專利名稱：以光學(xué)方式將三維物體轉(zhuǎn)換成二維平面圖像的設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明通常涉及自動化的機(jī)器視覺系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在自動化的機(jī)器視覺系統(tǒng)中，已在準(zhǔn)確地對三維物體及其上的表面進(jìn)行成像及檢 查時經(jīng)歷困難。此部分由于使用典型透鏡會使物體特性或關(guān)于物體的距離在其更遠(yuǎn)離光學(xué) 軸時失真的緣故。當(dāng)檢查不垂直于光學(xué)軸的表面時此進(jìn)一步復(fù)雜化。特別難以檢查的表面 是圓柱體成形的物體的圓周表面。許多現(xiàn)有技術(shù)需要繞圓柱體物體旋轉(zhuǎn)相機(jī)或替代地繞物 體自己的對稱軸旋轉(zhuǎn)物體以暴露整個表面且拍攝其多個圖像。因此，將有利的是提供有效地且準(zhǔn)確地對三維物體表面進(jìn)行成像且相對于光學(xué)軸 繞整個360度提供整個三維檢查表面的準(zhǔn)確二維或平面圖像。

發(fā)明內(nèi)容
揭示一種供用于以光學(xué)方式將三維物體的表面變換成二維平面圖像的成像設(shè)備 的實施例。本發(fā)明設(shè)備的實例包括具有光學(xué)軸的圖像拍攝裝置。所述設(shè)備進(jìn)一步包括繞所 述光學(xué)軸及所述三維物體定位的同心成形的反射鏡及指向所述反射鏡的照射源。所述反射 鏡將照射投射于反射性物體檢查表面上且朝向所述圖像拍攝裝置反射回所述圖像。所述圖 像拍攝裝置將繞360度成像的三維檢查表面轉(zhuǎn)換成所述物體檢查表面的二維平面圖像。然 后，可檢查所述二維平面圖像是否有表面連續(xù)性偏差或其它表面標(biāo)記物及/或缺陷。在本發(fā)明的一個實例中，遠(yuǎn)心場透鏡定位于所述照射源與所述反射鏡之間，從而 將經(jīng)校準(zhǔn)或大致平行于光學(xué)軸的照射光線提供到所述反射鏡。在本發(fā)明的另一實例中，所述照射源沿所述光學(xué)軸定位且提供所述物體檢查表面 的暗場照射或亮場照射中的至少一者以最大化所述物體檢查表面上的某些狀況的平面圖 像中的對比度。在另一實例中，所述設(shè)備采用窄角暗場照射。在本發(fā)明設(shè)備的實例性應(yīng)用中，所述物體為三維、圓柱體成形的物體，其具有垂直 圓周檢查表面。揭示用于以光學(xué)方式將三維物體表面變換成二維平面圖像的方法。一種方法包括 沿圖像捕獲裝置的光學(xué)軸定位三維物體。所述方法進(jìn)一步包括用照射光線照射繞所述光學(xué) 軸及所述三維物體定位的同心成形的反射鏡，所述照射光線由所述反射鏡投射到所述物體 檢查表面上且朝向所述圖像捕獲裝置反射回以用于轉(zhuǎn)換到所述整個檢查表面繞360度的 二維平面圖像。在所述方法的一個實例中，遠(yuǎn)心場透鏡沿所述光學(xué)軸定位且定位于所述照射源與 所述反射鏡之間。在所述方法的另一實例中，使用暗場或亮場照射中的至少一者，且選擇性地允許 經(jīng)反射的圖像光線傳遞到所述圖像捕獲裝置。在本發(fā)明方法的一個應(yīng)用中，所述物體為具有垂直檢查表面的三維圓柱體。
下文描述本發(fā)明的這些及其它發(fā)明性實施例中的細(xì)節(jié)及變化。


本文中的說明是參照附圖，其中在數(shù)個視圖中相同的參考編號指代相同的部件， 且其中圖1是與圓柱體成形的物體及檢查表面一同使用的本發(fā)明設(shè)備的實例的示意性 部分截面圖，所述圖示意性地顯示圖像光線；圖2是圖1中所示的本發(fā)明設(shè)備的實例的示意性部分截面圖，其顯示例示性照射 光線且部分地顯示圖像光線；圖3是拍攝的圖1中的物體的平面圖像的實例的放大示意圖；及圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的方法的實例的流程圖。
具體實施例方式參照圖1到圖4，圖解說明本發(fā)明的設(shè)備及方法的實例。在圖1及圖2中，示意性 地顯示光學(xué)設(shè)備10，其包括具有光學(xué)軸16的圖像拍攝裝置14。圖像拍攝裝置14優(yōu)選地為 與計算機(jī)15及/或其它機(jī)器視覺系統(tǒng)組件(包括驅(qū)動器、抓幀器、顯示監(jiān)視器、軟件及/或 數(shù)據(jù)存儲庫及所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的其它組件)電子通信的電荷耦合式裝置(CCD)相 機(jī)。圖像拍攝裝置14可包括適合于特定應(yīng)用的除CCD相機(jī)之外的裝置。如圖1中示意性 地顯示，圖像拍攝裝置14以取決于所使用的光學(xué)透鏡的方式接收圖像光線18，下文將對其 更全面描述。光學(xué)設(shè)備10的此實例進(jìn)一步包括沿光學(xué)軸16定位的照射源20。所示的照射源 20為以繞光學(xué)軸16的環(huán)形定位的多個發(fā)光二極管(LED) 22 (其安裝到電路板23)，其產(chǎn)生 光錐或光線24，如所示意性圖解說明。照射源20定位于遠(yuǎn)心場透鏡沈與下文進(jìn)一步論述 的后透鏡群組觀之間。應(yīng)理解，照射源20可定位于光學(xué)設(shè)備10中的其它位置以便沿光學(xué) 軸16發(fā)射光，而此并不背離本發(fā)明。在優(yōu)選實例中，LED 22以繞光學(xué)軸16的一個或一個以上同心環(huán)(顯示一個)定 位且以相對于光學(xué)軸16的小或窄的角度定向，以實現(xiàn)對物體檢查表面70的窄暗場型照明， 如下文所描述。一種產(chǎn)生窄暗場照射的光學(xué)系統(tǒng)的一個實例可在共同受讓的美國專利第 6，870，949號中找到，其整體內(nèi)容以引用方式并入本文中。也可使用廣角暗場照射以適應(yīng)應(yīng) 用，而此并不背離本發(fā)明。照射源20也可以除沿光學(xué)軸16之外的方式定位且包括反射鏡 或其它裝置以將光線M引導(dǎo)到照射物體或檢查表面需要的地方。可使用除相對于光學(xué)軸16以窄角度定位的LED或光之外的照射源以適應(yīng)特定應(yīng) 用、所需檢查過程或待檢查的物體表面的圖像對比度。舉例來說，照射源20可經(jīng)裝備及布 置以產(chǎn)生對檢查表面的亮場照射。對亮場照射的一個實例的解釋可在共同受讓的美國專利 第5，737，122號中找到，其整體內(nèi)容以引用方式并入本文中。仍參照圖1及圖2，光學(xué)設(shè)備10的實例進(jìn)一步包括沿光學(xué)軸16定位的透鏡26。 透鏡沈可進(jìn)一步伴隨后透鏡群組觀，其如圖1及圖2中大體所示及美國專利第6，870，949 號中所述來定位。在優(yōu)選實例中，透鏡26為沿光學(xué)軸16中心定位以從照射源20接收主光 照射光線M的遠(yuǎn)心場透鏡。遠(yuǎn)心場透鏡沈可進(jìn)一步包括后透鏡群組28及遠(yuǎn)心光闌30以形成遠(yuǎn)心透鏡系統(tǒng)，如大體所示。在經(jīng)過透鏡沈之后，遠(yuǎn)心場透鏡沈?qū)A斜主照射光線M 轉(zhuǎn)換或校準(zhǔn)為與光學(xué)軸16大致平行，最佳見于圖2中。當(dāng)被提供以來自照射源20的照射 時(最佳見于圖2中)，例示性遠(yuǎn)心場透鏡沈及后透鏡群組觀操作以使用圖像光線18在 圖像拍攝裝置14處形成圖像。盡管顯示為遠(yuǎn)心透鏡，但也可使用鏡或者透鏡及/或鏡的其 它形式或組合來適應(yīng)特定應(yīng)用、所需的照射形式及下文描述的所得圖像的對比度要求。如所描述，具有例示性遠(yuǎn)心場透鏡沈的光學(xué)設(shè)備10的實例可進(jìn)一步包括鄰近照 射源20電路板23定位的遠(yuǎn)心光闌30。遠(yuǎn)心光闌30及電路板23優(yōu)選地包括允許圖像光線 18及選定照射光線M穿過電路板23及遠(yuǎn)心光闌30的光圈34，如下文更詳細(xì)描述。盡管 顯示為單獨的組件，但電路板23可經(jīng)配置以包括合適的光圈34以使得可不需要遠(yuǎn)心光闌 30。或者，LED 22可只是以向LED 22供應(yīng)電力的方式固定到光闌30。例示性光學(xué)設(shè)備10進(jìn)一步包括支撐固定件42及反射鏡50的支撐結(jié)構(gòu)40，如圖1 及圖2中的截面中示意性所示。支撐結(jié)構(gòu)40可以是典型機(jī)器視覺系統(tǒng)中的任何物體支撐 表面且可為固定的或可沿任何數(shù)目個方向移動(包括可繞光學(xué)軸16旋轉(zhuǎn))。在本發(fā)明的一 個實例中，支撐件40既不可移動，也不可旋轉(zhuǎn)。在此實例中，反射鏡50為具有繞光學(xué)軸16的第一直徑開口 52及反射鏡基底55 處的小于所述第一直徑開口 52的第二直徑開口 M的圓錐形成形的反射鏡。基底55與第 一直徑開口 52界定反射鏡50沿光學(xué)軸16的高度56。在優(yōu)選但非必需的方面中，第一直 徑開口 52在圖像拍攝裝置14的視場或視界內(nèi)。反射鏡50包括傾斜定位于第一直徑開口 52與第二直徑開口 M之間的反射性表面58。反射性表面58為適合于待檢查的檢查過程 或表面的敏感度的高度拋光、低缺陷表面。在一個實例中，反射鏡50由鋁制成，其經(jīng)金剛石 車削以產(chǎn)生大致無缺陷、具高度反射性的表面58。替代材料可包括無電極鎳涂層及/或具 備本文中的教示的所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可選擇的其它材料及涂層。在待檢查的物體表面垂直及/或平行于光學(xué)軸16的情況下，期望反射性表面58 相對于光學(xué)軸16以45度角度定位。應(yīng)理解，可使用反射性表面58的其它角度及反射鏡50 的幾何形狀以適應(yīng)特定應(yīng)用及檢查要求。如圖1及圖2中所示，形成為圓柱體成形的物體60的例示性三維物體定位于固定 件42及支撐結(jié)構(gòu)40上。物體60優(yōu)選地定位為與光學(xué)軸16軸向?qū)?zhǔn)，其中反射鏡50繞物 體60 360度同心定位。在一個實例中，物體60包括平行于光學(xué)軸16且具有高度72的物 體或檢查表面70。物體60進(jìn)一步包括沿光學(xué)軸16布置的第一非檢查表面74及第二非檢 查表面80。如所示，表面70、74及80繞光學(xué)軸16具有不同直徑。例示性物體60及表面 70、74及80繞物體60及光學(xué)軸16延伸360度。在一個實例中，檢查表面70為待由光學(xué)設(shè) 備10檢查是否有表面連續(xù)性、表面缺陷及/或其它標(biāo)記物或記號的高度拋光、大致鏡面表 面。應(yīng)進(jìn)一步理解，物體60可采取除圓柱體物體60 (如所示)之外的其它棱柱形式或幾何 形狀。在其中物體60及/或檢查表面70的幾何形狀從圓柱體實例改變的替代實例中，反 射鏡50及反射性表面58也將改變以使得對檢查表面70及/或物體60的照射將通過圖像 光線18從物體60到圖像拍攝裝置14的傳輸產(chǎn)生平面圖像。類似地，固定件42可采取適 合于物體60及所需成像過程的其它形式及幾何形狀。在此實例中，反射鏡50且更特定來說反射性表面58的高度56超過檢查表面70 的高度72以便捕獲檢查表面70的整個高度72的圖像，如下文更全面描述。
在操作中，圖像捕獲裝置14如圖1及圖2中大體所示及上文所述來定位及激活。 照射源20經(jīng)激活以沿朝向遠(yuǎn)心場透鏡沈的方向通過LED 22產(chǎn)生照射光線24。場透鏡沈 將傾斜主照射光線M變換為大致平行于光學(xué)軸16且垂直于支撐件40。也就是說，遠(yuǎn)心場 透鏡沈為準(zhǔn)直透鏡的一個實例。場透鏡沈進(jìn)一步朝向反射鏡50及圓柱體物體60引導(dǎo)照 射光線M。大致平行于光學(xué)軸16撞擊于反射鏡反射性表面58上的照射光線M由圓錐形成 形的反射鏡50以垂直角度繞整個360度再引導(dǎo)到檢查表面70。大致鏡面檢查表面70跨越 檢查表面70的全高度72以相對于檢查表面70的相同垂直方向?qū)D像光線18反射回到反 射性表面58。光線18由反射性表面58朝向照射源20及圖像拍攝裝置14穿過遠(yuǎn)心場透鏡 26引導(dǎo)回其來源地。在呈如圖2中大體所示且如美國專利第6，870，949號中進(jìn)一步所述的窄暗場照射 形式的照射的實例中，遠(yuǎn)心光闌30包括優(yōu)選地以光學(xué)軸16為中心的小光圈34。在此實例 中，任何返回圖像光線M將由遠(yuǎn)心光闌30阻擋以便不準(zhǔn)許其穿過后透鏡群組觀到達(dá)圖像 拍攝裝置14。在使用圖2中所示的照射方案的此實例中，只要不存在表面不規(guī)則性，則檢查 表面70將被成像為大致暗的。在所檢測表面不連續(xù)性的例示中，圖像光線18將反射回到反 射表面56且因此以傾斜角度朝向圖像捕獲裝置14反射回，其中一些將穿過遠(yuǎn)心光闌光圈 34且在所得圖像中呈現(xiàn)為下文所論述的光學(xué)圖像90的另外暗區(qū)域上的亮點或區(qū)域。如上 文所論述，應(yīng)理解，給予本文中的教示，所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可在光學(xué)設(shè)備10中使用照射、 透鏡及/或反射鏡的其它形式及/或位置以適應(yīng)特定應(yīng)用，而此并不背離本發(fā)明。參照圖3，圖解說明圖1及圖2中所示的三維物體60的例示性所得二維平面圖像 90。使用窄暗場照射產(chǎn)生物體60的平面圖像90。如所示，第二非檢查表面80的經(jīng)對準(zhǔn)垂 直表面簡單地顯示為圓圈81。第一非檢查表面74顯示為平面圖像90中的區(qū)域76。第一 非檢查表面74的部分(其最小程度地由同心反射性表面58覆蓋，接近第一直徑5 呈現(xiàn) 為朝向圖像90上的外部部分的亮區(qū)域75 (實際上通過暗場照明)。實際外觀亮還是暗取決 于表面74的特性(光潔度及角度)。在圖像拍攝裝置14的視場內(nèi)的固定件42及支撐表 面40的不重要部分呈現(xiàn)為(舉例來說)相對暗的區(qū)域43(僅出于圖解說明的目的而適當(dāng) 暗化)，其中固定件42的邊緣呈現(xiàn)為線或區(qū)域61 (僅出于圖解說明的目的而顯示為虛線)。 如果固定件42及支撐表面40像檢查表面70那樣高度拋光，那么這些區(qū)域在例示性照明下 將呈現(xiàn)為暗的。換句話說，對固定件42及支撐表面40使用的特定表面處理或工藝規(guī)定這 些表面在所選擇的照射方案下在光學(xué)圖像中如何呈現(xiàn)。圖像90的區(qū)域71表示三維圓柱體檢查表面70繞360度的二維平面圖像。在圖 2的窄暗場照射實例下，此區(qū)域71呈現(xiàn)為暗的(在圖3中僅出于圖解說明的目的而顯示為 暗化為幾乎完全黑色)，因為反射離開表面70的返回成像光線18由光闌30大致阻擋，僅剩 下圖像拍攝裝置14可見的暗區(qū)域。在光學(xué)設(shè)備10的特定敏感度內(nèi)，完全暗的區(qū)域表示合 適的或無缺陷的表面。如果呈現(xiàn)局部化的亮點，那么這些將是可包括缺陷或其它表面不連 續(xù)性(例如，在半導(dǎo)體晶片上使用的“軟”識別標(biāo)記)的區(qū)域。應(yīng)理解，如果需要對物體60 的其它區(qū)域(舉例來說，第二非檢查表面80)進(jìn)行檢查，那么可重新配置及/或重新定位反 射鏡50，使得反射性表面58相對于所述表面而非表面70來引導(dǎo)圖像及照射光線。光學(xué)設(shè)備10的有利特征在于檢查表面70的平面圖像90為整個表面70繞360度的單個圖像，而不必旋轉(zhuǎn)圖像拍攝裝置14或支撐物體60的支撐件40及/或固定件42。另 一優(yōu)點為遠(yuǎn)心透鏡沈的圖像光線18與圓柱體物體60以光學(xué)方式映射到其中的平面之間 的共面及正交關(guān)系。在光學(xué)設(shè)備10的一個實例中，可使用除窄暗場照射之外的多于一個形式的照射 或照明或者除窄暗場照射外還使用多于一個形式的照射或照明。舉例來說，也可采用及連 續(xù)使用傳統(tǒng)暗場照射及/或亮場照射產(chǎn)生組件來針對更徹底的檢查過程產(chǎn)生不同光學(xué)圖 像90。舉例來說，使用窄暗場照射可能無法識別某些缺陷或物體表面標(biāo)記物，但可使用亮場 照射容易地識別。參照圖1到圖4，圖解說明用于以光學(xué)方式將三維表面轉(zhuǎn)換成二維平面圖像的例 示性方法100。參照圖4，在第一步驟110中，提供圖像拍攝或捕獲裝置14，其可為C⑶相機(jī) 或其它裝置，如前文所論述。在步驟120處，將物體(舉例來說，三維圓柱體60)沿光學(xué)軸 軸向定位于固定件42上。在步驟130中，繞光學(xué)軸16定位同心成形的反射鏡50，其經(jīng)成 形及定向以與物體的所需檢查表面70同心。優(yōu)選但為任選的步驟140定位遠(yuǎn)心場透鏡沈 及后透鏡群組觀，如上文大體描述及圖解說明?？商娲厥褂闷渌哥R。在步驟150處，提 供照射源20以通過使用如上文所描述的例示性遠(yuǎn)心透鏡沈來照射反射鏡50的反射性表 面58。在步驟160中，捕獲圖像拍攝裝置14的視場內(nèi)的圖像，從而產(chǎn)生物體60且特定來說 檢查表面70繞360度的二維平面圖像90，而不必旋轉(zhuǎn)圖像拍攝裝置14、支撐件40、固定件 42及/或物體60。然后可通過計算機(jī)15使用任何數(shù)目的已知圖像分析技術(shù)來分析所得圖 像區(qū)域71 (其為對應(yīng)于檢查表面70的一部分)看是否有缺陷、識別標(biāo)記或其它所關(guān)心的特 征。如上文所描述，可使用除窄暗場照射之外的不同形式的照射以及不同地成形及配 置的透鏡及反射鏡以適應(yīng)檢測物體60的特定檢查表面上的缺陷或者其它標(biāo)記物或記號所 需的特定應(yīng)用及敏感度，物體60本身可為除所描述及圖解說明的圓柱體物體之外的其它 幾何形狀。雖然已結(jié)合某些實施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)理解，本發(fā)明并不限于所揭示實施例， 而相反，本發(fā)明既定涵蓋包括在所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)的各種修改及等效布置，所述范 圍與最廣義的解釋一致以便在法律的許可下囊括所有此類修改及等效結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種供用于以光學(xué)方式將三維物體的表面變換成二維平面圖像的成像設(shè)備，所述成 像設(shè)備包含圖像拍攝裝置，其用于捕獲沿光學(xué)軸定位的三維物體的二維光學(xué)圖像； 照射源，其用于朝向所述物體引導(dǎo)入射照射光線；及反射鏡，其在所述物體周圍繞所述光學(xué)軸同心成形及定位以最初朝向所述物體的檢查 表面引導(dǎo)所述照射光線且朝向所述圖像拍攝裝置重新引導(dǎo)回從所述檢查表面反射的圖像 光線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其進(jìn)一步包含透鏡，其定位于所述照射源與所述照射光線及經(jīng)反射的圖像光線經(jīng)過的圓錐形反射鏡 之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述透鏡為遠(yuǎn)心場透鏡，所述設(shè)備進(jìn)一步包含 后透鏡群組，其定位于所述圖像拍攝裝置與所述照射源之間；及遠(yuǎn)心光闌，其定位于所述后透鏡群組與所述遠(yuǎn)心場透鏡之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述三維物體為圓柱體成形的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述二維平面圖像包含所述檢查表面的360度圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述同心反射鏡繞所述光學(xué)軸圓錐形成形，其具 有界定所述反射鏡的高度及反射性表面的第一直徑及小于所述第一直徑的第二直徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中所述反射鏡的所述高度至少與所述檢查表面的沿 所述光學(xué)軸的高度一樣長。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述反射鏡的所述反射性表面相對于所述光學(xué)軸 以45度角度布置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述照射源經(jīng)布置以相對于所述圖 像拍攝裝置產(chǎn)生所述檢查表面的暗場照射及亮場照射中的至少一者。
10.一種供用于以光學(xué)方式將三維物體表面成像為二維平面圖像的方法，所述方法包含沿成像捕獲裝置的光學(xué)軸定位三維物體，所述物體具有檢查表面； 在將所述物體及所述成像捕獲裝置固持于固定位置中的同時，以照射光線照射繞所述 光學(xué)軸定位且指向所述檢查表面的同心成形的反射鏡；在所述圖像捕獲裝置處接收圖像光線，所述圖像光線由所述反射鏡從所述照射光線所 照射的所述物體反射而來；及使用所述經(jīng)反射的圖像光線產(chǎn)生所述物體的至少所述檢查表面的平面圖像。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中照射所述反射鏡進(jìn)一步包含使用準(zhǔn)直透鏡將大 致平行于所述光學(xué)軸的所述照射光線投射到所述反射鏡上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中照射所述反射鏡進(jìn)一步包含使用暗場照射及亮 場照射中的至少一者來照射所述反射鏡。
13.根據(jù)權(quán)利要求10或權(quán)利要求11所述的方法，其進(jìn)一步包含 選擇性地準(zhǔn)許所述經(jīng)反射的圖像光線傳遞到所述圖像捕獲裝置。
14.根據(jù)權(quán)利要求10或權(quán)利要求11所述的方法，其中所述物體包括三維圓柱體形狀且所述檢查表面具有沿所述光學(xué)軸的高度。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述經(jīng)反射的圖像光線包含所述檢查表面的 360視圖。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述反射鏡具有至少與所述檢查表面的所述高 度一樣高的高度。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其進(jìn)一步包含 分析所述平面圖像看所述檢查表面中是否有連續(xù)性偏差。
全文摘要
一種用于以光學(xué)方式將三維物體轉(zhuǎn)換成二維平面圖像的設(shè)備及方法，其包括相機(jī)、照明源及繞所述物體的檢查表面定位的同心成形的反射鏡。當(dāng)使用亮場或暗場照射時，在不必旋轉(zhuǎn)所述相機(jī)及/或物體的情況下產(chǎn)生所述檢查表面的約360度的平面圖像，且可檢查所述平面圖像是否有缺陷、標(biāo)記記號或其它所關(guān)心的質(zhì)量。
文檔編號G03B41/06GK102144187SQ200980134567
公開日2011年8月3日 申請日期2009年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月9日
發(fā)明者利奧·B·鮑德溫 申請人:電子科學(xué)工業(yè)有限公司