducts的Celvol203,水解度88%)的水溶液罩面以產(chǎn)生在90。C下干燥4分鐘后具有如表1中所概括的罩面層干涂層重量的印刷版前體。版1至5的曝光如下進行用來自Creo(830nm)的Trendsetter3244,對成像版#2和#3使用含有用于評測復制件品質(zhì)的不同元件的UGRA/FOGRAPostscriptStripversion2.0EPS(可獲自UGRA)。用配有在405納米下發(fā)光的激光二極管(P=30mW,cw)的圖像照排機(AndromedaA750M，來自Lithotech)將印刷版#1和#4曝光。使具有指定色調(diào)值的UGRA灰度標V2.4(所有數(shù)據(jù)都線性化以大致獲得所需色調(diào)值)照射到上述版前體上。另外，使用UGRA膠印試驗標度(scale)1982以總曝光量測定版的敏感性。使用UGRA膠印試驗標度1982用配有Ga摻雜Hg燈的Theimer真寶曬版架照射印刷版弁5。版的進一步加工如下樣品號1、2和5在曝光后直接預熱。所有版直接在配有2個硬毛刷輥的TDP60(KodakPolychromeGraphics)單浴加工機中用如表7中所示的加工液(在表7中，"CD"是指對比加工液)處理，在所述處理之前沒有任何洗滌步驟。通過出口擠壓輥除去過量液體并將版用溫空氣干燥；不進行附加洗滌步驟和涂膠步驟。將由此制成的版裝在使用潤版液和研磨油墨的片材給料膠版印刷機中(可獲自SunChemical的OffsetS7184,其含有10%碳酸鈣)。檢查無圖像區(qū)域的臟版情況(scumming)。如果該版在少于100個復制件內(nèi)不整潔，印刷試驗在1000個復制件時過早停止。否則，制造至多20000個復制件，但除非另行指明，可繼續(xù)印刷工作。進行下列試馬全可顯影性對可顯影性的評估而言，將5x30平方厘米的未曝光版條帶浸入置于玻璃燒杯中的相應顯影劑中，并每5秒將條帶降至更深入顯影劑4厘米。在此之前，將版#1、#2和#5在爐中在90。C下處理2分鐘。在總共50秒后，將條帶從顯影劑中拉出，用水漂洗，并記錄到達第一清潔步驟的時間作為顯影時間。對405納米輻射敏感的版(版#1、#4和#5)的光敏性使用上文公開的制版機在泛光照明下評測在405納米下曝光的版的感光度(photospeed)。對這些版測得的感光度是在顯影后獲得UGRA標度的兩個灰度進階所需的能量。對830納米輻射敏感的版(版#2和#3)的光敏性通過使版暴露在不同能量下，評測在830納米下曝光的版的感光度(表3中公開的配方)。在顯影后獲得所有微結構元件的清晰圖像所需的最低能量被取作與這種系統(tǒng)的光敏性相關的量。巻起(Rollup):計數(shù)印刷清晰圖像之前所需的紙張數(shù)。當需要少于20張時，該性能被視為令人滿意?？梢詮谋?中推導出上述試驗的結果。表1版號光致聚合物層光致聚合物層的涂層重量罩面層的涂層重量曝光步驟預熱步驟1表21.7g/m22.5g/m2來自Lithotech的405nm(30mW)制版機ANDROMEDA90°C,2分鐘2表31.7g/m22.0g/m2來自Creo的Trendsetter3244(830nm,40至90mJ/cm2)90°C,2分鐘3表41.7g/m20.6g/m2來自Creo的Trendsetter3244(830nm,40至90mJ/cm2)無4表51.5g/m23g/m2來自Lithotech的405nm(30mW)制版機ANDROMEDA無5表62.0g/m22.0g/m2配有Ga摻雜的Hg燈的Theimer真空曬版架90°C，2分鐘43表2<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>0.3!3g5_(4-乙烯基千基)硫代-1,3,4-瘞二唑-2-蓬吩(thiole)30ml丙二醇單曱醚3ml丙酮表42.92g通過20摩爾％曱基丙烯酸與80摩爾％甲基丙烯酸烯丙酯的反應制成的共聚物3.93g通過DesmodurNlOO與HEMA和PETA的反應制成的j氐聚物在甲乙酮中的30重量％溶液1.18gNKEsterBPE-200O.lOg苯胺二乙酸0.15g2-(4-曱氧基苯基)4.6-三氯甲基-l,3,5-三嗪0.07gBasonylViolet6100.02g磷酸(85%)0.09gIRdye66e0"g5-(4-乙烯基千基)硫代-l,3,4-噻二唑-2-硫醇0.18gKayamerPM-238ml丙二醇單甲醚4ml2-丁酮表51.62g由甲基丙烯酸烯丙酯和曱基丙烯酸制成的酸值為55的共聚物0.28g在丙二醇單曱醚中的分散體，其含有7.25重量％銅酞菁和7.25重量％的聚乙烯醇縮乙醛粘合劑，該粘合劑含有39.9摩爾％乙烯醇、1.2摩爾％乙酸乙烯酯、15.4摩爾％衍生自乙醛的縮醛基團、36.1摩爾％衍生自丁醛的縮醛基團和7.4衍生自4-甲酰苯甲酸的縮醛基團0.02gKayamerPM-20.2g丁基-3-甲基-咪唑錯四氟硼酸鹽"45g通過使包含丙烯酸羥乙酯的DesmodurN100(可獲自45<table>tableseeoriginaldocumentpage46</column></row><table>表7力口工液成分組成PHDl水Surfynol465三磷酸鈉Sorbidex防沫劑K90084.99重量％5重量％5重量％10重量％0.01重量％12.1D2水Surfynol465三磷酸鈉Dextrin(Emdex30AN45)防沫劑K90079.99重量％5重量％5重量％10重量％0.01重量％11.9CD1水氬氧化鉀溶液(45重量％)PCI19994.84重量％0.169重量％4.992重量％12.2CD2水REWOPOLNLS282-苯氧基乙醇二乙醇胺TEXAPON842NEKALPaste4-曱苯磺酸91.9重量％3.4重量％1.8重量％1.1重量％1.0重量％0.6重量％0.2重量％9.9CD3水Surfynol465AmphotensidB5氫氧化鈉溶液(45重量％)94.8重量％2.5重量％2.5重量％0.2重量％12.2CD4水Dowfax2A1檸檬酸xH2080.5重量％19重量％0.5重量％5'5CD5水Dowfax8390氫氧化鉀90%磷酸85%MergalK775.4重量％20重量％1.7重量％2.7重量％0.2重量％6.547表8實施例1-10和對比例1-15的結果<table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table>在實施例1-10中，在無預洗或后漂洗的在單浴加工機中使用加工液D1和D2的試驗表現(xiàn)出良好的巻起性能且在印刷開始或重啟時在印刷機上無臟版情況。使用含有堿性劑和表面活性劑但不含親水成膜聚合物如Sorbidex的顯影劑的對比例1-5表現(xiàn)出良好的可顯影性,但印刷機上的臟版情況嚴重。對于含有親水聚合物和表面活性劑但不含堿性劑的(加工液)對比例6-15,不可以從涂布版上除去非圖像區(qū)域。權利要求1.制造成像的平版印刷版的方法，包括(a)用可自由基聚合涂層對其敏感的輻射依圖像曝光負性工作的平版印刷版前體，其包含(i)具有親水表面的基底(ii)可自由基聚合涂層和(iii)不透氧的水溶性或分散性罩面層(b)用水性的堿性加工液處理依圖像曝光的前體，該加工液包含(i)水(ii)至少一種表面活性劑(iii)至少一種水溶性成膜親水聚合物(iv)至少一種堿性試劑，其量足以獲得9.5至14的pH，和(v)任選一種或多種選自有機溶劑、抗微生物劑、絡合劑、緩沖物質(zhì)、濾光染料、防沫劑、防腐蝕劑和自由基抑制劑的添加劑，(c)從步驟(b)中獲得的處理過的前體中除去任何過量的加工液，(d)任選干燥，(e)任選烘烤，(f)將步驟(c)、(d)或(e)中獲得的前體安裝在印刷機上并隨后使其同時或接連與潤版液和印刷油墨接觸，前提是在步驟(a)至(f)任意之間沒有洗滌步驟，進一步前提是步驟(c)不是洗滌步驟且進一步前提是在步驟(b)后沒有涂膠步驟。2.根據(jù)權利要求1的方法，其中可自由基聚合涂層對波長選自250至750納米范圍的輻射敏感，且在步驟(a)中，前體依圖像曝光在波長選自250至750納米范圍的輻射下。3.根據(jù)權利要求1的方法，其中可自由基聚合涂層對波長選自大于750至1200納米范圍的輻射敏感，且在步驟(a)中，前體依圖像曝光在波長選自大于750至1200納米范圍的輻射下。4.根據(jù)權利要求1至3任一項的方法，其中水溶性成膜親水聚合物選自糊精和糖醇。5.根據(jù)權利要求1至4任一項的方法，其中加工液具有10.5至13的pH值。6.根據(jù)權利要求1至5任一項的方法，其中加工液包含非離子型表面活性劑。7.根據(jù)權利要求1至6任一項的方法，其中步驟(b)在加工液浴中進行。8.根據(jù)權利要求1至7任一項的方法，其中在步驟(c)中通過擠壓輥除去過量加工液。9.根據(jù)權利要求1至8任一項的方法，其中該方法由步驟(a)、(b)、(c)、(d)和(f)構成。10.根據(jù)權利要求1至9任一項的方法，其中該方法在步驟(a)和(b)之間進一步包括預熱步驟。全文摘要描述了由包含可自由基聚合涂層和不透氧罩面層的前體制造成像的平版印刷版的方法，其特征在于罩面層的去除、顯影和涂膠在單一步驟中進行。文檔編號G03F7/32GK101467104SQ200780022075公開日2009年6月24日申請日期2007年6月5日優(yōu)先權日2006年6月14日發(fā)明者B·施特雷梅爾,C·辛普森,H·鮑曼,U·菲巴格申請人:伊斯曼柯達公司