專利名稱：電子照相感光構件、生產(chǎn)電子照相感光構件的方法、處理盒和電子照相設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及電子照相感光構件、生產(chǎn)所述電子照相感光構件的方法、處理盒和電 子照相設備。
背景技術：
利用有機光導電性物質(zhì)的電子照相感光構件(有機電子照相感光構件)具有以下 優(yōu)點與利用無機光導電性物質(zhì)的電子照相感光構件(無機電子照相感光構件)相比，有機 電子照相感光構件可以容易地制造，并且由于用于有機電子照相感光構件的材料可選自多 種材料，所以與無機電子照相感光構件相比，有機電子照相感光構件在功能設計中具有更 高的自由度。近年來隨著激光束打印機的快速普遍出現(xiàn)，這樣的有機電子照相感光構件已 經(jīng)廣泛用于市場。一般的電子照相感光構件具有支承體以及形成于所述支承體上的感光層。另外， 經(jīng)常將層壓感光層用作感光層，該層壓感光層通過下述獲得從支承體側依次疊加包含電 荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層和包含空穴輸送物質(zhì)的空穴輸送層。另外，經(jīng)常在支承體和感光層之間設置中間層，其目的是例如改善支承體和感光 層之間的粘合性，保護感光層不被電擊穿，或者防止空穴從支承體注入感光層。雖然這樣的中間層具有上述優(yōu)點，但該中間層包括以下缺點電荷易于在中間層 中累積。當長時間重復進行圖像形成時，電荷在中間層中的累積增大電位波動，有時在輸出 圖像中產(chǎn)生問題。日本專利申請?zhí)亻_2005-134924、日本專利申請?zhí)亻_2005-221923和日本專利申 請?zhí)亻_2007-148357各自公開了以下技術通過將各自具有小粒徑的經(jīng)表面處理的氧化鈦 顆粒引入中間層中，來減輕電位波動或抑制干涉條紋。然而，當長時間重復進行圖像形成 時，在電位波動方面仍有改善的空間。另外，日本專利申請?zhí)亻_58-93062、日本專利申請?zhí)亻_59-84257、日本專利申請 特開9-90661和日本專利申請?zhí)亻_2000-66432各自公開了以下技術當通過使用具有中間 層的電子照相感光構件重復進行圖像形成時，減少電位波動，例如剩余電位的增加或初期 電位的減小。然而，在現(xiàn)有情況中，包括缺點如初期感光度的劣化或者帶電能力的劣化，所 以問題還沒有充分解決。

發(fā)明內(nèi)容
近年來伴隨著對于高速化、圖像品質(zhì)和全色改進的電子照相設備，引起了下述問 題當重復進行圖像形成時，以更高的水平抑制電位波動(暗區(qū)電位(帶電電位)或亮區(qū)電 位的波動)。電位波動的具體實例包括(1)相對長時間內(nèi)的電位波動(以電子照相感光構件使用開始為起點，至壽命終止為終點的時間)；和(2)在相對短時間內(nèi)的電位波動(例如，從在第一張上圖像形成開始為起點，至在 大約1，000張上連續(xù)圖像形成完成為終點的時間)。需要以更高的水平抑制這樣的電位波動。關于上述部分(1)，通常，使用電子照相感光構件的時間越長，電子照相感光構件 的電位特性劣化越大。當將已長時間使用的電子照相感光構件放置時，電位特性回復至電 子照相感光構件使用開始時電位特性的可能性低。因此，可以說上述部分(1)中描述的長 時間電位波動的回復性是不充分的。關于上述部分(2)，例如，電子照相感光構件旋轉幾次以在A4大小的紙上形成圖 像，但是電子照相感光構件的電位特性在紙張上變動，因此輸出圖像的色彩或濃度在一些 情況下改變。另外，當在多張紙上輸出相同圖像時，在第一張和第n張(其中n> 1)上的 圖像濃度可能不同。當在低濕度環(huán)境下進行圖像形成時，短時間內(nèi)的這種電位波動變得顯
者。通過在電子照相感光構件使用后將電子照相感光構件放置，短時間內(nèi)的這種電位 特性的波動可以回復到一定程度。另一方面，推測回復性不充分的上述部分⑴所述的長時間內(nèi)的電位波動是由于 上述部分(2)所述重復這樣的使用導致的在電子照相感光構件中未回復的波動的逐漸累 積引起的。通過抑制上述部分(1)描述的長時間內(nèi)的電位波動和上述部分(2)描述的短時間 內(nèi)的電位波動二者，電子照相感光構件應該能夠一直穩(wěn)定地進行圖像形成。本發(fā)明的目的是提供抑制長時間內(nèi)電位波動和短時間內(nèi)電位波動兩者的電子照 相感光構件，生產(chǎn)該電子照相感光構件的方法，以及各自具有所述電子照相感光構件的處 理盒和電子照相設備。S卩，本發(fā)明涉及電子照相感光構件，其包括支承體；形成于所述支承體上的中間 層；形成于所述中間層上的包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層；和形成于所述電荷產(chǎn)生層上 的包含空穴輸送物質(zhì)的空穴輸送層，其中所述中間層是通過涂布和干燥中間層用涂布液 而形成的層，所述中間層用涂布液包含酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂；并且所述酸性氧化鈦 溶膠包括含有平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性溶 膠。另外，本發(fā)明涉及生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其包括在支承體上形成中間 層；在所述中間層上形成包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層；和在電荷產(chǎn)生層上形成包含空 穴輸送物質(zhì)的空穴輸送層，其中所述中間層的形成包括通過涂布和干燥中間層用涂布液 形成中間層，該中間層用涂布液包含酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂；并且酸性氧化鈦溶膠包 括含有平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性溶膠。另外，本發(fā)明涉及處理盒，其一體化地支持上述電子照相感光構件和選自由下列 組成的組的至少一個單元充電單元，其用于使所述電子照相感光構件表面充電；顯影單 元，其用于用調(diào)色劑顯影在所述電子照相感光構件表面上形成的靜電潛像以在所述電子照 相感光構件表面上形成調(diào)色劑圖像；和清潔單元，其用于將調(diào)色劑圖像轉印至轉印材料之 后，除去在所述電子照相感光構件表面上殘留的調(diào)色劑，并且所述處理盒可拆卸地安裝至所述電子照相設備的主體上。此外，本發(fā)明涉及電子照相設備，其包括上述電子照相感光構件；充電單元，其 用于使所述電子照相感光構件表面充電；曝光單元，其用于用曝光光照射所述充電的電子 照相感光構件表面以在所述電子照相感光構件表面上形成靜電潛像；顯影單元，其用于用 調(diào)色劑顯影在所述電子照相感光構件表面上形成的靜電潛像以在所述電子照相感光構件 表面上形成調(diào)色劑圖像；和轉印單元，其用于將在所述電子照相感光構件表面上形成的調(diào) 色劑圖像轉印至轉印材料上。本發(fā)明可提供抑制長時間內(nèi)電位波動和短時間內(nèi)電位波動兩者的電子照相感光 構件，生產(chǎn)該電子照相感光構件的方法，以及各自具有所述電子照相感光構件的處理盒和 電子照相設備。


圖1是示出包括具有本發(fā)明電子照相感光構件的處理盒的電子照相設備構造的 示意圖。
具體實施例方式本發(fā)明的電子照相感光構件包括支承體；形成于支承體上的中間層；形成于中 間層上包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層；和形成于電荷產(chǎn)生層上包含空穴輸送物質(zhì)的空穴 輸送層。另外，本發(fā)明的電子照相感光構件的特征在于上述中間層是通過涂布和干燥中 間層用涂布液而形成的層，該中間層用涂布液包含酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂；和上述酸 性氧化鈦溶膠是包含平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸 性溶膠。應注意，氧化鈦晶體顆粒(氧化鈦晶體的顆粒)的平均一次粒徑也稱為“平均微晶
直徑”。另外，氧化鈦晶體顆粒下文簡稱為“氧化鈦顆?！?。本發(fā)明中所用的上述酸性氧化鈦溶膠可通過例如以下步驟獲得通過加熱等使硫 酸氧鈦的水溶液水解，將沉淀的含水氧化鈦中和、過濾和水洗，并且所得濾餅用強酸如鹽酸 或硝酸膠溶。本發(fā)明所用的上述酸性氧化鈦溶膠下文也稱為“根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠”。在通常情況下，取決于例如溶膠生產(chǎn)時所用的酸或堿，或者穩(wěn)定劑的種類，氧化鈦 溶膠顯示出酸性、中性、或堿性。為了可以抑制電位波動同時保持電子照相感光構件的帶電性，氧化鈦溶膠適合為 包含平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性溶膠(酸性氧 化鈦溶膠)。銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的平均一次粒徑更適合為5nm以上至7nm以下。雖然根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠的酸性組分可以是任意的酸性組分如無機酸 或有機酸，但從抑制電位波動的角度，酸性氧化鈦溶膠優(yōu)選鹽酸溶膠或者硝酸溶膠。以下示出根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠的適合實例。然而，本發(fā)明并不限于這些 實例。
商品名TKS_201 (鹽酸溶膠，其包含33質(zhì)量％的具有6nm的平均一次粒徑的銳鈦 礦型氧化鈦晶體顆粒，由Tayca Co.，Ltd.制造)。商品名TKS_202 (硝酸溶膠，其包含33質(zhì)量％的具有6nm的平均一次粒徑的銳鈦 礦型氧化鈦晶體顆粒，由Tayca Co.，Ltd.制造)。商品名STS_01 (硝酸溶膠，其包含30質(zhì)量％的具有7nm的平均一次粒徑的銳鈦 礦型氧化鈦晶體顆粒，由Ishihara SangyoKaisha Ltd.制造)。商品名STS_02 (鹽酸溶膠，其包含30質(zhì)量％的具有7nm的平均一次粒徑的銳鈦 礦型氧化鈦晶體顆粒，由Ishihara SangyoKaisha Ltd.制造)。商品名STS_100 (硝酸溶膠，其包含20質(zhì)量％的具有5nm的平均一次粒徑的銳鈦 礦型氧化鈦晶體顆粒，由IshiharaSangyo Kaisha Ltd.制造)。在根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠中氧化鈦晶體顆粒的平均一次粒徑(平均微晶 直徑)可通過以下方法測量和計算。用X射線衍射裝置測定氧化鈦最強干涉線峰的半寬度0 (弧度)和峰位置2 0 (弧 度)。平均一次粒徑由下述的謝樂(Scherrer)方程計算。氧化鈦晶體顆粒的平均一次粒徑(平均微晶直徑)[nm] = K A/(^cos0)(在如上所示的謝樂(Scherrer)方程中，K表示常數(shù)，入(nm)表示測量X射線的 波長(CuKa射線0. 154nm), ^表示半寬度，和0表示X射線的入射角。)本發(fā)明的電子照相感光構件可以抑制上述短時間內(nèi)的電位波動，這是因為電子照 相感光構件具有通過涂布和干燥中間層用涂布液而形成的中間層，該中間層用涂布液包含 根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂。結果，可抑制在一張紙上的圖像色彩的變化，并 且在多張紙上輸出相同圖像時，可抑制第一張紙和第n張紙(其中n> 1)之間圖像濃度的 不同。另外，也可以抑制上述長時間內(nèi)的電位波動，這是因為能夠抑制當長時間使用電子照 相感光構件時電子照相感光構件的電位特性的劣化。本發(fā)明的電子照相感光構件包括支承體；形成于支承體上的中間層；形成于中 間層上包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層；和形成于電荷產(chǎn)生層上包含空穴輸送物質(zhì)的空穴 輸送層。支承體只需要具有導電性(只需是導電性支承體)，支承體的實例包括由金屬如 鋁、不銹鋼或鎳制成的支承體；和由金屬、塑料或紙制成并具有在其表面上形成的導電性涂 層的支承體。另外，支承體的形狀是例如圓筒形或膜形。這些支承體中，考慮到機械強度、 電子照相特性和成本，由鋁制成的圓筒狀支承體是優(yōu)選的。雖然這樣的支承體可不經(jīng)處理 各自使用，但未經(jīng)處理的管在使用前可進行物理處理如切割或珩磨，或者化學處理例如陽 極氧化處理或用酸等處理。在支承體和中間層之間可設置一層，其目的在于例如，遮蓋支承體表面上的缺陷 或防止干涉條紋(有時稱為例如，“導電層”或“干涉條紋防止層”)。這種導電層(干涉條紋防止層)可通過下述形成將由例如氧化錫、氧化銦、氧化 鈦或硫酸鋇制成的無機顆粒與固化性樹脂如酚醛樹脂一起分散至溶劑中，以制備涂布液； 將上述液體涂布至支承體上；并干燥涂布的液體。導電層(干涉條紋防止層)優(yōu)選具有5 ym以上至30 ym以下的厚度。中間層形成于支承體或?qū)щ妼?干涉條紋防止層)上。
如上所述，中間層通過下述形成涂布中間層用涂布液至支承體或?qū)щ妼?干涉 條紋防止層)上，該中間層用涂布液包含根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂；并干 燥涂布的液體。用于中間層的有機樹脂(粘結劑樹脂)的實例包括酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯、 聚碳酸酯、多芳基化合物、聚酯、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚酰胺酸、聚乙烯、聚苯乙烯、苯 乙烯-丙烯酸類共聚物、丙烯酸類樹脂、聚甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮醛、聚乙烯 醇縮丁醛、聚乙烯醇縮苯甲醛(polyvinyl benzal)、聚乙烯醇縮甲醛、聚丙烯腈、聚丙烯酰 胺、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、纖維素、三聚氰胺樹脂、 直鏈淀粉、支鏈淀粉、聚砜、聚醚砜、聚酰胺(例如尼龍6、尼龍66、尼龍610、共聚物尼龍和烷 氧基甲基化尼龍等)和硅酮樹脂。它們的每一種可單獨使用，或可將它們的兩種以上在其 使用前混合。這些樹脂中，從在中間層上涂布電荷產(chǎn)生層用涂布液時涂布性能的角度，優(yōu)選 使用聚酰胺。此外，在聚酰胺中，從控制電位 波動的角度，優(yōu)選烷氧基甲基化尼龍，其中更優(yōu) 選甲氧基甲基化尼龍6。此外，為了調(diào)整體積電阻率和介電常數(shù)的目的，中間層中可包括金屬或金屬氧化 物。具體實例包括金屬如鋁和銅的顆粒以及金屬氧化物例如氧化鋁、氧化錫、氧化銦、氧化 鈦、氧化鋯、氧化鋅、氧化硅、氧化鉭、氧化鉬和氧化鎢的顆粒。此外，中間層也可包括有機金 屬化合物如四正丁氧基鋯、四正丁氧基鈦、異丙氧基鋁和甲基甲氧基硅烷和炭黑等。另外， 它們也可以作為混合物使用。這些中，考慮到抑制電位波動和阻止空穴注入感光層，優(yōu)選將 平均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒引入中間層中。為了 可將平均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒引入中間層中， 只需將表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒與根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂一起加入 中間層用涂布液中。當表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒的平均一次粒徑過小時，中間層用涂布 液的穩(wěn)定性有時下降。當平均一次粒徑過大時，在將電荷產(chǎn)生層用涂布液涂布至中間層上 時，涂布性能有時劣化。應當注意，術語“表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆?！笔侵钙浔砻嫖从脽o 機材料或有機材料涂布的氧化鈦顆粒。以下示出平均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒的 適合實例。然而，本發(fā)明并不限于這些實例。商品名AMT-600 (平均一次粒徑為30nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒(氧化鈦含 量98 質(zhì)量％ )，由 Tayca Co.，Ltd.制造)商品名TKP-102 (平均一次粒徑為15nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒(氧化鈦含 量96 質(zhì)量％ )，由 Tayca Co.，Ltd.制造)商品名MT-150A(平均一次粒徑為15nm的金紅石型氧化鈦晶體顆粒，由Tayca Co.，Ltd.制造)商品名MT-500B (平均一次粒徑為35nm的金紅石型氧化鈦晶體顆粒(氧化鈦含 量98 質(zhì)量％ )，由 Tayca Co.，Ltd.制造)商品名MT-600B(平均一次粒徑為50nm的金紅石型氧化鈦晶體顆粒，由Tayca Co.，Ltd.制造)另外，考慮到抑制長時間內(nèi)電位波動，平均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表
面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒更優(yōu)選為金紅石型氧化鈦晶體顆粒。
另外，可將偶氮顏料引入中間層中以抑制短時間內(nèi)的電位波動。偶氮顏料的實例 包括單偶氮顏料、雙偶氮顏料、三偶氮顏料和四偶氮顏料。雖然引入中間層中的偶氮顏料可 以是用作電荷產(chǎn)生物質(zhì)的顏料，但當如在本發(fā)明中將偶氮顏料引入中間層中時，偶氮顏料 并不要求具有實質(zhì)感光度。這些偶氮顏料中，優(yōu)選包括由以下通式(1)表示的偶合劑結構的偶氮顏料，因為 該偶氮顏料在包含根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂的中間層用涂布液中顯示良 好的分散穩(wěn)定性，并且顯著地有助于電位波動的抑制。 (式(1)中，Ar表示取代或未取代的芳基。)在包括由上述通式(1)表示的偶合劑結構的偶氮顏料中，考慮到在包含根據(jù)本發(fā) 明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂的中間層用涂布液中的分散穩(wěn)定性，和電位波動的抑制， 更優(yōu)選由以下通式(2)表示的偶氮顏料。 (式(2)中，Ar1和Ar2各自獨立地表示取代或未取代的芳基，X1表示乙烯基或?qū)?亞苯基，和n表示0或1的整數(shù)。)在上式(1)和(2)中，芳基的實例包括苯基和萘基。芳基可具有的取代基的實例 包括烷基、芳基、烷氧基、二烷氨基、芳氨基、鹵原子、鹵代甲基、羥基、硝基、氰基、乙?；?苯甲?；Ｍ榛膶嵗谆?、乙基、丙基和丁基。芳基的實例包括苯基、聯(lián)苯基和萘基。 烷氧基的實例包括甲氧基、三氟甲氧基和乙氧基。二烷氨基的實例包括二甲氨基和二乙氨 基。芳氨基的實例包括苯氨基和二苯氨基。鹵原子的實例包括氟原子、氯原子和溴原子。 鹵甲基的實例包括三氟甲基和三溴甲基。這些基團中，優(yōu)選氟原子、氯原子、溴原子、三氟甲 基、三氟甲氧基和硝基。以下示出由以上通式(2)表示的偶氮顏料的適合實例。然而，本發(fā)明并不限于這 些實例。示例性化合物(2-1) 示例性化合物(2-2) 示例性化合物(2-3) 示例性化合物(2-4) 示例性化合物(2-5) 示例性化合物(2-6)
示例性化合物(2-7)
示例性化合物(2-8) 示例性化合物(2-9)
示例性化合物(2-10)
示例性化合物(2-11) 示例性化合物(2-12) OH 示例性化合物(2-13) 示例性化合物(2-14) 由以上通式⑵表示的偶氮顏料可按照描述于，例如日本專利申請?zhí)亻_8-87124 中的偶氮顏料的一般生產(chǎn)方法合成。在中間層用涂布液中的根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠中，平均一次粒徑為3nm以 上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的含量優(yōu)選0. 5質(zhì)量％以上至20質(zhì)量％以下，或 更優(yōu)選1. 0質(zhì)量％以上至10質(zhì)量％以下，相對于中間層用涂布液中干固體的總質(zhì)量。當銳 鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的含量過小時，電位波動的抑制效果可能差。當含量過大時，中間層 用涂布液的穩(wěn)定性或者在涂布中間層用涂布液時的涂布性能可能下降。另外，在中間層中平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆 粒的含量優(yōu)選0.5質(zhì)量％以上至20質(zhì)量％以下，或更優(yōu)選1.0質(zhì)量％以上至10質(zhì)量％以 下，相對于中間層的總質(zhì)量。當銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的含量過小時，電位波動的抑制效 果可能差。另外，當將平均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒 引入中間層中時，在中間層中的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒的含量優(yōu)選20質(zhì)量％以上至 60質(zhì)量％以下，或優(yōu)選30質(zhì)量％以上至50質(zhì)量％以下，相對于中間層的總質(zhì)量。另外，當將偶氮顏料引入中間層中時，中間層中偶氮顏料的含量優(yōu)選5. 0質(zhì)量％ 以上至30質(zhì)量％以下，或更優(yōu)選15質(zhì)量％以上至25質(zhì)量％以下，相對于中間層的總質(zhì)量。包含根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂的中間層用涂布液可通過在溶劑中溶解或分散根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂而制備。在中間層用涂布液中使用的溶劑的實例包括甲縮醛、四氫呋喃、甲醇、乙醇、異丙 醇、丁醇、甲基溶纖劑和甲氧基丙醇?？蓡为毷褂眠@些溶劑的一種，或?qū)⑺鼈兊膬煞N以上作 為混合物使用；考慮到涂布中間層用涂布液時的涂布性能，優(yōu)選將它們的兩種以上作為混 合物使用。當將甲氧基甲基化尼龍6用作上述有機樹脂時，考慮到中間層用涂布液的穩(wěn)定 性和涂布中間層用涂布液時的涂布性能，優(yōu)選甲醇和丁醇的混合溶劑，或乙醇和丁醇的混 合溶劑。在液體涂布后，干燥中間層用涂布液的干燥方法是例如，通過加熱干燥或通過鼓 風干燥。另外，考慮到將電荷產(chǎn)生層用涂布液涂布至中間層上時的涂布性能以及電位波 動 的抑制，干燥溫度優(yōu)選為50°C以上至160°C以下，或更優(yōu)選140°C以上至155°C以下。考慮到電位波動的抑制以及阻止空穴注入感光層中，中間層具有優(yōu)選0. Ιμπι以 上至5. 0 μ m以下，更優(yōu)選0. 3 μ m以上至1. 5 μ m以下，或還更優(yōu)選0. 5 μ m以上至Ι.Ομπι 以下的厚度。包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層形成于中間層上。電荷產(chǎn)生層可通過下述形成將電荷產(chǎn)生物質(zhì)與粘結劑樹脂一起溶解或者分散于 溶劑中以制備電荷產(chǎn)生層用涂布液；將該液體涂布至中間層上；以及干燥涂布的液體。用作電荷產(chǎn)生層用涂布液的溶劑的實例包括醚、酮、酯和芳族化合物。醚的實例包 括四氫呋喃和1，4_ 二噁烷。酮的實例包括環(huán)己烷、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮和甲乙酮。 酯的實例包括乙酸乙酯和乙酸丁酯。芳族化合物的實例包括甲苯、二甲苯和一氯苯。用于電荷產(chǎn)生層的粘結劑樹脂的實例包括酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯、聚碳 酸酯、多芳基化合物、聚酯、聚酰胺酰亞胺、聚酰亞胺、聚酰胺酸、聚乙烯、聚苯乙烯、苯乙 烯-丙烯酸類共聚物、丙烯酸類樹脂、聚甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮醛、聚乙烯醇 縮丁醛、聚乙烯縮苯甲醛、聚乙烯醇縮甲醛、聚丙烯腈、聚丙烯酰胺、丙烯腈-丁二烯共聚 物、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、纖維素、三聚氰胺樹脂、直鏈淀粉、支鏈淀粉、聚 砜、聚醚砜和硅酮樹脂等。電荷產(chǎn)生物質(zhì)的實例包括偶氮顏料和酞菁顏料。偶氮顏料的實例包括單偶氮顏 料、雙偶氮顏料、三偶氮顏料和四偶氮顏料。偶氮顏料中，優(yōu)選公開于日本專利申請?zhí)亻_59-31962或日本專利申請?zhí)亻_ 1-183663的苯并蒽酮類偶氮顏料，這是因為該顏料具有優(yōu)良的感光度。雖然苯并蒽酮類偶 氮顏料具有優(yōu)良的感光度，但該顏料易于產(chǎn)生電位波動。然而，將苯并蒽酮類偶氮顏料作為 電荷產(chǎn)生物質(zhì)引入形成于上述中間層上的電荷產(chǎn)生層中可抑制電位波動，同時保持優(yōu)良的 感光度。因此，苯并蒽酮類偶氮顏料使本發(fā)明的效果得到更有效地展現(xiàn)，可以說是優(yōu)選的。此外，酞菁顏料的實例包括非-金屬酞菁和金屬酞菁。金屬酞菁可包括軸向配體。 此外，酞菁可以是取代的。酞菁顏料中，優(yōu)選氧鈦酞菁和鎵酞菁(例如氯化鎵酞菁和羥基鎵酞菁 (hydroxygallium phthalocyanine))，這是因為它們優(yōu)良的感光度。雖然氧鈦酞菁和鎵酞 菁具有優(yōu)良的感光度，但是容易產(chǎn)生電位波動。然而，將氧鈦酞菁或鎵酞菁作為電荷產(chǎn)生物 質(zhì)引入形成于上述中間層上的電荷產(chǎn)生層中可抑制電位波動，同時保持優(yōu)良的感光度。因 此，氧鈦酞菁或鎵酞菁使本發(fā)明的效果得到更有效的展現(xiàn)，可以說是優(yōu)選的。
另外，更優(yōu)選在2 0 士0.2° (其中e表示CuKaX射線衍射中的布拉格角)為 7.4° 士0.3°和28. 2° 士0.3°各處具有強峰的鎵酞菁中的晶體形式的羥基鎵酞菁晶體。 雖然羥基鎵酞菁晶體具有特別優(yōu)良的感光性，但該晶體易于引起電位波動(特別是當在低 濕度環(huán)境下進行圖像形成時，初期亮區(qū)電位的波動)。然而，將羥基鎵酞菁晶體作為電荷產(chǎn) 生物質(zhì)引入形成于上述中間層上的電荷產(chǎn)生層中可抑制電位波動，同時保持其特別優(yōu)良的 感光度。因此，羥基鎵酞菁晶體使本發(fā)明的效果得到更有效地展現(xiàn)，并可以說是特別優(yōu)選 的。應當注意，本發(fā)明中的X射線衍射用CuKa射線在以下條件下進行。所用測量機器由MAC Science制造的自動X射線衍射裝置MXP 18X 射線管Cu管電壓50kV管電流300mA掃描方法2 0/0掃描掃描速率2deg./min取樣間隔0.020deg.起始角(20 ) :5deg.終止角(2e ) :40deg.發(fā)散狹縫0.5deg.散射狹縫0.5deg.接收狹縫0.3deg.使用彎曲單色儀。電荷產(chǎn)生層具有優(yōu)選0.01 iim以上至lOiim以下，或更優(yōu)選0. 05iim以上至5iim
以下的厚度。 包含空穴輸送物質(zhì)的空穴輸送層形成于電荷產(chǎn)生層上?？昭ㄝ斔蛯涌赏ㄟ^下述形成將空穴輸送物質(zhì)與粘結劑樹脂一起溶解于溶劑中以 制備空穴輸送層用涂布液；將該液體涂布至電荷產(chǎn)生層上；并干燥涂布的液體。用于空穴輸送層用涂布液的溶劑的實例包括醚、酮、酯和芳族化合物。醚的實例包 括四氫呋喃和1，4_ 二噁烷。酮的實例包括環(huán)己烷、4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮和甲乙酮。 酯的實例包括乙酸乙酯和乙酸丁酯。芳族化合物的實例包括甲苯、二甲苯和一氯苯。用于空穴輸送層的粘結劑樹脂的實例包括酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯、聚碳 酸酯、多芳基化合物、聚酯、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚酰胺酸、聚乙烯、聚苯乙烯、苯乙 烯-丙烯酸類共聚物、丙烯酸類樹脂、聚甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮醛、聚乙烯醇 縮丁醛、聚乙烯縮苯甲醛、聚乙烯醇縮甲醛、聚丙烯腈、聚丙烯酰胺、丙烯腈-丁二烯共聚 物、聚氯乙烯、氯乙烯_乙酸乙烯酯共聚物、纖維素、三聚氰胺樹脂、直鏈淀粉、支鏈淀粉、聚 砜、聚醚砜和硅酮樹脂等?？昭ㄝ斔筒牧系膶嵗ㄈ及奉惢衔铩㈦觐惢衔?、芪類化合物、吡唑啉類化 合物、噁唑類化合物、三唑類化合物、三芳基甲烷類化合物、烯胺類化合物和丁二烯類化合物等?？昭ㄝ斔蛯泳哂袃?yōu)選5 u m以上至40 ii m以下，或更優(yōu)選10 y m以上至30 y m以下的厚度。另外，為了改善例如耐久性、轉印性能或清潔性能，可在空穴輸送層上設置保護層。保護層可通過下述形成將樹脂溶解于溶劑中以制備保護層用涂布液；將該液體 涂布至空穴輸送層上；以及干燥涂布的液體。樹脂的實例包括聚乙烯醇縮丁醛、聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、多芳基化合 物、聚氨酯、苯乙烯_ 丁二烯共聚物、苯乙烯_丙烯酸類共聚物和苯乙烯_丙烯腈共聚物等。可選擇地，保護層可通過使用各種交聯(lián)反應固化具有電荷-輸送能力(空穴-輸 送能力)的單體或者聚合的電荷-輸送物質(zhì)(空穴輸送物質(zhì))形成，從而賦予保護層以電荷 輸送能力。所述固化反應的實例包括自由基聚合、離子聚合、熱聚合、光聚合、輻射聚合(電 子束聚合)、等離子體CVD法和光CVD法?？蛇x擇地，可將導電性顆粒、紫外線吸收劑、耐磨耗性改進劑等等引入保護層中。 導電性顆粒的實例包括金屬氧化物例如氧化錫的顆粒。另外，耐磨耗性改進劑的實例包括 含氟原子的樹脂顆粒、氧化鋁和二氧化硅。保護層具有優(yōu)選0. 5 ii m以上至20 ii m以下，或更優(yōu)選1 y m以上至10 y m以下的厚度。用于這些層的各層的涂布液的涂布方法是，例如浸漬涂布法(浸漬法)、噴涂法、 旋涂法、珠涂法(bead coating method)、舌l(xiāng)j 涂法、或束流涂法(beam coating method)。接下來，將要描述具有本發(fā)明的電子照相感光構件的電子照相設備。本發(fā)明的電子照相設備包括本發(fā)明的上述電子照相感光構件；充電單元，其用 于使所述電子照相感光構件表面充電；曝光單元，其用于用曝光光照射所述充電的電子照 相感光構件表面以在所述電子照相感光構件表面上形成靜電潛像；顯影單元，其用于用調(diào) 色劑顯影在所述電子照相感光構件表面上形成的靜電潛像以在所述電子照相感光構件表 面上形成調(diào)色劑圖像；和轉印單元，其用于將在所述電子照相感光構件表面上形成的調(diào)色 劑圖像轉印至轉印材料上。圖1是示出包括具有本發(fā)明電子照相感光構件的處理盒的電子照相設備構造的 示意圖。在圖1中，本發(fā)明的鼓狀電子照相感光構件1以預定循環(huán)時間(旋轉一周的時間) 沿箭頭指示方向繞軸2旋轉。在旋轉過程中，在電子照相感光構件1的表面通過充電單元3 充電至預定的正或負電位。接下來，充電的表面接受由曝光單元(未示出)例如狹縫曝光 或激光束掃描曝光發(fā)射的曝光光4。相應于目標圖像信息的時間序列電數(shù)字圖像信號，調(diào)整 曝光光4的強度。由此，在電子照相感光構件1的表面上形成相應于目標圖像信息的靜電 潛像。在電子照相感光構件1表面上形成的靜電潛像用貯存于顯影單元5中的調(diào)色劑顯 影(進行常規(guī)顯影或反轉顯影)，由此形成調(diào)色劑圖像。在電子照相感光構件1表面上形成 的調(diào)色劑圖像通過轉印單元6轉印至轉印材料7 (如紙)上。例如，當轉印材料7為紙時， 從片進給部(未示出)取出轉印材料，以與電子照相感光構件1的旋轉同步地進給至電子 照相感光構件1和轉印單元6之間的空間。在此情況下，將與調(diào)色劑電荷相反的極性的電 壓從電源(未示出)施加至轉印單元6。
在其上面已轉印調(diào)色劑圖像的轉印材料7從電子照相感光構件1的表面分離，以 輸送至在其中將調(diào)色劑圖像進行定影處理的定影單元8。因此，將轉印材料作為圖像形成物 (打印件或復印件)排出(打印出)到電子照相設備之外。通過清潔單元9除去調(diào)色劑圖像轉印至轉印材料7上之后殘留在電子照相感光構 件1表面上的沉積物如調(diào)色劑(轉印殘余調(diào)色劑)，由此清潔電子照相感光構件1表面。最近對無清潔器系統(tǒng)的研究已能夠通過例如顯影單元直接回收轉印殘余調(diào)色劑。此外，在已通過來自預曝光單元(未示出)的預曝光光10除電后，電子照相感光 構件1表面重復用于圖像形成。應當注意，當充電單元3為使用充電輥等的接觸充電單元 時，不必需要預曝光。在本發(fā)明中，例如，電子照相感光構件1可與選自由充電單元3、顯影單元5和清潔 單元9組成的組的至少一個單元一體化地支持，以形成處理盒11，所述處理盒11借助于主 體導向單元12(如軌道)可拆卸地安裝于電子照相設備主體上。另外，當電子照相設備是復印機或打印機時，曝光光4可以是來自原稿的反射光 或透射光?？蛇x擇地，曝光光可為根據(jù)例如以下照射的光根據(jù)將由傳感器讀取的原稿轉化 成的信號進行的用激光束的掃描、LED陣列驅(qū)動，或液晶開關陣列驅(qū)動。另外，也可將具有380至450nm振蕩波長的激光優(yōu)選用作曝光光，這是因為本發(fā)明 的電子照相感光構件在圖像形成時可保持極小的電位波動。使用這種短波長激光的曝光單 元與上述本發(fā)明的電子照相感光構件的一起使用能夠使得長時間穩(wěn)定地形成高分辨率圖 像。另外，存在以下趨勢電子照相處理的處理速度越高或電子照相感光構件的直徑 越小，則電子照相感光構件的循環(huán)時間(旋轉一周的時間)越小并且電子照相感光構件中 短時間內(nèi)的電位波動越大。然而，本發(fā)明的電子照相感光構件甚至在此情況下也能夠抑制 其電位波動。特別地，具有0. 4秒/轉以下循環(huán)時間的電子照相設備處于抑制電子照相感 光構件中電位波動的嚴苛條件下，但是根據(jù)本發(fā)明，即使在這樣的電子照相設備情況下，也 能夠充分地抑制電子照相感光構件的電位波動。本發(fā)明的電子照相感光構件不僅用于復印機或激光束打印機，也廣泛適用于電子 照相術應用領域如CRT打印機、LED打印機、傳真機、液晶打印機和激光制版。實施例下文中，通過具體實施例詳細描述本發(fā)明，條件是本發(fā)明不限于這些實施例。應注 意，實施例中“ ％，，和“份”分別指“質(zhì)量％ ”和“質(zhì)量份”。另外，電子照相感光構件各層的 厚度用渦電流厚度儀(Fischerscope，由Fischer Instruments K. K.制造)或根據(jù)比重由 所述層每單位面積的質(zhì)量來確定。(實施例1)使用直徑為30mm的鋁圓筒(拉伸管)作為支承體。 導電層(干涉條紋防止層)用涂布液的制備將50份涂布有氧化錫的氧化鈦顆粒(商品名KronosECT-62，由Titan Kogyo, Ltd.制造)、41.7份甲階型酚醛樹脂(商品名PLYOPHEN J-325，由Dainippon Ink and Chemicals Inc.制造，樹脂固含量60 % )、20份1_甲氧基_2_丙醇，3. 8份硅酮樹脂顆粒 (商品名:T0 SPEARL 120，由Toshiba Silicones制造)、5份甲醇，和0. 002份硅油(聚二甲硅氧烷_聚氧亞烷基共聚物，平均分子量3，000)放入使用125份平均直徑為0. 8mm的 玻璃珠的砂磨設備中，并在2，OOOrpm下進行分散處理3小時。分散處理之后，通過篩網(wǎng)過濾分離玻璃珠，并且分離的液體用1 1比例的1-甲 氧基-2-丙醇和甲醇的混合溶劑稀釋，以使固含量為55%。從而，制備導電層(干涉條紋防 止層)用涂布液。 導電層(干涉條紋防止層)的形成(導電層形成步驟)將上述導電層(干涉條紋防止層)用涂布液通過浸涂涂布于上述鋁圓筒上，并且 將涂布的液體在140°C干燥30分鐘，由此形成具有15 μ m厚度的導電層(干涉條紋防止 層)。應注意，將滿足下述條件的砂磨設備用于導電層(干涉條紋防止層)用涂布液的 制備以及隨后描述的中間層用涂布液和電荷產(chǎn)生層用涂布液的制備。具有900ml刻度容器體積的分批式縱型設備盤數(shù)五冷卻水溫度18°C·中間層用涂布液的制備將25份N-甲氧基甲基化尼龍6(商品名Toresin EF-30T，由Nagase ChemteX Corporation制造，甲氧甲基化比例36.8% )溶解于225份正丁醇(通過在50°C下加熱來 溶解)中。溶解之后，將溶液冷卻并用膜濾器(商品名FP-022，孔徑0. 22 μ m，由Sumitomo Electric Industries, Ltd.制造)過濾。接下來，將2. 4份包含平均一次粒徑為6nm的銳 鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦溶膠(酸性溶膠)(商品名TKS-201，鹽酸溶膠，氧化 鈦含量33質(zhì)量％，由TAYCA制造)添加至所述濾液中。將該混合物裝入使用500份平均 直徑為0. 8mm的玻璃珠的砂磨設備中，并在1，500rpm下進行分散處理2小時。分散處理后，通過篩網(wǎng)過濾分離玻璃珠，并將分離的液體用甲醇和正丁醇稀釋，以 使固含量為3.0%，甲醇和正丁醇之間的溶劑比為2 1。從而制備中間層用涂布液。平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒在中間層用涂布 液中的酸性氧化鈦溶膠中的含量為3. 1質(zhì)量％，相對于中間層用涂布液中干固體物質(zhì)總質(zhì) 量。·中間層的形成(中間層形成步驟)將上述中間層用涂布液通過浸涂涂布于上述導電層(干涉條紋防止層)上，并將 涂布的液體在100°C下干燥10分鐘，由此形成具有0. 45 μ m厚度的中間層。·電荷產(chǎn)生層用涂布液的制備將21份晶體形式的羥基鎵酞菁晶體(電荷產(chǎn)生物質(zhì))和聚乙烯醇縮丁醛(商品 名=S-LEC BX-I,由SEKISUI CHEMICAL CO.，LTD.制造)溶解于環(huán)己酮中，該羥基鎵酞菁晶 體在2 θ 士0.2° (其中θ表示在CuK α X射線衍射中的布拉格角)為各7. 5°和28. 3° 處具有強峰，由此獲得具有樹脂濃度為5%的樹脂溶液。將210份該樹脂溶液裝入使用500 份平均直徑為0. 8mm的玻璃珠的砂磨設備中，并在1，500rpm下進行分散處理4小時。分散處理后，將所得物用350份環(huán)己酮和600份乙酸乙酯稀釋，并通過篩網(wǎng)過濾分 離玻璃珠，由此制備電荷產(chǎn)生層用涂布液?！る姾僧a(chǎn)生層的形成(電荷產(chǎn)生層形成步驟)
將上述電荷產(chǎn)生層用涂布液通過浸涂涂布于上述中間層上，并將涂布的液體在 100°C下干燥10分鐘，由此形成具有0. 17 i! m厚度的電荷產(chǎn)生層。 空穴輸送層用涂布液的制備將5份由以下結構式(CTM-1)表示的化合物(空穴輸送物質(zhì))、5份由以下結構 式(CTM-2)表示的化合物(空穴輸送物質(zhì))和10份聚碳酸酯(商品名Iupilon Z-400,由 MitsubishiEngineering-Plastics Corporation 制造)溶解于 70 份一氯苯中，由此制備空
穴輸送層用涂布液。
空穴輸送層的形成(空穴輸送層形成步驟)
將上述空穴輸送層用涂布液通過浸涂涂布于上述電荷產(chǎn)生層上，并將涂布的液體 在100°C下干燥30分鐘，由此形成具有18 ym厚度的空穴輸送層。接下來，將按照下述步驟生產(chǎn)的保護層用涂布液涂布于空穴輸送層上以形成保護 層。從而，生產(chǎn)電子照相感光構件1。 保護層用涂布液的制備將36份由以下結構式(CTM-3)表示的化合物(空穴輸送物質(zhì))、4份聚四氟乙烯 顆粒(商品名:LUBR0N L-2，由DAIKININDUSTRIES，ltd.制造)和60份正丙醇混合，然后用
超高壓分散機進行分散處理，由此制備保護層用涂布液。
保護層的形成將上述保護層用涂布液通過浸涂涂布于上述空穴輸送層上，并指觸干燥(dried to the touch)涂布的液體。之后，在氮氣氣氛中，將所得物用加速電壓為60kV和劑量為 O.SMrad的電子束照射。隨后，將照射體進行熱處理1分鐘以使照射體溫度為150°C。在此 情況下，氮氣氣氛中的氧濃度為20ppm。此外，將所得物在空氣中在120°C下進行熱處理1小時，由此形成具有5 u m厚度的保護層。由此，獲得電子照相感光構件1。接下來，將生產(chǎn)的電子照相感光構件1安裝于由Canon Inc.制造的復印機 GP-40(商品名)的改造設備(將光源改變?yōu)楣饬渴强勺兊?778-nm半導體激光器，將預曝 光改變?yōu)楣饬渴强勺兊募tLED，并且將電機改變?yōu)樘幚硭俣瓤勺兊碾姍C)，并在重復使用時 評價其電位特性。電子照相感光構件的電位通過下述方式測量從上述復印機的主體除去顯影單 元；代替該單元，在顯影位置固定電位測量用探針。應注意，轉印單元不與電子照相感光構 件接觸，并且沒有紙通過。首先，電子照相感光構件1與上述復印機一起在常溫、低濕(23°C /5% RH)環(huán)境下 放置3天。隨后，在相同環(huán)境下，設定充電條件和曝光(圖像曝光)的光量以使暗區(qū)電位 (Vd)為-700V和亮區(qū)電位(VI)為-200V。另外，預曝光的光量為LED光量的三倍以將表面 電勢從-700V衰減為-200V。另外，處理速度調(diào)整為320mm/sec (循環(huán)速度調(diào)整為0. 29秒/ 轉)。接著，進行包括5，000連續(xù)轉動的VI耐久試驗(根據(jù)全屏黑色圖像模式的耐久試 驗)，并測量5，000轉后的亮區(qū)電位(VI)。結果，亮區(qū)電位為-202V。在此情況下，初期亮區(qū) 電位(VI)和包括5，000轉的VI耐久試驗后的亮區(qū)電位(VI)之間的差(變化值)定義為 A VI (初期)=+2V。隨后，進行包括500，000轉的VI耐久試驗。試驗完成后5分鐘，測量初期亮區(qū)電位 (VI)和包括5，000轉的VI耐久試驗后的亮區(qū)電位(VI)之間的差(變化值，稱為“ AV1(5 分鐘后)”)。結果，八\^1(5分鐘后)為+18乂。次日(24小時后)，類似地測量初期亮區(qū)電位(VI)和包含5，000轉的VI耐久試驗 后的亮區(qū)電位(VI)間的差(變化值，稱為“ AV1(次日)”)。結果，AV1(次日)為+14V。又一周后，類似地測量初期亮區(qū)電位(VI)和包含5，000轉的VI耐久試驗后的亮 區(qū)電位(VI)間的差(變化值，稱為“ AV1(1周后)”)。結果，A VI (1周后)為+8V。另外，上述1周后的初期亮區(qū)電位(VI)和VI耐久試驗前的初期亮區(qū)電位(VI)間 的差(變化值，稱為“ AV1 (長期波動)”)如下A VI (長期波動)=+23V，該差被認為是 回復性不足的長時間內(nèi)電位波動。所有上述系列評價在常溫、低濕環(huán)境下進行，同時不改變從初期設定充電條件、曝 光(圖像曝光)和預曝光的各光量以及處理速度。另外，甚至在VI耐久試驗期間，也打開 預曝光。表1示出評價結果。(比較例1)除了實施例1中的中間層用涂布液的制備如下所述進行外，以與實施例1相同的 方式生產(chǎn)電子照相感光構件C1。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件C1。 中間層用涂布液的制備將3份N-甲氧基甲基化尼龍6(商品名Toresin EF-30T，由Nagase ChemteX Corporation制造，甲氧甲基化比例36. 8% )溶解于65份甲醇和32. 5份正丁醇的混合溶 劑(通過在65°C下加熱來溶解)中。溶解之后，將該溶液冷卻并用膜濾器(商品名FP-022，孔徑0. 22 iim，由Sumitomo Electric Industries, Ltd.制造)過濾。由此,獲得中間層用 涂布液。(實施例2)除了實施例1中的中間層用涂布液的制備如下所述進行外，以與實施例1相同的 方式生產(chǎn)電子照相感光構件2。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件2。 中間層用涂布液的制備將25份N-甲氧基甲基化尼龍6(商品名Toresin EF-30T，由Nagase ChemteX Corporation制造，甲氧甲基化比例36. 8% )溶解于225份正丁醇(通過在50°C下加熱 來溶解)中。溶解之后，將該溶液冷卻并用膜濾器(商品名FP-022，孔徑0.22i!m，由 Sumitomo Electric Industries, Ltd.制造)過濾。接下來,將2. 4份包含平均一次粒徑 為6nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦溶膠(酸性溶膠)(商品名TKS-201，鹽酸 溶膠，氧化鈦含量33質(zhì)量％，由TAYCA制造)和15份平均一次粒徑為15nm的表面未經(jīng)處 理的金紅石型氧化鈦晶體顆粒(商品名MT-150A，由TAYCA制造)添加至所述濾液。將混 合物放入使用500份平均直徑為0. 8mm的玻璃珠的砂磨設備中，并在1，500rpm下進行分散 處理7小時。分散處理后，通過篩網(wǎng)過濾分離玻璃珠，并將分離的液體用甲醇和正丁醇稀釋，以 使固含量為4.0%，甲醇和正丁醇之間的溶劑比為2 1。從而，制備中間層用涂布液。平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒在中間層用涂 布液的酸性氧化鈦溶膠中的含量為1. 9質(zhì)量％，相對于中間層用涂布液中干固體物質(zhì)總質(zhì)量。(比較例2)除了不將酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201)添加至實施例2中的中間層用涂布 液外，以與實施例2相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件C2。另外，以與實施例1相同的方式 評價電子照相感光構件C2。(實施例3)除了將用于實施例2中的中間層用涂布液的氧化鈦顆粒(商品名MT_150A)改變 為平均一次粒徑為15nm的表面未經(jīng)處理的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒(商品名TKP-102，由 TAYCA制造)外，以與實施例2相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件3。另外，以與實施例1 相同的方式評價電子照相感光構件3。(實施例4)除了將用于實施例1中的中間層用涂布液的酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201) 的量從2. 4份改變?yōu)?2份外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件4。另外，以 與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件4。平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒在中間層用涂布 液的酸性氧化鈦溶膠中的含量為13. 7質(zhì)量％，相對于中間層用涂布液中干固體物質(zhì)總質(zhì)量。(實施例5)除了將用于實施例1中的中間層用涂布液的酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201) 的量從2. 4份改變?yōu)?. 8份外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件5。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件5。平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒在中間層用涂 布液的酸性氧化鈦溶膠中的含量為6. 0質(zhì)量％，相對于中間層用涂布液中干固體物質(zhì)總質(zhì)量。(實施例6)除了將用于在實施例1中的中間層用涂布液的酸性氧化鈦溶膠(商品名 TKS-201)改變?yōu)榘骄淮瘟綖?nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦溶膠 (商品名TKS-202，硝酸溶膠，氧化鈦含量33質(zhì)量％，由TAYCA制造)外，以與實施例1相 同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件6。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件 6。(實施例7)除了將實施例1中通過浸漬涂布中間層用涂布液后的干燥由在100°C下干燥10分 鐘改變?yōu)樵?45°C下干燥10分鐘外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件7。另 外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件7。(實施例8)除了實施例1中的中間層用涂布液的制備如下所述進行外，以與實施例1相同的 方式生產(chǎn)電子照相感光構件8。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件8。 中間層用涂布液的制備將20份N-甲氧基甲基化尼龍6(商品名Toresin EF-30T，由Nagase ChemteX Corporation制造，甲氧甲基化比例36. 8% )溶解于180份正丁醇(通過在65°C下加熱 來溶解)中。溶解之后，將該溶液冷卻并用膜濾器(商品名FP-022，孔徑0.22i!m，由 Sumitomo Electric Industries, Ltd.制造)過濾。接下來，將濾液在室溫下靜置于密封 容器中5天，由此獲得凝膠化聚酰胺樹脂溶液。將1. 7份包含平均一次粒徑為6nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦溶膠 (酸性溶膠)(商品名TKS-201，由TAYCA制造)、10. 1份平均一次粒徑為15nm的表面未經(jīng) 處理的金紅石型氧化鈦晶體顆粒(商品名MT-150A，由TAYCA制造)、5. 3份示例性化合物 (2-1)和30份乙醇添加至聚酰胺樹脂溶液。將混合物放入使用506份平均直徑為0. 8mm的 玻璃珠的砂磨設備中，并在1，500rpm下進行分散處理7小時。分散處理后，通過篩網(wǎng)過濾分離玻璃珠，并將分離的液體用甲醇和正丁醇稀釋，以 使固含量為4.8%，甲醇和正丁醇之間的溶劑比為2 1。從而，制備中間層用涂布液。平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒在中間層用涂 布液的酸性氧化鈦溶膠中的含量為1. 6質(zhì)量％，相對于中間層用涂布液中干固體物質(zhì)總質(zhì)
Mo(比較例3)除了不將酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201)添加至實施例8中的中間層用涂布 液外，以與實施例8相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件C3。另外，以與實施例1相同的方式 評價電子照相感光構件C3。(比較例4)除了不將酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201)和氧化鈦顆粒(商品名MT_150A)添加至實施例8中的中間層用涂布液外，以與實施例8相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件 C4。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件C4。(實施例9) 除了將用于實施例8中的中間層用涂布液的酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201) 的量從1. 7份改變?yōu)?. 2份外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件9。另外， 以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件9。平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒在中間層用涂 布液的酸性氧化鈦溶膠中的含量為1. 1質(zhì)量％，相對于中間層用涂布液中干固體物質(zhì)總質(zhì)量。(實施例10)除了將用于實施例8中的中間層用涂布液的氧化鈦顆粒(商品名MT-150A)改變 為平均一次粒徑為35nm的表面未經(jīng)處理的金紅石型氧化鈦晶體顆粒(商品名MT_500B，由 TAYCA制造)外，以與實施例8相同的方式制造電子照相感光構件10。另外，以與實施例1 相同的方式評價電子照相感光構件10。(實施例11)除了將用于實施例8中的中間層用涂布液的氧化鈦顆粒(商品名MT-150A)改變 為平均一次粒徑為50nm的表面未經(jīng)處理的金紅石型氧化鈦晶體顆粒(商品名MT-600B，由 TAYCA制造)外，以與實施例8相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件11。另外，以與實施例1 相同的方式評價電子照相感光構件11。(實施例I2)除了將用于實施例8中的中間層用涂布液的酸性氧化鈦溶膠(商品名TKS_201) 改變?yōu)榘骄淮瘟綖?nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦溶膠(酸性溶 膠)(商品名TKS-202，硝酸溶膠，氧化鈦含量33質(zhì)量％，由TAYCA制造)外，以與實施例 8相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件12。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感 光構件12。(實施例I3)除了將用于實施例8中的中間層用涂布液的氧化鈦顆粒(商品名MT-150A)改變 為平均一次粒徑為15nm的表面未經(jīng)處理的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒(商品名TKP-102，由 TAYCA制造)外，以與實施例8相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件13。另外，以與實施例1 相同的方式評價電子照相感光構件13。(實施例14) 除了將實施例8中的中間層的厚度由0. 45 μ m改變?yōu)?. 65 μ m夕卜，以與實施例8 相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件14。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光 構件14。(實施例I5)除了將用于實施例1中的中間層用涂布液的2.4份酸性氧化鈦溶膠(商品名 TKS-201)改變?yōu)?. 7份包含平均一次粒徑為7nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦 溶膠(酸性溶膠)(商品名STS-01，硝酸溶膠，氧化鈦含量30質(zhì)量％，由ISHIHARASANGYO KAISHA,LTD.制造)外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件15。另外，以與實施例1相同的方式評價電子照相感光構件15。(實施例I6)除了將用于實施例1中的中間層用涂布液的2.4份酸性氧化鈦溶膠(商品名 TKS-201)改變?yōu)?. 7份包含平均一次粒徑為7nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦 溶膠(酸性溶膠)(商品名STS-02，鹽酸溶膠，氧化鈦含量30質(zhì)量％，由ISHIHARASANGYO KAISHA,LTD.制造)外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件16。另外，以與實 施例1相同的方式評價電子照相感光構件16。(實施例I7)除了將用于實施例1中的中間層用涂布液的2.4份酸性氧化鈦溶膠(商品名 TKS-201)改變?yōu)?. 0份包含平均一次粒徑為5nm的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的酸性氧化鈦 溶膠(酸性溶膠)(商品名STS-100，硝酸溶膠，氧化鈦含量20質(zhì)量％，由ISHIHARASANGYO KAISHA,LTD.制造)外，以與實施例1相同的方式生產(chǎn)電子照相感光構件17。另外，以與實 施例1相同的方式評價電子照相感光構件17。表 1 如表1中示出的結果所見，與具有未使用根據(jù)本發(fā)明酸性氧化鈦溶膠形成的中間 層的比較例1的電子照相感光構件C1相比，具有通過使用根據(jù)本發(fā)明酸性氧化鈦溶膠形成 的中間層的實施例1的電子照相感光構件1顯示良好的關于電位波動的結果。
另外，具有通過不使用根據(jù)本發(fā)明酸性氧化鈦溶膠，而只使用具有平均一次粒徑 為15nm氧化鈦顆粒形成的中間層的比較例2的電子照相感光構件C2不顯示關于電位波動 的良好結果。因此，可以理解，僅通過將具有小粒徑的氧化鈦顆粒引入中間層中不能充分抑 制電位波動。S卩，中間層必須是通過使用根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠形成的層，從而能夠抑 制當在低濕環(huán)境下進行圖像形成時變得顯著的短時間內(nèi)的電位波動以及長時間內(nèi)的電位 波動。另外，實施例2的結果表明，當將根據(jù)本發(fā)明的酸性氧化鈦溶膠和平均一次粒徑 為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒二者均引入中間層中時，關于電位 波動的結果變得更好。此外，實施例8的結果表明，當將偶氮顏料引入中間層中時，關于電位波動的結果 變得更好。本申請要求2007年12月4日提交的日本專利申請2007-313574的優(yōu)先權，在此 將其整體引入以作參考。
權利要求
一種電子照相感光構件，其包含支承體；中間層，其形成于所述支承體上；包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層，其形成于所述中間層上；知包含空穴輸送物質(zhì)的空穴輸送層，其形成于所述電荷產(chǎn)生層上，其中所述中間層是通過涂布和干燥中間層用涂布液而形成的層，所述中間層用涂布液包含酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂；和所述酸性氧化鈦溶膠包括酸性溶膠，所述酸性溶膠包含平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒。
2.根據(jù)權利要求1所述的電子照相感光構件，其中所述中間層用涂布液進一步包含平 均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的電子照相感光構件，其中所述酸性氧化鈦溶膠包括鹽酸 溶膠或硝酸溶膠。
4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的電子照相感光構件，其中所述有機樹脂包括聚酰胺。
5.根據(jù)權利要求4所述的電子照相感光構件，其中所述聚酰胺包括甲氧基甲基化尼龍6。
6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的電子照相感光構件，其中所述中間層中平均一 次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒的含量為1.0質(zhì)量％以上至10 質(zhì)量％以下，相對于所述中間層的總質(zhì)量。
7.根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的電子照相感光構件，其中所述中間層具有 0. 3 μ m以上至1. 5 μ m以下的厚度。
8.根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的電子照相感光構件，其在所述支承體和所述中 間層之間進一步具有包含無機顆粒的層。
9.一種生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其包括 在支承體上形成中間層；在所述中間層上形成包含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層；和 在所述電荷產(chǎn)生層上形成包含空穴輸送物質(zhì)的空穴輸送層， 其中所述形成中間層包括通過涂布和干燥包含酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂的中間層用涂 布液形成中間層；和所述酸性氧化鈦溶膠包括酸性溶膠，所述酸性溶膠包含平均一次粒徑為3nm以上至 9nm以下的銳鈦礦型氧化鈦晶體顆粒。
10.根據(jù)權利要求9所述的生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其中所述中間層用涂布液 進一步包含平均一次粒徑為13nm以上至60nm以下的表面未經(jīng)處理的氧化鈦顆粒。
11.根據(jù)權利要求9或10所述的生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其中所述酸性氧化鈦 溶膠包括鹽酸溶膠或硝酸溶膠。
12.根據(jù)權利要求9至11中任一項所述的生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其中所述有機樹脂包括聚酰胺。
13.根據(jù)權利要求12所述的生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其中所述聚酰胺包括甲氧 基甲基化尼龍6。
14.根據(jù)權利要求9至13中任一項所述的生產(chǎn)電子照相感光構件的方法，其中干燥涂 布的中間層用涂布液的干燥溫度為140°C以上至155°C以下。
15.一種處理盒，其一體化地支持根據(jù)權利要求1至8中任一項所述的電子照相感光構件；和選自由下述組成的組中的至少一個單元充電單元，其用于使所述電子照相感光構件表面充電；顯影單元，其用于用調(diào)色劑顯影在所述電子照相感光構件表面上形成的靜電潛像以在 所述電子照相感光構件表面上形成調(diào)色劑圖像；和清潔單元，其用于將調(diào)色劑圖像轉印至轉印材料之后，除去在所述電子照相感光構件 表面上殘留的調(diào)色劑，并且所述處理盒可拆卸地安裝至電子照相設備的主體上。
16.一種電子照相設備，其包括根據(jù)權利要求1至8中任一項所述的電子照相感光構件； 充電單元，其用于使所述電子照相感光構件表面充電；曝光單元，其用于用曝光光照射所述電子照相感光構件的充電表面以在所述電子照相 感光構件表面上形成靜電潛像；顯影單元，其用于用調(diào)色劑顯影在所述電子照相感光構件表面上形成的所述靜電潛像 以在所述電子照相感光構件表面上形成調(diào)色劑圖像；和轉印單元，其用于將在所述電子照相感光構件表面上形成的所述調(diào)色劑圖像轉印至轉 印材料上。
17.根據(jù)權利要求16所述的電子照相設備，其中所述電子照相感光構件具有0.4秒/ 轉以下的循環(huán)時間。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠抑制長期電位波動和短期電位波動的電子照相感光構件，用于生產(chǎn)所述電子照相感光構件的方法，包含所述電子照相感光構件的處理盒和電子照相設備。所述電子照相感光構件包括通過涂布包含酸性氧化鈦溶膠和有機樹脂的中間層用涂布液并干燥該涂層而形成的中間層。所述酸性氧化鈦溶膠是包含平均一次粒徑為3nm以上至9nm以下的銳鈦礦氧化鈦晶體顆粒的酸性溶膠。
文檔編號G03G5/06GK101878453SQ20088011809
公開日2010年11月3日 申請日期2008年12月1日 優(yōu)先權日2007年12月4日
發(fā)明者加來賢一, 田中正人, 石塚由香, 藤井淳史, 遠藤健彥, 野中正樹 申請人:佳能株式會社