專利名稱：：干膜光致抗蝕劑及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種印刷電路板加工用干膜光致抗蝕劑及其制備方法。
背景技術(shù)：
：干膜光致抗蝕劑是一種感光材料，由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，廣泛應(yīng)用于電路板印刷等圖形電鍍工藝中，用于制造精密細(xì)導(dǎo)線等。干膜光致抗蝕劑的制作是先把預(yù)先配制好的感光膠在高清潔度的條件下，在高精度的涂布機(jī)上涂覆于聚酯薄膜上，經(jīng)烘干并冷卻后，覆蓋上聚乙烯保護(hù)膜。聚酯薄膜是支持光致抗蝕劑膜的載體，厚度通常為25微米；光致抗蝕劑膜為干膜光致抗蝕劑的主體，多為負(fù)性感光材料，其厚度視其用途不同，有若干規(guī)格，最薄的可以是十幾個(gè)微米，最厚的可達(dá)100微米，卷繞在一個(gè)輥芯上；聚乙烯膜是覆蓋在感光膠層上的保護(hù)膜，防止灰塵等污物沾污干膜，并避免在卷膜時(shí)，每層抗蝕劑之間相互粘連。在印刷電路板的加工中，將重氮片上的圖形通過(guò)光照射轉(zhuǎn)移至貼附干膜的電路板上，并通過(guò)適當(dāng)?shù)奈g劑，將未曝光部分蝕去，再通過(guò)電鍍等一系列電化學(xué)反應(yīng)便可得到布有電路的電路板?，F(xiàn)有技術(shù)生產(chǎn)的干膜光致抗蝕劑有效吸收波長(zhǎng)范圍為360納米-440納米，屬于紫外-可見光范圍，最大吸收波長(zhǎng)在390納米左右，接近可見光的波長(zhǎng)范圍，在感光過(guò)程中由于可見光的吸收容易導(dǎo)致干膜跑光，影響曝光成像效果從而降低電路板的品質(zhì)。另外對(duì)于評(píng)價(jià)干膜感光性能指標(biāo)的感光度，即光致抗蝕劑在紫外光照射下，光聚合單體發(fā)生聚合反應(yīng)所需光能量的多少，測(cè)試結(jié)果為80-100mj/cm2,明顯偏高，不僅導(dǎo)致曝光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，容易造成曝光過(guò)度，影響干膜顯影效果甚至降低印刷電路板的成品率，而且電力消耗過(guò)高也使得生產(chǎn)成本偏高。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種印刷電路板加工用干膜光致抗蝕劑，以調(diào)整光譜范圍、降低感光所需能量，并提供一種制備方法。本發(fā)明的印刷電路板加工用干膜抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，光致抗蝕劑膜是干膜光致抗蝕劑的主體，其制備方法為將感光膠涂布到聚酯薄膜上而成，感光膠按重量百分比由以下組分組成聚苯乙烯15--25順丁烯二酸酐樹脂8_12季戊四醇三丙烯酸脂3-8安息香醚2-5叔丁基恿醌0.1-1苯并三氮唑0.5_1.5甲氧基酚0.1_0.5對(duì)苯二酚0.1_0.酞菁等0.1_0.5二叔丁基對(duì)曱酚0.1_0.5孔雀石綠0.1_0.5丙酮10--20乙醇35--45二甲基氨基-三苯甲基烷0.5_1.5二咪唑類化合物1_7制備本發(fā)明所述干膜光致抗蝕劑的方法由以下步驟(a)按比例精確稱量上述組分，并依次將成膜劑、粘結(jié)劑、光引發(fā)劑、熱阻聚劑、色料等投入溶劑中；(b)常溫常壓下分三次將二咪唑類化合物加入上述組合物中，每次間隔IO分鐘，比例不限,全部加入后再攪拌混合5分鐘并于25'C下靜止。(c)常溫常壓下再攪拌30分鐘，待完全溶解后過(guò)濾，靜止消泡10min;(d)將制得的組合物涂布到聚酯膠片上并烘干；(e)吹風(fēng)冷卻并貼上聚乙烯保護(hù)膜；(f)收卷，暫存；本發(fā)明所述組合物以及各組分比例除二咪唑類化合物外均為現(xiàn)有技術(shù)，聚苯乙烯、順丁烯二酸酐樹脂用作光致抗蝕劑的成膜劑，使感光膠各組分粘結(jié)成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，它在光致聚合過(guò)程中不參與化學(xué)反應(yīng)，但要求粘結(jié)劑具有良好的成膜性；季戊四醇三丙烯酸脂用作光聚合單體，光聚合單體是光致抗蝕劑膠膜的主要組分，在光引發(fā)劑的存在下，經(jīng)光照射發(fā)生聚合反應(yīng)，生成體型聚合物，感光部分不溶于顯影液，而未曝光部分可通過(guò)顯影除去，從而形成抗蝕圖像；安息香醚、叔丁基恿醌作為光引發(fā)劑，在光照射下吸收光能量產(chǎn)生游離基，而游離基進(jìn)一步引發(fā)光聚合單體交聯(lián)；苯并三氮唑常用于增粘劑，可增加干膜光致抗蝕劑與銅表面的化學(xué)結(jié)合力，防止因粘結(jié)不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊病；甲氧基酚、對(duì)苯二酚等作為熱阻聚劑，由于千膜的生產(chǎn)及應(yīng)用過(guò)程中，很多步驟需要接受熱能，為防止熱能影響干膜的聚合作用，需要用到熱阻聚劑；孔雀石綠是作為色料添加的，為使干膜呈現(xiàn)鮮艷的顏色；丙酮、乙醇是溶劑，其目的是將上述組分溶解。在上述組合物的基礎(chǔ)上再加入二咪唑類化合物，二咪唑類化合物具有優(yōu)良的光學(xué)性能，分子在光照下發(fā)生均裂，形成具有很強(qiáng)電子自旋共振作用的游離基團(tuán)，選擇適當(dāng)?shù)难趸瘎┖腿軇軌蚰軌蜃鳛楣庖l(fā)劑并有效增加光聚合單體的聚合速度，從而增強(qiáng)感光效率。經(jīng)過(guò)測(cè)試，加入二咪唑類化合物后，對(duì)比未加入的光致干膜抗蝕劑，感光度有明顯下降，從原來(lái)所需的80-100mj/cm2減少到25-35mj/cm2,從而減少了曝光時(shí)間及所需能量，不僅降低了因曝光過(guò)度而造成的電路板缺陷率，還能夠大大降低生產(chǎn)成本。另外加入二咪唑類化合物后吸收波長(zhǎng)范圍降至310-365納米，落在紫外光吸收范圍內(nèi)，基本能夠消除可見光造成的跑光影響。同時(shí)，分三次將二咪唑類化合物加入上述組合物能使其在組合物中分布均勻，增強(qiáng)成膜效果。在上述組合物中，二咪唑類化合物在組合物中的含量為2%時(shí)，效果最佳。具體實(shí)施例方式印刷電路板加工用干膜抗蝕劑，由聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜組成，光致抗蝕劑膜的組分中除二咪唑類化合物外均為現(xiàn)有技術(shù)，其具體成分比例如表1所列的比例。在以下實(shí)施例和對(duì)比例中，用感光度(mj/cm2)表示干膜抗蝕劑的曝光時(shí)間，這一數(shù)值越低，說(shuō)明曝光所需時(shí)間越短，消耗的能源越少；用光譜吸收范圍及最大吸收波長(zhǎng)人，表示干膜光致抗蝕劑的光譜吸收范圍。實(shí)施例1印刷電路板加工用干膜抗蝕劑，由聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，其制備光致抗蝕劑膜的感光膠組合物如表1中實(shí)施例1所述。一種干膜光致抗蝕劑的制作方法，步驟如下a.依次將成膜劑、粘結(jié)劑、光引發(fā)劑、熱阻聚劑、色料等投入溶劑中，其比例如表l中實(shí)施例1所述；b.常溫常壓下將二咪唑類化合物2,2',4-三(2-氯苯基)-5-(3,4-二甲氧基苯基)-4'5'-二苯基-l,l'-二咪唑1克分三次加入上述組合物，每次間隔10分鐘，比例不限，全部加入后再撹拌混合5分鐘并在25'C下靜置；c.常溫常壓下再撹拌30分鐘，待完全溶解后過(guò)濾，靜止消泡10分鐘；d.將制得的組合物涂布到聚酯膠片上并烘干；e.吹風(fēng)冷卻并貼上聚乙烯保護(hù)膜。f.收卷，暫存；實(shí)施例2印刷電路板加工用干膜抗蝕劑，由聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，其制備光致抗蝕劑膜的感光膠組合物如表1中實(shí)施例2所述。方法同實(shí)施例1,其加入組分的含量如表1中實(shí)施例2所述，并加入二咪唑類化合物2，2'，4-三(2-氯苯基)-5-(3，4-二甲氧基苯基)-4'5'-二苯基-1,1'-二咪唑2克。實(shí)施例3印刷電路板加工用干膜抗蝕劑，由聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，其制備光致抗蝕劑膜的感光膠組合物如表l中實(shí)施例3所述。方法同實(shí)施例l,其加入組分的含量如表l中實(shí)施例3所述，并加入二咪唑類化合物2,2'-二鄰氯苯基-4,4',5，5'-四苯基-1,2'-二咪唑3克。實(shí)施例4印刷電路板加工用干膜抗蝕劑，由聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，其制備光致抗蝕劑膜的感光膠組合物如表l中實(shí)施例4所述。方法同實(shí)施例l,其加入組分的含量如表l中實(shí)施例4所述，并加入二咪唑類化合物2,2'-二鄰氯苯基-4，4'，5,5'-四苯基-1，2'-二咪唑5克。對(duì)比例1印刷電路板加工用干膜抗蝕劑，由聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，其制備光致抗蝕劑膜的感光膠組合物如表1中對(duì)比例1所述。方法同實(shí)施例1，其加入組分的含量如表1中對(duì)比例1所述。下表1中各實(shí)施例和對(duì)比例中干膜抗蝕劑的感光度、光譜吸收范圍、最大吸收波長(zhǎng)等數(shù)據(jù)說(shuō)明，本發(fā)明的干膜抗蝕劑都明顯優(yōu)于對(duì)比例。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>權(quán)利要求1.一種印刷電路板加工用干膜光致抗蝕劑，由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，表面感光膠按重量百分比(％)由以下組分組成聚苯乙烯15-25順丁烯二酸酐樹脂8-12季戊四醇三丙烯酸脂3-8安息香醚2-5叔丁基恿醌0.1-1苯并三氮唑0.5-1.5甲氧基酚0.1-0.5對(duì)苯二酚0.1-0.5酞菁等0.1-0.5二叔丁基對(duì)甲酚0.1-0.5孔雀石綠0.1-0.5丙酮10-20乙醇35-45二甲基氨基-三苯甲基烷0.5-1.5二咪唑類化合物1-72.按照權(quán)利要求1所述的干膜光致抗蝕劑表面感光膠，其中二咪唑類化合物的含量為1%-5%。3.制備本發(fā)明所述光致干膜抗蝕劑的方法依次由以下步驟組成(a)按比例精確稱量上述組分，并依次將成膜劑、粘結(jié)劑、光引發(fā)劑、熱阻聚劑、色料等投入溶劑中；(b)常溫常壓下分三次將二咪唑類化合物加入上述組合物中，每次間隔IO分鐘，比例不限,全部加入后再攪拌混合5分鐘并于25'C下靜止。(c)常溫常壓下再攪拌30分鐘，待完全溶解后過(guò)濾，靜止消泡10分鐘；(d)將制得的組合物涂布到聚酯膠片上并烘干；(e)吹風(fēng)冷卻并貼上聚乙烯保護(hù)膜；(f)收巻，暫存.全文摘要印刷電路板加工用的干膜光致抗蝕劑及其制備方法，該干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成。光致抗蝕劑膜為干膜光致抗蝕劑的主體，其制備方法為將感光膠涂布到聚酯薄膜上而成，攪拌加熱制成。感光膠的制備方法為將成膜劑、粘結(jié)劑、光引發(fā)劑、熱阻聚劑、色料等加入溶劑中，并在上述組合物中加入二咪唑類化合物。通過(guò)測(cè)試表明用該方法制備的干膜光致抗蝕劑相對(duì)原有方法制備的干膜光致抗蝕劑具有良好的光譜范圍，并降低了感光度，從而減少了曝光時(shí)間和能源消耗，能有效的提高良品率并降低生產(chǎn)成本。文檔編號(hào)G03F7/09GK101441416SQ20081022012公開日2009年5月27日申請(qǐng)日期2008年12月18日優(yōu)先權(quán)日2008年12月18日發(fā)明者李兆輝申請(qǐng)人:番禺南沙殷田化工有限公司