專利名稱：光罩存放裝置以及保持光罩清潔與干燥的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光罩存放裝置，以及一種使用該光罩存放裝置保持光 罩清潔與千燥的方法。
背景技術(shù)：
近代半導體科技發(fā)展迅速，其中光刻技術(shù)扮演重要的角色，只要是關(guān) 于圖形定義，皆需依賴光刻技術(shù)。光刻技術(shù)在半導體的應用上，是將設(shè)計 好的線路制作成具有特定形狀可透光的光罩。利用曝光原理，則光源通過 光罩投影至硅晶片可曝光顯示特定圖案。由于任何附著于光罩上的塵埃顆 粒(如微粒、粉塵或有機物)都會造成投影成像的質(zhì)量劣化，用于產(chǎn)生圖形 的光罩必須保持絕對潔凈，因此在一般的晶片工藝中，都提供無塵室的環(huán) 境以避免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無塵室也無法達到絕對無塵的 狀態(tài)。
因此，現(xiàn)代的半導體工藝皆利用抗污染的存放裝置進行光罩的保存與 運輸，以使光罩保持潔凈。存放裝置是在半導體工藝中用于存放光罩，以 利光罩在機臺之間的搬運與傳送，并隔絕光罩與大氣的接觸，避免光罩被 雜質(zhì)污染而產(chǎn)生變化。因此，在先進的半導體廠中，通常會要求該等存放
裝置的潔凈度要符合機械標準接口 (Standard Mechanical Interface; SMIF)，也就是說保持潔凈度在Class 1以下。故，在該等存放裝置中充 入氣體便是目前解決的手段之一。
為了充填氣體進入該等存放裝置，通常在存放裝置中會設(shè)有至少一個入氣端口，以與供氣裝置連接，將氣體導入該存放裝置。而本發(fā)明所 提供的光罩存放裝置，以及保持光罩清潔與干燥的方法乃是就光罩存放裝 置中入氣端口的位置，以及氣體進入存放裝置后吸濕、保持干燥與夾帶廢 氣離開存放裝置的措施與方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種保持光罩清潔與千燥的方法與一種可充填氣體的光 罩存放裝置，此存放裝置，用以存放至少一光罩，其中該光罩具有一圖案 面，該圖案面設(shè)有一保護件，其中該存放裝置包含有 一第一蓋體； 一第 二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內(nèi)部空間可容納該光罩，其中該 第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設(shè)于該第二蓋體上，用以支持 并定位該光罩；至少一入氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且設(shè)于該光罩的投射 區(qū)域以外；以及至少一出氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且以該中央部分為中 心的相對于該入氣端口的另一側(cè)。
因此，本發(fā)明的主要目的在于提供一種光罩存放裝置，當氣體經(jīng)過其 入氣端口進入該存放裝置后會產(chǎn)生漣漪狀擴散。
本發(fā)明的再一目的在于提供一種光罩存放裝置，當氣體經(jīng)過其入氣端 口進入該存放裝置后能充分將光罩表面的保護件與光罩之間的濕氣帶走。
本發(fā)明的再一 目的在于提供一種光罩存放裝置，可將大量氣體經(jīng)過其 入氣端口進入該存放裝置后，經(jīng)過光罩保護件側(cè)置換保護件上的臟氣與濕 氣。
本發(fā)明的再一目的在于提供一種光罩存放裝置，當氣體經(jīng)過其入氣端 口進入該存放裝置后，少量氣體至光罩保護件的另外一側(cè)，置換光罩上的 臟氣與濕氣。
本發(fā)明的再一目的在于提供一種光罩存放裝置，其具有接合件，當氣 體經(jīng)過其入氣端口進入該存放裝置后，過多的氣體可從出氣端口或是該可 泄壓接合件之間逸出，但是存放裝置中氣壓未超過一預先設(shè)定值時，該接 合件可保持該存放裝置的氣密性，并達到防塵的功效。
圖l，是本發(fā)明光罩存放裝置外觀示意圖2，是本發(fā)明光罩存放裝置的第二蓋體的上視圖3，是本發(fā)明光罩存放裝置的第二蓋體置放光罩后的側(cè)視圖4，是本發(fā)明光罩存放裝置增設(shè)卡持件的示意圖5A與圖5B，是本發(fā)明光罩存放裝置增設(shè)第一接合件與第二接合件的示意圖6，本發(fā)明保持光罩清潔與干燥的方法的示意圖。
主要組件符號說明
光罩存放裝置i,r 第一蓋體ii，ir
卡持件iii
第二蓋體12, 12' 中央部分121， 121' 固定件122， 122' 光罩投射區(qū)域123 縫隙13
入氣端口 21，21， 出氣端口 22, 22' 光罩3,3' 圖案面31，31' 保護件33， 33， 光罩非圖案面32, 32' 第一接合件41 第二接合件42 接合部分43 第一板件51 第二板件52 氣體9
具體實施例方式
由于本發(fā)明是揭露一種光罩存放裝置以及其保持光罩清潔與干燥的 方法，其中所利用到的一些關(guān)于光罩或存放裝置的詳細制造或處理過程， 是利用現(xiàn)有技術(shù)來達成，故在下述說明中，并不作完整描述。而且下文中
7的圖式，亦并未依據(jù)實際的相關(guān)尺寸完整繪制，其作用僅在表達與本發(fā)明 特征有關(guān)的示意圖。
請參閱圖1，此是本發(fā)明光罩存放裝置外觀示意圖。該存放裝置1具 有第一蓋體ll、第二蓋體12，兩蓋體組合后形成內(nèi)部空間得以置放光罩。
接著請參閱圖2，此是本發(fā)明光罩存放裝置的第二蓋體的上視圖。在
第二蓋體12中，有一中央部分121，位于第二蓋體12的中央位置；第二 蓋體設(shè)有至少一個固定件122，目的在于支持并定位光罩；在第二蓋體12 上，光罩投射區(qū)域123以外，設(shè)有至少一個入氣端口 21，供氣體進入存放 裝置l;再以第二蓋體12中央部分121為中心，相對于入氣端口21的位 置，設(shè)有至少一個出氣端口 22，用以使氣體排出存放裝置l(如圖l所示)。 請一并參閱圖3，是本發(fā)明光罩存放裝置的第二蓋體置放光罩后的側(cè)視圖， 其中光罩3具有一圖案面31，圖案面31上設(shè)有保護件33，用以保護該圖 案面31免于被雜質(zhì)污染產(chǎn)生變化，并使填充的氣體通過與保護件31進行 氣體的轉(zhuǎn)換后帶走其濕氣與臟污。
接著請參閱圖4，光罩存放裝置1可在第一蓋體11面對內(nèi)部空間的內(nèi) 側(cè)上增設(shè)至少一個卡持件111，以支撐光罩3的邊緣。此外，此卡持件111 的邊緣可延伸至入氣端口 21的上方，用以導引氣體進入入氣端口 21后的 方向，使大量氣體往光罩3具有圖案面31的保護件33方向行進，攜帶濕 氣與臟氣后離開存放裝置1，使少部分氣體往光罩非圖案面32方向行進， 攜帶濕氣與臟氣離開存放裝置1。
另外，請參考圖5A與圖5B，光罩存放裝置l'可增設(shè)具有防塵功能 的接合件41， 42。此種光罩存放裝置l'亦包含有第一蓋體ll'以及第二 蓋體12，，形成一內(nèi)部空間可容納該光罩3'，在第二蓋體12，上具有至 少一個固定件122'，用以支持并定位該光罩3';其中，重要的是，在 第一蓋體ir與第二蓋體12'的周邊分別固接第一接合件41與第二接合 件42，此等接合件41，42的材質(zhì)可具有彈性，或者使第二接合件42，與 該第一接合件41接合的部分43保持懸空，如此一來，光罩存放裝置l' 本身因接合件41,42的彈性或懸空，可以在光罩存放裝置l'內(nèi)部空間氣 體過多造成壓力過大時，氣體將可從該接合件41，42間泄出，內(nèi)部空間可 保持適當壓力以免避免光罩傷害；當氣壓未超過預先設(shè)定值時，該接合件
841，42為氣密接合狀態(tài)，保持更佳的氣密性，達成防止氣體泄漏以及防塵
的效果。又第一蓋體ir可再設(shè)置第一板件5i將該第一接合件4i夾持(請
參見圖5A)?；虻诙w體12'可再設(shè)第二板件52將第二接合件42夾持(請 參見圖5A)。甚至可設(shè)計第一接合件41與第一蓋體IT 一體成型(請參 見圖5B)?；蚴沟诙雍霞?2與該第二蓋體12' —體成型(請參見圖5B)。 端視使用的需要。
請再參閱圖6，用以敘述本發(fā)明保持光罩清潔與干燥的方法。光罩3 圖案面31上設(shè)有保護件33用以保護該光罩3不受污染并吸收光罩3產(chǎn)生 的濕氣使填充的氣體通過與保護件31進行氣體的轉(zhuǎn)換后帶走光罩3的濕 氣與臟污。
本方法首先提供一個光罩存放裝置1，此光罩存放裝置具有第一蓋體 11、第二蓋體12、至少一固定件122，設(shè)于該第二蓋體12上，用以支持 并定位光罩2;以及至少一個入氣端口 21與至少一個出氣端口 22。第二 蓋體有一個中央部分121，位于其中心位置，入氣端口 21設(shè)于第二蓋體 12上且于光罩投射區(qū)以外，出氣端口 22設(shè)于第二蓋體上以第二蓋體12 的中央部分121為中心相對于入氣端口 21的位置。
接著，將光罩3置放在固定件122上，并且將光罩3具有保護件33 的面31面向第二蓋體12，后將該第一蓋體11與第二蓋體12密合，并將 氣體9自該入氣端口 21充填進入光罩存放裝置1中，氣體9進入光罩存 放裝置1后將呈漣漪式方式擴散，其中大量氣體9流經(jīng)該光罩3具有保護 件33的面31，置換保護件33上的臟氣，并充分帶走該保護件33上的灰 塵與濕氣后，從設(shè)于另一側(cè)的出氣端口 22排出；或自該光罩存放裝置1 的縫隙13中排出；氣體9亦會流過光罩3不具有保護件的面32，帶走其 上的灰塵與濕氣；氣體9也會不經(jīng)過光罩3，直接自光罩存放裝置l的縫 隙13中排出。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并非用以限定本發(fā)明的申請 專利權(quán)利；同時以上的描述，對于熟知本技術(shù)領(lǐng)域的專門人士應可明了及 實施，因此其它未脫離本發(fā)明所揭示的精神下所完成的等效改變或修飾， 均應包含在下述的申請專利范圍中。
權(quán)利要求
1、一種可充填氣體的光罩存放裝置，用以存放至少一光罩，其中該光罩具有一圖案面，該圖案面設(shè)有一保護件，其特征在于，該存放裝置包含有一第一蓋體；一第二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內(nèi)部空間可容納該光罩，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設(shè)于該第二蓋體上，用以支持并定位該光罩；至少一入氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且設(shè)于該光罩的投射區(qū)域以外；以及至少一出氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且以該中央部分為中心的相對于該入氣端口的另一側(cè)。
2、 一種可充填氣體的光罩存放裝置，用以存放至少一光罩，其中該 光罩具有一圖案面，該圖案面設(shè)有一保護件，其特征在于，該存放裝置包含有一第一蓋體；一第二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內(nèi)部空間可容納該光罩，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設(shè)于該第二蓋體上，用以支持并定位該光罩； 至少一入氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且設(shè)于該光罩的投射區(qū)域以外； 至少一出氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且以該中央部分為中心的相對于該入氣端口的另一側(cè)；以及至少一卡持件，位于該第一蓋體面對該內(nèi)部空間的內(nèi)側(cè)，用以支撐該光罩的邊緣。
3、 依據(jù)權(quán)利要求2所述的可充填氣體的光罩存放裝置，其特征在于，該卡持件的邊緣延伸至該入氣端口的上方。
4、 一種可充填氣體的光罩存放裝置，用以存放至少一光罩，其中該 光罩具有一圖案面，該圖案面設(shè)有一保護件，其特征在于該存放裝置包含有一第一蓋體；一第二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內(nèi)部空間可容納該光罩； 至少一固定件，設(shè)于該第二蓋體上，用以支持并定位該光罩； 一第一接合件，固接于該第一蓋體的周邊；以及 一第二接合件，固設(shè)于該第二蓋體，用以與該第一接合件接合，且與 該第一接合件接合的部分為懸空。
5、 依據(jù)權(quán)利要求4所述的可充填氣體的光罩存放裝置，其特征在于，該第一蓋體具有一第一板件,，該第一板件用以夾持該第一接合件。
6、 依據(jù)權(quán)利要求4所述的可充填氣體的光罩存放裝置，其特征在于，該第二蓋體具有一第二板件，該第二板件用以夾持該第二接合件。
7、 依據(jù)權(quán)利要求4所述的可充填氣體的光罩存放裝置，其特征在于，該第一接合件與該第一蓋體一體成型。
8、 依據(jù)權(quán)利要求4所述的可充填氣體的光罩存放裝置，其特征在于，該第二接合件與該第二蓋體一體成型。
9、 一種保持光罩清潔與干燥的方法，該光罩具有一圖案面，該圖案 面設(shè)有一保護件，該保護件用以保護該光罩不受污染，其特征在于，所述 方法包含有提供一光罩存放裝置，該光罩存放裝置具有-一第一蓋體；一第二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內(nèi)部空間可容納光罩，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設(shè)于該第二蓋體上，用以支持并定位該光罩； 至少一入氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且設(shè)于該光罩投射區(qū)以外；以及 至少一出氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且以該中央部分為中心的相對于該入氣端口的另一側(cè)-,將光罩置于該固定件上，并使該光罩具有保護件的那一面朝向該第二將第一蓋體與第二蓋體密合；以及將氣體自該入氣端口裝置充填進入該光罩存放裝置，使得氣體可完全 流經(jīng)該光罩具有保護件的面帶走該保護件上的灰塵與濕氣后，從設(shè)于另一側(cè)的出氣端口排出。
全文摘要
本發(fā)明一種光罩存放裝置以及保持光罩清潔與干燥的方法，該可充填氣體的光罩存放裝置，用以存放至少一光罩，其中該光罩具有一圖案面，該圖案面設(shè)有一保護件，其中該存放裝置包含有一第一蓋體；一第二蓋體，用以與該第一蓋體組合，形成一內(nèi)部空間可容納該光罩，其中該第二蓋體具有一中央部分；至少一固定件，設(shè)于該第二蓋體上，用以支持并定位該光罩；至少一入氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且設(shè)于該光罩的投射區(qū)域以外；以及至少一出氣端口，設(shè)于該第二蓋體上且以該中央部分為中心的相對于該入氣端口的另一側(cè)。從入氣端口進入的氣體從光罩上下表面通過，并帶走在光罩及吸附在保護件表面上的濕氣，達到迅速降低光罩存放裝置內(nèi)的濕度。
文檔編號G03F1/66GK101673046SQ200810149138
公開日2010年3月17日 申請日期2008年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月12日
發(fā)明者邱銘隆 申請人:家登精密工業(yè)股份有限公司