專利名稱：：接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種在液晶顯示器裝置等的顯示用面板基板的制造中，使用接近式(proximity)方式來進行基板曝光的接近式曝光裝置、接近式曝光裝置的掩模搬送方法、以及使用所述裝置及方法的顯示用面板基板的制造方法，特別是涉及一種適于對大型的掩模進行定位而安裝在掩模架上的接近式曝光裝置、接近式曝光裝置的掩模搬送方法、以及使用所述裝置及方法的顯示用面板基板的制造方法。
背景技術：
：用作顯示用面板的液晶顯示器裝置的薄膜晶體管(ThinFilmTransistor，TFT)基板、彩色濾光片(colorfilter)基板、等離子(plasma)顯示器面板用基板、以及有機電致發(fā)光(Electroluminescence,EL)顯示面板用基板等的制造是使用曝光裝置，并通過光刻(photolithography)技術而在基板上形成圖案來進行。作為曝光裝置，有使用透鏡(lens)或鏡面而將掩模的圖案投影到基板上的投影(projection)方式、以及在掩模和基板之間設有微小的間隙(接近式間隙)以將掩模的圖案轉印到基板的接近式方式。與投影方式相比，接近式方式的圖案析像性能較差，但照射光學系統(tǒng)的構成簡單，且處理能力高而適合于量產用。接近式曝光裝置包括搭載基板的夾盤及保持掩模的掩模架，通過使保持在掩模架上的掩模和搭載在夾盤上的基板極為接近而進行曝光。通常，夾盤是搭載在使基板進行移動及定位的平臺上，對基板進行真空吸附而加以固定。掩模架是設置在搭載著基板的夾盤的上方，對掩模的周邊部進行真空吸附而加以固定。向夾盤中搬入基板以及從夾盤中搬出基板，通常是由基板搬送機器人的操作臂(handlingarm)所進行，但為了避免掩模和基板的接觸而在遠離掩模下方的曝光位置的裝載/卸載位置處進行。在裝載/卸載位置處將基板搭載到夾盤上之后，使平臺向掩模下方的曝光位置移動，并在曝光位置進行基板的定位。向掩模架中搬入掩模以及從掩模架中搬出掩模，以前也是通過掩模搬送機器人的操作臂而進行。但是，掩模搬送機器人的操作臂是一端固定式，因此在掩模為大型而其重量增大時，操作臂會彎曲而無法水平地支撐掩模，而且操作臂的晃動會變大，從而難以確保用以向掩模架下方移動的沖程(stroke)。相對于此，專利文獻1中揭示有一種技術，在夾盤的外周緣部設置掩模的暫時支撐構件，將掩模載置于暫時支撐構件上，通過平臺來修正掩模的搬送偏移，并通過連結在夾盤下表面?zhèn)鹊腪軸方向驅動機構而將掩模按壓到掩模架的下端面。專利文獻1:日本專利特開2003-186199號公報近年來，為了應對大型化及尺寸的多樣化，在顯示用面板的各種基板的制造中，準備相對較大的基板，根據(jù)顯示用面板的尺寸，由一塊基板而制造一塊或多塊顯示用面板基板。在此情況下，在接近式方式中，如果要對基板的一面統(tǒng)一進行曝光，則需要有與基板相同大小的掩模，所以昂貴的掩模的成本會進一步增大。因此，如下方式正成為主流，即，使用與基板相比相對較小的掩模，一邊通過平臺而使基板朝XY方向進行步進(st印)移動，一面5將基板的一面分成多個曝光區(qū)域(shot)而進行曝光。此方式中，因為掩模比搭載在夾盤上的基板小，所以無法應用專利文獻1中記載的技術。而且，在使掩模和基板接近時或者在使掩模和基板分開時，受到掩模和基板之間的空氣的擠壓或拉伸，保持在掩模架上的掩模會彎曲。而且，在彎曲的掩?；謴驮瓨訒r，有可能發(fā)生掩模的偏位。以前，在使用掩模搬送機器人的操作臂來搬送掩模時，掩模架上設置著多個定位用的銷，將掩模安裝到掩模架上之后，利用定位用的銷來按壓掩模的側面，以調節(jié)掩模的位置。在使掩模和基板接近時或者在使掩模和基板分開時，所述定位用的銷也發(fā)揮了防止掩模偏位的作用。但是，當在掩模安裝前進行掩模的定位時，如果要利用以前的定位用的銷來防止掩模的偏位，則存在如下問題，即，當定位用的銷碰到掩模的側面時，已定位的掩模的位置會發(fā)生偏移。由此可見，上述現(xiàn)有的接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法在產品結構、方法與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題，相關廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設計被發(fā)展完成，而一般產品及方法又沒有適切的結構及方法能夠解決上述問題，此顯然是相關業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設一種新的接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法，實屬當前重要研發(fā)課題之一，亦成為當前業(yè)界極需改進的目標。
發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法存在的缺陷，而提供一種新的接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法，所要解決的技術問題是使其精度良好地定位比基板小的掩模而將其安裝到掩模架上；另外，在已定位的掩模不會錯位的情況下在使掩模和基板接近時、或者在使掩模和基板分開時防止掩模的偏位；進而，制造高品質的顯示用面板基板，非常適于實用。本發(fā)明的接近式曝光裝置包括搭載基板的夾盤、保持掩模的掩模架、以及移動夾盤的平臺，在掩模和基板之間設有微小的間隙，以將掩模的圖案轉印到基板，其中，該接近式曝光裝置包括對平臺的移動加以控制的第一控制機構；將掩模搬入到夾盤的掩模搬送裝置；多個上頂銷單元，具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達(motor)，并安裝在夾盤上；第一圖像獲取裝置，獲取設置在掩模上的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；使第一圖像獲取裝置移動的移動機構；以及圖像處理裝置，對第一圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，檢測掩模的位置，且，多個上頂銷單元通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模；第一控制機構根據(jù)圖像處理裝置對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，進行掩模的定位；多個上頂銷單元通過上頂銷而將掩模安裝到掩模架上。另外，本發(fā)明的接近式曝光裝置的掩模搬送方法是如下的接近式曝光裝置的掩模搬送方法，該接近式曝光裝置包括搭載基板的夾盤、保持掩模的掩模架、以及移動夾盤的平臺，在掩模和基板之間設有微小的間隙，以將掩模的圖案轉印到基板，其中，將多個上頂銷單元設置在夾盤上，所述多個上頂銷單元具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達；設置第一圖像獲取裝置與使第一圖像獲取裝置移動的移動機構，所述第一圖像獲取裝置獲取設置在掩模上的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；利用掩模搬送6裝置將掩模搬入到夾盤；通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模；利用移動機構來移動第一圖像獲取裝置，并利用第一圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像；對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置；根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，以進行掩模的定位；以及通過上頂銷而將掩模安裝到掩模架上。在夾盤上設置著多個上頂銷單元，其具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達，并通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模，因此即便掩模比搭載在夾盤上的基板小，也可以將掩模搬入到夾盤。而且，利用平臺來移動夾盤以進行掩模的定位，并通過上頂銷而將掩模安裝到掩模架上，因此已搬入到夾盤中的掩?？赏ㄟ^平臺而精度良好地定位著，并安裝到掩模架上。為了精度良好地進行掩模的定位，必須精度良好地檢測出掩模的位置。掩模位置的檢測是通過獲取掩模的位置檢測用標記的圖像而進行，所用圖像獲取裝置的分辨率越高，檢測精度就越高。但是，高分辨率的圖像獲取裝置的視野狹小，在掩模的位置發(fā)生偏移時，有可能出現(xiàn)掩模的位置檢測用標記未進入到視野內的情況。因此，設置有用于獲取設置在掩模上的位置檢測用標記的圖像的第一圖像獲取裝置、與使第一圖像獲取裝置移動的移動機構，并利用移動機構來移動第一圖像獲取裝置，利用第一圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像。而且，對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，以進行掩模的定位。即便掩模的位置發(fā)生偏移，也可以利用高分辨率的圖像獲取裝置而精度良好地檢測出掩模的位置，從而精度良好地進行掩模的定位。進而，本發(fā)明的接近式曝光裝置包括第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在掩模架的上方，以獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號，圖像處理裝置對第二圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，第一控制機構根據(jù)圖像處理裝置對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的掩模的位置進行修正。另外，本發(fā)明的接近式曝光裝置的掩模搬送方法為設置第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在掩模架的上方，以獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；利用第二圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像；對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置；根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的掩模的位置進行修正。當使第一圖像獲取裝置移動時，掩模位置的檢測結果中將包含第一圖像獲取裝置的移動誤差。因此，設置有第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在掩模架的上方，以獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號，利用該第二圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像。而且，對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，檢測掩模的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的掩模的位置進行修正。使用固定在掩模架上方的第二圖像獲取裝置，可以進一步精度良好地檢測掩模的位置，對已定位的掩模的位置進行精度良好的修正。進而，本發(fā)明的接近式曝光裝置包括第三圖像獲取裝置，在通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模的掩模接收位置的上空，該第三圖像獲取裝置具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號，圖像處理7裝置對第三圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，第一控制機構根據(jù)圖像處理裝置對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，將掩模從掩模接收位置移動到掩模架下方的掩模安裝位置。另外，本發(fā)明的接近式曝光裝置的掩模搬送方法為在與掩模架下方的掩模安裝位置不同地另外設置的掩模接收位置處，通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模；將第三圖像獲取裝置設置在掩模接收位置的上方，所述第三圖像獲取裝置具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；利用第三圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像；對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置；根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，將掩模從掩模接收位置移動到掩模安裝位置。在與掩模架下方的掩模安裝位置不同地另外設置的掩模接收位置處，通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模，并將掩模從掩模接收位置移動到掩模安裝位置，在此情況下，在掩模接收位置處檢測掩模的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，將掩模從掩模接收位置移動到掩模安裝位置，因此，即便在掩模接收位置處由上頂銷從掩模搬送裝置所接收到的掩模的位置有所偏移，也可以使掩模精度良好地移動到掩模安裝位置。在掩模接收位置進行的掩模位置的檢測，是通過獲取掩模的位置檢測用標記的圖像而進行，但當通過上頂銷而從掩模搬送裝置所接收到的掩模的位置發(fā)生較大偏移時，如果使用與第一圖像獲取裝置相同的高分辨率的圖像獲取裝置，則有可能為了使掩模的位置檢測用標記進入視野而需要較長時間。因此，將具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野的第三圖像獲取裝置設置在掩模接收位置的上方，并利用第三圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像。即便由上頂銷從掩模搬送裝置所接收到的掩模的位置發(fā)生較大的偏移，也可以在短時間內獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并在掩模接收位置處短時間內檢測出掩模的位置。進而，本發(fā)明的接近式曝光裝置包括多個間隔片(spacer)，設置在夾盤的表面，當載置著掩模的上頂銷下降時所述多個間隔片接觸到掩模的圖案面的周邊部。另外，本發(fā)明的接近式曝光裝置的掩模搬送方法是將在載置著掩模的上頂銷下降時接觸到掩模的圖案面的周邊部的多個間隔片設置在夾盤的表面。當上頂銷從掩模搬送裝置接收到基板后，如果因某些原因而引起上頂銷下降，則掩模的圖案面會接觸到夾盤的表面而有可能造成圖案受損。因此，在夾盤的表面設置了在載置著掩模的上頂銷下降時會接觸到掩模的圖案面的周邊部的多個間隔片，以防止掩模的圖案面接觸到夾盤的表面。進而，本發(fā)明的接近式曝光裝置包括多個防偏位銷單元，具有與保持在掩模架上的掩模的側面接觸以防止掩模偏位的防偏位銷、使防偏位銷移動而接觸到掩模側面的馬達、及用來檢測防偏位銷接觸到掩模側面的傳感器，且所述多個防偏位銷單元安裝在掩模架上；以及對各防偏位銷單元的馬達加以控制的第二控制機構，且，第二控制機構對各防偏位銷單元的馬達進行控制，使防偏位銷朝向掩模的側面移動，并根據(jù)傳感器的檢測結果而使防偏位銷的移動停止。另外，本發(fā)明的接近式曝光裝置的掩模搬送方法為將多個防偏位銷單元設置在掩模架上，所述多個防偏位銷單元具有與保持在掩模架上的掩模的側面接觸以防止掩模偏8位的防偏位銷、使所述防偏位銷移動而接觸到掩模側面的馬達、以及檢測所述防偏位銷接觸到掩模側面的傳感器，且，對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向掩模的側面移動，并根據(jù)所述傳感器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止。由于對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向掩模的側面移動，并根據(jù)檢測所述防偏位銷接觸到掩模側面的傳感器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止，故而在已定位的掩模不會錯位的情況下使所述防偏位銷接觸到掩模的側面，從而在使掩模和基板接近時、或者在使掩模和基板分開時防止掩模的偏位。本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法為使用所述任一項的接近式曝光裝置來進行基板的曝光，或者使用所述任一項的接近式曝光裝置的掩模搬送方法而將掩模安裝到掩模架上，并進行基板的曝光。由于精度良好地進行掩模的定位，故而可精度良好地進行圖案的轉印，從而可制造高品質的顯示用面板基板。本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。借由上述技術方案，本發(fā)明接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法至少具有下列優(yōu)點及有益效果根據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的掩模搬送方法，利用掩模搬送裝置將掩模搬入到夾盤，通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模，并利用移動機構而使第一圖像獲取裝置移動，以通過第一圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，進行掩模的定位，并通過上頂銷而將掩模安裝到掩模架上，這樣，可以精度良好地定位比基板小的掩模而將其安裝到掩模架上。進而，根據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的掩模搬送方法，利用固定在掩模架上方的第二圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的掩模的位置進行修正，這樣，使用固定在掩模架上方的第二圖像獲取裝置，可以進一步精度良好地檢測掩模的位置，對已定位的掩模的位置進行精度良好地修正。進而，根據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的掩模搬送方法，在與掩模架下方的掩模安裝位置不同地另外設置的掩模接收位置處通過上頂銷而從掩模搬送裝置來接收掩模，利用具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野的第三圖像獲取裝置來獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測掩模的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，將掩模從掩模接收位置移動到掩模安裝位置，這樣，即便由上頂銷從掩模搬送裝置所接收到的掩模的位置發(fā)生較大的偏移，也可以在掩模接收位置處短時間檢測出掩模的位置，從而可將掩模精度良好地移動到掩模安裝位置。進而，根據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的掩模搬送方法，在夾盤的表面設置了在上頂銷下降時會接觸到掩模的圖案面的周邊部的多個間隔片，這樣，即便因某些原因而引起上頂銷下降，也可以防止掩模的圖案面接觸到夾盤的表面而損傷圖案。進而，根據(jù)本發(fā)明的接近式曝光裝置及接近式曝光裝置的掩模搬送方法，在掩模架上設置了多個防偏位銷單元，所述多個防偏位銷單元具有與保持在掩模架上的掩模的側面接觸以防止掩模偏位的防偏位銷、使所述防偏位銷移動而接觸到掩模側面的馬達、以及檢測所述防偏位銷接觸到掩模側面的傳感器，且，對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向掩模的側面移動，并根據(jù)所述傳感器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止，這樣，在已定位的掩模不會錯位的情況下可在使掩模和基板接近時或者在使掩模和基板分開時防止掩模的偏位。根據(jù)本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法，可精度良好地進行掩模的定位，因此可精度良好地進行圖案的轉印，從而可制造高品質的顯示用面板基板。綜上所述，本發(fā)明可精度良好地定位比基板小的掩模而將其安裝到掩模架上。將具有從夾盤10內部上升的上頂銷12及使上頂銷12上下移動的馬達11的多個上頂銷單元設置在夾盤10上。利用掩模搬送裝置將掩模2搬入到夾盤10中，并通過上頂銷12而從掩模搬送裝置接收掩模2。利用移動機構53來移動第一圖像獲取裝置52，并利用第一圖像獲取裝置52而獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像。對第一圖像獲取裝置52的圖像信號進行處理，檢測掩模2的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、以及9平臺8來移動夾盤10，進行掩模2的定位，將掩模2通過上頂銷12而安裝到掩模架20上。上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。圖1是表示本發(fā)明的一實施方式的接近式曝光裝置的概略構成的示意圖。圖2是本發(fā)明的一實施方式的接近式曝光裝置的平面圖。圖3是夾盤的俯視圖。圖4a是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖4b是圖4a的A_A部分的剖面圖。圖5a是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖5b是圖5a的B_B部分的剖面圖。圖6是表示上頂銷單元的控制系統(tǒng)的示意圖。圖7是表示間隔片設置裝置及廣視野相機的配置的示意圖。圖8a是掩模保護間隔片的俯視圖，圖8b是從圖8a的箭頭C方向觀察到的掩模保護間隔片的側視圖，圖8c是從圖8a的箭頭D方向觀察到的掩模保護間隔片的側視圖。圖9a是間隔片設置裝置的側視圖，圖9b是間隔片設置裝置的主視圖。圖IO是對間隔片設置裝置的動作進行說明的示意圖(其中，圖10a是間隔片設置裝置氣缸臺的臺處于上升狀態(tài)的示意圖；圖10b是間隔片設置裝置使氣缸臺的臺下降的示意圖；圖10c是間隔片設置裝置使氣缸臺的臺再次上升、等待的示意圖)。圖11是設置有掩模保護間隔片的夾盤的俯視圖。圖12是對上頂銷單元及掩模搬送機器人的動作進行說明的示意圖(其中，圖12a是上頂銷單元的馬達使上頂銷上升，同時掩模搬送機器人使設置著掩模的操作臂朝夾盤的上空移動的示意圖；圖12b是掩模搬送機器人使操作臂下降，將掩模設置在上頂銷上的示意圖；圖12c是操作臂進一步下降，使操作臂的掩模支撐部離開掩模的示意圖；圖12d是掩模搬送機器人使操作臂從夾盤的上空退避的示意圖)。圖13是表示在掩模接收位置將掩模搬入到夾盤中的狀態(tài)的示意圖。10圖14是掩模架的俯視圖。圖15是對在掩模架上安裝掩模的動作進行說明的示意圖(圖15a是上頂銷單元的馬達使上頂銷上升到使掩模的位置檢測用標記和高分辨率可動相機的焦點一致的高度的示意圖；圖15b是上頂銷單元的馬達使上頂銷進一步上升，將掩模按壓到保持器部的示意圖；圖15c是掩模的安裝結束后，上頂銷單元的馬達使上頂銷下降的示意圖)。圖16是表示設置在掩模架下表面的防偏位銷單元的示意圖。圖17是對基準銷的防偏位銷單元的動作進行說明的示意圖(其中，圖17a是在接觸傳感器的前端部未接觸到掩模的側面的狀態(tài)下，接觸傳感器的前端部的位移量成為零的示意圖；圖17b是在接觸傳感器的前端部接觸到掩模的側面后，接觸傳感器的前端部的位移量變?yōu)榕c基準銷及接觸傳感器的移動量相同的示意圖；圖17c是當基準銷的前端接觸到掩模的側面后，即便使基準銷及接觸傳感器進行移動，接觸傳感器的前端部的位移量也不會變化的示意圖)。圖18是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。圖19是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的制造工序的一例的流程圖。1:3:5:X平臺7:Y平臺9:夾盤支撐臺11:馬達12:上頂銷14:凸緣16:止動螺絲20:掩模架21a、21b:保持器部23:負壓玻璃30a:平坦面30c:傾斜面31:間隔片設置裝置32a:臺34:空氣夾盤36:夾鉗40:掩模搬送機器41a:掩模支撐部50:上頂銷驅動控制電路52:高分辨率可動相機54:高分辨率固定相機61:基準銷(防偏位銷)63:滾珠螺釘2:掩模4:X導向器6:Y導向器8:e平臺10:夾盤lla:桿收納部13:蓋15、17、19:螺釘18:支撐板20a:開口22:掩模位置檢測窗30:掩模保護間隔片30b:段差面30d:槽32:氣缸臺33:夾盤基座35:支架37:爪41:操作臂42:掩模儲庫51:廣視野相機53:相機移動機構55:圖像處理裝置62:脈沖馬達64:接觸傳感器65677173基準銷驅動控制電路氣缸X平臺驅動電路9平臺驅動電路66:按壓銷(防偏位銷)68:按壓銷驅動控制電路72:Y平臺驅動電路80:主控制裝置具體實施例方式為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的接近式曝光裝置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法其具體實施方式、結構、方法、步驟、特征及其功效，詳細說明如后。有關本發(fā)明的前述及其他技術內容、特點及功效，在以下配合參考圖式的較佳實施例的詳細說明中將可清楚呈現(xiàn)。通過具體實施方式的說明，當可對本發(fā)明為達成預定目的所采取的技術手段及功效獲得一更加深入且具體的了解，然而所附圖式僅是提供參考與說明之用，并非用來對本發(fā)明加以限制。圖l是表示本發(fā)明的一實施方式的接近式曝光裝置的概略構成的示意圖。另外，圖2是本發(fā)明的一實施方式的接近式曝光裝置的平面圖。接近式曝光裝置包括以下部分而構成基座3、X導向器4、X平臺5、Y導向器6、Y平臺7、e平臺8、夾盤支撐臺9、夾盤10、上頂銷單元、上頂銷單元的控制系統(tǒng)、掩模架20、掩模保護間隔片30、間隔片設置裝置31、掩模搬送機器人40、掩模儲庫(maskstocker)42、廣視野相機51、高分辨率可動相機52、相機移動機構53、高分辨率固定相機54、圖像處理裝置55、X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、e平臺驅動電路73及主控制裝置80。再者，圖1中，省略了上頂銷單元的控制系統(tǒng)、掩模保護間隔片30、間隔片設置裝置31、掩模搬送機器人40、掩模儲庫42、及相機移動機構53。另外，圖2中，省略了上頂銷單元的控制系統(tǒng)、圖像處理裝置55、X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、e平臺驅動電路73、及主控制裝置80。除所述各部分之外，接近式曝光裝置包括照射曝光用光的照射光學系統(tǒng)、間隙傳感器、對準(alignment)用傳感器、及進行裝置內的溫度管理的溫度控制單元等。再者，以下說明的實施方式中的XY方向僅為例示，也可以將X方向和Y方向調換。圖2中，夾盤10存在于進行掩模2的接收的掩模接收位置。掩模搬送機器人40從掩模儲庫42中取出掩模2，并搬入到掩模接收位置處的夾盤10中，而且從掩模接收位置處的夾盤10中搬出掩模2，并收納到掩模儲庫42中。在掩模搬送機器人40的操作臂41上，設置著與掩模2的圖案面(下表面)的未形成圖案的周邊部接觸的掩模支撐部41a，操作臂41通過掩模支撐部41a而支撐掩模2的圖案面(下表面)的周邊部。關于下述上頂銷單元的上頂銷，在向夾盤10中搬入掩模2時，從掩模搬送機器人40的操作臂41接收掩模2，在從夾盤10中搬出掩模2時，向掩模搬送機器人40的操作臂41交接掩模2。如下所述，已搬入到夾盤10中的掩模2向掩模架20下方的掩模安裝位置移動，并在掩模安裝位置安裝到掩模架20上。在進行基板曝光時，夾盤10首先向進行基板的裝載/卸載的裝載/卸載位置移動。在裝載/卸載位置處，向夾盤10上裝載基板，且從夾盤10上卸載基板。裝載著基板的夾盤10從裝載/卸載位置向進行基板曝光的曝光位置移動。12在曝光位置的上空，設置有保持掩模2的掩模架20。掩模架20對掩模2的周邊部進行真空吸附而予以保持著。在保持于掩模架20上的掩模2的上空，配置著未圖示的照射光學系統(tǒng)。在曝光時，使來自照射光學系統(tǒng)的曝光用光透過掩模2而照射到基板，以此將掩模2的圖案轉印到基板1的表面，從而在基板1上形成圖案。圖1中，夾盤101經由夾盤支撐臺9而搭載在9平臺8上，e平臺8的下方設置有Y平臺7及X平臺5。X平臺5搭載在基座3上所設置的X導向器4上，沿著X導向器4而朝X方向(圖1的圖面寬度方向)移動。Y平臺7搭載在X平臺5上所設置的Y導向器6上，沿著Y導向器6而朝Y方向(圖l的圖面縱深方向)移動。9平臺8搭載在Y平臺7上，朝9方向旋轉。夾盤支撐臺9搭載在e平臺8上，通過多個點來支撐夾盤10的背面。X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及e平臺驅動電路73通過主控制裝置80的控制而分別驅動X平臺5、Y平臺7、及e平臺8。在X平臺5朝X方向的移動及Y平臺7朝Y方向的移動的作用下，夾盤10在裝載/卸載位置和曝光位置之間移動。在裝載/卸載位置，通過X平臺5朝X方向的移動、Y平臺7朝Y方向的移動、及9平臺8朝e方向的旋轉，來進行搭載在夾盤10上的基板的預對準。在曝光位置，通過X平臺5朝X方向的移動及Y平臺7朝Y方向的移動，來進行搭載在夾盤10上的基板朝XY方向的步進移動。而且，通過X平臺5朝X方向的移動、Y平臺7朝Y方向的移動、及e平臺8朝e方向的旋轉，來進行基板的對準。另外，利用未圖示的Z-傾斜機構而使掩模架20朝Z方向(圖1的圖面上下方向)移動及傾斜，以此來進行掩模2和基板的間隙對準。再者，本實施方式中，是通過使掩模架20朝Z方向移動及傾斜來進行掩模2和基板的間隙對準，但也可以在夾盤支撐臺9上設置Z-傾斜機構，使夾盤10朝Z方向移動及傾斜，借此來進行掩模2和基板的間隙對準。圖3是夾盤的俯視圖。在夾盤10的表面，設置有未圖示的凸部、堤及吸附孔。凸部為直徑數(shù)mm的銷形狀，以規(guī)定的間隔在夾盤10的表面設置著多個該凸部。當夾盤10上搭載有基板時，凸部通過多個點而支撐基板。此時，在夾盤10的表面的凸部以外的部分和基板之間，形成了空間。堤是規(guī)定寬度的連續(xù)的壁，將夾盤10的表面的凸部以外的部分和基板之間所形成的空間分成多個真空區(qū)。堤是由不規(guī)則的線而非直線所構成，以使得夾盤10的表面形狀蝕刻至基板表面時進行的背面轉印發(fā)生時人眼難以辨識。吸附孔以規(guī)定的間隔在夾盤10的表面的凸部及堤以外的部分設置著多個，進行被堤所劃分的各真空區(qū)的真空抽吸。另外，在夾盤10上，設置著未圖示的多個基板接收/交接用的上頂銷?；褰邮?交接用的上頂銷自夾盤10的表面上升，在向夾盤10上裝載基板時，從未圖示的基板搬送機器人中接收基板，且在從夾盤中卸載基板時，向未圖示的基板搬送機器人交接基板。圖3中，在夾盤10的中央部附近，設置著下述的上頂銷單元所插入的多個開口，所述開口上安裝著蓋13，在蓋13上設置有貫通孔，所述貫通孔中從蓋13的下方插入有上頂銷12。再者，本實施方式中，在夾盤10的中央部附近設有16個開口，但開口的位置及數(shù)量并不限定于此。圖4a是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖4b是圖4a的A_A部分的剖面圖。另外，圖5a是夾盤上所設的開口的俯視圖，圖5b是圖5a的B_B部分的剖面圖。上頂銷單元包括以下部分而構成馬達11、上頂銷12、蓋13、凸緣14、螺釘15和17、以及止動螺絲16。馬達11包括脈沖馬達(pulsemotor)、連接于脈沖馬達的滾珠螺釘(bal1screw)、及桿(rod)而構成，由脈沖馬達來驅動滾珠螺釘，由此使收納在桿收納部lla內的桿上升及下降。在馬達11的桿的前端，安裝著上頂銷12。圖4b中，在馬達11的桿收納部lla的上表面，安裝著凸緣14，凸緣14是通過螺釘15而固定在蓋13的背面。另一方面，在夾盤10的背面的開口周邊，安裝有支撐著蓋13的環(huán)狀的支撐板18。支撐板18是通過螺釘19而固定在夾盤10的背面。圖4a及圖5a中，在蓋13的周邊部的多個部位，設置著止動螺絲16所螺入的螺孔與螺釘17所穿通的帶有段差的孔。圖4b中，蓋13是通過蓋13的周邊部的帶有段差的孔中所穿通的螺釘17而固定在支撐板18上。圖5b中，止動螺絲16被螺入蓋13的周邊部的螺孔中，并從蓋13的底面突出而與支撐板18的上表面接觸。本實施方式中，在將上頂銷單元安裝到夾盤10中時，首先，將上頂銷單元從夾盤10的上方插入到開口，調節(jié)止動螺絲16的螺入量，以調節(jié)上頂銷單元的安裝高度。然后，利用螺釘17將蓋13固定在支撐板18上，并將上頂銷單元安裝到夾盤10上。由于是將上頂銷單元從夾盤10的上方插入到開口，并通過止動螺絲16而調節(jié)安裝高度以安裝到夾盤IO上，故而即便對于用手或夾具從夾盤10的外側難以到達的夾盤的中央部附近，也容易從夾盤10的上方進行上頂銷單元的安裝高度的調節(jié)。因此，即便隨著基板的大型化而使夾盤10大型化，也容易調節(jié)上頂銷12的高度。圖6是表示上頂銷單元的控制系統(tǒng)的示意圖。上頂銷驅動控制電路50是通過主控制裝置80的控制而對各上頂銷單元的馬達11指定上頂銷12的移動目的地，并指示上頂銷12向移動目的地移動。馬達11的內部具有編碼器(encoder)，當上頂銷12從被指示的移動目的地起到達規(guī)定范圍時，編碼器向上頂銷驅動控制電路50輸出一種表示移動已結束的結束信號。以下，對本發(fā)明的一實施方式的接近式曝光裝置的掩模搬送方法加以說明。圖2中，在掩模接收位置處的夾盤10的上空，配置著間隔片設置裝置31及廣視野相機51。圖7是表示間隔片設置裝置及廣視野相機的配置的示意圖。圖7中，通過掩模搬送機器人40而搬入的掩模2用虛線表示。間隔片設置裝置31配置在掩模2的周邊部的上方，如下所述，將掩模保護間隔片30從夾盤10的上方到夾盤10的表面進行設置。廣視野相機51配置在掩模2上所設的位置檢測用標記的上方，獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像。圖8a是掩模保護間隔片的俯視圖，圖8b是從圖8a的箭頭C方向觀察到的掩模保護間隔片的側視圖，圖8c是從圖8a的箭頭D方向觀察到的掩模保護間隔片的側視圖。掩模保護間隔片30具有平坦面30a、比平坦面30a高的段差面30b、以及設置在平坦面30a和段差面30b之間的傾斜面30c。在掩模保護間隔片30的側面，如圖8b及圖8c所示，設置著向水平方向延伸的槽30d。當設置著掩模2的上頂銷12下降時，掩模2的圖案面(下表面)的邊緣被傾斜面30c引導，平坦面30a接觸到掩模的圖案面(下表面)的未形成圖案的周邊部而支撐掩模2。圖9a是間隔片設置裝置的側視圖，圖9b是間隔片設置裝置的前視圖。間隔片設置裝置31包括以下部分而構成氣缸臺(aircylindertable)32、夾盤基座(chuckbase)33、空氣夾盤(airchuck)34、支架(bracket)35、夾鉗(clamp)36、及爪37。氣缸臺3214利用從未圖示的空氣壓回路所供給的空氣的壓力而驅動氣缸(aircylinder)，使臺32a朝圖面下方向移動。在氣缸臺32的臺32a上，安裝著剖面為L字形的夾盤基座33，在夾盤基座33的下端，安裝著空氣夾盤34。如圖9b所示，在連接于空氣夾盤34的兩個支架35上，分別安裝著夾鉗36，兩個夾鉗36在空氣夾盤34的驅動下，朝圖9b的圖面寬度方向移動而進行開閉。在各夾鉗36上，設置著爪37，所述爪37被掛在掩模保護間隔片30的側面所設的槽30d中，兩個夾鉗36在圖9b所示的閉狀態(tài)下，將爪37掛在掩模保護間隔片30的槽30d中，以保持掩模保護間隔片30。圖10是對間隔片設置裝置的動作進行說明的示意圖。在將掩模2搬入到夾盤10之前，間隔片設置裝置31將掩模保護間隔片30設置在夾盤10的表面。在設置掩模保護間隔片30之前，如圖lOa所示，氣缸臺32的臺32a處于上升的狀態(tài)，夾鉗36將掩模保護間隔片30保持在夾盤10的上空。在設置掩模保護間隔片30時，如圖10b所示，間隔片設置裝置31使氣缸臺32的臺32a下降，從而使保持在夾鉗36中的掩模保護間隔片30朝夾盤10的表面移動。然后，打開夾鉗36，將掩模保護間隔片30放置在夾盤10的表面。之后，如圖10c所示，間隔片設置裝置31使氣缸臺32的臺32a再次上升、等待。在從夾盤10中回收掩模保護間隔片30時，進行與上述相反的動作。再者，本實施方式中，是將間隔片設置裝置31配置在夾盤10的上空，并將掩模保護間隔片30從夾盤10的上方到夾盤10的表面進行設置，但也可以將掩模保護間隔片內置于夾盤10中，并使掩模保護間隔片從夾盤10的表面上升。圖11是設置有掩模保護間隔片的夾盤的俯視圖。在設置著虛線所示的掩模2的上頂銷12下降時，設置在夾盤10的表面的掩模保護間隔片30接觸到掩模2的圖案面(下表面)的未形成圖案的周邊部而支撐掩模2。這樣，可防止掩模2的圖案面(下表面)接觸到夾盤IO的表面而損傷圖案。圖12是對上頂銷單元及掩模搬送機器人的動作進行說明的示意圖。在將掩模2搬入到夾盤10中時，首先，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12上升(圖12a)。掩模搬送機器人40使設置著掩模2的操作臂41朝夾盤10的上空移動(圖12a)。然后，掩模搬送機器人40使操作臂41下降，將掩模2設置在上頂銷12上(圖12b)，并使操作臂41進一步下降，以使操作臂41的掩模支撐部41a離開掩模2(圖12c)。這樣，各上頂銷12從掩模搬送機器人40接收掩模2。接著，掩模搬送機器人40使操作臂41從夾盤10的上空退避(圖12d)。由于夾盤10上設置著多個上頂銷單元，其具有從夾盤10的內部上升的上頂銷12及使上頂銷上下移動的脈沖馬達11，并通過上頂銷12而從掩模搬送機器人40接收掩模1，所以即便掩模2比搭載在夾盤10上的基板小，也可以將掩模2搬入到夾盤10中。在使夾盤10從掩模接收位置朝掩模安裝位置移動時，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12下降，從而將掩模2設置在掩模保護間隔片30上。在從夾盤10中搬出掩模2時，進行與上述相反的動作。圖13是表示在掩模接收位置將掩模搬入到夾盤中的狀態(tài)的示意圖。在掩模接收位置處的夾盤10的上空所配置的廣視野相機51具有比下述的高分辨率可動相機52及高分辨率固定相機54的分辨率低而更廣的視野，以獲取設置在上頂銷12上的掩模2的位置檢測用標記的圖像，并將圖像信號輸出到圖1的圖像處理裝置55。圖像處理裝置55對廣視野相機51所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模2的位置。即便由上頂銷12從掩模搬送機器人40所接收到的掩模2的位置發(fā)生較大的偏移，也可以使用廣視野相機51在短時間內獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像，從而在掩模接收位置處短時間內檢測出掩模2的位置。圖1中，主控制裝置80將圖像處理裝置55對廣視野相機51的圖像信號進行處理而檢測出的掩模2的位置的檢測結果予以輸入，并與預先存儲的掩模接收位置處的掩模2的基準位置加以比較，以檢測掩模2的位置的偏移量。接著，主控制裝置80對X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及e平臺驅動電路73加以控制，利用X平臺5、Y平臺7、及9平臺8來移動夾盤10，使掩模2從掩模接收位置朝掩模架20下方的掩模安裝位置移動。此時，主控制裝置80根據(jù)預先存儲的掩模2的基準位置的座標和掩模安裝位置的座標，來決定X平臺5、Y平臺7、及e平臺8的移動量，并根據(jù)所檢測出的掩模2的位置的偏移量來修正所決定的移動量。由于是在掩模接收位置檢測掩模2的位置，并根據(jù)所檢測出的掩模2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤10，以使掩模2從掩模接收位置朝掩模安裝位置移動，所以即便在掩模接收位置處由上頂銷12從掩模搬送機器人40所接收到的掩模2的位置有所偏移，也可以使掩模2精度良好地移動到掩模安裝位置。圖14是掩模架的俯視圖。在掩模架20上，設置著比曝光用光所穿過的開口20a大一圈的開口，在此開口的內偵U，形成有通過保持器部21a、21b而使曝光用光穿過的開口20a。保持器部21a、21b安裝在掩模架20的下表面，保持器部21a、21b的比掩模架20更靠近下方的部分用虛線表示。保持器部21a、21b對虛線所示的掩模2的周邊部進行真空吸附而予以保持著。保持器部21a中，在掩模2的位置檢測用標記的位置處，設置有下述的掩模位置檢測窗，在掩模位置檢測窗的上空，配置著高分辨率可動相機52及高分辨率固定相機54。高分辨率可動相機52安裝在相機移動機構53上，通過相機移動機構53而在掩模架20的上方朝X方向及Y方向移動、且朝e方向旋轉。高分辨率固定相機54固定在掩模架20的上方。圖15是對在掩模架上安裝掩模的動作進行說明的示意圖。在掩模安裝位置，在將掩模安裝到掩模架上時，首先，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12上升到使掩模2的位置檢測用標記和高分辨率可動相機52的焦點一致的高度為止(圖15a)。高分辨率可動相機52通過設置在保持器部21a上的掩模位置檢測窗22而獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像。此時，當朝掩模安裝位置移動的掩模2的位置稍有偏移而使掩模2的位置檢測用標記偏離高分辨率可動相機52的視野時，利用相機移動機構53來移動高分辨率可動相機52，以使掩模2的位置檢測用標記進入到高分辨率可動相機52的視野中。高分辨率可動相機52將所獲取的圖像的圖像信號輸出到圖1的圖像處理裝置55。圖像處理裝置55對高分辨率可動相機52所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模2的位置。圖1中，主控制裝置80將圖像處理裝置55對高分辨率可動相機52的圖像信號進行處理而檢測出的掩模2的位置的檢測結果予以輸入，并與預先存儲的掩模安裝位置處的掩模2的基準位置加以比較，以檢測掩模2的位置的偏移量。接著，主控制裝置80根據(jù)已檢測出的掩模2的位置的偏移量而控制X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及e平臺驅動電路73，以利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤10，進行掩模2的定位。在16掩模安裝位置，即便掩模2的位置有所偏移，也可以使用高分辨率可動相機52而精度良好地檢測出掩模2的位置，從而精度良好地進行掩模2的定位。圖15中，在掩模2的定位結束后，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12進一步上升，將掩模2按壓到保持器部21a、21b(圖15b)。在按壓到保持器部21a、21b的掩模2的上空，設置著負壓玻璃23，在負壓玻璃23和掩模2之間形成有負壓室。保持器部21a、21b中設置有未圖示的吸附槽，在負壓室內的壓力得到控制后，保持器部21a、21b通過未圖示的吸附槽而對掩模2的周邊部進行真空吸附。因為是利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤10而進行掩模2的定位，并通過上頂銷12而將掩模2安裝到掩模架20上，所以搬入到夾盤10中的掩模2可通過X平臺5、Y平臺7、及e平臺8而精度良好地定位以安裝到掩模架20上。在保持器部21a、21b對掩模2進行真空吸附之后，高分辨率固定相機54通過設置在保持器部21a的掩模位置檢測窗22而獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像，并將圖像信號輸出到圖1的圖像處理裝置55。圖像處理裝置55對高分辨率固定相機54所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模2的位置。圖1中，主控制裝置80將圖像處理裝置55對高分辨率固定相機54的圖像信號進行處理而檢測出的掩模2的位置的檢測結果予以輸入，并與預先存儲的掩模安裝位置處的掩模2的基準位置加以比較，以檢測掩模2的位置的偏移量，并判斷是否需要進行掩模2的位置修正。本實施方式中，在使高分辨率可動相機52移動而檢測出掩模2的位置的情況下，在掩模2的位置的檢測結果中包含高分辨率可動相機52的移動誤差。因此，有可能會使根據(jù)圖像處理裝置55對高分辨率可動相機52的圖像信號進行處理而檢測出的掩模2的位置所定位的掩模2的位置偏離掩模2的基準位置。當需要進行掩模2的位置修正時，解除掩模2的真空吸附，使負壓室內的壓力恢復到大氣壓之后，使上頂銷12下降而使掩模2離開保持器部21a、21b。然后，主控制裝置80根據(jù)已檢測出的掩模2的位置的偏移量，來對X平臺驅動電路71、Y平臺驅動電路72、及e平臺驅動電路73加以控制，并利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤10，以修正掩模2的位置。使用固定在掩模架20上方的高分辨率固定相機54，可進一步精度良好地檢測掩模2的位置，從而對已定位的掩模2的位置進行精度良好地修正。在進行了掩模2的位置修正之后，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12再次上升，將掩模2按壓到保持器部21a、21b。在對負壓室內的壓力進行控制之后，保持器部21a、21b利用未圖示的吸附槽而對掩模2進行真空吸附。在掩模2的安裝結束后，各上頂銷單元的馬達11使上頂銷12下降(圖15c)。然后，使夾盤10恢復到掩模接收位置，通過間隔片設置裝置31而從夾盤10中回收掩模保護間隔片30。在基板的曝光中，在進行掩模2和基板的間隙對準時或者在掩模2和基板分開時，受到掩模2和基板之間的空氣的擠壓或拉伸，保持在掩模架20上的掩模2會彎曲。而且，在已彎曲的掩模2恢復原樣時，掩模2的偏位可能會發(fā)生。本實施方式中，在掩模架的下表面設置著防偏位銷單元，以使掩模2和基板接近時或者在使掩模2和基板分開時防止掩模2的偏位。圖16是表示設置在掩模架下表面的防偏位銷單元的示意圖。在本實施形態(tài)中，使用基準銷及按壓銷這兩種銷來作為防偏位銷?；鶞输N的防偏位銷單元包括基準銷61、脈沖馬達62、滾珠螺釘63、及接觸傳感器64而構成，且設置在掩模2的相對的兩邊的一側。按壓銷的防偏位銷單元包括按壓銷66及氣缸67而構成，且設置在掩模2的相對的兩邊的另再者，本實施方式中，設置著基準銷的防偏位銷單元與按壓銷的防偏位銷單元，但也可以取代按壓銷的防偏位銷單元而設置基準銷的防偏位銷單元，將所有的防偏位銷單元均作為基準銷的防偏位銷單元。另外，在本實施方式中，在掩模2的長邊側設置有兩個防偏位銷單元，且短邊側設置有一個防偏位銷單元，但防偏位銷單元的數(shù)量及位置可根據(jù)掩模2的尺寸而適當決定。圖17是對基準銷的防偏位銷單元的動作進行說明的示意圖。脈沖馬達62上連接著滾珠螺釘63，滾珠螺釘63的螺母上安裝著基準銷61及接觸傳感器64。通過脈沖馬達62對滾珠螺釘63進行驅動而使基準銷61及接觸傳感器64朝向掩模2的側面移動。如圖17a所示，接觸傳感器64的前端部比基準銷61的前端只突出了距離D。圖16的基準銷驅動控制電路65對脈沖馬達62加以控制，以使基準銷61及接觸傳感器64朝向掩模2的側面移動。接觸傳感器64的前端部在碰到掩模2的側面時會發(fā)生位移，接觸傳感器64對該位移量進行檢測，并將檢測信號輸出到基準銷驅動控制電路65。如圖17a所示，在接觸傳感器64的前端部未接觸到掩模2的側面的狀態(tài)下，接觸傳感器64的前端部的位移量成為零。如圖17b所示，若接觸傳感器64的前端部接觸到掩模2的側面，隨后，接觸傳感器64的前端部的位移量將變?yōu)榕c基準銷61及接觸傳感器64的移動量相同。在接觸傳感器64的前端部的位移量變?yōu)榕c基準銷61及接觸傳感器64的移動量相同時，基準銷驅動控制電路65使基準銷61及接觸傳感器64的移動速度較慢?；鶞输N61及接觸傳感器64以低速進一步移動，并如圖17c所示，當基準銷61的前端接觸到掩模2的側面時，隨后即便使基準銷61及接觸傳感器64進行移動，接觸傳感器64的前端部的位移量也不會變化。在基準銷61的前端接觸到掩模2的側面后接觸傳感器64的前端部的位移量不再變化時，基準銷驅動控制電路65使基準銷61及接觸傳感器64的移動停止。由于在基準銷61接觸到掩模2的側面時使基準銷61的移動停止，因此將掩模2壓到基準銷61上而定位的掩模2的位置不會發(fā)生偏移。圖16中，在使基準銷61的前端接觸到掩模2的側面后，按壓銷驅動控制電路68對氣缸67供給空氣，氣缸67將按壓銷66按壓到掩模2的側面。在使掩模2和基板接近時、或者在使掩模2和基板分開時，如果保持在掩模架20上的掩模2彎曲，則掩模2的側面朝掩模的中心方向移動?；鶞输N61并不跟隨掩模2的側面的移動，而掩模2的側面離開基準銷61的前端。按壓銷66跟隨掩模2的側面的移動而移動。在已彎曲的掩模2恢復原樣時，掩模2的基準銷61側的側面會接觸到基準銷61而被定位，掩模2的按壓銷66側的側面克服按壓銷66的按壓力而恢復到初始位置。因此，可防止在使掩模2和基板接近時、或者在使掩模2和基板分開時的掩模的偏位。根據(jù)以上所說明的實施方式，利用掩模搬送機器人40將掩模2搬入到夾盤IO，利用上頂銷12而從掩模搬送機器人40接收掩模2，并通過相機移動機構53來移動高分辨率可動相機52，通過高分辨率可動相機52而獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像，對高分辨率可動相機52的圖像信號進行處理，以檢測掩模2的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤10，進行掩模2的定位，利用上頂銷1218將掩模2安裝到掩模架20上，這樣，可精度良好地定位比基板小的掩模2而將其安裝到掩模架20。進而，利用固定在掩模架20上方的高分辨率固定相機54而獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像，對高分辨率固定相機54的圖像信號進行處理，以檢測掩模2的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤10，對已定位的掩模2的位置進行修正，這樣，使用固定在掩模架20上方的高分辨率固定相機54，可進一步精度良好地檢測掩模2的位置，對已定位的掩模2的位置進行精度良好地修正。進而，在與掩模架20下方的掩模安裝位置不同地另外設置的掩模接收位置處通過上頂銷12而從掩模搬送機器人40中接收掩模2，利用具有比高分辨率可動相機52的分辨率低而更廣的視野的廣視野相機51來獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像，對廣視野相機2的圖像信號進行處理而檢測掩模2的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、及e平臺8來移動夾盤，將掩模2從掩模接收位置移動到掩模安裝位置，這樣，即便由上頂銷12從掩模搬送機器人40中所接收到的掩模2的位置發(fā)生較大的偏移，也可以在掩模接收位置處短時間內檢測出掩模2的位置，從而可將掩模2精度良好地移動到掩模安裝位置。進而，在夾盤10的表面設置著在頂銷12下降時會接觸到掩模2的圖案面的周邊部的多個掩模保護間隔片30，這樣，即便因某些原因而引起上頂銷12下降，也可以防止掩模2的圖案面接觸到夾盤10的表面而損傷圖案。進而，在掩模架20上設置著多個防偏位銷單元，所述多個防偏位銷單元具有與保持在掩模架20上的掩模2的側面接觸以防止掩模2偏位的基準銷61、使基準銷61移動而接觸到掩模2的側面的脈沖馬達62、以及檢測基準銷61接觸到掩模2的側面的接觸傳感器64，且，對各防偏位銷單元的脈沖馬達62加以控制，使基準銷61朝向掩模2的側面移動，并根據(jù)接觸傳感器64的檢測結果而使基準銷61的移動停止，這樣，在已定位的掩模2不會錯位的情況下可在使掩模2和基板接近時、或者在使掩模2和基板分開時防止掩模2的偏位。使用本發(fā)明的接近式曝光裝置進行基板的曝光，或者使用本發(fā)明的接近式曝光裝置的掩模搬送方法而將掩模安裝到掩模架上，并進行基板的曝光，這樣，可精度良好地進行掩模的定位，因此可精度良好地進行圖案的轉印，從而制造出高品質的顯示用面板基板。例如，圖18是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。在薄膜形成工序(步驟IOI)中，利用濺射(sputtering)法或等離子化學氣相沉積(ChemicalV即orD印osition，CVD)法等，在基板上形成作為液晶驅動用的透明電極的導電體膜或絕緣體膜等的薄膜。在抗蝕劑(resist)涂布工序(步驟102)中，利用輥涂法等來涂布感光樹脂材料(光阻劑(photoresist))，在薄膜形成工序(步驟101)所形成的薄膜上形成光阻膜。在曝光工序(步驟103)中，使用接近式曝光裝置或投影曝光裝置等，將掩模的圖案轉印到光阻膜上。在顯影工序(步驟104)中，使用淋浴(shower)顯影法等而將顯影液供給到光阻膜上，以去除光阻膜的多余部分。在蝕刻(etching)工序(步驟105)中，通過濕式蝕刻(wetetching)，將薄膜形成工序(步驟101)中形成的薄膜內未被光阻膜所遮蓋的部分去除。在剝離工序(步驟106)中，利用剝離液將蝕刻工序(步驟105)中的已完成遮蓋作用的光阻膜剝離。在所述各工序之前或之后，根據(jù)需要而實施基板的清洗/干燥工序。將所述工序反復進行數(shù)次，在基板上形成TFT陣列(array)。19另外，圖19是液晶顯示器裝置的彩色濾光片基板的制造工序的一例的流程圖。在黑矩陣(blackmatrix)形成工序(步驟201)中，通過抗蝕劑涂布、曝光、顯影、蝕刻、剝離等的處理，在基板上形成黑矩陣。在著色圖案形成工序(步驟202)中，通過染色法、顏料分散法、印刷法、電沉積(electrod印osition)法等，在基板上形成著色圖案。針對R、G、B的著色圖案而反復進行所述工序。在保護膜形成工序(步驟203)中，在著色圖案上形成保護膜，在透明電極膜形成工序(步驟204)中，在保護膜上形成透明電極膜。在所述各工序之前、中途或者之后，根據(jù)需要而實施基板的清洗/干燥工序。在圖18所示的TFT基板的制造工序的曝光工序(步驟103)中、圖19所示的彩色濾光片基板的制造工序的黑矩陣形成工序(步驟201)及著色圖案形成工序(步驟202)的曝光處理中，可應用本發(fā)明的接近式曝光裝置或者本發(fā)明的接近式露光裝置的掩模搬送方法。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍內，當可利用上述揭示的方法及技術內容作出些許的更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案的范圍內。權利要求一種接近式曝光裝置，包括搭載基板的夾盤、保持掩模的掩模架、以及移動所述夾盤的平臺，在掩模和基板之間設有微小的間隙，以將掩模的圖案轉印到基板，該接近式曝光裝置的特征在于包括對所述平臺的移動加以控制的第一控制機構；將掩模搬入到所述夾盤的掩模搬送裝置；多個上頂銷單元，具有從所述夾盤內部上升的上頂銷及使該上頂銷上下移動的馬達，并安裝在所述夾盤上；第一圖像獲取裝置，獲取設置在掩模上的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；使所述第一圖像獲取裝置移動的移動機構；以及圖像處理裝置，對所述第一圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，檢測掩模的位置，且所述多個上頂銷單元通過所述上頂銷而從所述掩模搬送裝置接收掩模；所述第一控制機構根據(jù)所述圖像處理裝置對所述第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用所述平臺來移動所述夾盤，以進行掩模的定位；所述多個上頂銷單元通過所述上頂銷而將掩模安裝到所述掩模架上。2.根據(jù)權利要求l所述的接近式曝光裝置，其特征在于包括第二圖像獲取裝置，被固定在所述掩模架的上方，獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號，所述圖像處理裝置對所述第二圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，所述第一控制機構根據(jù)所述圖像處理裝置對所述第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用所述平臺來移動所述夾盤，對已定位的掩模的位置進行修正。3.根據(jù)權利要求2所述的接近式曝光裝置，其特征在于包括第三圖像獲取裝置，在通過所述上頂銷而從所述掩模搬送裝置接收掩模的掩模接收位置的上空，該第三圖像獲取裝置具有比所述第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號，所述圖像處理裝置對所述第三圖像獲取裝置所輸出的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置，所述第一控制機構根據(jù)所述圖像處理裝置對所述第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理而檢測出的掩模的位置，利用所述平臺來移動所述夾盤，將掩模從掩模接收位置移動到所述掩模架下方的掩模安裝位置。4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的接近式曝光裝置，其特征在于包括多個間隔片，設置在所述夾盤的表面，當載置著掩模的所述上頂銷下降時接觸到掩模的圖案面的周邊部。5.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的接近式曝光裝置，其特征在于包括多個防偏位銷單元，具有與保持在所述掩模架上的掩模的側面接觸以防止掩模偏位的防偏位銷、使該防偏位銷移動而接觸到掩模側面的馬達、以及檢測該防偏位銷接觸到掩模側面的傳感器，且所述多個防偏位銷單元安裝在所述掩模架上；以及對各防偏位銷單元的馬達加以控制的第二控制機構，且所述第二控制機構對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向掩模的側面移動，并根據(jù)所述傳感器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止。6.—種接近式曝光裝置的掩模搬送方法，該接近式曝光裝置包括搭載基板的夾盤、保持掩模的掩模架、以及移動夾盤的平臺，在掩模和基板之間設有微小的間隙，以將掩模的圖案轉印到基板，該接近式曝光裝置的掩模搬送方法的特征在于將多個上頂銷單元設置在夾盤上，所述多個上頂銷單元具有從夾盤內部上升的上頂銷、及使上頂銷上下移動的馬達；設置第一圖像獲取裝置與使第一圖像獲取裝置移動的移動機構，所述第一圖像獲取裝置獲取設置在掩模上的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；利用掩模搬送裝置將掩模搬入到夾盤；通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模；利用移動機構來移動第一圖像獲取裝置，并利用第一圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像；對第一圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置；根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，進行掩模的定位；通過上頂銷而將掩模安裝到掩模架上。7.根據(jù)權利要求6所述的接近式曝光裝置的掩模搬送方法，其特征在于設置第二圖像獲取裝置，該第二圖像獲取裝置被固定在掩模架的上方，獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；利用第二圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像；對第二圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置；根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，對已定位的掩模的位置進行修正。8.根據(jù)權利要求7所述的接近式曝光裝置的掩模搬送方法，其特征在于在與掩模架下方的掩模安裝位置不同地另外設置的掩模接收位置處，通過上頂銷而從掩模搬送裝置接收掩模；將第三圖像獲取裝置設置在掩模接收位置的上方，所述第三圖像獲取裝置具有比第一圖像獲取裝置的分辨率低而更廣的視野，以獲取掩模的位置檢測用標記的圖像，并輸出圖像信號；利用第三圖像獲取裝置而獲取掩模的位置檢測用標記的圖像；對第三圖像獲取裝置的圖像信號進行處理，以檢測掩模的位置；根據(jù)已檢測出的掩模的位置，利用平臺來移動夾盤，將掩模從掩模接收位置移動到掩模安裝位置。9.根據(jù)權利要求6至8中任一項所述的接近式曝光裝置的掩模搬送方法，其特征在于將多個間隔片設置在夾盤的表面，所述多個間隔片在載置著掩模的上頂銷下降時接觸到掩模的圖案面的周邊部。10.根據(jù)權利要求6至8中任一項所述的接近式曝光裝置的掩模搬送方法，其特征在于將多個防偏位銷單元設置在掩模架上，所述多個防偏位銷單元具有與保持在所述掩模架上的掩模的側面接觸以防止掩模偏位的防偏位銷、使所述防偏位銷移動而接觸到所述掩模的側面的馬達、以及檢測所述防偏位銷接觸到所述掩模的側面的傳感器；對各防偏位銷單元的馬達加以控制，使所述防偏位銷朝向掩模的側面移動，并根據(jù)所述傳感器的檢測結果而使所述防偏位銷的移動停止。11.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于使用權利要求1至5中任一項所述的接近式曝光裝置來進行基板的曝光。12.—種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于使用權利要求6至10中任一項所述的接近式曝光裝置的掩模搬送方法，將掩模安裝到掩模架上，進行基板的曝光。全文摘要本發(fā)明可精度良好地定位比基板小的掩模而將其安裝到掩模架上。將具有從夾盤10內部上升的上頂銷12及使上頂銷12上下移動的馬達11的多個上頂銷單元設置在夾盤10上。利用掩模搬送裝置將掩模2搬入到夾盤10中，并通過上頂銷12而從掩模搬送裝置接收掩模2。利用移動機構53來移動第一圖像獲取裝置52，并利用第一圖像獲取裝置52而獲取掩模2的位置檢測用標記的圖像。對第一圖像獲取裝置52的圖像信號進行處理，檢測掩模2的位置，并根據(jù)已檢測出的掩模2的位置，利用X平臺5、Y平臺7、以及θ平臺8來移動夾盤10，進行掩模2的定位，將掩模2通過上頂銷12而安裝到掩模架20上。文檔編號G03F7/20GK101738870SQ20091017887公開日2010年6月16日申請日期2009年10月9日優(yōu)先權日2008年11月10日發(fā)明者松山勝章,森順一,樋川博志申請人:株式會社日立高科技