專利名稱：一種用于掩膜版的定位確認裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于定位確認裝置領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版定位確認裝置。
背景技術(shù)：
在對掩膜版進行加工的過程中需要將掩膜版裝在光刻機的工作平臺上，由 光刻機對掩膜版進行后續(xù)光刻操作，但是，目前沒有 一種工具在對裝在光刻機 工作平臺的掩膜版時進行對準確認，以使其掩膜版放置的位置符合設(shè)計要求。 在實踐操作中，如果掩膜版放置的位置不符合要求會使光刻機在掩膜版光刻位 置不符合設(shè)計要求，對位不準而光刻出的掩膜版若繼續(xù)進行后段工序的加工， 會導致廢品或次品的產(chǎn)生。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種掩膜版定位確認裝置，旨在解決掩膜版定 位隨意性較大，定位不準確的問題。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的， 一種用于掩膜版對位確認裝置，包括定位工具 和測量工具，所述定位工具與測量工具活動連接。
本實用新型的技術(shù)效果是它提供了一種掩膜版對位確認裝置，該裝置設(shè) 有的測量工具能夠準確的測量出掩膜版在工作平臺放置的位置是否符合要求， 從而為調(diào)整掩膜版的位置提供科學的依據(jù)。
圖1是本實用新型實施例提供的用于掩膜版的定位確認裝置的俯視示意圖。圖2是本實用新型實施例提供的用于掩膜版的定位確認裝置的主視示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，
以下結(jié)合附圖 及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解，此處所描述的具體 實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
請參閱圖1和圖2, —種用于掩膜版對位確認工具，包括定位工具10和測 量工具20,所述定位工具10和測量工具20活動連接。本實用新型主要用于掩 膜版的對位確認，也可用于其他形狀和類型的零件的對位確認。在本實施例中， 本實用新型用于掩膜版在MP80+光刻機上的對位和確認；本實用新型和掩膜版 4均置于MP80+光刻才幾的工作臺30上。
請參閱圖1和圖2,定位工具10包括一定位塊11和一連接塊12,所述定 位塊11與連接塊12垂直連接，所述連接塊12上設(shè)有一用于安裝測量工具的階 梯形凹槽(圖中未示出)。在測量時定位工具IO的定位塊11可緊貼著工作臺 30的基準面31移動。
請參閱圖1，本實用新型中設(shè)有的測量工具可為普通卡尺、位移變送器測 量裝置或者數(shù)字顯示游標卡尺等測量工具。在本實施例中，測量工具采用數(shù)字 顯示游標卡尺20,所述^:字顯示游標卡尺20包括一數(shù)字顯示器22和游標卡尺 21,所述數(shù)字顯示器22置于連接塊12與游標卡尺21的結(jié)合處，用于將游標卡 尺21的位移轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號并顯示出來；所述游標卡尺21 _沒有一凸塊(圖中 未示出)，凸塊的大小和形狀與凹槽相對應(yīng)，游標卡尺21置于定位工具10的 凹槽中并可在凹槽內(nèi)滑動。游標卡尺21與定位工具設(shè)有連接塊l2的凸塊凹槽 配合連接可使游標卡尺21與連接塊12的配合更加緊密，當游標卡尺21在連接 塊12內(nèi)移動時不致于產(chǎn)生晃動，從而保證測量數(shù)據(jù)的準確無誤。
當使用本實用新型測量掩膜版時，將定位工具10的定位塊12緊貼工作臺30的基準面31，用手輕移游標卡尺21使其輕抵掩膜版的邊緣，記下數(shù)字顯示 器顯示的數(shù)據(jù)；更換不同的位置進行測量，將測量的結(jié)果進行處理，得出掩膜 版實際偏移的情況。由于本實用新型的測量工具是采用數(shù)字顯示游標卡尺，其 測量精度可精確到O.lmm，完全可以滿足掩模版的定位確認需要。
以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型， 凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng) 包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種用于掩膜版的對位確認裝置，其特征在于包括定位工具和測量工具，所述定位工具與測量工具活動連接。
2、 如權(quán)利要求1所述的用于掩膜版的對位確認工具，其特征在于所述的 測量工具為數(shù)字顯示游標卡尺，所述的數(shù)字顯示游標卡尺包括數(shù)字顯示器和游 標卡尺，所述數(shù)字顯示器置于定位工具上，所述游標卡尺與定位工具活動連接。
3、 如權(quán)利要求2所述的用于掩膜版的對位確認工具，其特征在于所述定 位工具上設(shè)有凹槽，所述游標卡尺與凹槽相對應(yīng)，該游標卡尺置于定位工具所 設(shè)有的凹槽之中并于所述凹槽內(nèi)滑動。
專利摘要本實用新型適用于零部件對位確認裝置領(lǐng)域，提供了一種用于掩膜版的對位確認裝置，它包括定位工具和測量工具，所述定位工具和測量工具活動連接。該裝置可精確測量掩膜版在工作平臺上的位置是否符合設(shè)計要求，大大降低由于掩膜版位置偏移產(chǎn)生的廢品數(shù)量，可廣泛應(yīng)用于掩膜版的定位確認領(lǐng)域之中。
文檔編號G03F7/20GK201237696SQ20082021200
公開日2009年5月13日 申請日期2008年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月24日
發(fā)明者郝明毅 申請人:清溢精密光電(深圳)有限公司