專利名稱：半反透型tft的彩色濾光片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
半反透型TFT的彩色濾光片
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半反透型TFT，更具體地說(shuō)，涉及一種半反透型TFT的彩色濾光 片。
背景技術(shù)：
進(jìn)入新千年，作為信息產(chǎn)業(yè)的重要構(gòu)成部分_顯示器件正在加速推進(jìn)其平板化的 進(jìn)程。目前，世界已進(jìn)入"信息革命"時(shí)代，顯示技術(shù)及顯示器件在信息技術(shù)的發(fā)展過(guò)程中 占據(jù)了十分重要的地位，電視、電腦、移動(dòng)電話、BP機(jī)、PDA等可攜式設(shè)備以及各類儀器儀表 上的顯示屏為人們的日常生活和工作提供著大量的信息。 TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶體管)屏幕是一種高亮度、高對(duì)比度的顯示器
件，其每個(gè)液晶像素點(diǎn)都是由集成在像素點(diǎn)后面的薄膜晶體管來(lái)驅(qū)動(dòng)，從而可以做到高速 度、高亮度、高對(duì)比度顯示屏幕信息，是目前最好的LCD彩色顯示設(shè)備之一，廣泛應(yīng)用在各 種設(shè)備上，如手機(jī)、手提電腦等。TFT屏幕之所以能夠產(chǎn)生色彩的變化，主要是來(lái)自CF(Color Filter，彩色濾光片)；當(dāng)光閘選擇背光源穿透與否時(shí)，能產(chǎn)生黑白的畫(huà)面，再透過(guò)CF的紅 (R)、綠(G)、藍(lán)(B)三種彩色層提供色相，形成彩色顯示畫(huà)面。 為了達(dá)到上述要求，現(xiàn)有技術(shù)中的TFT CF通常是利用樹(shù)脂來(lái)制作BM(Black Mask, 黑色矩陣)，即為光閘；在光閘處設(shè)置RGB彩色色塊，形成彩色層；再在光閘和色塊上設(shè)置 0C層(Over Coat，即保護(hù)層)禾P IT0層(Tindoped Indium 0xide， IT0，氧化銦錫)。為了 提高TFT顯示的對(duì)比度，需要BM具有較高的0D值(Optical Density光學(xué)密度)，以提高其 遮光率。通常情況下，膜厚與OD值呈線性關(guān)系，即成正比(樹(shù)脂BM膜厚在l. 15um時(shí)，0D值 為3左右)。而且BM膜越厚在加工過(guò)程中0C層(Over Coat，即保護(hù)層)的流平性越不好， 最終的膜結(jié)構(gòu)在平整性和均勻性上受到嚴(yán)重的影響，進(jìn)而影響到TFT屏成品的對(duì)比度和視 角。

實(shí)用新型內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)中TFT屏幕中的彩色濾光片存在的平坦性差的缺陷，本實(shí)用新型 提供一種新型的半反透型TFT彩色濾光片，其光閘的厚度更薄且0D值更高。 本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是構(gòu)造一種半反透型TFT的彩色 濾光片，包括玻璃基板、由金屬及其氧化材料制成的塊狀MB均布在玻璃基板上而形成的BM 層、由設(shè)置在BM間隙處的R、 G、 B色塊形成的彩色層、覆蓋在彩色層和BM層之上的IT0層。 在本實(shí)用新型所述半反透型TFT的彩色濾光片中，所述BM層中的塊狀MB由AL、 Cr、 CrOx、 Mo及Mo的氧化物中的一種制成。 在本實(shí)用新型所述半反透型TFT的彩色濾光片中，所述BM層的厚度設(shè)置為 0. 15-0. 25 ii m ;優(yōu)選為0. 2 ii m。 實(shí)施本實(shí)用新型所述半反透型TFT的彩色濾光片中，具有以下有益效果通過(guò)在 玻璃基板上設(shè)置由金屬材料制成的BM層，使得膜層在保證足夠高的0D值時(shí)厚度卻大大降低(0D值^4，膜厚0.2iim)，使得這種彩色濾光片的表面平整性、均勻性更好。同時(shí)，無(wú)需 再在BM層和彩色層上設(shè)置OC層，簡(jiǎn)化了工藝，節(jié)約了生產(chǎn)成本。 下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本實(shí)用新型所述半反透型TFT的彩色濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，在本實(shí)用新型所述半反透型TFT的彩色濾光片的優(yōu)選實(shí)施例中，包含 多層材料，依次為玻璃基板1、 BM層2、彩色層3和ITO層4。其中BM層2為金屬及其氧化 物制成的塊狀MB (Metal Black) 21，均勻分布在玻璃基板1上，作為彩色濾光片上的光閘； 具體可選用AL、 Cr、 CrOx、 Mo及Mo的氧化物等，本實(shí)施例優(yōu)選為Cr和CrOx的混合物。彩 色層3為設(shè)置在MB間隙處的紅R、綠G、藍(lán)B色塊。這樣光閘形成的BM層厚度非常薄，而OD 值仍較高，使得這種彩色濾光片做出的TFT具有高色彩飽和度和高對(duì)比度，能夠適用于戶 內(nèi)戶外各種場(chǎng)合。 為制得上述TFT的彩色濾光片，通常先在玻璃基板上按照預(yù)設(shè)的圖案濺鍍一層Cr 或CrOx的膜層，形成塊狀MB，形成BM層；最好將膜層控制在0. 15-0. 25 y m之間，優(yōu)選為 0. 2ym。再在MB的間隙處著色為R的彩色光阻以Spin涂裝，經(jīng)由R用圖案光罩曝光后，再 顯影將未曝光部分去除，形成第一顏色用的R圖案，再烘干；用同樣的方法在MB的間隙處加 工處G、B顏色的圖案，形成彩色層；最后在彩色層上加工處ITO層，形成上述結(jié)構(gòu)的彩色濾 光片。通過(guò)在玻璃基板上使用Cr或CrOx制成的BM層，使得膜層厚度更薄，保證了整個(gè)彩 色濾光片的平整性和均勻性，同時(shí)又具有較高的OD值，適用于室內(nèi)室外各種環(huán)境。同時(shí)，無(wú) 需再在BM層和彩色層上設(shè)置OC層，簡(jiǎn)化了工藝，節(jié)約了生產(chǎn)成本。 以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)， 但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通 技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬 于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求一種半反透型TFT的彩色濾光片，其特征在于，包括玻璃基板、由金屬及其氧化材料制成的塊狀MB均布在玻璃基板上而形成的BM層、由設(shè)置在BM間隙處的R、G、B色塊形成的彩色層、覆蓋在彩色層和BM層之上的ITO層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述半反透型TFT的彩色濾光片，其特征在于，所述BM層中的塊狀 MB由AL、 Cr、 CrOx、 Mo及Mo的氧化物中的一種制成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述半反透型TFT的彩色濾光片，其特征在于，所述BM層的厚度設(shè) 置為0. 15-0. 25iim。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述半反透型TFT的彩色濾光片，其特征在于，所述BM層的厚度設(shè) 置為0. 2iim。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種半反半透型TFT的彩色濾光片，包括玻璃基板、由金屬及其氧化材料制成的塊狀BM均布在玻璃基板上而形成的BM層、由設(shè)置在BM間隙處的R、G、B色塊形成的彩色層、覆蓋在彩色層和BM層之上的ITO層。通過(guò)在玻璃基板上設(shè)置由金屬材料制成的BM層，使得膜層在保證足夠高的OD值時(shí)厚度卻大大降低，使得這種彩色濾光片的表面平整性、均勻性更好。同時(shí)，無(wú)需再在BM層和彩色層上設(shè)置OC層，簡(jiǎn)化了工藝，節(jié)約了生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK201532511SQ20082023586
公開(kāi)日2010年7月21日 申請(qǐng)日期2008年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月30日
發(fā)明者何強(qiáng)民, 朱星旺, 毛利良, 胡華, 胡春和 申請(qǐng)人:中國(guó)南玻集團(tuán)股份有限公司