專利名稱：陣列基板維修設備及方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液晶顯示面板生產(chǎn)技術領域，尤其涉及一種TFT-LCD陣列基板的維修 設備及方法。
背景技術：
TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示 器)陣列基板是在玻璃基板上形成陣列電路；在陣列電路形成以后或在形成過程中，需要 對形成工藝進行檢測；如果檢測結果表明產(chǎn)品中存在不良，例如點不良或者線不良，則需要 對存在不良處進行維修。對于不良的維修主要有兩種情況一種是斷開(open)不良的維修，其主要方法 是維修使用的原料是金屬碳氧化合物粉末，使用氬氣(Ar)將這種粉末攜帶至反應釜中， 用激光作能量源，通過光化學反應，將上述化合物分解，以金屬粉末的狀態(tài)沉積到玻璃基板 上，在熱效應作用下形成致密的金屬膜層，起到連接線路的作用；一種是殘留(remain)不 良的維修，其主要方法是利用激光進行切割，使多余的部分與有用的部分斷開。以上兩種情況均以激光作為能量源，在其對應的維修設備的內(nèi)部，激光的光路大 致如圖1所示激光發(fā)生器1發(fā)射出的激光經(jīng)過光束分離器21(beamsplitter)后將某特 定波長的光分離出來，然后使其通過光衰減器3 (Attenuator)來控制所述分離出來的激光 的能量；激光通過光衰減器3后，再經(jīng)過光束分離器22將環(huán)境光濾除掉，然后通過光擴束 器4(beam expander)將高度聚集的光束擴大成較大的光斑；擴大后的光束到達光路狹縫 5 (slit)，在這里可以通過調(diào)節(jié)狹縫的大小使通過狹縫的光束截面呈不同大小的矩形，從而 滿足各種工藝需要；之后，激光經(jīng)過一組反射鏡6的反射到達物鏡7，然后通過物鏡7聚焦 在TFT基板上。由于維修設備內(nèi)部激光發(fā)生器及相關硬件的自身特性，在使用一段時間后經(jīng)常會 發(fā)生參數(shù)偏移，例如激光能量衰減，因此為了保證對陣列基板進行維修的成功率，需要定期 地對維修設備發(fā)出的激光的能量進行測量，若遇到異常就需要對設備內(nèi)部的光路進行調(diào)
iF. ο在現(xiàn)有技術中，測量激光能量時需要引入圖2中所示的激光能量測量設備，其包 括激光能量測量探頭8和激光能量顯示裝置9 ；基于圖2中所示的陣列基板維修設備及激 光能量測量設備，現(xiàn)有技術中測量激光能量的過程大致如下首先，對陣列基板維修設備與激光能量測量探頭8之間的相對位置進行調(diào)整將 激光能量測量探頭8固定于激光光路末端物鏡7下方的基臺上，同時要保證激光束經(jīng)物鏡 7會聚后的焦點在激光能量測量探頭8的激光接收面之下且物鏡7的中心線與激光能量測 量探頭8的中心線是重合的；然后，開啟激光發(fā)生器1使其發(fā)射出激光，在激光能量測量探頭8接收到激光后， 與其連接的激光能量顯示裝置9上會顯示出對應的能量值，通過將該能量值與正常值進行 比較就可以判斷出當前陣列基板維修設備所發(fā)出的激光的能量是否存在異常。
不過，在對上述陣列基板維修設備發(fā)出的激光能量進行檢測的過程中，發(fā)明人發(fā) 現(xiàn)現(xiàn)有技術中至少存在如下問題激光能量測量設備測量的是陣列基板維修設備最終輸出的激光的能量，即使發(fā)現(xiàn) 了激光能量存在異常，也無法確定到底是哪一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)了問題，而需要對整個光路進行 逐一確認，因此排除異常的過程耗時耗力、效率很低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供一種陣列基板維修設備及方法，能夠提高設備產(chǎn)生的激光的 能量檢測的效率。為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案一種陣列基板維修設備，包括激光發(fā)生器，以及依次分布在激光光路上的光衰減 器、光擴束器、光路狹縫和物鏡；其中，在所述激光發(fā)生器與所述光衰減器之間、所述光衰減 器和所述光擴束器之間以及所述光路狹縫和所述物鏡之間均設有可旋轉(zhuǎn)反射鏡，激光經(jīng)所 述可旋轉(zhuǎn)反射鏡反射后到達置于所述陣列基板維修設備內(nèi)部的激光能量測量探頭。一種陣列基板維修方法，包括生成激光；依次測量激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量；在所述激光能量均處于正常水平時，利用所述激光對陣列基板進行維修；在所述 激光能量處于非正常水平時，根據(jù)所述激光能量對光路進行調(diào)整。本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備及方法，將激光能量測量探頭置于設備內(nèi) 部的固定位置上，這樣可以避免在每次進行激光能量測量時都需要重新給激光能量測量探 頭進行定位；而且，由于在設備內(nèi)部的激光發(fā)生器、光衰減器和光路狹縫之后均設置了可旋 轉(zhuǎn)反射鏡，因此可以通過所述可旋轉(zhuǎn)反射鏡的反射作用使激光發(fā)生器發(fā)出的激光、分別經(jīng) 過光衰減器和光路狹縫后的激光傳播到固定于設備內(nèi)部的激光能量測量探頭處，從而實現(xiàn) 對光路中激光能量的多點測量，這樣在出現(xiàn)激光能量異常的時候，可以方便地判斷出是設 備內(nèi)部哪一部分出現(xiàn)問題；與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備及方 法能夠提高設備產(chǎn)生的激光的能量檢測的效率。


圖1為現(xiàn)有的陣列基板維修設備的結構示意圖；圖2為現(xiàn)有的陣列基板維修設備和激光能量測量設備的組合示意圖；圖3為本發(fā)明實施例中的陣列基板維修設備的結構示意圖一；圖4為本發(fā)明實施例中的陣列基板維修設備的結構示意圖二 ；圖5為本發(fā)明實施例中的陣列基板維修設備的結構示意圖三；圖6為本發(fā)明實施例中的陣列基板維修方法的流程圖；圖中標記1_激光發(fā)生器；21、22_光束分離器；3_光衰減器；4_光擴束器；5_光 路狹縫；6-反射鏡；61、62、63_可旋轉(zhuǎn)反射鏡；7-物鏡；8-激光能量測量探頭；9-激光能量 顯示裝置；10-聚焦透鏡；11-測量控制裝置。
具體實施例方式為了提高設備產(chǎn)生的激光的能量檢測的效率，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板 維修設備及方法。下面結合附圖對本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備進行詳細描述。如圖3所示，本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備，包括產(chǎn)生激光的激光發(fā)生 器1，以及依次分布在激光光路上的光束分離器21、光衰減器3、光束分離器22、光擴束器4、 光路狹縫5以及物鏡7 ；此外，在本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備中，在激光發(fā)生器1和光衰減器3 之間、在光衰減器3和光擴束器4之間以及光路狹縫5和物鏡7之間分別設有可進行45° 旋轉(zhuǎn)的可旋轉(zhuǎn)反射鏡61、62、63，在本實施例中的可旋轉(zhuǎn)反射鏡均具有兩個檔位測量檔位 和空閑檔位；在不需要進行激光能量測量的時候，可旋轉(zhuǎn)反射鏡都是處于空閑檔位，此時的 可旋轉(zhuǎn)反射鏡不影響激光光路的正常傳播；在進行激光能量測量的時候，將可旋轉(zhuǎn)反射鏡 61、62、63依次切換到測量檔位，并確保其中一個可旋轉(zhuǎn)反射鏡處于測量檔位的時候其它可 旋轉(zhuǎn)反射鏡均處于空閑檔位；激光經(jīng)可旋轉(zhuǎn)反射鏡61、62、63的反射作用后均可到達置于 陣列基板維修設備內(nèi)部的激光能量測量探頭8處，這樣就可以實現(xiàn)對激光發(fā)生器1發(fā)出的 激光、經(jīng)過光衰減器3之后的激光和經(jīng)過光路狹縫5之后的激光的能量分別進行測量。在本發(fā)明實施例中，置于陣列基板維修設備內(nèi)部的激光能量測量探頭8具有三個 檔位1檔、2檔和3檔，使激光能量測量探頭8的激光接收面可以分別對應激光發(fā)生器1與 光衰減器3之間的可旋轉(zhuǎn)反射鏡61、光衰減器3和光擴束器4之間的可旋轉(zhuǎn)反射鏡62以及 光路狹縫5和物鏡7之間的可旋轉(zhuǎn)反射鏡63 ；而且，在可旋轉(zhuǎn)反射鏡61、62和63與所述激光能量測量探頭8之間均設有聚焦透 鏡10，不管所述激光能量測量探頭8處于哪個檔位，其與聚焦透鏡10之間的距離總是小于 該聚焦透鏡的焦距，這樣才能保證激光束經(jīng)聚焦透鏡10會聚后的焦點在激光能量測量探 頭8的激光接收面之下，從而可以避免激光能量測量探頭8的激光接收面被具有高能量的 激光燒毀，此外，聚焦透鏡10的中心線最好能和處于其對應檔位的激光能量測量探頭8的 中心線一致。在不需要進行激光能量測量的情況下，可旋轉(zhuǎn)反射鏡61、62、63均處于空閑檔位， 激光光路不受可旋轉(zhuǎn)反射鏡61、62、63的影響，此時激光發(fā)生器1發(fā)射出的激光經(jīng)過光束分 離器21后將某特定波長的光分離出來，然后使其通過光衰減器3來控制所述分離出來的激 光的能量；激光通過光衰減器3后，再經(jīng)過光束分離器22將環(huán)境光濾除掉，然后通過光擴束 器4將高度聚集的光束擴大；擴大后的光束到達光路狹縫5，在這里可以通過調(diào)節(jié)狹縫的大 小使通過狹縫的光束截面呈不同大小的矩形，從而滿足各種工藝需要；之后，激光經(jīng)過一組 反射鏡6的反射到達物鏡7，然后通過物鏡7聚焦在TFT基板上。在需要對激光發(fā)生器1發(fā)射出的激光的能量進行分點測量時，可以通過與激光能 量測量探頭8相連接的測量控制裝置11來控制激光能量測量探頭8在不同檔位的切換；具 體地，在對激光發(fā)生器1發(fā)射出的激光進行能量測量時，測量控制裝置11會控制激光能 量測量探頭8使其處于1檔，此時激光能量測量探頭8的激光接收面正對激光發(fā)生器1與 光衰減器3之間的可旋轉(zhuǎn)反射鏡61 ；同時，可旋轉(zhuǎn)反射鏡61切換至測量檔位；
在對經(jīng)過光衰減器3之后的激光進行能量測量時，測量控制裝置11會控制激光能 量測量探頭8使其處于2檔，此時激光能量測量探頭8的激光接收面正對光衰減器3與光 擴束器4之間的可旋轉(zhuǎn)反射鏡62 ；同時，可旋轉(zhuǎn)反射鏡61切換至空閑檔位，可旋轉(zhuǎn)反射鏡 62切換至測量檔位；在對經(jīng)過光路狹縫5之后的激光進行能量測量時，測量控制裝置11會控制激光能 量測量探頭8使其處于3檔，此時激光能量測量探頭8的激光接收面正對光路狹縫5和物 鏡7之間的可旋轉(zhuǎn)反射鏡63 ；同時，可旋轉(zhuǎn)反射鏡62切換至空閑檔位，可旋轉(zhuǎn)反射鏡63切 換至測量檔位。在本發(fā)明實施例中，測量控制裝置11對激光能量測量探頭8和可旋轉(zhuǎn)反射鏡的檔 位切換的控制可以通過程序控制來實現(xiàn)，這樣可以省卻很多人力，且控制也更方便；在本實 施例中，測量控制裝置11在滿足預設的觸發(fā)條件時自動控制激光能量測量探頭8和可旋轉(zhuǎn) 反射鏡在不同檔位的切換，其具體實現(xiàn)有以下兩種方式第一種方式將測量控制裝置設置為時間觸發(fā)模式，即為激光能量測量探頭8在每個檔位設置 一個停留時間，當激光能量測量探頭8切換至某一檔位時，測量控制裝置11就開始計時；在 所述停留時間結束時，測量控制裝置11就會自動將激光能量測量探頭8切換至下一檔位。第二種方式將測量控制裝置11設置為信號觸發(fā)模式，即測量控制裝置11在接收到一個激光 能量信號后，就會自動控制激光能量測量探頭8使其切換至下一檔位。在上述激光能量測量探頭8進行檔位切換的時候，相應的可旋轉(zhuǎn)反射鏡的檔位切 換也在同時進行；比如，在激光能量測量探頭8從1檔切換至2檔的同時，可旋轉(zhuǎn)反射鏡61 從測量檔位切換至空閑檔位，而可旋轉(zhuǎn)反射鏡62從空閑檔位切換至測量檔位。上述激光能量測量探頭8在接收到激光并對其具有的能量進行測量后，將測量結 果傳送給激光能量顯示裝置9，這樣工作人員可以通過激光能量顯示裝置9清楚地看到激 光光路中多個節(jié)點的激光能量數(shù)據(jù)，然后將其與正常的激光能量數(shù)據(jù)進行對比，從而可以 判斷出當前陣列基板維修設備內(nèi)部產(chǎn)生的激光的能量是否存在異常；當然，激光能量測量探頭8在測量出接收到的激光的能量后，也可以直接將測量 數(shù)據(jù)傳送給測量控制裝置11，由測量控制裝置11通過數(shù)據(jù)處理和分析來判斷當前陣列基 板維修設備內(nèi)部產(chǎn)生的激光的能量是否存在異常、以及具體是光路中哪一部分出現(xiàn)能量異 常；如果激光能量存在異常的話，則測量控制裝置11發(fā)出警示信號，比如啟動信號燈，并且 可以用不同顏色的信號燈來表示不同部件處出現(xiàn)激光能量異常。此外，本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備還可以進一步進行擴展圖3中所 示的是單一波長激光發(fā)生器產(chǎn)生的激光的光路，而對于多波長激光發(fā)生器產(chǎn)生的激光能量 的測量，比如兩波長、三波長激光發(fā)生器產(chǎn)生的激光，可以采用圖4、圖5所示的陣列基板維 修設備。其基本原理都是一樣的，不過要先通過光束分離器對多波長的激光進行分離，然后 對分離后的單一波長激光分別進行衰減，此時就需要對衰減后的不同波長的激光的能量分 別進行測量；為了使某一波長激光光路上的可旋轉(zhuǎn)反射鏡不會影響到其它波長的激光的反 射，因此可以將該波長激光光路上的可旋轉(zhuǎn)反射鏡計成可135°旋轉(zhuǎn)的形式(如圖4、圖5 所示)，即其測量檔位和空閑檔位之間相差135°的弧度。
本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備，將激光能量測量探頭置于設備內(nèi)部的固 定位置上，這樣可以避免在每次進行激光能量測量時都需要重新給激光能量測量探頭進行 定位；而且，由于在設備內(nèi)部的激光發(fā)生器、光衰減器和光路狹縫之后均設置了可旋轉(zhuǎn)反射 鏡，因此可以通過所述可旋轉(zhuǎn)反射鏡的反射作用使激光發(fā)生器發(fā)出的激光、分別經(jīng)過光衰 減器和光路狹縫后的激光傳播到固定于設備內(nèi)部的激光能量測量探頭處，從而實現(xiàn)對光路 中激光能量的多點測量，這樣在出現(xiàn)激光能量異常的時候，可以方便地判斷出是設備內(nèi)部 哪一部分出現(xiàn)問題；本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備能夠提高設備產(chǎn)生的激光的能 量檢測的效率。本發(fā)明實施例還提供了一種陣列基板維修方法，如圖6所示，包括以下步驟S61、生成激光；S62、依次測量激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量；如果測量結果表明所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量均 處于正常水平，則執(zhí)行步驟S63 ；如果測量結果表明所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光 路狹縫后的激光能量中存在異常，則執(zhí)行步驟S64。S63、利用所述激光對陣列基板進行維修。S64、根據(jù)所述激光能量判斷出是光路中哪個部分出現(xiàn)異常并對光路進行調(diào)整。在通過步驟S64對光路進行調(diào)整后，需要再次測量所述激光發(fā)生器后、光衰減器 后以及光路狹縫后的激光能量，如果所述激光能量值均恢復至正常水平，則可執(zhí)行步驟 S63。在本實施例的步驟S62中，所述依次測量激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹 縫后的激光能量，具體包括在所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后分別設置可旋轉(zhuǎn)反射鏡；然后 在進行激光能量測量時，依次旋轉(zhuǎn)所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的可旋 轉(zhuǎn)反射鏡使激光反射到激光能量測量探頭處，從而對各處的激光能量進行測量。其中，所述激光能量測量探頭具有三個檔位，分別對應所述激光發(fā)生器后、光衰減 器后以及光路狹縫后的三個可旋轉(zhuǎn)反射鏡，這樣，步驟S62還包括根據(jù)預設的觸發(fā)條件將 所述激光能量測量探頭從當前檔位切換至下一檔位；其中，所述預設的觸發(fā)條件為預設的 時間段或者激光能量信號。在上述激光能量測量探頭進行檔位切換的同時，調(diào)整所述可旋轉(zhuǎn)反射鏡的旋轉(zhuǎn)角 度，使其可以將激光反射到當前的激光能量測量探頭處，從而可以正常地測量激光光路中 各處的激光能量。本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修方法，可以依次測量激光光路中激光發(fā)生器 后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量，從而實現(xiàn)對光路中激光能量的多點測量，這樣 在出現(xiàn)激光能量異常的時候，可以方便地判斷出是激光光路中哪一部分出現(xiàn)問題，也就可 以針對性地對光路進行調(diào)整，并且提高了陣列基板維修過程中對激光能量進行檢測的效率。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式
，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何 熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應 涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應以權利要求的保護范圍為準。
權利要求
一種陣列基板維修設備，包括激光發(fā)生器，以及依次分布在激光光路上的光衰減器、光擴束器、光路狹縫和物鏡；其特征在于，在所述激光發(fā)生器與所述光衰減器之間、所述光衰減器和所述光擴束器之間以及所述光路狹縫和所述物鏡之間均設有可旋轉(zhuǎn)反射鏡，激光經(jīng)所述可旋轉(zhuǎn)反射鏡反射后到達置于所述陣列基板維修設備內(nèi)部的激光能量測量探頭。
2.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板維修設備，其特征在于，所述激光能量測量探頭處 設有三個檔位，使其激光接收面分別對應所述激光發(fā)生器與所述光衰減器之間、所述光衰 減器和所述光擴束器之間以及所述光路狹縫和所述物鏡之間設置的可旋轉(zhuǎn)反射鏡。
3.根據(jù)權利要求2所述的陣列基板維修設備，其特征在于，還包括與所述激光能量測 量探頭相連接的測量控制裝置；該測量控制裝置用于在進行激光能量測量時，根據(jù)預設的觸發(fā)條件控制所述激光能量 測量探頭在不同檔位的切換。
4.根據(jù)權利要求2所述的陣列基板維修設備，其特征在于，每個可旋轉(zhuǎn)反射鏡都具有 兩個檔位測量檔位和空閑檔位。
5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的陣列基板維修設備，其特征在于，每個可旋轉(zhuǎn)反 射鏡與所述激光能量測量探頭之間均設有聚焦透鏡。
6.根據(jù)權利要求5所述的陣列基板維修設備，其特征在于，所述聚焦透鏡與所述激光 能量測量探頭之間的距離小于所述聚焦透鏡的焦距。
7.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的陣列基板維修設備，其特征在于，該陣列基板維 修設備還包括與所述激光能連測量探頭相連接的激光能量顯示裝置。
8.—種陣列基板維修方法，其特征在于，包括生成激光；依次測量激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量；在所述激光能量均處于正常水平時，利用所述激光對陣列基板進行維修；在所述激光 能量處于非正常水平時，根據(jù)所述激光能量對光路進行調(diào)整。
9.根據(jù)權利要求8所述的陣列基板維修方法，其特征在于，所述依次測量激光發(fā)生器 后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量，包括在所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后分別設置可旋轉(zhuǎn)反射鏡；依次旋轉(zhuǎn)所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的可旋轉(zhuǎn)反射鏡使激光反射 到激光能量測量探頭處。
10.根據(jù)權利要求9所述的陣列基板維修方法，其特征在于，所述激光能量測量探頭具 有三個檔位，分別對應所述激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的三個可旋轉(zhuǎn)反射 鏡，則所述依次測量激光發(fā)生器后、光衰減器后以及光路狹縫后的激光能量，還包括根據(jù)預設的觸發(fā)條件將所述激光能量測量探頭從當前檔位切換至下一檔位；所述預設的觸發(fā)條件為預設的時間段或者激光能量信號。
11.根據(jù)權利要求10所述的陣列基板維修方法，其特征在于，所述可旋轉(zhuǎn)反射鏡的旋 轉(zhuǎn)和所述激光能量測量探頭的檔位切換是同步進行的。
全文摘要
本發(fā)明實施例公開了一種陣列基板維修設備及方法，涉及液晶顯示面板生產(chǎn)技術領域，能夠提高設備產(chǎn)生的激光的能量檢測的效率。本發(fā)明實施例提供的陣列基板維修設備，包括激光發(fā)生器，以及依次分布在激光光路上的光衰減器、光擴束器、光路狹縫和物鏡；其中，在所述激光發(fā)生器與所述光衰減器之間、所述光衰減器和所述光擴束器之間以及所述光路狹縫和所述物鏡之間均設有可旋轉(zhuǎn)反射鏡，激光經(jīng)所述可旋轉(zhuǎn)反射鏡反射后到達置于所述陣列基板維修設備內(nèi)部的激光能量測量探頭。本發(fā)明提供的陣列基板維修設備及方法適用于對TFT-LCD陣列基板進行維修。
文檔編號G02B27/00GK101957531SQ20091008947
公開日2011年1月26日 申請日期2009年7月21日 優(yōu)先權日2009年7月21日
發(fā)明者田震寰, 葛興 申請人:北京京東方光電科技有限公司