專(zhuān)利名稱(chēng)：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板處理裝置，將未處理的基板從裝載部提供給清洗 處理部，并在此處進(jìn)行清洗處理后儲(chǔ)存于卸載部。
背景技術(shù)：
在用于液晶顯示面板的玻璃制的基板上形成有電路圖案。在基板上形 成電路圖案，采用平版印刷技術(shù)。平版印刷技術(shù)如眾所周知，在所述基板 上涂保護(hù)層，并通過(guò)形成有電路圖案的模版，向該保護(hù)層照射光。
然后，去除保護(hù)層的光未照射的部分或光照射的部分，并對(duì)去除保護(hù) 層的部分進(jìn)行蝕刻。并且，蝕刻之后將從基板中去除保護(hù)層的一系列工序 反復(fù)多次，由此在所述基板上形成電路圖案。
在這種平版印刷技術(shù)中，將在清洗處理部中清洗處理過(guò)的基板提供給 成模處理部或激元激光器退火部等干處理部而進(jìn)行干處理。
以往，在對(duì)基板進(jìn)行各種處理的處理裝置中，如專(zhuān)利文獻(xiàn)1所述，將 多個(gè)處理部配置成一列，從其一端提供并搬送基板，并在各處理部依次進(jìn) 行對(duì)基板的處理。而且，在位于處理裝置的另一端(最后端)的處理部中 處理的基板從該最后的處理部搬出。
但是，根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，對(duì)處理裝置提供未處理的基板的位置、和搬出 處理過(guò)的基板的位置成為處理裝置的一端和另一端。因此，在將處理裝置 處理過(guò)的基板提供給下一個(gè)工序時(shí)，有時(shí)不能效率很好地進(jìn)行該作業(yè)，或 工作者的負(fù)擔(dān)增大。
因此，在多個(gè)處理室配置成一列的處理裝置的側(cè)方或上方配置返回用 輸送機(jī)，通過(guò)所述輸送裝置將在處理裝置的另一端的處理室中處理過(guò)的基 板返回給處理裝置的一端側(cè)。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2004—063201號(hào)公報(bào)若在處理裝置的側(cè)方或上方配置輸送機(jī)，則可以將在所述處理裝置中 處理過(guò)的基板從該處理裝置的另一端側(cè)返回給一端側(cè)，因此向處理裝置提 供基板的位置和接收處理過(guò)的基板的位置幾乎相同，所以能夠提高操作性 和減輕工作者的負(fù)擔(dān)。
但是，若為了將處理過(guò)的基板返回給提供側(cè)而將輸送機(jī)與處理裝置區(qū) 別開(kāi)來(lái)配置，則需要為此的設(shè)置空間，因此可能導(dǎo)致裝置整體大型化、或 復(fù)雜化，這并不是所希望的。尤其，最近由于存在基板大型化的傾向而導(dǎo) 致用于搬送基板的輸送機(jī)也大型化，因而裝置整體的大型化變得明顯。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，該裝置利用相同的搬送單元進(jìn)行對(duì)處 理部的基板的搬送、和在處理部處理過(guò)的基板的搬出，由此不使裝置整體 大型化，就能夠在相同位置進(jìn)行對(duì)清洗處理部的基板的提供和搬出。
本發(fā)明是一種利用處理液對(duì)基板進(jìn)行處理的基板處理裝置，其特征在 于，具有搬送單元，將所述基板相對(duì)于水平方向直線地進(jìn)行往返搬；裝 載部，配置于該搬送單元的一端側(cè)，且提供未處理的基板；清洗處理部， 利用處理液對(duì)從該裝載部提供并由所述搬送單元搬送的未處理的基板進(jìn)行 清洗處理；濕潤(rùn)處理部，在將未處理的基板提供給所述清洗處理部之前， 利用處理液將該基板濕潤(rùn)；干燥處理部，在由所述搬送單元將在所述清洗 處理部中處理過(guò)的所述基板返回給所述裝載部側(cè)而搬出時(shí)，向該基板噴射 氣體來(lái)進(jìn)行干燥處理；以及卸載部，配置于所述搬送單元的另一端側(cè)，且 儲(chǔ)存由所述干燥處理部處理過(guò)的基板。
根據(jù)本發(fā)明，由于通過(guò)搬送單元往返搬送基板，因此通過(guò)一個(gè)搬送單 元就可以在相同位置上進(jìn)行對(duì)處理部的基板的供給、和在處理部處理過(guò)的 基板的搬出。


圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的處理裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖。 圖2是表示設(shè)置在清洗處理部的旋轉(zhuǎn)體的側(cè)視圖。符號(hào)說(shuō)明
1交接部
4機(jī)器人裝置(交接單元) 8輥式輸送機(jī)(搬送單元) 12旋轉(zhuǎn)體
21液刀(濕潤(rùn)處理部) 23干處理部
2裝載部 6濕潤(rùn)處理部 9搬送輥 14支承輥
3卸載部 7箱
11清洗處理部 16正反驅(qū)動(dòng)源
22氣刀(干燥處理部)
具體實(shí)施例方式
下面，參照

本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式。
圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖，該處理裝置具有交接 部l。在該交接部1的一側(cè)的一端部配置有裝載部2，而在另一端部，與所 述裝載部2并排且相對(duì)置地配置有卸載部3。在裝載部2設(shè)有收容了未處理 的基板W的儲(chǔ)料器(Stocker) Sl，在卸載部3設(shè)有儲(chǔ)存如后述的處理過(guò) 的基板W的儲(chǔ)料器S2。
在所述交接部1設(shè)有作為交接單元的機(jī)器人裝置4。該機(jī)器人裝置4 具有基部4a。該基部4a向在同圖中用箭頭Y表示的方向驅(qū)動(dòng)。在所述基 部4a上沿旋轉(zhuǎn)方向或上下方向可驅(qū)動(dòng)地設(shè)有驅(qū)動(dòng)軸4b。在該驅(qū)動(dòng)軸4b上 連接有可依次旋轉(zhuǎn)的多個(gè)臂4c，在頂端的臂4c上設(shè)有手4d。
由此，所述機(jī)器人裝置4可以從所述裝載部2的儲(chǔ)料器Sl中取出未處 理的基板W，并提供給一端與所述交接部1的另一端相對(duì)置地設(shè)置的濕潤(rùn) 處理部6。
所述濕潤(rùn)處理部6具有一端與所述交接部1相連接的箱(Chamber) 7， 從所述裝載部2通過(guò)機(jī)器人裝置4提供的未處理的基板W載置于設(shè)在所述 箱7內(nèi)的、作為搬送單元的輥式輸送機(jī)8的一端。所述輥式輸送機(jī)8由與 軸線平行并以規(guī)定間隔配置的多個(gè)搬送輥9及后述的支承輥14構(gòu)成。
在所述箱7的另一端部，即所述輥式輸送機(jī)8的另一端側(cè)形成有清洗 處理部ll。該清洗處理部11具有旋轉(zhuǎn)體12。該旋轉(zhuǎn)體12如圖2所示，通 過(guò)Z" 0驅(qū)動(dòng)源13沿上下方向及旋轉(zhuǎn)方向驅(qū)動(dòng)。
在所述清洗處理部11的幅寬方向兩端部上，支承由所述輥式輸送機(jī)8的搬送輥9搬送來(lái)的基板W的幅寬方向兩端部的所述支承輥14在與所述 輸送機(jī)8的搬送輥9相同的水平上、并且通過(guò)正反驅(qū)動(dòng)源16，與所述搬送 輥9 一起沿正轉(zhuǎn)方向及逆轉(zhuǎn)方向上選擇性地被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
若將通過(guò)搬送輥9搬送來(lái)的基板W交接給支承輥14并搬送至對(duì)應(yīng)于 旋轉(zhuǎn)體12的位置，則所述旋轉(zhuǎn)體12通過(guò)Z e驅(qū)動(dòng)源13從圖2中用實(shí)線 表示的下降位置驅(qū)動(dòng)至用點(diǎn)劃線表示的上升位置。由此，所述旋轉(zhuǎn)體12接 收保持在所述支承輥14上的基板W而上升。
在所述旋轉(zhuǎn)體12上設(shè)有四個(gè)卡合爪17，該卡合爪17卡合于從支承輥 14接收的基板W的四個(gè)邊的中間部。由此，在旋轉(zhuǎn)體12上升并接收基板 W之后，通過(guò)所述Z 0驅(qū)動(dòng)源13被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，此時(shí)所述基板W與所述旋 轉(zhuǎn)體12—體地旋轉(zhuǎn)。
在所述旋轉(zhuǎn)體12的上方設(shè)置一對(duì)管道噴射器18作為向被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的 基板W噴射處理液L的處理液供給部。從所述管道噴射器18的噴嘴孔18a 向被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的基板W的上表面噴射處理液，則所述基板W被進(jìn)行清洗 處理。
基板W結(jié)束清洗處理，則所述旋轉(zhuǎn)體12停止旋轉(zhuǎn)，并通過(guò)Z e驅(qū)動(dòng) 源13驅(qū)動(dòng)到下降位置。此時(shí)，旋轉(zhuǎn)體12的旋轉(zhuǎn)位置與使基板從所述支承 輥14上升時(shí)的角度相同，即利用未圖示的角度檢測(cè)傳感器進(jìn)行控制，以能 夠?qū)⒒錡交接給支承輥14。
旋轉(zhuǎn)體12下降而將基板W交接給支承輥14時(shí)，該支承輥14及所述 搬送輥9通過(guò)所述正反驅(qū)動(dòng)源16向與剛才方向相反的、逆轉(zhuǎn)方向驅(qū)動(dòng)。由 此，將利用處理液清洗處理過(guò)的基板W從所述清洗處理部11向所述交接 部1搬送。即，由于將清洗處理過(guò)的基板W從箱7中搬出，因此向返回給 所述裝載部2的方向搬送。
所述基板W在即將被搬入到所述清洗處理部11之前，通過(guò)構(gòu)成濕潤(rùn) 處理部的液刀(Aqua knife) 21，在其上表面噴射與清洗處理所述基板W 的處理液相同的液體。由此，利用處理液處理的基板W的上表面被處理液 均勻地濕潤(rùn)。
若基板W的上表面在搬入清洗處理部11之前被處理液濕潤(rùn)，則在基 板W被搬入到清洗處理部11時(shí)，即使處理液從管道噴射器18滴下來(lái)，其液滴也容易擴(kuò)散在基板W的板面上。
因此，在開(kāi)始基板w的整個(gè)處理之前，只有防止基板w的處理液滴
下來(lái)的部分被過(guò)度處理，所以利用從管道噴射器18噴射的處理液能夠不產(chǎn) 生清洗斑點(diǎn)地處理基板W。
另夕卜，液刀21對(duì)搬入到所述清洗處理部11的基板W噴射處理液，而 對(duì)從清洗處理部11搬出的基板W不噴射處理液。
在清洗處理部11處理并向交接部1搬送的基板W利用凈化的氣體進(jìn) 行干燥處理，所述凈化的氣體由從配置于所述清洗處理部11與交接部1之 間的、作為干燥處理部的氣刀22噴射的氮等非活性氣體構(gòu)成。
艮口，氣刀22配置成相對(duì)于基板W的搬送方向傾斜規(guī)定的角度，并對(duì) 從清洗處理部11向交接部1搬送的基板W噴射其方向與搬送方向相反的 氣體。
由此，在基板W的上表面殘留的處理液向該基板W的搬送方向的上 流側(cè)推流。其結(jié)果，由搬送輥9搬送到交接部1的基板W的上表面被進(jìn)行 干燥處理。
由設(shè)在該交接部1上的機(jī)器人裝置4接收進(jìn)行了清洗及干燥處理并搬 送到該交接部1的基板W，并提供給在所述交接部1的另一側(cè)上與所述濕 潤(rùn)處理部6并排配置的、成模處理部或激元激光器退火部等干處理部24。
提供給干處理部24的基板W，在此處進(jìn)行成模或退火等干處理之后， 通過(guò)所述機(jī)器人裝置4被搬出。通過(guò)所述機(jī)器人裝置4從干處理部24搬出 的基板W被儲(chǔ)存在與所述裝載部2并排配置于所述交接部1的一側(cè)上的所 述卸載部3的儲(chǔ)料器S2中。
另外，機(jī)器人裝置4若將在濕潤(rùn)處理部6中處理的基板W提供給干處 理部24，則從裝載部2取出未處理的基板W并提供給濕潤(rùn)處理部6。接著， 按如下順序進(jìn)行基板W的交接將在干處理部24處理的基板W儲(chǔ)存在卸 載部23之后，將在濕潤(rùn)處理部6處理的基板W提供給干處理部24。
根據(jù)這種構(gòu)成的處理裝置，通過(guò)正反驅(qū)動(dòng)源16能夠使?jié)駶?rùn)處理部6的 構(gòu)成輥式輸送機(jī)8的搬送輥9及清洗處理部11的支承輥14向正轉(zhuǎn)方向及 逆轉(zhuǎn)方向選擇性地旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
因此，可以將通過(guò)機(jī)器人裝置4從裝載部2取出的未處理的基板W通過(guò)輥式輸送機(jī)8的搬送輥9提供給清洗處理部11，并且可以將在清洗處理 部11清洗處理過(guò)的基板W通過(guò)所述搬送輥9搬送并交接給配置于輥式輸 送機(jī)8的一端側(cè)的機(jī)器人裝置4。
艮口，可以用相同的輥式輸送機(jī)8通過(guò)所述機(jī)器人裝置4，在所述濕潤(rùn)處 理部6的一端側(cè)進(jìn)行對(duì)濕潤(rùn)處理部6的基板W的提供和搬出。因此，與將 在濕潤(rùn)處理部6處理過(guò)的基板W用其它的輥式輸送機(jī)返回給提供側(cè)時(shí)相 比，可以謀求裝置的小型化和機(jī)構(gòu)的簡(jiǎn)單化。
在將未處理的基板W搬入到清洗處理部11并利用處理液進(jìn)行清洗處 理之前，通過(guò)液刀21向該基板W噴射處理液。被噴射處理液的基板W的 上表面處于整體被濕潤(rùn)的狀態(tài)。
因此，在提供到清洗處理部ll并開(kāi)始進(jìn)行處理液的處理之前，即使處 理液從管道噴射器18滴落在基板W上，其液滴也會(huì)擴(kuò)散在濕潤(rùn)的基板W 的板面上。
由此，可以防止基板W的板面的、從管道噴射器18滴下來(lái)液滴的部 分被處理液進(jìn)行過(guò)度的處理，因此在將基板W搬送到規(guī)定的位置之后，從 管道噴射器18噴射處理液而處理，從而就可以對(duì)基板W的整個(gè)板面進(jìn)行 均勻的清洗處理。
對(duì)在清洗處理部11進(jìn)行清洗處理之后搬出的基板W，在向交接部1 搬送的途中通過(guò)氣刀22進(jìn)行干燥處理。因此，即使在濕潤(rùn)處理部6對(duì)基板 W進(jìn)行清洗處理，在機(jī)器人裝置4也不會(huì)接收到粘有處理液的基板W，所 以可以防止因在接收基板W的機(jī)器人裝置4的手4d上粘有處理液、該處 理液粘在被進(jìn)行干燥處理的基板W或在干處理部24進(jìn)行干處理過(guò)的基板 W等上而污染那些基板W。
通過(guò)Z 9驅(qū)動(dòng)源13，使清洗處理部11的旋轉(zhuǎn)體12不僅沿旋轉(zhuǎn)方向 驅(qū)動(dòng)，而且可以沿上下方向驅(qū)動(dòng)。因此，若由機(jī)器人裝置4提供給濕潤(rùn)處 理部6的基板W被輥式輸送機(jī)8的搬送輥9搬送而交接到清洗處理部11 的支承輥14上，則向上升方向驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)體12，此時(shí)就可以從所述支承 輥14交接給旋轉(zhuǎn)體12。
艮P，不需要為了將基板W從輥式輸送機(jī)8交接給清洗處理部11的旋 轉(zhuǎn)體12或從旋轉(zhuǎn)體12交接給輥式輸送機(jī)8而具備專(zhuān)用的交接單元。因此，能夠以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)可靠地進(jìn)行對(duì)所述旋轉(zhuǎn)體12的基板W的交接。
在上述一實(shí)施方式中，說(shuō)明了將干處理部與濕潤(rùn)處理部并列設(shè)置的情 況，但對(duì)沒(méi)有干處理部，只有濕潤(rùn)處理部的情況也適用。
權(quán)利要求
1、一種基板處理裝置，利用處理液處理基板，該裝置的特征在于，包括搬送單元，將所述基板相對(duì)于水平方向直線地進(jìn)行往返搬送；裝載部，配置于該搬送單元的一端側(cè)，且提供未處理的基板；清洗處理部，利用處理液對(duì)從該裝載部提供并由所述搬送單元搬送的未處理的基板進(jìn)行清洗處理；濕潤(rùn)處理部，在將未處理的基板提供給所述清洗處理部之前，利用處理液將該基板濕潤(rùn)；干燥處理部，在由所述搬送單元將在所述清洗處理部處理的所述基板返回給所述裝載部側(cè)而搬出時(shí)，向該基板噴射氣體來(lái)進(jìn)行干燥處理；以及卸載部，配置于所述搬送單元的另一端側(cè)，且儲(chǔ)存由所述干燥處理部處理的基板。
2、 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，具有交接部，該交接部將所述裝載部的未處理的基板交接給所述搬送單 元，并且將在所述清洗處理部進(jìn)行清洗處理并由所述搬送單元搬送來(lái)的基板 儲(chǔ)存在所述卸載部中。
3、 如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 具有在干氣氛下對(duì)由所述清洗處理部處理的基板進(jìn)行處理的干處理部，所述交接部在將由所述清洗處理部處理過(guò)的基板儲(chǔ)存于所述卸載部之前，提 供給所述干處理部。
4、 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述搬送單元是輥式輸送機(jī)，所述清洗處理部具有將由所述輥式輸送機(jī)搬送來(lái)的基板保持并旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的支承體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種不引起裝置的大型化和復(fù)雜化、而可以使基板的提供位置與搬出位置相同的基板處理裝置。該基板處理裝置具有輥式輸送機(jī)(8)，將基板相對(duì)于水平方向直線地進(jìn)行往返搬送；裝載部(2)，配置于輥式輸送機(jī)的一端側(cè)，且提供未處理的基板；清洗處理部(11)，利用處理液對(duì)從裝載部提供并由輥式輸送機(jī)搬送的未處理的基板進(jìn)行清洗處理；液刀(21)，在將未處理的基板提供給清洗處理部之前，利用處理液將該基板濕潤(rùn)；氣刀(22)，在由輥式輸送機(jī)將在清洗處理部處理的基板返回給裝載部側(cè)而搬出時(shí)，向該基板噴射氣體來(lái)進(jìn)行干燥處理；以及卸載部(3)，配置于輥式輸送機(jī)的另一端側(cè)，且儲(chǔ)存由氣刀處理的基板。
文檔編號(hào)G02F1/13GK101290418SQ20081009306
公開(kāi)日2008年10月22日 申請(qǐng)日期2008年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月16日
發(fā)明者中塚康幸, 布施陽(yáng)一, 西部幸伸 申請(qǐng)人:芝浦機(jī)械電子株式會(huì)社