專利名稱：光學(xué)片用基材片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)片用基材片，詳細(xì)而言，涉及一種具有使透射光線擴(kuò) 散、朝法線方向側(cè)折射、聚光等的光學(xué)功能，且尤其適宜用于液晶顯示裝置中 的光學(xué)片用基材片。
背景技術(shù)：
關(guān)于液晶顯示裝置，普遍采用自背面照射液晶層而使其發(fā)光的背光方式， 液晶層的下面?zhèn)妊b有端面照光型、直下型等的背光單元。所述端面照光型背光
單元50如圖4a所示，基本上具備作為光源的線狀的燈源51、以端部沿著所 述燈源51的方式進(jìn)行配置的方形板狀的導(dǎo)光板52、以及積層于所述導(dǎo)光板52 上的多個光學(xué)片。所述光學(xué)片具有如使光線的峰值方向朝法線方向側(cè)折射的功 能、使亮度分布擴(kuò)散的功能等既定的光學(xué)功能，具體而言有配設(shè)于導(dǎo)光板52 的表面?zhèn)鹊墓鈹U(kuò)散片53及棱鏡片54等。再者，雖未圖示，但作為光學(xué)片，除 了光擴(kuò)散片53及棱鏡片54以外，亦有配設(shè)于導(dǎo)光板52的背面?zhèn)鹊姆瓷淦?表面設(shè)有微透鏡陣列的微透鏡片等。
以下對所述背光單元50的功能進(jìn)行說明，首先，自燈源51入射至導(dǎo)光板 52的光線被導(dǎo)光板52背面的反射點(diǎn)、配設(shè)于導(dǎo)光板52的背面?zhèn)鹊姆瓷淦?未 圖示)、及導(dǎo)光板52的各側(cè)面反射，并自導(dǎo)光板52表面出射。自導(dǎo)光板52出 射的光線入射至光擴(kuò)散片53,受到擴(kuò)散、朝法線方向側(cè)折射等既定的光學(xué)作用， 從而自光擴(kuò)散片53的表面出射。此后，自光擴(kuò)散片53出射的光線入射至棱鏡 片54,并通過形成于其表面上的棱鏡部54a而作為在大致正上方向顯示出峰值 的分布的光線出射。
如上所迷，自燈源51出射的光線通過導(dǎo)光板52而向表面?zhèn)日凵?，且通過 光擴(kuò)散片53而得到擴(kuò)散等，進(jìn)而通過棱鏡片54以在大致正上方向顯示出峰值 的方式而折射，從而對上方的未圖示的液晶層的整個面進(jìn)行照明。再者，雖未 圖示，但亦存在棱鏡片54的表面?zhèn)冗M(jìn)而配設(shè)有其他棱鏡片或光擴(kuò)散片的背光單元。
作為先前的光擴(kuò)散片53, —般如圖4b所示，包括基材膜55、形成于基材 膜55的表面上的光擴(kuò)散層56、以及積層于基材膜55的背面上的防粘層57(例 如參照日本專利特開2000-89007公報等)。所述光擴(kuò)散層56構(gòu)成為對透射光 線具有光擴(kuò)散功能，且粘合劑58中含有光擴(kuò)散劑59。
上述先前的光擴(kuò)散片53中，防粘層57是通過在基材膜55的背面涂布含 有構(gòu)成粘合劑的聚合物、樹脂珠粒61、溶劑等的樹脂組成物而形成，粘合劑 60中分散有樹脂珠粒61,通過所述樹脂珠粒61而使背面具有凸部。通過形成 于所述防粘層57的背面上的凸部，來防止光擴(kuò)散片53的背面與導(dǎo)光板52等 密著而產(chǎn)生干涉條圖案的問題。
就防粘的觀點(diǎn)而言，上述防粘層57的樹脂珠粒61可使用平均粒徑為10 m m~ 20mm的丙烯酸珠粒等。因此，上述防粘層57會因?yàn)樵跇渲榱?1的界面 的反射、折射導(dǎo)致自背面入射的光線產(chǎn)生某種程度的散射。因此，上述先前的 光擴(kuò)散片53有可能會因防粘層57而導(dǎo)致透光率等光學(xué)功能的下降。
又，為了將上述平均粒徑的樹脂珠粒61加以固定，而將防粘層57的平均 厚度設(shè)為5um以上、15jum以下。因此，上述先前的光擴(kuò)散片53有悖于目前 液晶顯示裝置的薄型化的要求，且通過防粘層57的兩界面上的折射而使透射 光線產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，從而可能會導(dǎo)致產(chǎn)生疊紋等。
進(jìn)而，因防粘層57中含有樹脂珠粒61，故尤其是背面的凸部等會變得相 對質(zhì)軟，從而在液晶顯示裝置的組裝時或堆積保存、搬送時可能會受到損傷。 若所述防粘層57的背面受損，則可能會因光的散射而導(dǎo)致產(chǎn)生液晶顯示裝置 畫面亮度下降、出現(xiàn)亮度不均等問題。
又，因如上所述通過涂布等而形成有防粘層57，因此，制造光擴(kuò)散片53 時，至少需要如下三個步驟使基材膜55成形的步驟、在所述基材膜55的表 面上形成光擴(kuò)散層56的步驟、以及在基材膜55的背面上積層防粘層57的步 驟，且為了謀求達(dá)成目前的要求即降低制造成本，則要求簡化上述制造步驟。日本專利特開2000-89007公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所欲解決的課題
本發(fā)明的目的在于提供一種防粘性優(yōu)異、具有較高的總透光率、能 效抑制干涉現(xiàn)象及亮度不均，進(jìn)而具有較高的經(jīng)濟(jì)性及薄膜性的光學(xué)片用基材片。 解決問題的手段
為解決上述課題而完成的發(fā)明如下
一種光學(xué)片用基材片，其具有透明基材膜、及積層于所述基材膜的一面的
防粘層，其特征在于
所述防粘層含有填料及其樹脂制粘合劑， 防粘層的平坦部的平均厚度為50nm以上、150nm以下， i真并牛的平均津立徑為70nm以上、200nm以下。
所述光學(xué)片用基材片中，防粘層含有填料及其樹脂制粘合劑，且所述防粘 層的平坦部的平均厚度為50nm以上、150nm以下，填一牛的平均并立徑為70 iim以 上、2 00 nm以下，因此，通過納米尺寸的填料，可在防粘層的外表面較多且均 勻地形成微細(xì)凸部，其結(jié)果，可通過所述微細(xì)凸部而散點(diǎn)狀地抵接于重疊于背 面?zhèn)鹊膶?dǎo)光板、棱鏡片等，故具有較高的防粘性，且能防止因粘附而產(chǎn)生干涉 條紋。
又，所述光學(xué)片用基材片中，發(fā)揮防粘性的填料的平均粒徑為70nm以上、 200 nm以下，因此，填料的平均粒徑小于可見光的波長，即便配合入填料，亦 可顯著地降低對透光性的阻礙，故具有較高的總透光率。
進(jìn)而，所述光學(xué)片用基材片中，防粘層的平坦部的平均厚度為50nm以上、 150nm以下，因此防粘層的平坦部的平均厚度小于可見光的波長，從而可減少 防粘層的兩界面上的折射所產(chǎn)生的透射光線的干涉現(xiàn)象，可有效地抑制疊紋等 的產(chǎn)生。
又，所述光學(xué)片用基材片中，防粘層的平坦部的平均厚度明顯小于先前的 光學(xué)片用基材片中防粘層的平坦部的平均厚度，從而可促進(jìn)目前要求的液晶顯 示裝置的薄型化。進(jìn)而，所述光學(xué)片用基材片中，為了使外表面上形成微細(xì)的 凸部而使防粘層中含有填料，但不含先前的光學(xué)片的樹脂珠粒，因此可在實(shí)施 擠出成形法的基材膜的成形步驟的生產(chǎn)線中來積層防粘層，其結(jié)果，可省略先 前的制成光學(xué)片等基材膜后的涂布等其他步驟，從而可顯著地提高制造作業(yè)性 并促進(jìn)制造成本的下降。
填料的平均粒徑可大于上述防粘層的平坦部的平均厚度。由此，因填料的
平均粒徑大于防粘層的平坦部的平均厚度，因此可于防粘層的外表面明顯地形 成微細(xì)的凸部，從而進(jìn)一步提高防粘性。上述填料中，含有主成分的小徑填料、以及平均粒徑大于所述小徑填料的 副成分的大徑填料，且所述小徑填料的平均粒徑可為50nm以上、150nm以下。 如上所述，填料中含有主成分的小徑填料及副成分的大徑填料，可在防粘層的 外表面上，通過主成分的小徑填料而于大致整個面上形成微細(xì)的凸部，且通過 副成分的大徑填料而散點(diǎn)狀地形成有較大的凸部，結(jié)果使防粘性顯著提高。
作為上述防粘層中填料的含量，較佳為2o質(zhì)量y。以上、5o質(zhì)量y。以下。通 過如上所述使防粘層的填料的含量處于上述范圍內(nèi)，使得形成于防粘層的外表 面上的微細(xì)凸部的一致性及密度適合于防粘，從而防粘性進(jìn)一步提高。
構(gòu)成上述粘合劑的聚合物可具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)。因如上所述粘合劑聚合物 具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，故防粘層內(nèi)的填料的固定性及保護(hù)性提高，且有助于填料 的均勻分散性進(jìn)而防粘性的提高。又，因粘合劑聚合物具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，故 防粘層的光滑性及耐磨性提高。
上述粘合劑可由含有丙烯酸多元醇及硬化劑的聚合物組成物而形成。通過 如上所述使用含有丙烯酸多元醇及硬化劑的聚合物組成物來作為粘合劑的形 成材料，因此可容易且確實(shí)地進(jìn)行于基材膜上積層防粘層的積層作業(yè)，且粘合 劑具有較高的透明性，進(jìn)而，可通過硬化劑的選定而容易地形成上述三維交聯(lián) 結(jié)構(gòu)。
作為上述填料，較佳為膠體二氧化硅。上述膠體二氧化硅在防粘層中的透 光性優(yōu)異，具有在粘合劑聚合物中的良好的分散性，進(jìn)而有助于防粘層的耐熱 性、硬度等的提高。
作為上述小徑填料的粒徑分布的變異系數(shù)，較佳為20%以下。如上所述通 過使小徑填料的變異系數(shù)為20%以下，可使得形成于防粘層外表面上的微細(xì)凸 部的一致性及突出高度適合于防粘，從而防粘性進(jìn)一步提高。
上述防粘層中可分散含有抗靜電劑。通過如上所述于防粘層中分散含有抗 靜電劑，故可賦予所述光學(xué)片用基材片抗靜電性，從而對于所述光學(xué)片用基材 片及重疊于其背面?zhèn)鹊膶?dǎo)光板、棱鏡片等的防粘性進(jìn)一步提高。
所述光學(xué)片用基材片可較佳地用于液晶顯示裝置的背光單元，有助于液晶 顯示裝置的高亮度化、亮度的均勻化、組裝作業(yè)的容易性、低廉性、薄型化等。
此處，所謂「防粘層的平坦部」是指防粘層中不存在填料的區(qū)域?！钙骄?粒徑J及「粒徑分布的變異系數(shù)」是體積基準(zhǔn)的數(shù)值。
發(fā)明的效果如上所述，本發(fā)明的光學(xué)片用基材片的防粘性優(yōu)異、具有較高的總透光率， 能有效抑制干涉現(xiàn)象及亮度不均，進(jìn)而具有較高的經(jīng)濟(jì)性及薄膜性，其結(jié)果， 能促進(jìn)所使用的液晶顯示裝置的高亮度化、亮度的均勻性、低成本化及薄型化。
圖1是表示本發(fā)明的 一 實(shí)施形態(tài)的光學(xué)片用基材片的示意性剖面圖； 圖2是圖1中的光學(xué)片用基材片的示意性仰-見剖面圖4a是表示普通端面照光型背光單元的示意性立體圖，圖4b是表示普通 光學(xué)片的示意性剖面圖。
附圖標(biāo)記說明1、 ll-光學(xué)片用基材片；2、 55-基材膜；3、 12、 57-防粘 層；4-填料；4a-小徑填料；4b-大徑填料；5、 58、 60-粘合劑；6、 6a、 6b-凸 部；7-聚合物；50-背光單元；51-燈源；52-導(dǎo)光板；53-光擴(kuò)散片；54-棱鏡 片；54a-棱鏡部；56-光擴(kuò)散層；59-光擴(kuò)散劑；61-樹脂珠粒；T-平坦部的平 均厚度。
具體實(shí)施例方式
以下， 一面參照適當(dāng)圖式一面詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)。圖l是表示本 發(fā)明的一實(shí)施形態(tài)的光學(xué)片用基材片的示意性剖面圖，圖2是圖1的光學(xué)片用 基材片的示意性仰視圖，圖3是表示與圖1中的光學(xué)片用基材片的形態(tài)不同的 光學(xué)片用基材片的示意性剖面圖。
圖l的光學(xué)片用基材片l包括基材膜2、及積層于所述基材膜2的背面上 的防粘層3。
基材膜2必須可使光線透過，因此其是由透明、尤其是無色透明的合成樹 脂所形成。對于所述基材膜2中使用的合成樹脂并無特別限定，例如可列舉 聚對苯二曱酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物，二乙?；w維素、 三乙?；w維素等纖維素系聚合物，聚碳酸酯系聚合物、聚曱基丙烯酸曱酯等 丙烯酸系聚合物，聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物，聚乙 烯、聚丙烯、具有環(huán)狀乃至降水片烯構(gòu)造的聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等烯烴 系聚合物，氯乙烯系聚合物，尼龍或芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物，酰亞胺系聚合物，砜系聚合物，聚醚砜系聚合物，聚醚醚酮系聚合物，聚苯硫醚系聚合 物，乙烯醇系聚合物，偏二氯乙烯系聚合物，乙烯醇縮丁醛系聚合物，芳酯系 聚合物，聚甲醛系聚合物，環(huán)氧系聚合物等。其中，較佳為透明性優(yōu)異、強(qiáng)度 較高的聚對苯二甲酸乙二酯，更佳為可撓性能得到改善的聚對苯二甲酸乙二酯。
作為所述基材膜2的形成材料，上述聚合物可單獨(dú)使用1種或混合使用2 種以上。又，為了對加工性、耐熱性、耐候性、機(jī)械性質(zhì)、尺寸穩(wěn)定性等進(jìn)行 改善、改質(zhì)，可在基材膜2的形成材料中混合入各種添加劑等。作為所述添加 劑，例如可列舉潤滑劑、交聯(lián)劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、填 充劑、強(qiáng)化纖維、強(qiáng)化劑、抗靜電劑、阻燃劑、防焰劑、發(fā)泡劑、防霉劑、填 料、顏料、可塑劑、防劣化劑、分散劑等。
對于基材膜2的厚度(平均厚度)并無特別限定，但較佳為lOiam以上、 250lam以下，更佳為20inm以上、188inm以下。若基材膜2的厚度小于上述 范圍，則當(dāng)基材膜2的表面上積層有用于形成光學(xué)層(用于作為光學(xué)片而發(fā)揮 功能的層)的聚合物組成物時，易于發(fā)生巻曲、操作變困難等問題。反之，若 基材膜2的厚度超過上述范圍，則安裝有所述光學(xué)片用基材片l的液晶顯示裝 置的亮度可能會下降，且背光單元的厚度增大，從而亦有悖于液晶顯示裝置的 薄型化要求。
防粘層3含有以層狀并且間隔配設(shè)的多個填料4、及將所述填料4固定 于基材膜2的背面?zhèn)鹊恼澈蟿?。通過自粘合劑5的背面(外表面)突出的填 料4,而在所述防粘層3的背面較密且均勻地形成多個凸部6。因此，若將所 述光學(xué)片用基材片1與導(dǎo)光板等加以積層，則可由較密且均勻地形成的凸部6 而與導(dǎo)光板等的表面相抵接，而并非由光學(xué)片用基材片l的整個背面與導(dǎo)光板 等相抵接。由此，可有效防止光學(xué)片用基材片1與導(dǎo)光板等的粘附，且抑制液 晶顯示裝置的畫面上產(chǎn)生亮度不均。
作為填料4的具體材料，可大致分為無機(jī)填料及有機(jī)填料。作為所述無機(jī) 填料，例如可使用選自元素周期表第2族~第6族中的元素(例如硅、鋁、 鋅、鈦、鋯等)的氧化物、氬氧化鋁、硫化鋇、硅酸鎂或者所述等的混合物。 其中，較佳為，容易獲得納米級的粒徑、且光線的遮蔽性較小的膠體二氧化硅。 又，作為有機(jī)填料，例如可使用丙烯酸系樹脂、丙烯腈樹脂、聚胺基甲酸酯、 聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯腈、聚酰胺等。其中，較佳為硬化后的透明性較高的丙雄酸系樹脂，更佳為聚曱基丙烯酸曱酯(PMMA , Polymethyl methacrylate )。對于填料4的形狀并無特別限定，例如可列舉球狀、紡錘狀、針狀、棒 狀、立方體狀、板狀、鱗片狀、纖維狀等，其中，較佳為凸部6形成于防粘層 3的背面的形成性優(yōu)異、表現(xiàn)出良好的防粘性的球狀。作為填料4的平均粒徑的下限，較佳為70nm，更佳為100nm。另一方面， 作為填料4的平均粒徑的上限，較佳為200 nm,更佳為150 nm。若填料4的 平均粒徑未達(dá)上述下限，則表面能量會增高，因此填料可能難以分散含有于粘 合劑5中，而且，通過填料4而形成于防粘層3的背面的凸部6變小，從而有 可能無法發(fā)揮防粘功能。反之，若填料4的平均粒徑超過上述上限，則因短波 長的影響而使得遮蔽光線的穿透的效果增大，從而可能會導(dǎo)致所述光學(xué)片用基 材片l的總透光率下降。又，作為含有處于上述平均粒徑范圍內(nèi)的填料4的防 粘層3，即便不形成使其容易接著于基材膜2的背面的易接著層，亦可容易且 直接地積層防粘層用組成物，從而可降低制造成本、實(shí)現(xiàn)輕量化及薄膜化。進(jìn) 而，作為含有上述納米尺寸的填料4的防粘層3,除了上述透光性及防黏性以 外，抗靜電效果及防止損傷效果亦良好。作為防粘層3中填料4的含量(防粘層用組成物中的以固體成分換算的含 量)的下限，較佳為20質(zhì)量y。，更佳為30質(zhì)量％。另一方面，作為填料4的含 量的上限，較佳為50質(zhì)量％,更佳為40質(zhì)量％。若填料4的含量小于上述下限， 則形成于防粘層3的背面的凸部6的均勻分散性及密度會下降，從而可能無法 充分地獲得防粘效果。另一方面，若填料4的含量超過上述上限，則無法進(jìn)一 步提高防粘效果，從而可能導(dǎo)致透光性下降。作為填料4的粒徑分布、的變異系數(shù)，較佳為20%以下，更佳為10%以下。 通過使填料4的變異系數(shù)處于上述范圍內(nèi)，防粘層3的背面上所形成的微細(xì)的 凸部6的突出高度的均勻性提高，從而防粘性進(jìn)一步提高。又，通過使填料4 的變異系數(shù)處于上述范圍內(nèi)，可促進(jìn)不利于防粘的小徑填料4的減少、及單位 面積內(nèi)的填料4的減少，且可促進(jìn)防止因上述防粘層3上的散射等而導(dǎo)致光學(xué) 功能下降的效果。粘合劑5可通過使含有基材聚合物的聚合物組成物硬化而形成。通過所述 粘合劑5,使填料4以大致相等的密度配置固定于基材膜2的背面。就提高透光性的觀點(diǎn)而言，粘合劑5中所使用的基材聚合物本身較佳為透明者，更佳為無色透明者。對于所述基材聚合物并無特別限定，例如可列舉 聚甲基丙烯酸、聚羧基苯基曱基丙烯酰胺等聚曱基丙烯酸系樹脂，以聚(聯(lián)苯基)苯乙烯等聚苯乙烯系樹脂等為代表的聚烯烴系樹脂，以聚(2,6-二甲基 -1,4-苯醚)為代表的聚醚系樹脂，以聚(氧基羰基氧基-1,4-伸苯基異亞丙基 -1, 4-伸苯基)為代表的聚碳酸酯系樹脂，以聚(氧基-2, 2， 4, 4-四甲基-1, 3-環(huán) 伸丁基氧基對苯二曱?；?為代表的聚酯系樹脂，以聚(氧基-1,4-伸苯基磺酰 基-1, 4-伸苯基)、聚(氧基-1， 4-伸苯基異亞丙基-1, 4-伸苯基氧基-1, 4-伸苯基 磺酰基-1, 4-伸苯基)等為代表的聚砜系樹脂，以聚(亞胺基間苯二曱酰基亞胺 基-4, 4'-伸聯(lián)苯基)為代表的聚酰胺系樹脂，以聚(硫代-1,4-伸苯基磺?；?-1,4-伸苯基)為代表的聚硫化物系樹脂，不飽和聚酯系樹脂，環(huán)氧系樹脂，三 聚氰胺系樹脂，鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂，酚類樹脂，聚亞胺系樹脂，聚膦 腈系樹脂，由有機(jī)烷氧硅烷化合物所構(gòu)成的硅氧烷樹脂等；所述等聚合物可使 用1種或混合使用2種以上。尤其自加工性高、利用涂布等方法可容易地形成防粘層3的方面而言，上述基材聚合物較佳為多元醇。又，自下述三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的形成性方面而言，上 述基材聚合物較佳為聚烯烴系共聚物。構(gòu)成粘合劑5的聚合物7可如圖2所示具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)。因如上所述構(gòu) 成粘合劑5的聚合物7具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，故防粘層3內(nèi)的填料4的固定性及 保護(hù)性提高，且有助于填料4的均勻分散性乃至防粘性的提高。而且，因構(gòu)成 粘合劑5的聚合物7具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，因此防粘層3的硬度、光滑性、耐磨 性等提高。對于構(gòu)成所述三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的方法并無特別限定，可采用公知的方法，一 般而言，可通過使上述基材聚合物的聚合組成物中含有具有2個以上不飽和基 的多官能單體而形成。所謂所述具有2個以上不飽和基的多官能單體，是指具 有2個以上可與單體或者預(yù)聚物進(jìn)行共聚合的不飽和官能基的單體，作為可進(jìn) 行共聚的官能基，可列舉乙烯基、曱基乙烯基、丙烯?；?、曱基丙烯基等。 又， 一分子中含有2個以上不同的可進(jìn)行共聚的官能基的單體亦包含于本發(fā)明 的多官能單體。作為所述具有2個以上不飽和基的多官能單體，例如可列舉乙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、二乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、三乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、甘 油(二/三)(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷(二/三)(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇(二/三/四)(甲基)丙烯酸酯等的多元醇的二-(甲基)丙烯酸酯類、三-(甲基)丙烯酸酯類、四-(曱基)丙烯酸酯類；對二乙烯基苯、鄰二乙烯基苯等的芳香族多官能單體；(曱基)丙烯酸乙烯基酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯等的酯類；丁二烯、己二烯、戊二烯等的二烯類；以二氯磷腈作為原料且將聚合多官能基導(dǎo)入 的具有磷腈骨架的單體，三烯丙基二異氰酸酯等的具有雜原子環(huán)狀骨架的多官 能單體等。所述具有2個以上不飽和基的多官能單體的配合量，較佳為三維交聯(lián)聚合物中含有2質(zhì)量y。以上、8o質(zhì)量y。以下。當(dāng)小于上述范圍時，存在無法充分進(jìn)行 三維交聯(lián)，而導(dǎo)致耐熱性、耐溶劑性等下降的傾向。另一方面，若超過上述范圍，則有時會使耐撞擊性等下降、作為塑膠的特性下降。作為上述多元醇，例如可列舉使含有含鞋基的不飽和單體的單體成分進(jìn) 行聚合而獲得的多元醇、或在過量幾基的條件下獲得的聚酯多元醇等，所述等 可單獨(dú)使用，或者混合使用2種以上。作為含羥基的不飽和單體，可列舉(a)例如丙烯酸2-羥乙基酯、丙烯酸 2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥乙基酯、曱基丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯醇、高 丙烯醇、桂皮醇、巴豆醇等含羥基的不飽和單體；(b)例如乙二醇、環(huán)氧乙烷、 丙二醇、環(huán)氧丙烷、丁二醇、環(huán)氧丁烷、1， 4-雙(羥基甲基)環(huán)己烷、苯基縮水 甘油醚、癸酸縮水甘油酯、Placcel FM-1 (Daicel Chemical Industries股份 有限公司制造)等2元醇或者環(huán)氧基化合物，與例如丙烯酸、曱基丙烯酸、順 丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、衣康酸等不飽和羧酸進(jìn)行反應(yīng)所獲得的含羥 基的不飽和單體等?？蓪⑦x自所述等含幾基的不飽和單體中的1種或2種以上 進(jìn)行聚合而制造多元醇。又，上述多元醇亦可將選自丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸乙基己酯、甲基丙烯酸乙酯、曱基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、曱基丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸第三丁酯、曱基丙烯酸乙基己酯、曱基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、苯乙烯、乙烯基甲苯、1-甲基苯乙烯、丙烯酸、曱基丙烯酸、丙烯腈、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、乙酸丙烯酯、己二酸二烯丙酯、衣康酸二烯丙酯、順丁烯二酸二乙酯、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-丁氧曱基丙烯酰胺、雙丙酮丙烯酰胺、乙烯、丙烯、異丁烯等中的1種或2種以上的乙烯性不飽和單體，與選自上述(a)及(b)中的含羥基的不飽和單體進(jìn)行聚合而制造。使含有含羥基的不飽和單體的單體成分進(jìn)行聚合而獲得的多元醇的數(shù)量平均分子量為1000以上、500000以下，豐支佳為5000以上、100000以下。又， 其羥值為5以上、300以下，較佳為10以上、200以下，更佳為20以上、150以下。作為在過量羥基的條件下所獲得的聚酯多元醇，可使(c)例如乙二醇、 二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、新戊 二醇、1,6-己二醇、1,10-癸二醇、2, 2， 4-三甲基-1, 3-戊二醇、三幾甲基丙烷、 己三醇、丙三醇、季戊四醇、環(huán)己二醇、氬化雙酚A、雙(羥基曱基)環(huán)己烷、 對苯二酚雙(羥基乙醚)、異氰尿酸三(羥基乙基)酯、鄰苯二曱醇等多元醇，與 (d)例如順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁二酸、己二酸、癸二酸、壬二酸、偏苯 三甲酸、對苯二甲酸、鄰苯二曱酸、間苯二曱酸等多元酸，于丙二醇、己二醇、 聚乙二醇、三羥曱基丙烷等多元醇中的幾基數(shù)多于上述多元酸的羧基數(shù)的條件 下進(jìn)行反應(yīng)而制造。所述在過量羥基的條件所獲得的聚酯多元醇的數(shù)量平均分子量為500以 上、300000以下，爭支佳為2000以上、100000以下。又，其幾值為5以上、300 以下，^^佳為10以上、200以下，更佳為20以上、150以下。作為用作所述聚合物組成物的基材聚合物的多元醇，較佳為，將含有上述 聚酯多元醇及上述含羥基的不飽和單體的單體成分進(jìn)行聚合而獲得的具有(曱 基)丙烯酸單元等的丙烯酸多元醇。將所述聚酯多元醇或者丙烯酸多元醇作為 基材聚合物的粘合劑5的耐候性較高，可抑制防粘層3的黃變等。再者，可使 用所述聚酯多元醇及丙蜂酸多元醇中的任一者，亦可使用兩者。再者，關(guān)于上述聚酯多元醇及丙烯酸多元醇中的羥基的個數(shù)，只要滿足每 1個分子中含2個以上即可，并無特別限定，但若固體成分中的羥值為10以下， 則存在交聯(lián)點(diǎn)數(shù)減少，耐溶劑性、耐水性、耐熱性、表面硬度等被膜物性降低 的傾向。作為上述基材聚合物，較佳為具有環(huán)烷基的多元醇。如上所述，通過對構(gòu) 成粘合劑5的作為基材聚合物的多元醇中導(dǎo)入環(huán)烷基，可使粘合劑5的斥水性、 耐水性等疏水性提高，且高溫高濕條件下所述光學(xué)片用基材片l的耐可撓性、 尺寸穩(wěn)定性等得到改善。又，防粘層3的耐候性、硬度、質(zhì)感、耐溶劑性等涂 膜基本性能得到提高。進(jìn)而，與表面上固定有有機(jī)聚合物的填料4的親和性、及填料4的均勻分散性變得更佳。對于上述環(huán)烷基并無特別限定，例如可列舉環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基、環(huán)壬基、環(huán)癸基、環(huán)十一烷基、環(huán)十二烷基、環(huán)十三烷基、 環(huán)十四烷基、環(huán)十五烷基、環(huán)十六烷基、環(huán)十七烷基、環(huán)十八烷基等。具有上述環(huán)烷基的多元醇，是通過使具有環(huán)烷基的聚合性不飽和單體進(jìn)行 共聚而獲得。所謂所述具有環(huán)烷基的聚合性不飽和單體，是指分子內(nèi)具有至少 1個環(huán)烷基的聚合性不飽和單體。對于所述聚合性不飽和單體并無特別限定，可列舉(曱基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸曱基環(huán)己酯、(曱基)丙烯酸第三 丁基環(huán)己酯、(曱基)丙烯酸環(huán)十二烷基酯等。當(dāng)如上所述使用多元醇作為基材聚合物時，聚合物組成物中可含有作為硬 化劑的聚異氰酸酯化合物。所述聚異氰酸酯化合物是由二異氰酸酯進(jìn)行聚合而 獲得的二聚物、三聚物、四聚物等衍生物。因聚合物組成物中含有聚異氰酸酯 硬化劑，而可容易且確實(shí)地形成下述三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)，且防粘層3的被膜物性進(jìn) 一步提高。又，通過配合入聚異氰酸酯化合物可使聚合物組成物的硬化反應(yīng)速 度提高，因此，即便聚合物組成物中舍有有助于微小無機(jī)填充劑的分散穩(wěn)定性 的陽離子系抗靜電劑，亦可充分地彌補(bǔ)因陽離子系抗靜電劑而產(chǎn)生的硬化反應(yīng) 速度的下降，從而可進(jìn)一步提高生產(chǎn)性。作為上述聚異氰酸酯化合物，較佳為二曱苯二異氰酸酯衍生物、或者所述 二曱苯二異氰酸酯衍生物與脂肪族二異氰酸酯衍生物的混合物。所述二甲苯二異氰酸酯衍生物，因其對聚合物組成物的反應(yīng)速度的提高效果較大，又，在芳 香族二異氰酸酯衍生物中由于熱或紫外線所造成的黃變及劣化較小，因此，可 減低所述光學(xué)片用基材片1的透光率的經(jīng)時性下降。另一方面，與芳香族二異 氰酸酯衍生物相比，脂肪族二異氰酸酯衍生物的反應(yīng)速度提高效果較小，但因 紫外線等而引起的黃變、劣化等極小，因此，通過與二曱苯二異氰酸酯衍生物 相混合，可平衡性良好地達(dá)成反應(yīng)速度提高效果、及黃變等的防止效果。上述聚異氰酸酯化合物的配合量(相對于聚合物組成物中的聚合物成分 100份的經(jīng)固體成分換算的配合量)的下限，較佳為2份，更佳為5份。另一 方面，硬化劑的上述配合量的上限較佳為20份，更佳為15份。通過如上所述 使聚異氰酸酯化合物的配合量處于上述范圍內(nèi)，可使上述聚合物組成物有效地 發(fā)揮提高硬化反應(yīng)速度的作用。作為上述無機(jī)填料4，可使用其表面上固定有有機(jī)聚合物。通過如上所述13使用固定有有機(jī)聚合物的無機(jī)填料4,可提高粘合劑5中的分散性及與粘合劑
5的親和性。關(guān)于所述固定的有機(jī)聚合物，其分子量、形狀、組成、官能基的
有無等方面并無限定，可使用任意的有機(jī)聚合物。而且，關(guān)于有機(jī)聚合物的形 狀，可采用直鏈狀、分支狀、交聯(lián)結(jié)構(gòu)等任意形狀。
作為構(gòu)成上述有機(jī)聚合物的具體樹脂，例如可列舉(曱基)丙烯酸系樹脂， 聚苯乙烯、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯或聚丙烯等聚烯烴、聚氯乙烯、聚偏二氯乙 烯、聚對苯二曱酸乙二酯等聚酯以及所述等的共聚物；或利用胺基、環(huán)氧基、 羥基、羧基等官能基進(jìn)行部分改質(zhì)后所得的樹脂等。其中，將(甲基)丙烯酸系 樹脂、(曱基)丙烯酸-苯乙烯系樹脂、(曱基)丙烯酸-聚酯系樹脂等含有(曱基) 丙烯酸單元的有機(jī)聚合物作為必需成分，具有被膜形成功能，故較佳。另一方 面，較佳為與上述聚合物組成物的基材聚合物具有相溶性的樹脂，因此，最佳 為與聚合物組成物中所含的基材聚合物具有相同組成。
再者，無機(jī)填料4的微粒子內(nèi)亦可含有有機(jī)聚合物。由此，可賦予作為填 料4的核心的無機(jī)物以適度的軟度及韌性。
作為上述有機(jī)聚合物，只要使用含有烷氧基者即可，其含量較佳為固定有 有機(jī)聚合物的填料4每lg中含有0. 01 mmol以上、50 mmol以下。通過所述烷 氧基，可提高與構(gòu)成粘合劑5的基質(zhì)樹脂之間的親和性、及粘合劑5中的分散 性。
上述烷氧基是表示已與形成微粒子骨架的金屬元素相鍵結(jié)的R0基。所述R 為可被取代的烷基，微粒子中的R0基可相同亦可不同。作為R的具體例，可 列舉例如曱基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等。較佳為使用與構(gòu)成填料4 的金屬相同的金屬烷氧基，且當(dāng)填料4為膠體二氧化硅時，較佳為使用以硅作 為金屬的烷氧基。
關(guān)于固定有有機(jī)聚合物的無機(jī)填料4中的有機(jī)聚合物的含有率，并無特別 限定，但較佳為以填料4為基準(zhǔn)，達(dá)到0. 5質(zhì)量％以上、5 0質(zhì)量％以下。
固定于填料4上的上述有機(jī)聚合物，是使用含有羥基，構(gòu)成粘合劑5的聚 合物組成物中，可含有選自具有2個以上可與羥基發(fā)生反應(yīng)的官能基的多官能 異氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物及胺基樹脂中的至少1種。由此，填料4與 粘合劑5的基質(zhì)樹脂以交聯(lián)結(jié)構(gòu)而鍵結(jié)，從而使保存穩(wěn)定性、耐污染性、可撓 性、耐候性、保存穩(wěn)定性等變好，進(jìn)而使所得的被膜具有光澤。
又，可將抗靜電劑以微分散狀態(tài)混合于聚合物組成物中。通過以混合有所述抗靜電劑的聚合物組成物來形成粘合劑5,可使所述光學(xué)片用基材片1表現(xiàn) 出抗靜電效果，從而可防止吸附灰塵、或因帶靜電而難以與棱鏡片等重疊等的 問題。又，若將抗靜電劑涂布于表面，則表面會產(chǎn)生粘性或污法，但通過如上 所述而使抗靜電劑混練于聚合物組成物中，可減少所述弊端。對于所述抗靜電 劑并無特別限定，例如可使用烷基硫酸鹽、烷基磷酸鹽等陰離子系抗靜電劑， 四級銨鹽、咪唑啉化合物等陽離子系抗靜電劑，聚乙二醇系、聚氧乙烯山梨糖 醇酐單硬脂酸酯、乙醇酰胺類等非離子系抗靜電劑，聚丙烯酸等高分子系抗靜 電劑，及具有導(dǎo)電性的金屬粉末，金屬氧化物粉末，碳納米管等。其中，較佳 為抗靜電效果較大的陽離子系抗靜電劑，通過添加少量的所述陽離子系抗靜電 劑，可發(fā)揮抗靜電效果。
再者，作為用于形成所述粘合劑5的聚合物組成物，除了基材聚合物、填 料4、硬化劑、抗靜電劑之外，亦可適當(dāng)?shù)嘏浜先肜缈伤軇?、分散劑、各種 調(diào)平劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、粘性改質(zhì)劑、潤滑劑、光穩(wěn)定劑等。
防粘層3的平坦部的平均厚度T (無填料4的區(qū)域內(nèi)的平均厚度)的下限 較佳為50 nm，更佳為70 nm。另一方面，防粘層3的平坦部的平均厚度T的 上限較佳為150 nm，更佳為120 nm。若防粘層3的平均厚度T小于上述下限， 則可能導(dǎo)致難以將填料4固定于基材膜2的背面。另一方面，若防粘層3的平 均厚度T超過上述上限，則通過填料4而形成于防粘層3背面的凸部6會變小， 結(jié)果可能導(dǎo)致所述光學(xué)片用基材片l的防粘功能減弱。又，若防粘層3的平均 厚度T超過上述上限，則可能因防粘層3的兩界面上的折射而產(chǎn)生透射光線的 干涉現(xiàn)象，因此產(chǎn)生疊紋等。
防粘層3的背面的算術(shù)平均粗度(Ra)較佳為0. 05jam以上、0. 15 nm以 下，更佳為0. 08 iam以上、0.12jiim以下。防黏層3的背面的最大高度(Ry ) 較佳為O. 4jam以上、0. 9lam以下，更佳為O. 6nm以上、0. 7nm以下。防粘 層3的背面的十點(diǎn)平均粗度(Rz)較佳為0. 3pm以上、0. 8jam以下，更佳為 0. 5mm以上、0. 6um以下。若防粘層3的背面的算術(shù)平均粗度(Ra )、最大高 度(Ry)及十點(diǎn)平均粗度(Rz)小于上述范圍，則可能導(dǎo)致防粘層3的背面的 微細(xì)凸部減小、防粘性下降。反之，若防粘層3的背面的算術(shù)平均粗度(Ra) 等超過上述范圍，則可能導(dǎo)致液晶顯示裝置的畫面上產(chǎn)生眩光，導(dǎo)致品質(zhì)下降。
作為所述光學(xué)片用基材片l的制造方法，只要能制造出具有上述構(gòu)造，則 無特別限定，但較佳為使用具有如下步驟的制造方法(a)基材膜形成步驟，通過使用T字模的擠出成形法而形成由熱塑性樹脂所構(gòu)成的基材膜擠出體； (b)積層步驟，在基材膜擠出體的一面上積層防粘層用組成物；以及(c)拉 伸步驟，將基材膜擠出體及防粘層用組成物層的積層體拉伸。又，亦可通過使 用T字模的共擠出成形法而同時實(shí)施上述基材膜形成步驟及上述積層步驟。利 用使用上述擠出成形法的制造方法，因于將基材膜擠出體及防粘層用組成物層 的積層體拉伸的拉伸步驟之前，實(shí)施于基材膜擠出體的一面上積層防粘層用組 成物的積層步驟，因此，可使積層步驟與基材膜形成步驟及拉伸步驟在同一生 產(chǎn)線(亦即，作為生產(chǎn)線中積層步驟)上實(shí)施，其結(jié)果，可抑制制造成本、改 善生產(chǎn)性及作業(yè)效率而制造光學(xué)片用基材片。
所述光學(xué)片用基材片1中，防粘層3含有填料4及其樹脂制粘合劑5，所 述防粘層3的平坦部的平均厚度為50 nm以上、150 nm以下，填料4的平均粒 徑為70nm以上、200 nm以下，因此，通過納米尺寸的填料4可于防粘層3的 外表面上較多且均勻地形成微細(xì)的凸部6，其結(jié)果，可由微細(xì)的凸部6而散點(diǎn) 狀地與重疊于背面?zhèn)鹊膶?dǎo)光板、棱鏡片等相抵接，且具有較高的防粘性，能防 止因粘附而產(chǎn)生干涉條紋。
又，所述光學(xué)片用基材片1中，發(fā)揮防粘性的填料4的平均粒徑為70nm 以上、200 nm以下，因此，填料4的平均粒徑小于可見光的波長，即便配合入 填料4亦可顯著地降低對透光性的阻礙，從而具有較高的總透光率。
進(jìn)而，所述光學(xué)片用基材片1中，防粘層3的平坦部的平均厚度為50 nm 以上、150nm以下，因此防粘層3的平坦部的平均厚度小于可見光的波長，且 防粘層3的兩界面上的折射所產(chǎn)生的透射光線的干涉現(xiàn)象得以減少，可有效抑 制疊紋等的產(chǎn)生。
又，與先前的平均厚度相比，所述光學(xué)片用基材片l中防粘層3的平坦部 的平均厚度極小，可促進(jìn)目前所要求的液晶顯示裝置的薄型化。進(jìn)而，所述光 學(xué)片用基材片1中，為了在外表面形成微細(xì)的凸部6而使防粘層3中含有填料 4，但不含先前的光學(xué)片的樹脂珠粒，因此，可在實(shí)施利用擠出成形法的基材 膜2的成形步驟的線內(nèi)來積層防粘層3，其結(jié)果，可省略先前的制成光學(xué)片等 基材膜后的涂布等其他步驟，從而可顯著地提高制造作業(yè)性且促進(jìn)制造成本下 降。
圖3中的光學(xué)片用基材片11具備基材膜2、以及積層于所述基材膜2的 背面的防粘層12。所述防粘層12中含有相離而配設(shè)成層狀的多個填料4、以
16及使所述填料4固定于基材膜2的背面?zhèn)鹊恼澈蟿?。
所述基材膜2、填料4的種類、含量、形狀等，粘合劑5及制造方法等可 與上述圖1中的光學(xué)片用基材片1相同，故附上相同的符號且省略說明。
所述光學(xué)片用基材片11中，作為上述填料4，含有主成分的小徑填料4a 以及平均粒徑大于所述小徑填料4a的副成分的大徑填料4b。
所述光學(xué)片用基材片11中，作為填料4中，含有主成分的小徑填料4a及 副成分的大徑填料4b,由此，在防粘層12的背面(外表面)的大致整個面上， 通過主成分的小徑填料4a而形成有微細(xì)的凸部6a,且通過副成分的大徑填料 4b散點(diǎn)狀地形成有較大的凸部6b，其結(jié)果，防粘性顯著提高。
小徑填料4a的平均粒徑的下限較佳為50 nm,更佳為80 nm。另一方面， 小徑填津牛4a的平均粒徑的上限4支佳為150 nm,更佳為120 nm。若小徑瑣4牛4a 的平均粒徑未達(dá)上述下限，則可能導(dǎo)致表面能量增高，故難以分散含有于粘合 劑5中，且通過小徑填料4a而形成于防粘層3的背面的凸部6a會減小，而無 法發(fā)揮防粘功能。反之，若小徑填料4a的平均粒徑超過上述上限，則可能導(dǎo) 致由于短波長的影響而使遮蔽光線透射的效果增大，而導(dǎo)致所述光學(xué)片用基材 片11的總透光率下降。
大徑填料4b的平均粒徑的下限較佳為200 nm，更佳為300 nm。另一方面， 大徑填料4b的平均粒徑的上限較佳為1.2 jam,更佳為1 n m。若大徑填料4b 的平均粒徑小于上述下限，則散點(diǎn)狀地形成于防粘層12的背面上的凸部6b會 減小，從而無法實(shí)現(xiàn)提高防粘性的效果。另一方面，若大徑填料4b的平均粒 徑超過上述上限，則防粘層12的大徑填料4b的固定性會下降，進(jìn)而有悖于防 粘層12的薄膜化的要求。
大徑填料4b相對于總填料4的配合比較佳為5質(zhì)量％以上、30質(zhì)量％以下， 更佳為10質(zhì)量％以上、20質(zhì)量％以下。若大徑填料4b的配合比小于上述范圍， 則如上所述，散點(diǎn)狀地形成于防粘層12的背面的較大的凸部6b的密度會下降， 從而無法實(shí)現(xiàn)上述防粘性的提高效果。另一方面，若大徑填料4b的配合比超 過上述范圍，則無法實(shí)現(xiàn)防粘性的提高效果，反之，由于配合入大徑填料4b, 可能會導(dǎo)致所述光學(xué)片用基材片11的透光性下降。
再者，本發(fā)明的光學(xué)片用基材片并不限于上述實(shí)施形態(tài)。例如，上述聚合 物組成物中可含有紫外線吸收劑。通過如上所述由含有紫外線吸收劑的聚合物 組成物形成粘合劑5,可賦予所述光學(xué)片用基材片抗紫外線功能，從而將自背光單元的燈源發(fā)出的微量抗紫外線，從而防止液晶層遭紫外線破壞。
作為上述紫外線吸收劑，只要是可吸收紫外線、且高效地將其轉(zhuǎn)換成熱能、 且對光為穩(wěn)定的公知的化合物即可，并無特別限定。其中，較佳為紫外線吸收 功能較高、與上述基材聚合物的相溶性良好、且可穩(wěn)定地存在于基材聚合物中 的水楊酸系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收
劑、及氰基丙烯酸系紫外線吸收劑，可使用選自所述等的群中的1種或2種以 上。又，作為紫外線吸收劑，亦可較佳地使用分子鏈中具有紫外線吸收的聚合 物(例如，日本觸々某股份有限7>司制造的「YudaburuUV」系列等)。通過4吏用 所述分子鏈中具有紫外線吸收基的聚合物，使與粘合劑5的主聚合物的相溶性 提高，從而可防止因紫外線吸收劑的滲出等而引起的紫外線吸收功能的劣化。 再者，亦可將分子鏈中具有紫外線吸收基的聚合物作為粘合劑5的基材聚合物。 又，亦可將所述鍵結(jié)有紫外線吸收基的聚合物作為粘合劑5的基材聚合物，進(jìn) 而所述基材聚合物中亦可含有紫外線吸收劑，從而可進(jìn)一步提高紫外線吸收功 能。
上述紫外線吸收劑相對于粘合劑5的基材聚合物的含量的下限，較佳為0. 1 質(zhì)量％,更佳為1質(zhì)量％,最佳為3質(zhì)量％;紫外線吸收劑的上述含量的上限，
較佳為io質(zhì)量y。，更佳為8質(zhì)量y。，最佳為5質(zhì)量y。。其原因在于，若紫外線吸 收劑相對于基材聚合物的質(zhì)量比小于上述下限，則光學(xué)片用基材片無法有效地 發(fā)揮紫外線吸收功能，反之，若紫外線吸收劑的質(zhì)量比超過上述上限，則會對
基材聚合物造成不良影響，且導(dǎo)致粘合劑5的強(qiáng)度、耐久性等下降。
亦可使用紫外線穩(wěn)定劑(包含分子鏈上鍵結(jié)有紫外線穩(wěn)定基的基材聚合 物)來代替上述紫外線吸收劑，或者將紫外線穩(wěn)定劑與紫外線吸收劑同時使用。 通過所述紫外線穩(wěn)定劑，可使紫外線所產(chǎn)生的自由基、活性氧等去活性化，從 而提高紫外線穩(wěn)定性、耐候性等。作為所述紫外線穩(wěn)定劑，可適宜使用對紫外 線的穩(wěn)定性較高的受阻胺系紫外線穩(wěn)定劑。再者，通過將紫外線吸收劑與紫外 線穩(wěn)定劑加以并用，可顯著提高紫外線的防劣化及耐候性。
又，所述光學(xué)片用基材片中除了積層有基材膜及防粘層之外，亦可積層有 紫外線吸收劑層、抗靜電劑層、外涂層、易接著層等其他層。
實(shí)施例
以下，基于實(shí)施例詳述本發(fā)明，但本發(fā)明并非基于所述實(shí)施例的記載而被 限定性地解釋。[實(shí)施例1]
將聚對苯二甲酸乙二酯(以下稱為「PETJ)供給至T字模，進(jìn)行擠出成形 而形成PET膜擠出體，將此PET膜擠出體沿著膜長度方向拉伸3倍。其次，制 備以固體成分換算含有100份的聚酯多元醇(東洋紡績公司制造的「Vylonal MD1250」)、120份的嵌段異氰酸酯(第一工業(yè)制藥公司制造的「 Elastron H-3 J)、 及50份的平均粒徑為100 nm的膠體二氧化硅的防粘層用組成物，通過輥涂法 將所述防粘層用組成物涂布于PET膜擠出體上，從而形成所述防粘層用組成物 的層與上述PET膜擠出體的積層體。繼而，通過將所述積層體沿著膜寬度方向 拉伸3倍，由此獲得平均厚度為188 ]um的光學(xué)片用基材片(防粘層的平均厚 度為100腿)。所述等步驟均在同一生產(chǎn)線上連續(xù)進(jìn)行。
將所述光學(xué)片用基材片剪裁為20 cm見方，即使將防粘層與丙烯酸板重疊 亦不會產(chǎn)生干涉圖案，防粘效果良好。又，將以上述方式剪裁的光學(xué)片用基材 片在有水間隔的狀態(tài)而與丙烯酸板重疊而成，在環(huán)境試驗(yàn)條件下(7(TCx RH95%)放置24小時，放置后，嘗試將光學(xué)片用基材片與丙烯酸板剝離，結(jié)果 可容易地剝離。對所述光學(xué)片用基材片的總透光率進(jìn)行測定，結(jié)果為93. 1%可 謂良好。又，對所述光學(xué)片用基材片的防粘層背面的算術(shù)平均粗度(Ra)、最 大高度(Ry)及十點(diǎn)平均粗度(Rz)進(jìn)行測定，可知分別為0.09 nim、 0.63 p m及O. 52 jam。所述光學(xué)片用基材片的防粘層的鉛筆硬度為H ~ 2H。
將與實(shí)施例1中所使用者相同的防粘層用組成物與PET分別供給至多層塑 模，并進(jìn)行共擠出成形，由此形成由防粘層用組成物層與PET膜擠出體的層所 構(gòu)成的共擠出成形體。繼而，以膜長度方向?yàn)?倍且膜寬度方向?yàn)?倍的拉伸 比對所述共擠出成形體進(jìn)行同時雙軸拉伸，由此獲得平均厚度為188 nm的光 學(xué)片用基材片(防粘層的平均厚度為100 nm)。所述等步驟均在同一生產(chǎn)線上 連續(xù)進(jìn)行。
將所述光學(xué)片用基材片剪裁為20 cm見方，即使將防粘層與丙烯酸板重疊 亦不會產(chǎn)生干涉圖案，防粘效果良好。又，將以上述方式剪裁的光學(xué)片用基材 片于有水間隔的狀態(tài)而與丙烯酸板重疊而成，在環(huán)境試驗(yàn)條件下(7(TCx
RH95%)放置24小時，放置后，嘗試將光學(xué)片用基材片與丙烯酸板剝離，結(jié)果 可容易地剝離。又，對所述光學(xué)片的總透光率進(jìn)行測定，結(jié)果為91°/?？芍^良好。 又，對所述光學(xué)片用基材片的防粘層背面的算術(shù)平均粗度(Ra)進(jìn)行測定，可知為26.5腿。
根據(jù)上述內(nèi)容可知，本發(fā)明的光學(xué)片用基材片具有優(yōu)異的密著防止效果及 總透光率等光學(xué)功能。再者，總透光率是依照HS-K7105且通過Suga Test Instruments股份有限公司制造的霧度計而測定。又，表面性狀的算術(shù)平均粗 度(Ra)、最大高度(Ry)及十點(diǎn)平均粗度(Rz )是依照J(rèn)IS B0601-1994,將 截止波長入c設(shè)為2.5 mm、評價長度設(shè)為12.5 mm,使用東京精密股份有限公 司制造的觸針式表面粗度測定機(jī)「 Surfcom 470A」進(jìn)行測定。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性
如上所述，本發(fā)明的光學(xué)片用基材片可有效地用作液晶顯示裝置的背光單 元的構(gòu)成要素，且尤其適用于穿透式液晶顯示裝置。
以上說明對本發(fā)明而言只是說明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人 員理解，在不脫離以下所附權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可做出許 多修改，變化，或等效，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
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權(quán)利要求
1.一種光學(xué)片用基材片，其具備透明基材膜、及積層于所述基材膜的一面的防粘層，其特征在于所述防粘層含有填料及其樹脂制粘合劑，所述防粘層的平坦部的平均厚度為50nm以上、150nm以下，所述填料的平均粒徑為70nm以上、200nm以下。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述填料的平均粒徑 大于所述防粘層的平坦部的平均厚度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述填料中含有主成分的小徑填料、以及平均粒徑大于所述小徑填料的副成分的大徑填料，所述小 徑填料的平均粒徑為5 0 nm以上、15 0 nm以下。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述防粘層中填料的含量為2o質(zhì)量y。以上、5o質(zhì)量y。以下。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)片用基材片，其特征在于，構(gòu)成所述粘合劑的聚 合物具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述粘合劑是由含有 丙烯酸多元醇及硬化劑的聚合物組成物而形成。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述填料是使用膠體 二氧化硅。
8. 根據(jù)權(quán)利要求3的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述小徑填料的粒徑 分布的變異系數(shù)為20%以下。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)片用基材片，其特征在于，所述防粘層中分散含 有抗靜電劑。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)的光學(xué)片用基材片，其特征在于，其是 用于液晶顯示裝置的背光單元。
全文摘要
本發(fā)明是提供一種防粘性優(yōu)異、具有較高的總透光率、能有效抑制干涉現(xiàn)象及亮度不均，進(jìn)而具有較高的經(jīng)濟(jì)性及薄膜性的光學(xué)片用基材片。本發(fā)明的光學(xué)片用基材片是具備透明基材膜、及積層于基材膜的一面上的防粘層，其特征在于防粘層含有填料及其樹脂制粘合劑，防粘層的平坦部的平均厚度為50nm以上、150nm以下，填料的平均粒徑為70nm以上、200nm以下。填料的平均粒徑可大于防粘層的平坦部的平均厚度。防粘層中填料的含量較佳為20質(zhì)量％以上、50質(zhì)量％以下。粘合劑聚合物可具有三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)。
文檔編號G02B5/02GK101630029SQ200910151979
公開日2010年1月20日 申請日期2009年7月15日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月18日
發(fā)明者長村惠弌 申請人:株式會社Jiro企業(yè)策劃