專利名稱：曝光機及其曝光方法
技術領域：
本發(fā)明有關一種曝光機的曝光顯影技術，旨在提供一種較不會產生聚熱現(xiàn)象，且 相對可以降低設備體積及成本的曝光機，以其與其相關的曝光方法。
背景技術：
按，一般印刷電路板或半導體芯片在進行曝光顯影制程時，先在被加工物表面上 涂上一層光阻，再藉由光源的照射將原稿上的電路布線圖案映像至被加工物表面的光阻層 上，以使光阻層的化學性質因光源的照射而產生變化，然后再利用去光阻劑來將被光源照 射過的光阻或未經曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成對應于原稿的線路布局。其中，用以執(zhí)行曝光顯影加工制程的曝光機基本結構如圖1所示，主要具有一由 機殼11構成的曝光室12，以及設有一可相對進出曝光室12的曝光平臺13，而且至少在該 曝光室12內部相對應于曝光平臺13的上方或下方位置，設有一光源組14 ；請同時參照圖 2所示，該曝光平臺13為一供放置被加工物20與原稿(圖略)的透明平臺，整體曝光平臺 13并藉由一組線性滑軌15進出曝光室12。該曝光平臺13連同被加工物及原稿進入曝光室12至定位之后，一般必須在曝光 室12內部停留一段時間(約3 5秒不等)使被加工物接受光源組14的曝光光源照射， 待完成曝光之后再由曝光平臺13將被加工物送出。由于，一般習用曝光機多采用曝光平臺13停滯在曝光室12內部的方式進行曝光 作業(yè)，因此該光源組14并必須具有大量采用數組配置方式的燈泡141，方得以形成足以涵 蓋整個曝光平臺13的平行光源；然而，在大量燈泡141同時運作下，將使機殼11內部產生 嚴重的聚熱現(xiàn)象，需另外用水冷系統(tǒng)散熱，致使設備成本偏高。另有一種習用曝光機透過復眼裝置將燈泡的光線修正為所需的平行光及面積大 小，其動作方式乃讓光源燈泡透過橢圓鏡將光線利用一組第一反射鏡投向復眼裝置使其光 線均勻化，再利用一組第二反射鏡將光線改變前進方向，最后利用一組凸透鏡將光線修正 為所需的平行光及面積大小，進而投射出所須的曝光光源，并藉以減少燈泡的數量。然而，如次此的設計將使整體曝光機的結構趨于復雜，且整體曝光機的體機亦相 對更趨龐大；尤其，必須使用大瓦數的燈泡，一般大瓦數燈泡的壽命相當短，不但增加燈泡 的更換頻率，無形的中生產成本亦相對增加。

發(fā)明內容
有鑒于此，本發(fā)明的主要目的即在提供一種較不會產生聚熱現(xiàn)象，且相對可以降 低設備體積及成本的曝光機，以及與其相關的曝光方法。為達上揭目的，本發(fā)明的曝光機在一機臺上設有至少一曝光平臺，以及設有一輸 送機組用以帶動該至少一曝光平臺相對進出機臺的曝光室，該曝光室內部至少在相對應于 該曝光平臺的移動行程上方或下方位置設有一曝光光源組，在該曝光光源組外部有一出光 罩；另外，設有一組控制電路供設定、整合該輸送機組與該曝光光源組以及該出光罩的運作。其中，該出光罩在其相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設有一長條狀的透光 槽，另設有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否，待曝光光源組的光源(本實施例為燈泡) 啟動時，其光源可透過該出光罩的透光槽向外照射，使產生朝向曝光平臺移動行程照射的 條狀光源；再配合輸送機組帶動該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受條 狀光源的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。具體而言，本發(fā)明的曝光機至少在其曝光室內部相對應于曝光平臺移動行程上方 或下方位置，產生一朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源；再配該曝光平臺以預定速度 與該條狀光源相對位移的方式接受該條狀光源的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完 成曝光顯影。俾可大幅減少整體曝光機的燈泡配置數量，故可相對縮減整體曝光機的體積，降 低設備成本，以及降低曝光室的聚熱現(xiàn)象；尤其，適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓曝光平 臺依序通過曝光室，藉以提升曝光機的加工產能。


圖1為一習用曝光機的結構剖視圖；圖2為一習用曝光機的曝光平臺外觀立體圖；圖3為本發(fā)明的曝光機外觀立體圖；圖4為本發(fā)明曝光機的曝光室內部結構立體圖；圖5為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源組外觀結構圖；圖6為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源組放大示意圖；圖7為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程下方位置的曝光光源組及出光罩的外 觀結構圖；圖8為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程下方位置的曝光光源組及出光罩的放 大示意圖；圖9為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程下方位置的出光罩結構分解圖；圖10為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源組及出光罩的外 觀結構圖；圖11為本發(fā)明中設于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源組結構俯視圖；圖12為本發(fā)明中燈殼的外觀結構圖；圖13為本發(fā)明中曝光平臺到達接近透光槽槽的預定行程的動作示意圖；圖14為本發(fā)明中曝光平臺到達完成曝光顯影的預定行程的動作示意圖。圖號說明11機殼12曝光室13曝光平臺 14光源組141燈泡15線性滑軌20被加工物 30機臺31機殼311散熱排風口312循環(huán)入風口 32曝光室
33濾網40曝光平臺
50輸送機組51線性滑軌
52皮帶53馬達
60曝光光源組61燈泡
611燈殼62反射鏡
63散熱風扇70出光罩
71透光槽72遮光板
73動力缸80控制電路
81觸控屏幕82感應開關
具體實施例方式本發(fā)明的特點，可參閱本案圖式及實施例的詳細說明而獲得清楚地了解。本發(fā)明旨在提供一種較不會產生聚熱現(xiàn)象，且相對可以降低設備體積及成本的曝 光機，以及與其相關的曝光方法；其曝光方法首先在曝光機的曝光室內部產生至少一自曝 光平臺移動行程上方，或是自曝光平臺移動行程下方朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光 源；再配讓曝光機的曝光平臺以預定速度與該至少一條狀光源相對位移的方式接受該至少 一條狀光源的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。如圖3及圖4所示，本發(fā)明的曝光機包括有一機臺30、至少一曝光平臺40、一輸 送機組50、至少一曝光光源組60、至少一出光罩70，以及一控制電路80 ；其中該機臺30具有一由機殼31所包圍構成的曝光室32，該機殼31在相對于該曝光室 32的外圍設有散熱排風口 311及至少一循環(huán)入風口 312，并且在該至少一循環(huán)入風口 312 處設有濾網33，以防止灰塵、異物進入曝光室32。該至少一曝光平臺40，為供固定被加工物及原稿的透明平臺；該輸送機組50用以 帶動該至少一曝光平臺40相對進出該機臺30的曝光室32，其具有一組橫向延伸配置于該 機臺30的曝光室32內、外區(qū)域的線性滑軌51供承載該曝光平臺40，設有一皮帶52供與該 曝光平臺40連接，以及設有一馬達53用以帶動該皮帶52運轉，并在該線性滑軌51的導引 下，帶動該曝光平臺40相對進出該機臺30的曝光室32。該至少一曝光光源組60設在該曝光室32內部相對于該曝光平臺40的移動行程 上方或下方位置，如圖5至圖8所示，每一組曝光光源組60具有若干光源(本實施例為燈 泡)61用以產生曝光光源。該至少一出光罩70設在該至少一曝光光源組60外部，如圖9所示，其在相對朝向 該曝光平臺移動行程的部位設有一長條狀的透光槽71，另設有一活動遮光板72控制該透 光槽71開啟與否；該活動遮光板72與該出光罩70之間連接有至少一動力缸73，由該至少 一動力缸73帶動該活動遮光板72與該出光罩相對位移，進而控制該透光槽71關閉或開
啟o如七圖所示，該控制電路80供設定、整合該輸送機組50、該至少一曝光光源組60 以及該活動遮光板72的運作，其具有一設在機臺10上的觸控屏幕81供設定相關動作參 數，以及在該機臺10相對于該曝光平臺40的移動行程處設有至少一感應開關82用以感測 該曝光平臺40的相對位置。
請同時配合參照圖10及圖11所示，上揭曝光光源組60的各燈泡61呈沿著出光 罩70的透光槽71直線排列，并且設有一組反光鏡62用以將燈泡61的光線投向該出光罩 70的透光槽71 ；又，各燈泡以特定角度(約2)夾角朝向光線照射方向偏擺的方式配置，使 各燈泡61的光源得以完全接續(xù)，各燈泡61的燈殼611內部建構有PI鍍膜以增加其反射率 (如圖12所示)，以及在相對于各燈泡61的配設位置設有一散熱風扇63，以增加曝光光源 組60的廢熱排放效率。如圖13所示，本發(fā)明的曝光機在該曝光平臺40尚未進入曝光室的前將原稿及被 加工物固定在該曝光平臺40上，并且經由觸控屏幕81設定曝光光源60的輸出功率以及該 輸送機組50的運轉速度之后即可開始運作。在曝光機開始運作時，首先開啟曝光光源組60的燈泡，并啟動該輸送機組50帶動 曝光平臺40朝向曝光室方向移動，當曝光平臺40進入曝光室并且到達接近該透光槽71槽 的預定行程時，會先行啟動該控制電路80的感應開關82(如圖8所示)，由該控制電路80 操控該活動遮光板動作，使該出光罩70的透光槽71開啟，同時調升該曝光光源組60的輸 出功率。此時，該曝光光源組60的光源即可透過該出光罩70的透光槽71向外照射，使產 生朝向曝光平臺40移動行程照射的條狀光源；再配合輸送機組50帶動該曝光平臺40以預 定速度與該出光罩70相對位移的方式接受該條狀光源的照射，進而使該曝光平臺40上的 被加工物完成曝光顯影。如圖14所示，待該曝光平臺40相對移動至完成曝光顯影的預定行程即令該該控 制電路80的感應開關82 (如圖8所示)關閉，由該控制電路80操控該活動遮光板72動作， 將該出光罩70的透光槽關閉，同時調降該曝光光源組60的輸出功率。在本實施例中，整體曝光機在該曝光平臺40的移動行程上方與下方位置皆設有 一曝光光源組60及一出光罩70 (如圖5及圖7所示)；亦即，在曝光機的曝光室內部相對 于曝光平臺移動行程上方與下方位置，皆產生有朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源， 以同時對該曝光平臺40上、下兩面的被加工物進行曝光顯影。由于本發(fā)明的曝光機用以產生曝光效果的光源為條狀光源，而非涵蓋整個曝光平 臺的大面積光源，故可大幅減少曝光光源組60的燈泡數量，相對縮減整體曝光機的體積， 以及相對降低設備成本；再者，該控制電路80可在曝光平臺40接受條狀光源照射時，再行 調升該曝光光源組60的輸出功率，故可相對降低曝光室的聚熱現(xiàn)象。附帶一提的是，由于本發(fā)明的曝光機在進行曝光顯影時，該曝光平臺以預定的速 度持續(xù)朝向深入曝光室的方向移動，因此整體曝光機尤適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓 曝光平臺依序通過曝光室，俾可藉以提升曝光顯影制程的加工產能。綜上所述，本發(fā)明提供一較佳可行的曝光機以及與其相關的曝光方法，爰依法提 呈發(fā)明專利的申請；本發(fā)明的技術內容及技術特點巳揭示如上，然而熟悉本項技術的人士 仍可能基于本發(fā)明的揭示而作各種不背離本案發(fā)明精神的替換及修飾。因此，本發(fā)明的保 護范圍應不限于實施例所揭示者，而應包括各種不背離本發(fā)明的替換及修飾，并為以下的 申請專利范圍所涵蓋。
權利要求
一種曝光機，其特征在于，包括有一機臺，具有一由機殼所包圍構成的曝光室；至少一曝光平臺，為供固定被加工物及原稿的透明平臺；一輸送機組，用以帶動該至少一曝光平臺相對進出該機臺的曝光室；至少一曝光光源組，設在該曝光室內部相對于該曝光平臺的移動行程上方或下方位置，每一組曝光光源組具有若干光源用以產生曝光光源；至少一出光罩，設在該至少一曝光光源組外部，其在相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設有一長條狀的透光槽，另設有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否；一控制電路，供設定、整合該輸送機組、該至少一曝光光源組以及該活動遮光板的運作；以及，該曝光光源組的燈泡啟動時，其光源可透過該出光罩的透光槽向外照射，使產生朝向該曝光平臺移動行程照射的條狀光源；再配合該輸送機組帶動該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受該條狀光源的照射，使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
2.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，在該曝光平臺的移動行程上方與下方位 置皆設有一曝光光源組。
3.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，該該機殼在相對于該瀑光室的外圍設有 散熱排風口及至少一循環(huán)入風口，并且在該至少一循環(huán)入風口處設有濾網。
4.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，該輸送機組具有一組橫向延伸配置于該 機臺的曝光室內、外區(qū)域的線性滑軌供承載該曝光平臺，設有一皮帶供與該曝光平臺連接， 以及設有一馬達用以帶動該皮帶運轉。
5.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，該活動遮光板與該出光罩之間連接有至 少一動力缸，由該至少一動力缸帶動該活動遮光板與該出光罩相對位移，進而控制該透光 槽關閉或開啟。
6.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，該控制電路具有一設在機臺上的觸控屏 幕供設定相關動作參數，以及在該機臺相對于該曝光平臺的移動行程處設有至少一感應開 關用以感測該曝光平臺的相對位置。
7.如權利要求1所述的曝光機，其特征在于，該至少一曝光光源組的各燈泡呈沿著該 出光罩的透光槽直線排列，并且設有一組反光鏡用以將燈泡的光線投向該出光罩的透光 槽。
8.如權利要求7所述的曝光機，其特征在于，該至少一曝光光源組的各燈泡以2°夾角 朝向光線照射方向偏擺的方式配置，該光源為燈泡或LED光源。
9.一種曝光機的曝光方法，其特征在于，首先在曝光機的曝光室內部產生至少一自曝 光平臺移動行程上方，或是自曝光平臺移動行程下方朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光 源；再配讓曝光機的曝光平臺以預定速度與該至少一條狀光源相對位移的方式接受該至少 一條狀光源的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
10.如權利要求9所述曝光機的曝光方法，其特征在于，在曝光機的曝光室內部相對于 曝光平臺移動行程上方與下方位置，皆產生有朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源，該 光源可為燈泡或LED光源。
全文摘要
本發(fā)明曝光機及其曝光方法，至少在其曝光室內部相對應于曝光平臺移動行程上方或下方位置，產生一朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源；再配該曝光平臺以預定速度與該條狀光源相對位移的方式接受該條狀光源的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影；俾可大幅減少燈泡數量，相對縮減整體曝光機的體積，降低設備成本，以及降低曝光室的聚熱現(xiàn)象；尤其，適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓曝光平臺依序通過曝光室，藉以提升曝光機的加工產能。
文檔編號G03B27/26GK101876784SQ20091013583
公開日2010年11月3日 申請日期2009年4月29日 優(yōu)先權日2009年4月29日
發(fā)明者呂金水, 鐘政學 申請人:翊暉科技股份有限公司