專利名稱：一種用于光刻機浸沒控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是涉及一種用于光刻機浸沒控制裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)代光刻設(shè)備以光學(xué)光刻為基礎(chǔ)，它利用光學(xué)系統(tǒng)把掩膜版上的圖形精確 地投影并曝光到涂過光刻膠的襯底(如硅片)上。它包括一個激光光源、 一個光 學(xué)系統(tǒng)、 一塊由芯片圖形組成的投影掩膜版、 一個對準系統(tǒng)和一個覆蓋光敏光 刻膠的襯底。
浸沒式光刻系統(tǒng)在投影透鏡和襯底之間的縫隙中填充某種液體，通過提高該 縫隙中介質(zhì)的折射率(n)來提高投影透鏡的數(shù)值孔徑(NA)，從而提高光刻的 分辨率和焦深。
有人曾提出通過將襯底完全浸沒在液體中，以實現(xiàn)將液體填充在投影裝置的 末端元件和襯底之間的間隙。其中一種方案(例如參見美國專利US2004075895 )， 將襯底和襯底臺浸沒在液池中，這意味著在掃描曝光期間內(nèi)必須加速大量的液 體。這需要額外的或更大功率的電機，硅片的裝夾和定位也變得困難，而且液 體中的紊流可能導(dǎo)致不希望有的且不可預(yù)測的效果。另外一種方案(例如參見中 國專利200480038343.1，以及美國專利US2007279608 (Al))，在襯底臺設(shè)置回 收槽，浸沒液體流經(jīng)襯底而后自然流入襯底槽中實現(xiàn)液體回收。由于缺乏有效 密封，在步進-掃描光刻設(shè)備中，襯底的高速掃描運動，會導(dǎo)致填充液體在邊界 發(fā)生飛濺，從而使得光刻設(shè)備某些部件無法正常工作，比如，監(jiān)測硅片位置的 干涉儀等；同時，自由液面的波動及飛濺會引起次聲波，引發(fā)振動，影響光刻 機的正常運行。
有人提出了另外一類解決方案，即將液體限定在襯底上方和投影裝置的末端 元件之間的局部區(qū)域內(nèi)。如果缺乏有效密封，該方案將導(dǎo)致填充流場邊界液體 泄漏，泄漏的液體將在光刻膠或Topcoat表面形成水跡，嚴重影響曝光質(zhì)量。目 前該方案的密封結(jié)構(gòu)， 一般采用氣密封或液密封構(gòu)件環(huán)繞投影透鏡組末端元件 和硅片之間的縫隙流場。在所述密封構(gòu)件和硅片的表面之間，氣密封技術(shù)(例如 參見中國專利200310120944.4，美國專利US2007046916 )通過施加高壓氣體在 環(huán)繞填充流場周邊形成氣幕，將液體限定在一定流場區(qū)域內(nèi)。液密封技術(shù)(例如 參見中國專利200410055065.2，美國專利US2007126999)則利用與填充流體不相溶的第三方液體(通常是磁流體或水銀等)，環(huán)繞填充流場進行密封。 這些密封元件存在一些共有的問題
(1) 由于采用正壓供液、負壓回收，二者壓力不易協(xié)調(diào)，易造成填充流場壓 力波動及干擾力產(chǎn)生，并導(dǎo)致液體中的紊流及一些不希望有的且不可預(yù)測的效 果；
(2) 襯底運動過程中，由于流體的易變形性，通過分子內(nèi)聚力使部分粘附在 襯底表面上的流體質(zhì)點與襯底一起運動，有時會在曝光流場內(nèi)形成液體再循環(huán)。 液體再循環(huán)將使得曝光過程的液體溫升、污染物(如光刻膠內(nèi)PAG成份)不斷累 積，流場中的漩渦也會使的液體中含有的微小氣泡聚合成大氣泡，當(dāng)輻射光束 穿過再循環(huán)區(qū)域進行投影時就會導(dǎo)致象差，影響曝光成像質(zhì)量。
(3) 襯底高速掃描運動過程，可能引起周圍空氣巻吸到流場中，形成氣泡， 導(dǎo)致曝光時過程中光線發(fā)生散射，影響成像質(zhì)量；
除此之外，現(xiàn)有的氣密封方式采用氣幕施加在填充流體周圍，造成流場邊 緣的不穩(wěn)定性，在襯底高速步進和掃描過程中，可能導(dǎo)致液體泄漏及密封氣體 巻吸到流場中；同時，填充液體及密封氣體回收時將形成氣液兩相流，由此引 發(fā)振動，影響曝光系統(tǒng)穩(wěn)定工作。液密封方式對密封液體有十分苛刻的要求， 在確保密封性能要求的同時，還必須保證密封液體與填充液體不相互溶解、與 光刻膠(或Topcoat)及填充液體不相互擴散。在襯底高速運動過程中，外界空氣 或密封液體一旦被巻入或溶解或擴散到填充液體中，都會對曝光質(zhì)量產(chǎn)生負面 的影響。 發(fā)明內(nèi)容
本實用新型目的是提供一種用于光刻機浸沒控制裝置，在襯底和投影裝置的 末端元件之間填充液體及實施有效密封的同時，避免由于注液與回收壓力不協(xié) 調(diào)導(dǎo)致的流場波動、有害干擾力的產(chǎn)生，并減少流場液體回流的幾率及強度。
為了達到上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案如下
在投影透鏡組和襯底之間設(shè)置的浸沒控制裝置。所述的浸沒控制裝置包 括密封構(gòu)件、上端蓋、注液管道和回收管道，其中 1)密封構(gòu)件
從中心向外依次開有注液腔、回收腔、注液緩沖腔、回收緩沖腔、流場緩 沖腔、l-10組內(nèi)表面進行親憎水處理的張力槽和干燥腔；
注液腔和回收腔均為弧度為40-170°的環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)互不連通； 注液緩沖腔和回收緩沖腔互不連通，注液緩沖腔和回收緩沖腔的下表面距離密封構(gòu)件下表面l-20mm,弧度分別與注液腔和回收腔相同的環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，
注液緩沖腔和回收緩沖腔外側(cè)面向外分別開有注液通道和回收通道；
流場緩沖腔為連續(xù)環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，上方開有垂直襯底的緩沖腔通孔；
1-10組內(nèi)表面進行親憎水處理的張力槽，為同心圓的環(huán)形結(jié)構(gòu)，過浸沒控
制裝置中心、垂直襯底方向上截面為向外傾斜的三角形；
干燥腔為連續(xù)環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，上方開有垂直襯底且連接負壓氣體的干燥腔
通孔，內(nèi)部填充高吸水性的干燥腔填充物；
2) 上端蓋
為環(huán)狀結(jié)構(gòu)，垂直于襯底方向開有注液排氣通道、該孔向下與注液緩沖腔相 通；平行于襯底方向，在注液腔一側(cè)，開有環(huán)形圓柱狀緩沖溢流槽，開槽弧度 與注液腔相同，該槽向外與流場緩沖腔相通；
3) 注液管道和回收管道
注液管道插入注液通道，與注液緩沖腔連通；回收管道插入回收通道，與回 收緩沖腔連通。
所述的回收腔與回收緩沖腔之間設(shè)置環(huán)形圓柱狀的回收擋板，距離回收緩沖 腔下表面l-20mm;注液緩沖腔及回收緩沖腔與流場緩沖腔之間設(shè)置環(huán)形圓柱狀 的緩沖腔擋板，緩沖腔擋板頂部比回收腔擋板頂部高l-25mm。
所述的注液腔、回收腔、流場緩沖腔、張力槽和干燥腔由密封構(gòu)件的下表 面向上延伸。
所述的張力槽的向外傾斜的三角形鈍角為100-170°。 本實用新型具有的有益效果是
(1) 液體輸送方式采用正壓供液、回收端自由流動，回收通道設(shè)置在浸沒控 制裝置內(nèi)接近襯底的位置，可防止注液與回收壓力和流量不協(xié)調(diào)導(dǎo)致的流場波 動及干擾力產(chǎn)生，并避免采用浸沒控制裝置外部液體回收方式導(dǎo)致的邊界液體 泄漏與飛濺，維持流場的穩(wěn)定性。
(2) 在曝光區(qū)域流場外圍采用流場緩沖腔設(shè)計，襯底步進掃描運動過程中， 實時的對曝光區(qū)內(nèi)的流場進行補償，減少了液體回流發(fā)生的幾率與強度，控制 由此帶來的液體溫升、污染物累積以及微氣泡聚合，并有利于浸沒液體的即時更新。
(3) 流場緩沖腔可隔離曝光區(qū)域流場和外層的密封結(jié)構(gòu)，使襯底步進掃描時 從外層的密封結(jié)構(gòu)中巻吸進來的氣泡在緩沖腔內(nèi)釋放，避免外部氣泡進入曝光 區(qū)域。在襯底做高速掃描運動時，流場緩沖腔具有補償浸沒液體牽拉變形的功(4) 浸沒控制裝置下表面采用親憎水表面特性處理與張力槽結(jié)構(gòu)設(shè)計相結(jié) 合，形成較高張力梯度，阻止襯底步進和掃描行程中浸沒液體的泄漏。在襯底 運動過程中，張力槽的結(jié)構(gòu)可促使密封結(jié)構(gòu)中的液體回流到流場緩沖腔中，有
利于流場的密封。
(5) 浸沒控制裝置外圍的干燥腔內(nèi)填充高吸水及親水性物質(zhì)，并在上端連接 負壓氣體，將可能存在的殘余液滴實時的吸取并蒸發(fā)，避免了在襯底上殘留水 跡。


圖l是本實用新型與投影透鏡組相裝配的簡化示意圖。 圖2是本實用新型的爆炸剖面視圖。 圖3是本實用新型的俯視爆炸圖。 圖4是本實用新型的仰視圖。
圖5是表征本實用新型液體供給與回收的P-P剖面視圖。
圖6是圖5的流場緩沖腔局部放大圖。
圖7是本實用新型流場緩沖腔仰視局部放大圖。
圖8是本實用新型的流場密封結(jié)構(gòu)圖。
圖9是本實用新型泄漏液滴排除及干燥結(jié)構(gòu)圖。
圖中:l、投影透鏡組，2、浸沒控制裝置，2A、密封構(gòu)件，2B、上端蓋，2C、 注液管道，2D、回收管道，3、襯底，4A、注液緩沖腔，4B、注液排氣通道， 4C、注液腔，4D、注液通道，5A、回收腔，5B、回收擋板，5C、回收緩沖腔， 5D、回收通道，6A、流場緩沖腔，6B、緩沖腔擋板，6C、緩沖腔通孔，6D、 緩沖溢流槽，6E、溢流回收槽，7A、張力槽，7B、張力槽憎水面，7C、張力槽 親水面，7D、憎水工作面，8A、干燥腔，8B、干燥腔通孔，8C、干燥腔填充物， 8D、填充物排孔，9、縫隙流場，10、液膜，11、液滴，12、裝配孔。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明。
如圖1所示，表示了本實用新型實施方案的浸沒控制裝置與投影透鏡組的裝 配，本裝置可以在分步重復(fù)或者步進掃描式等光刻設(shè)備中應(yīng)用。在曝光過程中， 從光源(圖中未給出撥出的光(如ArF或F2準分子激光灘過對準的掩膜版(圖中 未給出)、投影透鏡組l和充滿浸沒液體的透鏡一硅片間縫隙場，對襯底3表面的 光刻膠進行曝光。如圖2、圖3、圖4，表示了本實用新型實施方案的浸沒控制裝置，包括密封 構(gòu)件2A、上端蓋2B、注液管道2C和回收管道2D，其中
1)密封構(gòu)件2A:
從中心向外依次開有注液腔4C、回收腔5A、注液緩沖腔4A、回收緩沖腔 5C、流場緩沖腔6A 、 l-10組內(nèi)表面進行親憎水處理的張力槽7A和干燥腔8A;
注液腔4C和回收腔5A均為弧度為40-170°的環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)互不連通；
注液緩沖腔4A和回收緩沖腔5C互不連通，注液緩沖腔4A和回收緩沖腔 5C的下表面距離密封構(gòu)件2A下表面l-20mm，弧度分別與注液腔4C和回收腔 5A相同的環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，注液緩沖腔4A和回收緩沖腔5C外側(cè)面向外分別開有 注液通道4D和回收通道5D;
流場緩沖腔6A為連續(xù)環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，上方開有垂直襯底3的緩沖腔通孔
6C;
l-10組內(nèi)表面進行親憎水處理的張力槽7A，為同心圓的環(huán)形結(jié)構(gòu)，過浸沒 控制裝置2中心、垂直襯底3方向上截面為向外傾斜的三角形；
干燥腔8A為連續(xù)環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，上方開有垂直襯底3且連接負壓氣體的干 燥腔通孔8B，內(nèi)部填充高吸水性的干燥腔填充物8C;
2) 上端蓋2B:
為環(huán)狀結(jié)構(gòu)，垂直于襯底3方向開有注液排氣通道4B、該孔向下與注液緩 沖腔4A相通；平行于襯底3方向，在注液腔4C一側(cè)，開有環(huán)形圓柱狀緩沖溢 流槽6D，開槽弧度與注液腔4C相同，該槽向外與流場緩沖腔6A相通；通過 裝配孔12與密封構(gòu)件2A相連接；
3) 注液管道2C和回收管道2D:
注液管道2C插入注液通道4D，與注液緩沖腔4A連通；回收管道2D插入
回收通道5D，與回收緩沖腔5C連通。
所述的回收腔5A與回收緩沖腔5C之間設(shè)置環(huán)形圓柱狀的回收擋板5B，距
離回收緩沖腔5C下表面l-20mm;注液緩沖腔4A及回收緩沖腔5C與流場緩沖
腔6A之間設(shè)置環(huán)形圓柱狀的緩沖腔擋板6B，緩沖腔擋板6B頂部比回收腔擋板
5B頂部高l-25mm。
所述的注液腔4C、回收腔5A、流場緩沖腔6A 、張力槽7A和干燥腔8A
由密封構(gòu)件2A的下表面向上延伸。
所述的張力槽7A的向外傾斜的三角形鈍角為100-170°。 本實用新型實施方案的浸沒控制裝置2按其功能由四個部分組成浸沒供給與回收結(jié)構(gòu)4A-4D、 5A-5D，其構(gòu)造成在襯底3和投影裝置的末端 元件之間填充及回收液體；
流場緩沖結(jié)構(gòu)6A-6E，其構(gòu)造成隔離縫隙流場9和密封結(jié)構(gòu)，對縫隙流場9進
行補償，并排走外界可能巻吸進來的氣體；
密封結(jié)構(gòu)7A-7D，其構(gòu)造成在襯底3和投影裝置的末端元件之間的液體實施 密封，避免泄漏，并促使流進張力槽7A的液體回流到流場緩沖腔6A內(nèi)；
干燥結(jié)構(gòu)8A-8D，其構(gòu)造為在浸沒控制裝置外圍將可能泄漏出來的液滴實時 吸取，并干燥襯底3表面。
如圖5所示，表示了本實用新型液體供給及回收原理圖。液體輸送方式采用 正壓供液、回收端自由流動。流場初始化中，液體在一定壓力下由注液管道2C 進入注液緩沖腔4A，并從注液腔4C出口同時進入縫隙流場9及流場緩沖腔6A， 在注液緩沖腔4A上方設(shè)置有注液排氣通道4B，用于排除注液管路中的氣體。隨 著流場緩沖腔6A的液位不斷上升，流場緩沖腔6A內(nèi)的液體對縫隙流場9的背壓 不斷增大，并最終達到一個平衡點，此時從注液腔4C出口注入的液體不再進入 流場緩沖腔6A，而是全部漫過回收擋板5B，流入回收緩沖腔5C，最終自由流出 回收管道2D實現(xiàn)回收。
如圖6、圖7所示，表示了本實用新型流場緩沖腔側(cè)視及仰視原理圖。當(dāng)襯 底3運動的時候，由于流體的易變形性，通過分子內(nèi)聚力使部分粘附在襯底3表 面上的流體質(zhì)點與襯底3—起運動，縫隙流場9內(nèi)遠離襯底3的液體進入回收腔 5A，靠近襯底3的液體則由于襯底3牽拉作用而進入流場緩沖腔6A。液體的進入 提升了流場緩沖腔6A的液位，當(dāng)液位高于緩沖腔擋板6B時，流場緩沖腔6A內(nèi)的 液體，處在注液腔一側(cè)的先進入緩沖溢流槽6D，并經(jīng)有溢流回收槽6E流入回收 緩沖腔5C實現(xiàn)回收，處在回收緩沖腔5C—側(cè)的液體則直接漫過緩沖腔擋板6B進 入回收緩沖腔5C實現(xiàn)回收。同時，部分襯底3牽拉進流場緩沖腔6A的液體將沿著 流場緩沖腔6A外壁向注液腔4C方向流動，從而實現(xiàn)了對注液腔4C出口處液體的 動態(tài)補償。如果缺乏流場緩沖腔6A結(jié)構(gòu)，襯底3牽拉出的液體不僅會直接沖擊密 封構(gòu)件2A，影響密封的有效性；而且，襯底牽拉出的液體由于運動受到密封構(gòu) 件2A的阻礙，將可能在縫隙流場9底部形成回流，由此導(dǎo)致一系列問題。流場緩 沖腔6A將襯底運動牽拉出的動態(tài)液體導(dǎo)引到注液腔4C出口及回收緩沖腔5C，在 控制縫隙流場9回流的發(fā)生幾率與強度同時，增強了密封結(jié)構(gòu)的有效性。流場緩 沖腔6A上方開有緩沖腔通孔6C，當(dāng)外界氣體巻吸進流場緩沖腔6A時，將由緩沖 腔通孔6C及時排走。如圖8 (a)、 (b)所示，表示了本實用新型的流場密封結(jié)構(gòu)。本實用新型的 密封結(jié)構(gòu)采用張力槽結(jié)構(gòu)設(shè)計和表面親憎水相結(jié)合的方式，張力槽7A的結(jié)構(gòu)有 利于液體回流到流場內(nèi)部。張力槽7A截面結(jié)構(gòu)為三角形，三角形向浸沒控制裝 置外部傾斜，圖中的虛線表示張力槽親水性面7C，實線表示憎水性工作面7D。 當(dāng)液體運動貼近至張力槽親水面7C的時候，由于液體傾向于浸潤親水性的張力 槽親水面7C，因而將沿著斜邊向上流動，并在上方受到阻礙形成內(nèi)部回流，從 而阻礙液體的進一步向外滲出。同時，當(dāng)液體流經(jīng)張力槽親水性面7C與憎水性 工作面7D交點的時候，由于液體在親憎水交界處形成張力梯度突變，液體運動 受到強烈阻礙；而縫隙流場中間部分液體仍有向外運動趨勢，液膜10的彎曲程 度越來越大，由于表面張力有使液體表面收縮到最小的趨勢，此時起到了類似 彈性膜的作用，迫使邊界液面往回流。在本實施中，可以通過一些輔助設(shè)計來 增強密封的可靠性，比如采用多組張力槽設(shè)計，由于每個張力槽對外泄的液 體具有阻擋作用，液體流經(jīng)每一組張力槽時，都具有較高的壓力損失，因而能 較為有效的降低液體流速，確保密封的有效性。
如圖9所示，表示了本實用新型泄漏液滴排除及干燥結(jié)構(gòu)。浸沒單位外圍設(shè) 置干燥腔8A，干燥腔8A上方開至少一個干燥腔通孔8B，連通負壓，干燥腔外邊 側(cè)下表面相比于內(nèi)側(cè)下表面高l-10mm。干燥腔8A內(nèi)填充高吸水的干燥腔填充物 8C(如親水性多孔介質(zhì)、海綿等)，干燥腔填充物8C的上表面中心位置往下表面 外側(cè)分布大量填充物排孔8D(比如孔徑0.5-1.5mm)。由于干燥腔通孔8B處連通負 壓，外界氣體將在干燥腔8A下方外邊緣處將形成一氣幕，迫使可能溢出的液滴 11進入到干燥腔8A內(nèi)部，并伴隨流動氣體而較快蒸發(fā)。
權(quán)利要求1. 一種用于光刻機浸沒控制裝置，在投影透鏡組(1)和襯底(3)之間設(shè)置的浸沒控制裝置(2)；其特征在于所述的浸沒控制裝置(2)包括密封構(gòu)件(2A)、上端蓋(2B)、注液管道(2C)和回收管道(2D)，其中1)密封構(gòu)件(2A)從中心向外依次開有注液腔(4C)、回收腔(5A)、注液緩沖腔(4A)、回收緩沖腔(5C)、流場緩沖腔(6A)、1-10組內(nèi)表面進行親憎水處理的張力槽(7A)和干燥腔(8A)；注液腔(4C)和回收腔(5A)均為弧度為40-170°的環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)互不連通；注液緩沖腔(4A)和回收緩沖腔(5C)互不連通，注液緩沖腔(4A)和回收緩沖腔(5C)的下表面距離密封構(gòu)件(2A)下表面1-20mm，弧度分別與注液腔(4C)和回收腔(5A)相同的環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，注液緩沖腔(4A)和回收緩沖腔(5C)外側(cè)面向外分別開有注液通道(4D)和回收通道(5D)；流場緩沖腔(6A)為連續(xù)環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，上方開有垂直襯底(3)的緩沖腔通孔(6C)；1-10組內(nèi)表面進行親憎水處理的張力槽(7A)，為同心圓的環(huán)形結(jié)構(gòu)，過浸沒控制裝置(2)中心、垂直襯底(3)方向上截面為向外傾斜的三角形；干燥腔(8A)為連續(xù)環(huán)形圓柱結(jié)構(gòu)，上方開有垂直襯底(3)且連接負壓氣體的干燥腔通孔(8B)，內(nèi)部填充高吸水性的干燥腔填充物(8C)；2)上端蓋(2B)為環(huán)狀結(jié)構(gòu)，垂直于襯底(3)方向開有注液排氣通道(4B)、該孔向下與注液緩沖腔(4A)相通；平行于襯底(3)方向，在注液腔(4C)一側(cè)，開有環(huán)形圓柱狀緩沖溢流槽(6D)，開槽弧度與注液腔(4C)相同，該槽向外與流場緩沖腔(6A)相通；3)注液管道(2C)和回收管道(2D)注液管道(2C)插入注液通道(4D)，與注液緩沖腔(4A)連通；回收管道(2D)插入回收通道(5D)，與回收緩沖腔(5C)連通。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機浸沒控制裝置，其特征在于所 述的回收腔(5A)與回收緩沖腔(5C)之間設(shè)置環(huán)形圓柱狀的回收擋板(5B)，距離回 收緩沖腔(5C)下表面l-20mm;注液緩沖腔(4A)及回收緩沖腔(5C)與流場緩沖腔 (6A)之間設(shè)置環(huán)形圓柱狀的緩沖腔擋板(6B)，緩沖腔擋板(6B)頂部比回收腔擋板 (5B)頂部高l-25mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機浸沒控制裝置，其特征在于所述的注液腔(4C)、回收腔(5A)、流場緩沖腔(6A)、張力槽(7A)和干燥腔(8A)由密 封構(gòu)件(2A)的下表面向上延伸。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機浸沒控制裝置，其特征在于所 述的張力槽(7A)的向外傾斜的三角形鈍角為100-170°。
專利摘要本實用新型公開了一種用于光刻機浸沒控制裝置。由注液腔和回收腔向外依次設(shè)置有環(huán)狀的流場緩沖腔、密封結(jié)構(gòu)和干燥腔。流場緩沖腔實時對曝光流場進行補償，減少液體回流發(fā)生幾率與強度；密封結(jié)構(gòu)采用親憎水表面特性處理與張力槽結(jié)構(gòu)設(shè)計相結(jié)合方式，在垂直襯底方向上張力槽截面為向外傾斜的三角形，襯底運動牽拉的液體將在張力槽內(nèi)形成回流，抑制液體泄漏；干燥腔內(nèi)填充高吸水性物質(zhì)、連通負壓，實時排走可能存在的液滴殘余。同時，液體輸送方式采用正壓供液、回收端自由流動，避免注液與回收壓力不協(xié)調(diào)導(dǎo)致的流場波動。
文檔編號G03F7/20GK201233505SQ20082012203
公開日2009年5月6日 申請日期2008年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月29日
發(fā)明者新 付, 楊華勇, 阮曉東, 暉 陳, 陳文昱 申請人:浙江大學(xué)