專利名稱：液晶顯示面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)，尤其涉及一種液晶顯示面板及其制造方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示面板主要由陣列基板、彩膜基板、液晶等構(gòu)成。其中，陣列基板與彩 膜基板貼在一起形成液晶成盒基板，中間填充有液晶形成液晶層。液晶層的厚度，也稱 為盒厚，會(huì)對(duì)液晶的光調(diào)節(jié)作用產(chǎn)生很大影響。因此，在液晶顯示器的制造過(guò)程中，保 證盒厚的均一性是實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)液晶顯示的基礎(chǔ)。為了保證盒厚的均一性，現(xiàn)有技術(shù)主要采用放置隔墊物的方法。通常隔墊物 的材料為樹(shù)脂，樹(shù)脂形成的隔墊物具有一定的彈性，在變形后能夠恢復(fù)到原來(lái)的形狀。 目前，在手機(jī)和筆記本電腦中常用到觸摸式液晶顯示面板，當(dāng)對(duì)液晶顯示面板施加壓力 時(shí)，隔墊物會(huì)發(fā)生變形。采用樹(shù)脂形成的隔墊物經(jīng)過(guò)反復(fù)的變形或者受到較大外力的 時(shí)候，隔墊物自身會(huì)發(fā)生無(wú)法恢復(fù)的形變，有時(shí)甚至發(fā)生破損，這樣會(huì)影響盒厚的均一 性，造成顯示不良。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，提供一種液晶顯示面板及其制造方 法， 能夠使得隔墊物經(jīng)過(guò)反復(fù)變形后依然能夠完全恢復(fù)形狀，不會(huì)發(fā)生破損，從而能夠 避免由于隔墊物變形或破損導(dǎo)致的盒厚均一性問(wèn)題和顯示不良問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種液晶顯示面板，包括陣列基板和彩膜基 板，所述陣列基板和彩膜基板之間設(shè)置有由形狀記憶聚合物形成的隔墊物。其中，所述隔墊物為柱狀隔墊物。所述形狀記憶聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯；聚降冰片烯；環(huán)戊烷亞甲基；具有 鏈段化結(jié)構(gòu)的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚環(huán)氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚氯 乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物；玉米油；苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改質(zhì)的環(huán) 氧樹(shù)脂。所述隔墊物的一端形成在所述彩膜基板上，另一端頂設(shè)在所述陣列基板上；或 者所述隔墊物的一端形成在所述陣列基板上，另一端頂設(shè)在所述彩膜基板上。本發(fā)明還提供了一種液晶顯示面板制造方法，包括步驟101、在陣列基板或彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，所述形狀記憶光 刻膠通過(guò)在形狀記憶聚合物中添加能夠使所述形狀記憶聚合物進(jìn)行光反應(yīng)的光聚合物開(kāi) 始劑形成；步驟102、采用掩模板對(duì)所述形狀記憶光刻膠進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成隔墊物的圖 形；步驟103、將所述陣列基板和彩膜基板對(duì)盒，注入液晶，形成液晶顯示面板。其中，所述光聚合物開(kāi)始劑為鄰疊氮萘醌光敏劑，或二丙烯酸和雙酐交替縮聚得到的感光性聚酯纖維。所述步驟101具體可以為在形成有透明電極的彩膜基板上沉積一層形狀記憶 光刻膠，或者在形成有像素電極的陣列基板上沉積一層形狀記憶光刻膠。本發(fā)明提供的液晶顯示面板及其制造方法，隔墊物的材料采用形狀記憶聚合 物，能夠使得隔墊物經(jīng)過(guò)反復(fù)變形后依然能夠完全恢復(fù)形狀，并且由于形狀記憶聚合物 形狀恢復(fù)速度快，使得隔墊物能夠在變形后迅速恢復(fù)到原來(lái)的形狀，對(duì)于觸摸式液晶顯 示器，能夠避免由于隔墊物形狀恢復(fù)速度慢導(dǎo)致的漏光等問(wèn)題；另外，由于形狀記憶聚 合物本身耐久性較好，這樣，隔墊物在受到較大外力作用時(shí)，也不易發(fā)生破損，能夠避 免由于隔墊物變形或破損導(dǎo)致的盒厚均一性問(wèn)題和顯示不良問(wèn)題。下面通過(guò)附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。


圖Ia為本發(fā)明液晶顯示面板第一實(shí)施例的平面圖； 圖Ib為圖Ia中C-C向剖面圖；圖2所示為本發(fā)明液晶顯示面板制造方法流程圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供一種液晶顯示面板，包括陣列基板和彩膜基板，陣列基板和彩膜基 板之間設(shè)置有隔墊物，隔墊物的材料為形狀記憶聚合物(shape memory polymer)。形狀記憶聚合物可以是軟段(soft segment)和硬段(hard segment)組成的高分子 物質(zhì)。高分子內(nèi)的分子鏈在溫度降低到轉(zhuǎn)移溫度以下時(shí)，形狀固定。再次加熱到轉(zhuǎn)移溫 度以上時(shí)，聚合物內(nèi)具有取向的分子鏈會(huì)回到原來(lái)的形態(tài)。硬段是確定形狀記憶聚合物 的形狀特性的物質(zhì)，軟段是用于自由吸收外力的物質(zhì)。形狀記憶聚合物具體可以是聚甲基丙烯酸甲酯(Poly (methyl methacrylate))；聚 降冰片烯(polynorbornene)；環(huán)戊燒亞甲基(poly (methylene-1, 3-cyclopentane))；具有 鏈段化(segment)結(jié)構(gòu)的聚氨基甲酸酯(polyurethane)、聚乙烯(polyethylene，簡(jiǎn)稱ΡΕ)、 聚環(huán)氧乙烷(Poly (ethylene oxide)，簡(jiǎn)稱 PEO)和聚氯乙烯(Poly (vinylidene chloride)，簡(jiǎn) 稱PVC)的聚合物、PE和聚酰胺(Polyamide，簡(jiǎn)稱PA)的聚合物、PVC的聚合物等高 分子的形狀記憶聚合物；玉米油；苯乙烯(styrene)和二乙烯基苯(divinylbenzol)的聚合 物；改質(zhì)的環(huán)氧樹(shù)脂(epoxy)。其中改質(zhì)的環(huán)氧樹(shù)脂是是指將環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行光反應(yīng)或通 過(guò)氣體使表面的質(zhì)地改善或改變后的環(huán)氧樹(shù)脂。本發(fā)明提供的液晶顯示面板，隔墊物的材料采用形狀記憶聚合物，當(dāng)軟段受到 的外力在軟段可接受的范圍之內(nèi)時(shí)，隔墊物可以恢復(fù)原來(lái)的形狀。當(dāng)軟段受到的外力超 過(guò)軟段可接受的范圍時(shí)，隔墊物發(fā)生形變，當(dāng)加溫到轉(zhuǎn)移溫度時(shí)，隔墊物按照硬段記憶 的形狀，可以100%恢復(fù)到原來(lái)的形狀。如果將轉(zhuǎn)移溫度調(diào)整到室溫，那么在室溫下，隔 墊物就能恢復(fù)到原來(lái)的形狀。并且與樹(shù)脂等現(xiàn)有的形成隔墊物的材料相比，形狀記憶聚 合物恢復(fù)形狀的速度快，在發(fā)生形變后能夠迅速恢復(fù)到原來(lái)的形狀。本發(fā)明提供的液晶顯示面板，隔墊物的材料采用形狀記憶聚合物，能夠使得隔 墊物經(jīng)過(guò)反復(fù)變形后依然能夠完全恢復(fù)形狀，并且由于形狀記憶聚合物形狀恢復(fù)速度快，使得隔墊物能夠在變形后迅速恢復(fù)到原來(lái)的形狀，對(duì)于觸摸式液晶顯示器，能夠避 免由于隔墊物形狀恢復(fù)速度慢導(dǎo)致的漏光等問(wèn)題；另外，由于形狀記憶聚合物本身耐久 性較好，這樣，隔墊物在受到較大外力作用時(shí)，也不易發(fā)生破損，能夠避免由于隔墊物 變形或破損導(dǎo)致的盒厚均一性問(wèn)題和顯示不良問(wèn)題。本發(fā)明提供的液晶顯示面板中，隔墊物的形狀可以是柱狀，隔墊物可以形成在 彩膜基板或陣列基板上。圖Ia為本發(fā)明液晶顯示面板第一實(shí)施 例的平面圖，圖Ib為圖Ia中C-C向剖面 圖。為了便于說(shuō)明，圖Ia所示的面板中沒(méi)有示出彩膜基板。在圖Ib中示出了彩膜基板， 以便于說(shuō)明彩膜基板和陣列基板的結(jié)構(gòu)。陣列基板A的結(jié)構(gòu)包括柵線3a和數(shù)據(jù)線7c，柵 線3a和數(shù)據(jù)線7c限定的像素區(qū)域內(nèi)形成有像素電極9a和TFT，TFT包括柵電極3b、源 電極7a和漏電極7b，柵電極3b形成在陣列基板A上，并與柵線3a連接；柵絕緣層4形 成在柵電極3b上并覆蓋整個(gè)陣列基板A ；由半導(dǎo)體層5和摻雜半導(dǎo)體層6組成的有源層 形成在柵絕緣層4上并位于柵電極3b的上方；源電極7a形成在摻雜半導(dǎo)體層6上，一端 位于柵電極3b的上方，另一端與數(shù)據(jù)線7c連接，漏電極7b形成在摻雜半導(dǎo)體層6上， 一端位于柵電極3b的上方，另一端與像素電極9a連接，源電極7a與漏電極7b之間形成 TFT溝道區(qū)域，TFT溝道區(qū)域的摻雜半導(dǎo)體層6被完全刻蝕掉，并刻蝕掉部分厚度的半導(dǎo) 體層5，使TFT溝道區(qū)域的半導(dǎo)體層5暴露出來(lái)；鈍化層8形成在源電極7a、漏電極7b 以及TFT溝道區(qū)域上并覆蓋整個(gè)陣列基板A，在漏電極7b位置開(kāi)設(shè)有使像素電極9a與 漏電極7b連接的鈍化層過(guò)孔8a。當(dāng)柵電極3b上施加電壓時(shí)，可以使源電極7a和漏電極 7b導(dǎo)通。陣列基板A與彩膜基板B之間填充有液晶10，隔墊物11的一端形成在彩膜基板 B上，隔墊物11的另一端頂設(shè)在陣列基板A上，隔墊物11通?？梢栽O(shè)置在柵線處或者 TFT溝道處，圖Ib中，隔墊物11的另一端頂設(shè)在TFT的溝道處。圖Ia和Ib中，隔墊物11可以形成在彩膜基板B的透明電極12上，該透明電極 12與陣列基板A上的像素電極9a之間形成電壓差驅(qū)動(dòng)液晶10反轉(zhuǎn)。下面描述本發(fā)明液晶顯示面板的制造過(guò)程。如圖2所示為本發(fā)明液晶顯示面板制造方法流程圖，包括步驟101、在陣列基板或彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，該形狀記憶光刻 膠通過(guò)在形狀記憶聚合物中添加能夠使形狀記憶聚合物進(jìn)行光反應(yīng)的光聚合物開(kāi)始劑形 成。步驟102、采用掩模板對(duì)形狀記憶光刻膠進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成隔墊物的圖形。本 發(fā)明各實(shí)施例中，構(gòu)圖工藝包括掩膜、曝光、顯影、刻蝕、剝離等工藝。步驟103、將陣列基板和彩膜基板對(duì)盒，注入液晶，形成液晶顯示面板。步驟101中，需要在形狀記憶聚合物中添加光聚合物開(kāi)始劑，因?yàn)樾螤钣洃浘?合物本身不能進(jìn)行光反應(yīng)，即不能用作光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕，所以需要添加光 聚合物開(kāi)始劑，使得形狀記憶聚合物形成形狀記憶光刻膠，該形狀記憶光刻膠能夠進(jìn)行 光反應(yīng)。光聚合物開(kāi)始劑可以是鄰疊氮萘醌光敏劑(Diazo-Naptho-Quinone Photoactive Compound,簡(jiǎn)稱 DNQ-PAC)，或二丙烯酸(di_acrylate)和雙酐(di_anhydride)交替縮 聚得到的感光性聚酯纖維(polyester)。這些物質(zhì)的組分及比例可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整。步驟101具體可以是在形成有透明電極的彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻 膠，如圖Ia和Ib所示，隔墊物形成在彩膜基板的透明電極上?；蛘卟襟E101可以是在 形成有像素電極的陣列基板上形成一層形狀記憶光刻膠。本發(fā)明提供的形成液晶顯示面板的方法，在陣列基板或彩膜基板上形成形狀記 憶光刻膠，通過(guò)構(gòu)圖工藝形成了材料為形狀記憶聚合物的隔墊物，使得隔墊物能夠在變 形后迅速恢復(fù)到原來(lái)的形狀，對(duì)于觸摸式液晶顯示器，能夠避免由于隔墊物恢復(fù)速度慢 導(dǎo)致的漏光等問(wèn)題；另外，由于形狀記憶聚合物本身耐久性較好，這樣，隔墊物在受到 較大外力作用時(shí)，也不易發(fā)生破損，能夠避免由于隔墊物變形或破損導(dǎo)致的盒厚均一性 問(wèn)題和顯示不良問(wèn)題。本發(fā)明前述實(shí)施例中，隔墊物的一端形成在彩膜基板上，另一端頂設(shè)在陣列基 板上。實(shí)質(zhì)上，也可以將隔墊物的一端形成在陣列基板上，另一端形成在彩膜基板上。 隔墊物還可以以其他形式設(shè)置，此處不再贅述。最后應(yīng)說(shuō)明的是以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對(duì)其進(jìn)行限 制，盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理 解其依然可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而這些修改或者等同替換 亦不能使修改后的技術(shù)方案脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示面板，包括陣列基板和彩膜基板，其特征在于，所述陣列基板和彩 膜基板之間設(shè)置有由形狀記憶聚合物形成的隔墊物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述隔墊物為柱狀隔墊物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述形狀記憶聚合物為聚 甲基丙烯酸甲酯；聚降冰片烯；環(huán)戊烷亞甲基；具有鏈段化結(jié)構(gòu)的聚氨基甲酸酯、聚乙 烯、聚環(huán)氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物； 玉米油；苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改質(zhì)的環(huán)氧樹(shù)脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述隔墊物的一端形成在 所述彩膜基板上，另一端頂設(shè)在所述陣列基板上；或者所述隔墊物的一端形成在所述陣 列基板上，另一端頂設(shè)在所述彩膜基板上。
5.—種液晶顯示面板制造方法，其特征在于，包括步驟101、在陣列基板或彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，所述形狀記憶光刻膠 通過(guò)在形狀記憶聚合物中添加能夠使所述形狀記憶聚合物進(jìn)行光反應(yīng)的光聚合物開(kāi)始劑 形成；步驟102、采用掩模板對(duì)所述形狀記憶光刻膠進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成隔墊物的圖形；步驟103、將所述陣列基板和彩膜基板對(duì)盒，注入液晶，形成液晶顯示面板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述光聚合物開(kāi)始劑為鄰疊氮萘醌光敏 齊U，或二丙烯酸和雙酐交替縮聚得到的感光性聚酯纖維。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述方法，其特征在于，所述形狀記憶聚合物為聚甲基丙烯酸 甲酯；聚降冰片烯；環(huán)戊烷亞甲基；具有鏈段化結(jié)構(gòu)的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚環(huán)氧 乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物；玉米油；苯 乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改質(zhì)的環(huán)氧樹(shù)脂。
8.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述步驟101具體為在形成有透 明電極的彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，或者在形成有像素電極的陣列基板上沉 積一層形狀記憶光刻膠。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種液晶顯示面板及其制造方法，其中液晶顯示面板包括陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板和彩膜基板之間設(shè)置有由形狀記憶聚合物形成的隔墊物。本發(fā)明提供的液晶顯示面板及其制造方法，能夠使得隔墊物經(jīng)過(guò)反復(fù)變形后依然能夠完全恢復(fù)形狀，不會(huì)發(fā)生破損，從而能夠避免由于隔墊物變形或破損導(dǎo)致的盒厚均一性問(wèn)題和顯示不良問(wèn)題。
文檔編號(hào)G02F1/1368GK102012575SQ20091009204
公開(kāi)日2011年4月13日 申請(qǐng)日期2009年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月7日
發(fā)明者王章濤, 邱海軍, 閔泰燁, 高文寶 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司