專利名稱：觀察器和工具盒、真實性認證介質(zhì)和真實性認證方法
技術領域：
本發(fā)明涉及雙折射圖案認證用觀察器和工具盒、以及真實性認證介質(zhì)和真實性認 證方法。
背景技術：
產(chǎn)品的防偽手段大致分為使得產(chǎn)品自身不可能被復制的手段，和將不可復制的 標識附在產(chǎn)品上作為防偽手段從而能鑒別真實正確的產(chǎn)品(真品)的手段。此處，“產(chǎn) 品"是如物品、商品和貨品等制造品的通稱。特別是，后一種手段因為其比前一種手段更具 多樣性而被頻繁使用，而前一種手段卻需要進行個別處理。所述后一種手段可進一步分為兩種技術。一種是防偽手段的存在總是可以被任 何人鑒別的技術，公知的技術包括全息圖。另一種是防偽手段通常不可檢測，而只有知曉 防偽手段存在的人才能用特殊手段對其檢測從而確定產(chǎn)品真?zhèn)蔚募夹g。已知存在如下技 術利用偏光板觀察使用相位差介質(zhì)形成的潛像從而鑒別真實性，所述潛像中的光軸被 圖案化(參見例如JP-A-2008-137232(" JP-A“是指未經(jīng)審查的
公開日本專利申請)和 JP-A-2008-129421)。然而，其問題在于，當從正面觀察時由此可視化的潛像是單色的，除非 旋轉(zhuǎn)偏光板否則不能鑒別進一步的真實性，這使得認證繁瑣而復雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及用于對具有雙折射性彼此不同的至少兩個區(qū)域的雙折射圖案進行認 證的觀察器，其中所述觀察器包括偏光板和層壓在偏光板上的至少一個光學各向異性層， 所述至少一個光學各向異性層的正面延遲為5nm以上，并且所述至少一個光學各向異性層 的正面延遲與雙折射圖案的正面延遲的最大值之和大于λ /2。此外，本發(fā)明涉及雙折射圖案認證用工具盒，其中該工具盒包括至少兩個觀察器， 而至少一個所述觀察器是如上所述的觀察器。此外，本發(fā)明涉及包含處于待認證部件的一部分中的上述觀察器的真實性認證介質(zhì)。此外，本發(fā)明涉及一種真實性認證方法，該方法包括使用上述觀察器或上述雙折 射圖案認證用工具盒。通過以下描述并適當參考附圖，本發(fā)明其它的和進一步的特征和優(yōu)點將更加充分 的顯現(xiàn)。


圖1是顯示本發(fā)明的觀察器的優(yōu)選實施方式的示意性截面圖。圖2是可通過本發(fā)明的觀察器認證的部件的一個示例性實施方式的示意性截面 圖。圖3(a)和3(b)均是顯示可通過本發(fā)明的觀察器認證的雙折射圖案的實例的說明圖。圖3(a)是其中對于延遲進行圖案化的實例的說明圖。圖3(b)是其中對于光軸方向進 行圖案化的實例的說明圖。圖4是顯示實施例中所用光掩膜的形狀的平面圖。圖5是實施例中雙折射圖案的平面圖。圖6是比較例1中觀察器的示意性截面圖。圖7是實施例1中觀察器的示意性截面圖。圖8是實施例2中觀察器的示意性截面圖。圖9是實施例4中雙折射圖案認證用工具盒的平面圖。圖10是實施例6中觀察器一體型雙折射圖案的平面圖。圖11是顯示實施例6中所用光掩膜形狀的平面圖。
具體實施例方式根據(jù)本發(fā)明，提供了如下手段(1) 一種用于對具有雙折射性彼此不同的至少兩個區(qū)域的雙折射圖案進行認證的 觀察器，其中所述觀察器包括偏光板和層壓在所述偏光板上的至少一個光學各向異性層， 所述至少一個光學各向異性層的正面延遲為5nm以上，并且所述至少一個光學各向異性層 的正面延遲與所述雙折射圖案的正面延遲的最大值之和大于λ /2。(2)如上述第(1)項所述的觀察器，其中所述觀察器鑒別根據(jù)光軸方向形成的雙 折射圖案。(3)如上述第(2)項所述的觀察器，其中所述雙折射圖案的正面延遲為 (η/2+1/8) λ (V2+3/8) λ，其中叫代表0或大于0的整數(shù)。(4)如上述第(2)項或第(3)項所述的觀察器，其中所述觀察器的至少一個光學各 向異性層的正面延遲為(η2/2-1/8) λ (η2/2+1/8) λ，其中η2代表自然數(shù)。(5)如上述第(1)項所述的觀察器，其中所述觀察器鑒別其中延遲被圖案化的雙 折射圖案。(6) 一種雙折射圖案認證用工具盒，其中所述工具盒包括至少兩個觀察器，而至少 一個所述觀察器是如上述第(1) (5)項中任一項所述的觀察器。(7)如上述第(6)項所述的雙折射圖案認證用工具盒，其中就設置于待認證部件 側面的光學各向異性層的光軸和/或延遲中的至少一項而言，所述至少兩個觀察器互不相 同。(8) 一種真實性認證介質(zhì)，所述介質(zhì)包含處于待認證部件的一部分中的如上述第 ⑴ (5)項中任一項所述的觀察器。(9) 一種真實性認證方法，所述方法包括使用如上述第(1) (5)項中任一項所述 的觀察器或如上述第(6)項或第(7)項所述的雙折射圖案認證用工具盒。(10)如上述第(9)項所述的真實性認證方法，所述方法包括通過所述雙折射圖案認證用觀察器或工具盒觀察其中雙折射圖案形成于真品中 的待認證部件，和確認由至少3種顏色組成的潛像，從而認證所述待認證部件的真實性。下文將詳述本發(fā)明的優(yōu)選模式的一些實例。
本發(fā)明的觀察器是用于對包括雙折射性彼此不同的至少兩個區(qū)域的雙折射圖案 進行認證的觀察器。所述觀察器包括偏光板和層壓在該偏光板上的至少一個光學各向異性 層，其中所述至少一個光學各向異性層的正面延遲為5nm以上，并且所述至少一個光學各 向異性層的正面延遲與雙折射圖案的正面延遲的最大值之和大于λ /2。圖1是本發(fā)明的觀察器(濾光片)的優(yōu)選實施方式的示意性截面圖，其中光學各 向異性層2被層壓在偏光板1上。偏光板1是具有可將自然光轉(zhuǎn)換為線性偏振光的性質(zhì)的板。偏光板1的實例包 括碘化物類偏光板、染料類偏光板、線柵偏光板和利用金屬納米顆粒的偏光板。通常，優(yōu)選 使用碘化物類偏光板(其通過下述方法制造將由聚乙烯醇膜制成的偏光膜用碘染制并拉 伸，然后在偏光膜的兩面上層壓保護膜)。偏光板1的厚度不受特殊限制，優(yōu)選包括保護膜 厚度在內(nèi)為80 μ m 500 μ m。光學各向異性層2是具有5nm以上正面延遲(其基本不為0(零))的層。正面延 遲優(yōu)選為50nm以上，更優(yōu)選為IOOnm以上。特別是，為了鑒別根據(jù)光軸方向形成的雙折射 圖案，正面延遲優(yōu)選為(η2/2-1/8) λ (η2/2+1/8) λ，其中η2代表自然數(shù)。此處，在本申請的說明書和權利要求書中，術語“延遲”、“Re”或“相位差”表示面內(nèi) 延遲，并且術語“Re( λ)”代表在波長λ (nm)處的正面延遲(面內(nèi)延遲)。在KOBRA WR(商 品名，Oji Scientific Instruments制造)中，通過使波長為λ nm的光在膜的法線方向入 射，可以測定面內(nèi)延遲(Re(A))0此外，在本申請的說明書和權利要求書中，未具體限定波長的延遲意味著在500nm 的波長處觀察到的值。光學各向異性層2的實例包括以下述方法形成的膜樣物品經(jīng)由取向?qū)釉谕该髦?持體上涂布含有液晶化合物的組合物(涂布液)并干燥形成液晶相態(tài)，然后固定該取向態(tài)。 可以使用例如紫外固化性熱致向列型液晶作為所述液晶化合物。這些液晶可商購獲得。其 實例包括 PaliocolorLC242 (商品名，BASF Japan LTD 制造)。此外，可以使用均具有所需延遲的商購單軸拉伸膜或雙軸拉伸膜作為光學各向異 性層2。可以通過諸如樹膠粘合劑、丙烯酸類粘合劑、硅酮系粘合劑、聚氨酯系粘合劑、聚 醚系粘合劑或聚酯系粘合劑等壓敏粘合劑將光學各向異性層2貼放在偏光板1上，并將它 們層壓。如此形成了觀察器。光學各向異性層2的厚度不受特殊限制，優(yōu)選為0. Ιμπι 20μπι，更優(yōu)選 0. 5 μ m 10 μ m0本發(fā)明的觀察器用于對具有彼此顯示不同雙折射性的至少兩個區(qū)域的雙折射圖 案進行認證。此外，在本申請的說明書和權利要求書中所用術語“認證”涵蓋了通過諸如“鑒 別”、“確定”或“確認存在”等行為來證明待認證部件的真實性。本發(fā)明中要求觀察器的光學各向異性層的正面延遲與雙折射圖案的正面延遲的 最大值之和大于λ/2。將延遲的總和值設定在上述范圍內(nèi)可產(chǎn)生使?jié)撓竦纳{(diào)顯著改變 的效果。觀察器的光學各向異性層的正面延遲與雙折射圖案的圖案化光學各向異性層的正 面延遲的最大值之和優(yōu)選為λ /2 3 λ，更優(yōu)選λ 2 λ。要增加延遲的值從而使觀察器的光學各向異性層的正面延遲與雙折射圖案的圖案化光學各向異性層的正面延遲的最大 值之和大于λ /2，可通過例如增加雙折射圖案的圖案化光學各向異性層的正面延遲的最大 值、或增加觀察器的光學各向異性層的正面延遲、或作為另一種選擇使它們同時增加來實 現(xiàn)。對于通過將液晶化合物固化而制成的光學各向異性層，可通過增加層的膜厚度或使用 顯示較大各向異性的液晶材料來增加該層的正面延遲。對于拉伸膜(抻拉膜)，可通過增加 膜的拉伸比來增加膜的正面延遲。可通過本發(fā)明的觀察器認證的雙折射圖案具有包含彼此顯示不同雙折射性的至 少兩個或多于兩個區(qū)域的層，即如上所述的圖案化的光學各向異性層。在本發(fā)明中，更優(yōu)選的是雙折射圖案具有彼此顯示不同雙折射性的3個或多于3 個區(qū)域。其中雙折射性相同的各區(qū)域可以是連續(xù)形式，也可以是不連續(xù)形式。此外，圖案化 的光學各向異性層可以是兩個或多于兩個層的層壓體。通常，帶有雙折射圖案的物品可具 有平面形式(膜或片)?？捎杀景l(fā)明的觀察器認證的優(yōu)選雙折射圖案之一是其中將光軸方向圖案化的雙 折射圖案。即，在這類雙折射圖案中，具有不同雙折射性的區(qū)域具有其中光軸方向彼此不同 的至少兩個區(qū)域。本申請說明書中所用術語“光軸”是指“慢軸”或“透射軸”。當對光軸圖案化時，可以以下述方式進行圖案化光軸的方向彼此相 差優(yōu)選至少5°、更優(yōu)選至少10°、進而更優(yōu)選至少15°的角?？梢愿鶕?jù)例如 JP-T-2001-525080(“JP-T”表示PCT國際申請的
公開日文譯本)中所述的方法獲得其中光 軸被圖案化的雙折射圖案的光學各向異性層。此外，如下所述的對層內(nèi)取向方向的控制和 延遲值的控制的組合使得可以產(chǎn)生其中將層內(nèi)延遲和取向方向任意圖案化的光學各向異 性層。當針對光軸形成圖案時，雙折射圖案的相位差優(yōu)選為(叫/2+1/8) λ (ηι/2+3/8) λ，其中H1代表0或大于0的整數(shù)。通過將觀察器的雙折射圖案的相位差設定在上述范圍 中可顯著改變潛像的色調(diào)。通過例如調(diào)節(jié)圖案化光學各向異性層的膜厚度或調(diào)節(jié)液晶的固 有雙折射性，可以實現(xiàn)將相位差控制在上述范圍內(nèi)。在對于光軸方向形成的雙折射圖案的認證中，觀察器的光學各向異性層的相位差 優(yōu)選為(η2/2-1/8) λ (η2/2+1/8) λ，其中η2代表自然數(shù)。將觀察器的光學各向異性層的 相位差設定在上述范圍中可顯著改變潛像的色調(diào)。將觀察器的光學各向異性層的相位差控 制在上述范圍中可通過例如以下方式實現(xiàn)。當使用含有固化液晶化合物的光學各向異性層 時，可調(diào)節(jié)圖案化光學各向異性層的膜厚度，或可調(diào)節(jié)液晶的固有雙折射性。作為另一種選 擇，使用拉伸膜時，可調(diào)節(jié)膜的拉伸率。可通過本發(fā)明的觀察器認證的另一優(yōu)選雙折射圖案是其中延遲被圖案化的雙折 射圖案。術語“延遲被圖案化”是指具有至少兩個延遲彼此不同的區(qū)域。當延遲被圖案化 時，延遲的差異優(yōu)選為20nm以上，更優(yōu)選為30nm以上，進而更優(yōu)選為50nm以上。圖2顯示了可通過本發(fā)明的觀察器認證的待認證部件的一個示例性實施方式的 示意性截面圖。圖2所示的待認證部件具有隔著反射層102處于支持體101上的光學各向 異性層103。光學各向異性層103具有區(qū)域A和B，區(qū)域A和B是雙折射性彼此不同的區(qū)域。 雙折射圖案、光學各向異性層和需要時可設置的其它層將在下文中進行詳述。雙折射圖案的實例包括其中將延遲和/或光軸方向在平面內(nèi)圖案化的物品。雙折射圖案的實例如圖3所示。圖3(a)是其中利用延遲差異進行圖案化的示例性實施方式的示意性說明圖。在 圖3 (a)所示的示例性實施方式中，由a nm、b nm、c nm和d nm標示的延遲經(jīng)調(diào)整從而彼此 不同。圖3(b)是其中利用光軸方向的差異進行圖案化的示例性實施方式的示意性說明圖。 圖3(b)中的箭頭指示光軸方向。其中光軸在平面內(nèi)圖案化的光學各向異性層可通過例如JP-T-2001-525080中所
述方法獲得。其中延遲在平面內(nèi)圖案化的光學各向異性層可通過下文詳述的方法制成。除了對圖案化的描述，下文中對光學各向異性層的描述可適用于觀察器的光學各 向異性層。[雙折射圖案部件](光學各向異性層)應該注意，待認證部件在其至少一部分中包含如下所說明的雙折射圖案部件。光學各向異性層優(yōu)選基本由相同的層形成組合物制成。如本文所用的術語“相同 的層形成組合物”是指分子的電子態(tài)在嚴格意義上不同、雙折射性不同，但原料相同。雙折射圖案包含至少一個圖案化光學各向異性層。圖案化光學各向異性層包含聚合物。通過包含該聚合物，圖案化光學各向異性層 可符合各種要求，如雙折射性、透明性、耐溶劑性、韌性和柔性。光學各向異性層可以在20°C、優(yōu)選30°C、更優(yōu)選40°C為固體，因為在20°C為固體 的光學各向異性層可容易地涂布有另一功能性層、或者轉(zhuǎn)印或貼合在支持體上。為了使本發(fā)明的光學各向異性層涂布有另一功能性層，該光學各向異性層優(yōu)選具 有耐溶劑性。在本說明書中，“具有耐溶劑性”是指在浸漬于對象溶劑2分鐘后層的延遲相 對于浸漬之前層的延遲為30% 170%、更優(yōu)選為50% 150%、最優(yōu)選為80% 120%。 作為對象溶劑，實例包括水、甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲醚乙酸 酯、N-甲基吡咯烷酮、己烷、氯仿、和乙酸乙酯。其中，優(yōu)選丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、丙二醇單 甲醚乙酸酯和N-甲基吡咯烷酮；最優(yōu)選甲乙酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯及其混合物。光學各向異性層中被賦予延遲的區(qū)域的延遲值在20°C時可以為5nm以上、優(yōu)選 20nm以上且1，OOOnm以下。如果延遲過小，可能難以形成雙折射圖案或者在某些情況下潛 像的清晰性可能降低。如果延遲過大，誤差將變大并且可能難以取得實用需要的精度。考慮到待認證部件中潛像的形成或構成待認證部件的任何其它層的延遲，可以控 制光學各向異性層的延遲值。雖然光學各向異性層的制造方法不受特殊限制，但可以以下述方法舉例說明。a)通過涂布含有帶有至少一個反應基團的液晶化合物的液體并使其干燥以形成 液晶相，之后通過對液晶相加熱或照射電離輻射線來使該化合物聚合和固定從而制造光學 各向異性層的方法。b)對通過將帶有至少兩個或多于兩個反應基團的單體聚合和固定而獲得的層進 行拉伸的方法。c)通過偶聯(lián)劑向聚合物制成的層中引入反應基團、然后拉伸層的方法。d)拉伸由聚合物制成的層、然后通過偶聯(lián)劑向?qū)又幸敕磻鶊F的方法。
此外，如下所述，本發(fā)明的光學各向異性層可通過轉(zhuǎn)印形成。圖案化光學各向異性層的厚度優(yōu)選為0. Ιμπι 20μπκ更優(yōu)選為0. 5 μ m 10 μ m。《光學各向異性層(材料)》(通過包含液晶化合物的組合物的聚合固定形成的光學各向異性層)下面說明光學各向異性層的制造方法，其中，采用含有帶至少一個反應基團的液 晶化合物的液體進行涂布并使該液體干燥從而形成液晶相，然后通過加熱或照射電離輻射 線來將液晶相聚合和固定。與通過拉伸聚合物來制造光學各向異性層的后述方法相比，本 方法使得更易于制造厚度較小并且延遲相同的光學各向異性層，或更容易控制復雜圖案。(液晶化合物)根據(jù)分子形狀，液晶化合物通常可分為棒狀液晶化合物和圓盤狀液晶化合物。每 個類別進一步包括低分子型和高分子型。高分子型通常是指聚合度為100以上的類型 (“Kobunshi Butsuri-Soten ‘ i Dainamikusu(Polymer Physics-Phase Transition Dynamics)，Masao Doi，第2頁，IwanamiShoten出版社出版，1992)。任一類液晶化合物均 可用于雙折射圖案的光學各向異性層中，其中優(yōu)選的是使用棒狀液晶化合物或圓盤狀液晶 化合物。為了顯現(xiàn)較大延遲，優(yōu)選使用棒狀液晶化合物。也可以使用兩種或多種棒狀液晶 化合物的混合物、兩種或多種圓盤狀液晶化合物的混合物、或棒狀液晶化合物和圓盤狀液 晶化合物的混合物。本發(fā)明中，可以優(yōu)選使用與觀察器的光學各向異性層中所用液晶化合 物相似的液晶化合物。更優(yōu)選的是，利用具有反應基團的棒狀液晶化合物或具有反應基團 的圓盤狀液晶化合物形成光學各向異性層，因為這樣的化合物可以減少溫度依賴性改變或 濕度依賴性改變；進而更優(yōu)選的是，利用在單個液晶分子中具有至少一種的兩個或多于兩 個反應基團的化合物形成光學各向異性層。同樣優(yōu)選的是，液晶化合物具有兩種或多于兩種的聚合條件互不相同的反應基 團。在該情況下，通過選擇聚合條件來僅使多種反應基團中的一種特定反應基團聚合，可產(chǎn) 生包含帶有未反應的反應基團的聚合物的光學各向異性層。所采用的聚合條件可以是用于 進行聚合和固定的照射的電離輻射線的波長范圍，或聚合機理。從控制選擇性聚合的觀點 出發(fā)，所述條件可以優(yōu)選為能對具有自由基反應基團和陽離子反應基團的組合的化合物的 聚合進行控制的聚合引發(fā)劑。特別優(yōu)選烯鍵不飽和基團(特別是丙烯酸基和/或甲基丙烯 酸基)作為自由基反應基團和乙烯基醚基、環(huán)氧丙烷(oxetane)基和/或環(huán)氧基作為陽離 子聚合基團的組合，因為反應性容易控制。本發(fā)明中，由液晶化合物制成的最終產(chǎn)物不必顯示液晶性質(zhì)。例如，它可以是在通 過熱反應或光反應等來使含有熱反應基團或光反應基團的低分子圓盤狀液晶聚合或交聯(lián) 的過程中喪失液晶性質(zhì)的聚合產(chǎn)物。對于棒狀液晶化合物，例如可以使用JP-A-2008-281989的第W043] W060]段 中所述的化合物。在本發(fā)明的另一實施方式中，在光學各向異性層中使用圓盤狀液晶。光學各向異 性層優(yōu)選是諸如單體等低分子量液晶圓盤狀化合物的層，或通過聚合性液晶圓盤狀(盤 狀)化合物的聚合(固化)獲得的聚合物的層。對于圓盤狀液晶化合物，例如可以使用 JP-A-2008-281989的第W061] W075]段中所述的化合物。
光學各向異性層優(yōu)選是根據(jù)下述方法形成的層，該方法包括在下文詳述的取向 層表面涂布包含液晶化合物的組合物(例如涂布液)，使取向態(tài)顯示所需晶相，和在加熱或 照射電離輻射線時固定取向態(tài)。當使用具有反應基團的圓盤狀液晶化合物作為液晶化合物時，層中的圓盤狀化合 物可以以任何取向態(tài)固定，例如水平取向態(tài)、垂直取向態(tài)、傾斜取向態(tài)和扭曲取向態(tài)。本說 明書中，術語“水平取向”對于棒狀液晶分子而言是指其分子長軸與透明支持體的水平面相 互平行，對于圓盤狀液晶分子而言是指其核心的盤平面與透明支持體的水平面相互平行。 然而，不要求它們完全相互平行，并且在本說明書中，術語“水平取向”應被理解為其中分子 以與水平面成小于10°的傾斜角取向的取向態(tài)。傾斜角優(yōu)選為0° 5°，更優(yōu)選為0° 3°，再更優(yōu)選為0° 2°，最優(yōu)選為0° 1°。(水平取向劑)為了使液晶化合物的分子基本水平取向，可以參考JP-A-2008-281989的第
W093]段中的描述添加水平取向劑。當對兩個或多于兩個由含有液晶化合物的組合物形成的光學各向異性層進行層 壓時，液晶化合物的組合不受特殊限制，該組合可以是由均含圓盤狀液晶化合物的層形成 的層壓體、由均含棒狀液晶化合物的層形成的層壓體、或由包含含有圓盤狀液晶化合物的 組合物的層和包含含有棒狀液晶化合物的組合物的層形成的層壓體。此外，各層的取向態(tài) 的組合不受特殊限制，允許對具有相同取向態(tài)的光學各向異性層進行層壓或?qū)哂胁煌?向態(tài)的光學各向異性層進行層壓。優(yōu)選通過在下述取向?qū)拥谋砻嫔贤坎己兄辽僖环N液晶化合物、以下聚合引發(fā)劑 和其它添加劑的涂布液來形成光學各向異性層。優(yōu)選使用有機溶劑作為涂布液制備用溶 劑，其實例包括酰胺(例如N，N- 二甲基甲酰胺)、亞砜(例如二甲亞砜)、雜環(huán)化合物(例 如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、鹵代烷(例如氯仿、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸丁 酯)、酮(例如丙酮、甲乙酮)和醚(例如四氫呋喃、1，2-二甲氧基乙烷)。優(yōu)選鹵代烷和 酮?？梢詫煞N或多于兩種有機溶劑組合使用。(液晶化合物的取向態(tài)的固定)優(yōu)選的是，根據(jù)JP-A-2008-281989的第W080] W081]段所述的方法在保持取 向態(tài)的同時將取向的液晶化合物固定。(通過偏振光的照射引起的取向(光取向))如JP-A-2008-281989的第W082] W083]段所述，光學各向異性層可以是其中 因偏振光的照射引起的光取向而使面內(nèi)延遲已發(fā)生或增加的層?？梢酝ㄟ^例如JP-T-2001-525080所述方法獲得其中光軸方向在層內(nèi)圖案化的光
學各向異性層。下文描述了具有其中液晶化合物以基本不變的方向取向的雙折射圖案的光學各 向異性層。這是其中延遲值受控而同時層中的液晶化合物以相同方向取向的圖案化的實 例。通過上述的延遲值控制和對層內(nèi)液晶化合物的取向方向的控制的組合，能夠制造具有 所需的延遲和取向方向的圖案的光學各向異性層。圖案化之前的光學各向異性層中的聚合物優(yōu)選具有未反應的反應基團。雖然曝光 導致聚合物鏈通過未反應的反應基團的反應而交聯(lián)，聚合物鏈的交聯(lián)度根據(jù)在不同曝光條件下的曝光而有所不同。因此曝光可導致延遲的波動，從而使得更容易制備所述圖案化雙 折射產(chǎn)品。(具有自由基反應基團和陽離子反應基團的液晶化合物的取向態(tài)的固定)如上所述，同樣優(yōu)選的是液晶化合物具有兩種或多于兩種的聚合條件互不相同的 反應基團。在這種情況中，通過選擇聚合條件來使多種反應基團中的僅一種反應基團聚合， 可以制成包含帶有未反應的反應基團的聚合物的光學各向異性層。下面將說明當具有自由 基反應基團和陽離子反應基團的液晶化合物作為上述液晶化合物時特別適合的聚合和固 定的條件。第一，作為聚合引發(fā)劑，僅優(yōu)選使用可作用于期待聚合的反應基團的光聚合引發(fā) 劑。即優(yōu)選的是，當選擇性聚合自由基反應基團時只使用自由基光聚合引發(fā)劑，當選擇性聚 合陽離子反應基團時只使用陽離子光聚合引發(fā)劑。以涂布液中總固體含量計，光聚合引發(fā) 劑的量優(yōu)選為0. 01質(zhì)量％ 20質(zhì)量％，更優(yōu)選為0. 1質(zhì)量％ 8質(zhì)量％，進而優(yōu)選為0. 5
質(zhì)量％ 4質(zhì)量％。第二，優(yōu)選使用紫外光進行聚合用光照射。當照射能量和/或照度過高時，會涉及 到自由基反應基團和陽離子反應基團兩者的非選擇性反應。鑒于上述原因，照射能量優(yōu)選 為 5mJ/cm2 500mJ/cm2，更優(yōu)選為 10mJ/cm2 400mJ/cm2，特別優(yōu)選為 20mJ/cm2 200mJ/ cm2。照度優(yōu)選為5mW/cm2 500mW/cm2，更優(yōu)選為10mW/cm2 300mW/cm2，特別優(yōu)選為20mW/ cm2 100mW/cm2。對于照射波長，優(yōu)選峰值為250nm 450nm、更優(yōu)選為300nm 410nm的 光。在光聚合反應中，使用自由基光聚合引發(fā)劑的反應受氧的抑制，而使用陽離子光 聚合引發(fā)劑的反應不受氧的抑制。因此，當對具有自由基反應基團和陽離子反應基團的液 晶化合物的一種反應基團進行選擇性反應時，優(yōu)選的是，當對自由基反應基團進行選擇反 應時在諸如氮氣等惰性氣體的氛圍中進行光照射，當對陽離子反應基團進行選擇反應時在 含有氧的氛圍(例如空氣氛圍)中進行光照射。[雙折射圖案部件的制作]用于形成雙折射圖案部件的制作材料(以下稱為“雙折射圖案制作材料”)是用以 形成雙折射圖案的材料，以所述材料經(jīng)過預定方法可獲得雙折射圖案部件。使用包括以下 步驟的方法可以制造雙折射圖案化的部件利用雙折射圖案制作材料進行圖案樣熱處理或 電離輻射線的照射的步驟，和使光學各向異性層中剩余的未反應的反應基團反應或鈍化的 步驟。特別是，當光學各向異性層具有延遲消失溫度并且延遲消失溫度隨著電離輻射線的 照射(或在等于或小于延遲消失溫度的溫度的熱處理)而增加時，可以容易地制造雙折射 圖案化部件。下述實例可說明通過電離輻射線的照射或熱處理形成雙折射圖案的過程。圖案樣電離輻射線的照射可以是例如在光下曝光(圖案化曝光)。進行圖案化曝 光可引起光學各向異性層中未反應的反應基團的反應，從而使曝光區(qū)域的延遲消失溫度增 加。之后，在高于未曝光區(qū)域的延遲消失溫度并低于曝光區(qū)域的延遲消失溫度的溫度，進行 使得光學各向異性層中剩余的未反應的反應基團反應或鈍化的步驟。結果，可以選擇性地 僅使未曝光區(qū)域的延遲消失從而形成雙折射圖案。使光學各向異性層中剩余的未反應的反 應基團反應或鈍化的步驟可以是全面曝光，如果還可以由熱量引起該反應基團反應，則還可以是全面熱處理(烘焙)。為了節(jié)約成本，在高于未曝光區(qū)域的延遲消失溫度并低于曝光 區(qū)域的延遲消失溫度的溫度加熱還可優(yōu)選提供反應用熱處理。還可以通過下述的另一種方法進行圖案樣熱處理。該方法中，首先在接近延遲消 失溫度的溫度對區(qū)域加熱以減少或消除延遲。之后，在低于延遲消失溫度的溫度進行使得 光學各向異性層中剩余的未反應的反應基團反應或鈍化(全面曝光或全面加熱)的步驟從 而獲得雙折射圖案。在該情況下，可獲得其中僅首先受熱區(qū)域的延遲喪失的圖案。下文詳細描述了圖案曝光和圖案樣熱處理。本發(fā)明中術語“反應條件”是指下述的“圖案曝光”和“圖案樣熱處理”的條件。首先，將詳細描述通過圖案樣曝光和在等于或高于延遲消失溫度的溫度的全面熱 處理或全面曝光的雙折射圖案的產(chǎn)生。[圖案樣曝光]可以進行用于生成雙折射圖案的圖案樣曝光以便僅形成曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域， 從而使雙折射圖案制作材料中的需要留下雙折射性的區(qū)域曝光。作為另一種選擇，還可以 以圖案化方式進行基于不同曝光條件的曝光。圖案化曝光的方法可以是采用掩膜的接觸曝光、接近曝光(proximitylight exposure)、投影曝光、或通過不用掩膜而利用激光或電子束聚焦在預定點上的直接繪制。 曝光用光源的照射波長的峰值優(yōu)選為250nm 450nm、更優(yōu)選為300nm 410nm。當使用感 光性樹脂層同時形成不同平面(不平整度)時，還優(yōu)選對樹脂層照射可使樹脂層固化的波 長區(qū)域中的光(例如，365nm、405nm)。光源的具體實例包括超高壓汞燈、高壓汞燈、金屬鹵 化物燈和藍色激光。曝光量通常優(yōu)選為約3mJ/cm2至約2，OOOmJ/cm2、更優(yōu)選為約5mJ/cm2至
約1，000mj/cm2、進而優(yōu)選為約10mJ/cm2至約500mJ/cm2、最優(yōu)選為約10mJ/cm2至約IOOmJ/
2
cm ο曝光條件的參數(shù)的實例包括但不特別限于曝光峰值波長、曝光照度、曝光時間、曝 光量、曝光溫度和曝光氛圍等。它們之中，就對條件進行調(diào)節(jié)的便利性而言，優(yōu)選曝光峰值 波長、曝光照度、曝光時間和曝光量，更優(yōu)選曝光照度、曝光時間和曝光量。具有不同曝光條件的曝光可以通過多次曝光進行，也可以通過例如使用具有透射 譜彼此不同的兩個或多于兩個區(qū)域的掩膜的一次曝光進行，還可以通過它們的組合曝光來 進行?！熬哂胁煌毓鈼l件的曝光以圖案化方式進行”的表述是指進行曝光從而產(chǎn)生在不同 曝光條件下曝光的兩個或多于兩個曝光區(qū)域。圖案曝光時在不同曝光條件下曝光的區(qū)域在烘焙后具有不同的雙折射性，尤其是 具有受曝光條件控制的不同的延遲值。因而，通過在圖案曝光時調(diào)節(jié)各區(qū)域的曝光條件，可 以產(chǎn)生烘焙后在區(qū)域之間具有互不相同的期望延遲值的雙折射圖案。在不同曝光條件下曝 光的兩個或多于兩個曝光區(qū)域的曝光條件可以不連續(xù)改變，也可以連續(xù)改變。(掩膜曝光)使用曝光掩膜的曝光可用作形成曝光條件不同的曝光區(qū)域的手段。例如，第一次 利用曝光掩膜只曝光一個區(qū)域，然后第二次利用另一掩膜曝光其它區(qū)域或整個表面(同時 溫度、氛圍、曝光照度、曝光時間或曝光波長與第一次曝光相比有所改變)，從而可以容易地 改變進行第一次曝光的區(qū)域和進行第二次曝光的區(qū)域之間的曝光條件。具有兩個或多于兩 個的分別顯示不同透射譜的區(qū)域的掩膜特別可用作改變曝光照度或曝光波長的掩膜。在該情況下，僅通過一次曝光操作，就可以使多個區(qū)域?qū)ζ毓庹斩然蚱毓獠ㄩL互不相同的條件 的光曝光。當然，可以通過在不同曝光照度下進行相同時間的曝光來獲得不同曝光量。如果使用了掃描曝光(例如以激光進行的掃描曝光)，通過例如根據(jù)曝光區(qū)域改 變光源強度或掃描速度，可以改變各區(qū)域的曝光條件。此外，本發(fā)明的方法還可以結合下述步驟將用以產(chǎn)生另一雙折射圖案的轉(zhuǎn)印材 料轉(zhuǎn)印至通過對雙折射圖案制作材料進行圖案化曝光而獲得的層壓結構體上，然后進行另 一圖案化曝光。在第一次曝光和第二次曝光中均未曝光的區(qū)域(通常具有最低延遲值)、在 第一次曝光中曝光而在第二次曝光中未曝光的區(qū)域、和在第一次曝光和第二次曝光中均曝 光的區(qū)域(通常具有最高延遲值)之間，烘焙后保留的延遲值可得到有效改變。另一方面， 在第二次曝光后，認為第一次未曝光但第二次曝光的區(qū)域等同于第一次和第二次均曝光的 區(qū)域。以相似方式，通過交替進行3次、4次或更多次的轉(zhuǎn)印和圖案化曝光，可以容易地形成 4個以上區(qū)域。當僅通過改變曝光條件不能提供不同區(qū)域需要具有的差異(例如光軸方向 的差異或極大的延遲差異)時，上述方法是有用的。[在高于或等于延遲消失溫度的溫度的全面熱處理(烘焙)或全面曝光的反應處 理]為了處理經(jīng)過圖案化曝光的雙折射圖案制作材料從而使未曝光區(qū)域具有更少的 延遲同時保留曝光區(qū)域的延遲，并為了使在剩余的未反應的反應基團反應或鈍化的同時保 持該狀態(tài)從而獲得穩(wěn)定的雙折射圖案，優(yōu)選在等于或高于未曝光區(qū)域的延遲消失溫度的溫 度進行全面熱處理或全面曝光。在通過全面熱處理進行處理時，雖然溫度條件根據(jù)材料而有所不同，但優(yōu)選在等 于或高于未曝光區(qū)域的延遲消失溫度并等于或低于曝光區(qū)域的延遲消失溫度的溫度進行 處理。此外，該溫度還優(yōu)選為可有效促進未反應的反應基團的反應或鈍化的溫度。具體而 言，雖然不受特殊限制，優(yōu)選約50°C 400°C的熱處理，更優(yōu)選約100°C 260°C的熱處理， 進而優(yōu)選約150°C 250°C的熱處理，特別優(yōu)選約180°C 230°C的熱處理。然而，適合的溫 度隨所需的雙折射性(延遲)或所用光學各向異性層的熱固化反應性而有所不同。還可預 期熱處理可提供將材料中的非必要成分蒸發(fā)或燃燒的效果。雖然熱處理時間不受特殊限 制，但時間優(yōu)選為1分鐘以上且5小時以下，更優(yōu)選為3分鐘以上且3小時以下，特別優(yōu)選 為5分鐘以上且2小時以下。當?shù)扔诨虻陀谄毓鈪^(qū)域的延遲消失溫度的溫度使得未反應的反應基團的反應性 不足從而抑制反應處理充分進行時，例如，同樣有用的是在保持溫度等于或高于未曝光區(qū) 域的延遲消失溫度的同時進行全面曝光。該情況中，優(yōu)選的光源與圖案化曝光中所述光源 相同。曝光量通常優(yōu)選為約3mJ/cm2 2，OOOmJ/cm2、更優(yōu)選為約5mJ/cm2 1，000mj/cm2、 進而優(yōu)選為約10mJ/cm2 500mJ/cm2、最優(yōu)選為約10mJ/cm2 300mJ/cm2。下面，將詳細描述通過可引起延遲的圖案化減少的圖案樣熱處理和通過在等于或 低于延遲消失溫度的溫度下全面熱處理或全面曝光來產(chǎn)生雙折射圖案。[圖案樣熱處理(熱圖案的寫入)]圖案樣熱處理的加熱溫度不受限制并且可以是任何溫度，條件是該溫度可使受熱 部分和非受熱部分具有不同延遲。特別地，當受熱部分理想地具有基本為Onm的延遲時，優(yōu) 選在等于或高于所用雙折射圖案制作材料的光學各向異性層的延遲消失溫度的溫度進行加熱。另一方面，加熱溫度優(yōu)選低于光學各向異性層燃燒或著色的溫度。進行加熱的溫度 通常為約120°C 約260°C，更優(yōu)選為150°C 250°C，進而優(yōu)選為180°C 230°C。雖然雙折射圖案制作材料的一部分(區(qū)域)的加熱方法不受特殊限制，但可以使 用的方法包括使加熱體與雙折射圖案制作材料接觸的方法、將加熱體設置在或放置在雙 折射圖案制作材料近處的方法、和利用加熱模式曝光以部分加熱雙折射圖案制作材料的方 法。[通過在等于或低于延遲消失溫度的溫度下全面熱處理(烘焙)或全面曝光的反 應處理]光學各向異性層中已進行圖案樣熱處理而未進行熱處理的區(qū)域在保留延遲的同 時仍包含未反應的反應基團，因而仍處于不穩(wěn)定狀態(tài)。為了使未處理區(qū)域中剩余的未反應 的反應基團反應或鈍化，優(yōu)選進行經(jīng)全面熱處理或全面曝光的反應處理。進行經(jīng)全面熱處理的反應處理的溫度優(yōu)選低于所用雙折射圖案制作材料的光學 各向異性層的延遲消失溫度，并可有效促進未反應的反應基團的反應或鈍化。在圖案樣曝光后可以通過在50°C以上且400°C以下、優(yōu)選在80°C以上且400°C以 下對雙折射圖案制作材料加熱來生成雙折射圖案。當用于形成雙折射圖案的雙折射圖案 制作材料中的光學各向異性層曝光前的延遲消失溫度設為Tl(°c )，曝光后的延遲消失溫 度設為T2(°C)時(條件是當延遲消失溫度不在250°C以下的溫度范圍中時，T2 = 250), 烘焙溫度優(yōu)選為T1°C T2°C，更優(yōu)選為(T1+10)°C (T2-5)°C，最優(yōu)選為(T1+20)°C (T2-10) "C。通?？梢栽诩s120°C 180°C、更優(yōu)選在130°C 170°C、進而更優(yōu)選在140°C 160°C進行加熱。然而，適當?shù)臏囟雀鶕?jù)所需的雙折射性(延遲)或所用光學各向異性層的 熱固化反應性而有所不同。熱處理時間不受特殊限制。熱處理時間優(yōu)選為1分鐘以上且5 小時以下，更優(yōu)選3分鐘以上且3小時以下，特別優(yōu)選5分鐘以上且2小時以下。通過烘焙，雙折射圖案制作材料中未曝光區(qū)域的延遲下降，而其中延遲消失溫度 已經(jīng)經(jīng)過此前圖案樣曝光升高的曝光區(qū)域的延遲僅稍微下降、絕對未降低、或者升高。結 果，未曝光區(qū)域的延遲小于曝光區(qū)域的延遲，從而使得能夠產(chǎn)生雙折射圖案(圖案化光學 各向異性層)。為了產(chǎn)生光學效果，烘焙后曝光區(qū)域的延遲優(yōu)選為5nm以上，更優(yōu)選為IOnm以上 且5，OOOnm以下，最優(yōu)選為20nm以上且2，OOOnm以下。如果延遲過小，可能難以視覺鑒別 所制備的雙折射圖案。為了產(chǎn)生光學效果，雙折射圖案制作材料中未曝光區(qū)域烘焙后的延遲優(yōu)選為烘焙 前延遲的80%以下、更優(yōu)選60%以下、進而更優(yōu)選20%以下，最優(yōu)選小于5nm。特別是，烘 焙后小于5nm的延遲可給出如同該區(qū)域中視覺上完全不存在雙折射圖案的印象。這使得 可以在正交尼克爾棱鏡(crossed nicol)下呈現(xiàn)黑色，并且在平行尼克爾棱鏡(parrallel nicol)下或在偏光板和反射板的組合上呈現(xiàn)無色。這樣，當使用雙折射圖案呈現(xiàn)彩色圖像 時或當使用具有不同圖案層的層壓體時，可以使用能夠形成在烘焙后具有小于5nm的延遲 的未曝光區(qū)域的雙折射圖案制作材料。還可以通過全面曝光代替全面熱處理來進行反應處理。這種情況下，光源的照射 波長的峰值優(yōu)選為250nm 450nm、更優(yōu)選為300nm 410nm。當使用感光樹脂層以同時形成不同平面時，還優(yōu)選具有可固化該樹脂層的波長區(qū)(例如，365nm、405nm)的光的照射。光 源的具體實例包括超高壓汞燈、高壓汞燈、金屬鹵化物燈和藍色激光。曝光量通常為優(yōu)選為 約3mJ/cm2 約2，000mj/cm2,更優(yōu)選為約5mJ/cm2 約1，000mj/cm2、進而優(yōu)選為約IOmJ/ cm2 約 500mJ/cm2、最優(yōu)選為約 10mJ/cm2 約 300mJ/cm2。作為另一種選擇，可以將用于制造雙折射圖案制作材料的另一種轉(zhuǎn)印材料轉(zhuǎn)印在 已經(jīng)烘焙的雙折射圖案制作材料上，然后對其進行圖案化曝光和烘焙。在該情況下，在第一 次和第二次曝光中均未曝光的區(qū)域、在第一次曝光中曝光并且在第二次曝光中未曝光的區(qū) 域、在第一次曝光中未曝光而在第二次曝光中曝光的區(qū)域(第一次曝光中未曝光區(qū)域的延 遲因烘焙而已經(jīng)消失)、和在第一次和第二次曝光中均曝光的區(qū)域這些區(qū)域之間，第二次烘 焙后的延遲值可得到有效改變。當需要形成具有互不相同的慢軸方向的雙折射性而無需互 相重疊的兩個區(qū)域時，該方法是有用的。[精整熱處理]當通過上述部分所述步驟產(chǎn)生的雙折射圖案需要具有進一步改善的穩(wěn)定性時，還 可以進行精整熱處理，其目的是使固定后仍剩余的未反應的反應基團進一步反應以增加耐 久性，和使材料中的不必要成分蒸發(fā)或燃燒從而去除這種成分。特別是，當通過圖案化曝 光和全面加熱或通過圖案樣熱處理和全面曝光制造雙折射圖案時，精整熱處理有效。精整 熱處理的進行溫度可以是約180°C 約300°C，更優(yōu)選190°C 260°C，進而優(yōu)選200°C 240°C。熱處理的時間不受特殊限制。然而，該熱處理的時間優(yōu)選為1分鐘以上且5小時以 下，更優(yōu)選3分鐘以上且3小時以下，特別優(yōu)選5分鐘以上且2小時以下。(通過拉伸制成的光學各向異性層)可以通過對聚合物進行拉伸來制備光學各向異性層。在制備優(yōu)選具有至少一個未 反應的反應基團的光學各向異性層中的聚合物時，可以拉伸具有反應基團的聚合物，或者 可以利用偶聯(lián)劑等向經(jīng)拉伸制備的光學各向異性層引入反應基團。通過拉伸獲得的光學各 向異性層的特性包括低成本和自我支持性(形成或保持該層時不需要支持體)等。(光學各向異性層的后處理)可以進行各種后處理以改性所生成的光學各向異性層。后處理的實例包括用于改 善粘著性的電暈處理、用于改善可塑性而進行的增塑劑添加、用于改善儲存穩(wěn)定性而進行 的熱聚合抑制劑添加、和用于改善反應性的偶聯(lián)處理。當光學各向異性層中的聚合物具有 未反應的反應基團時，添加適于反應基團的聚合引發(fā)劑還可以是有用的改性方法。例如，通 過向光學各向異性層添加自由基光聚合引發(fā)劑可以促進之后的圖案樣曝光中未反應的自 由基反應基團的反應，所述光學各向異性層是通過使用陽離子光聚合引發(fā)劑來使帶有陽離 子反應基團和自由基反應基團的液晶化合物聚合而固定的。作為添加增塑劑或光聚合引發(fā) 劑的方法，其實例包括將光學各向異性層浸漬在所需添加劑的液體中，和向光學各向異性 層涂布所需添加劑的液體以使液體滲入。此外，當將另一層涂布于光學各向異性層時，可以 將所需添加劑添加到該層的涂布液中以便滲入光學各向異性層。本發(fā)明中，通過適當選擇 用于滲透的添加劑尤其是光聚合引發(fā)劑的種類和量，可以調(diào)節(jié)雙折射圖案制作材料的圖案 曝光過程中對各區(qū)域的曝光量與最終所獲區(qū)域的延遲之間的關系，從而使最終產(chǎn)品具有更 接近所需值的材料性質(zhì)。(除光學各向異性層以外的其它雙折射圖案部件的構成材料)
就制造適合性等而言，雙折射圖案制作材料通?？梢詾槟罨蚱瑺?。除光學各向 異性層之外，雙折射圖案制作材料還可以包含施加有各種附加功能的功能性層。功能性層 的實例包括支持體、取向?qū)雍秃笳澈蠈?。作為另一選擇，雙折射圖案部件可以為箔的形式。構成待認證部件的除光學各向異性層之外的其它層在形成后應具有不影響潛像 形成的延遲。作為另一選擇，在設定用于形成潛像的光學各向異性層的延遲值時可以考慮 這些層的延遲。[支持體]雙折射圖案部件優(yōu)選具有透明支持體或反射性支持體。當利用反射光來顯現(xiàn)潛像 時，所用支持體可以是但不限于下述具有反射層的支持體或具有反射功能的支持體。當利 用透射光來顯現(xiàn)潛像時，所用支持體可以是但不限于具有不影響潛像的光學性質(zhì)的透明支 持體。該情況中，基材的延遲可以是200nm以下，優(yōu)選為IOOnm以下，更優(yōu)選為50nm以下。作為這種支持體的實例包括塑料膜，如纖維素酯(例如，乙酸纖維素、丙酸纖維 素和丁酸纖維素)、聚烯烴(例如，降冰片烯類聚合物)、聚(甲基)丙烯酸酯(例如，聚 甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、聚酯、聚砜和降冰片烯類聚合物。當對支持體進行例如輥對 輥(roll-to-roll)處理等連續(xù)處理時，支持體的厚度優(yōu)選為3 μ m 500 μ m、更優(yōu)選為 10 μ m 200 μ m,然而其可以根據(jù)制造模式按照需要選擇。雙折射圖案部件可以具有不用偏光板即可見的繪制圖案。此外，可以將光學各向異性層以嵌埋在支持體中的形式形成。由于本發(fā)明的光學 各向異性層具有高水平的各種耐抗性，其還可通過下述方法在膜上形成，所述方法包括在 鑄造設備的環(huán)帶(endless belt)或鼓上轉(zhuǎn)印光學各向異性層、在光學各向異性層上鑄造熔 融的支持體用材料、和將其通過如成形、輥壓或拉伸等所需方法(類似于普通聚合物膜的 形成方法)形成為膜。作為另一種選擇，可以將光學各向異性層夾在兩個支持體之間從而 形成待認證部件?？梢詫⑷廴跍囟鹊扔诨虻陀诠鈱W各向異性層的性質(zhì)不劣化時的溫度的樹脂用于 待認證部件。拉伸處理可產(chǎn)生撕裂性并改善開合性。因而，考慮到產(chǎn)品形式，可以在制造方法中 添加各種已知處理，這是因為預期可以提供各種機械性質(zhì)。[取向?qū)覿如上所述，可以將取向?qū)佑糜谛纬晒鈱W各向異性層。取向?qū)油ǔ？尚纬捎谥С煮w 或臨時支持體的表面上，或形成于在支持體或臨時支持體上形成的底涂層的表面上。取向 層具有控制設置于其上的液晶化合物的取向方向的功能，并且可以選自各種已知的取向 層，條件是其具有為光學各向異性層提供取向的功能。可以參考例如JP-A-2008-281989的 第W094] W099]段的描述形成取向?qū)印反射層]本發(fā)明的待認證部件中可以使用反射層或具有反射功能的支持體。具有反射功能 的支持體是指用作支持體時本身具有反射功能的材料，例如鋁箔。當通過偏光板從圖案化 光學各向異性層一側觀察該反射層或支持體時，可使基于雙折射圖案的潛像可見。反射層可以是但不限于諸如鋁或銀等金屬層。這種金屬層可以氣相沉積在支持體 或雙折射圖案制作材料上，或者可以進行金屬箔沖壓。具有這種金屬層的待認證部件能夠改善防靜電性能或阻氣性能，因而優(yōu)選用作精密儀器包裝材料等的待認證部件。除金屬層 之外，也可以使用以金色或銀色油墨等印刷的支持體等。并非必須為完全鏡面的表面，且表 面可以是無光澤的。作為另一選擇，根據(jù)本發(fā)明可以提供透明的待認證部件，并且可以以透明的待認 證部件包裹具有光澤表面的產(chǎn)品(例如盒或商品)，從而獲得與反射層相同的效果。[后粘合層]雙折射圖案制作材料可以具有后粘合層，從而雙折射圖案化部件能夠附著于另一
女口
廣 PFt ο[兩層或多于兩層的光學各向異性層]雙折射圖案制作材料可以具有兩層或多于兩層光學各向異性層。兩層或多于兩層 光學各向異性層可以在法線方向上彼此相鄰，也可以將另一功能性層夾于其間。兩層或多 于兩層光學各向異性層可以具有彼此幾乎相同的延遲，或相互不同的延遲。它們的慢軸可 以在彼此相同的方向上，或相互不同的方向上。作為其中使用了經(jīng)層壓而使慢軸在彼此相同方向上的兩層或多于兩層光學各向 異性層的雙折射圖案制作材料的實例，可以舉出制備具有較大延遲的圖案的情形。即使當 現(xiàn)有光學各向異性層不能滿足單一層中的所需的延遲時，也可以通過形成兩個或多于兩個 層的層壓體、然后對層壓體進行圖案曝光，從而容易地獲得包含具有較大延遲或復雜延遲 層次的區(qū)域的圖案化光學各向異性層。還可以使用具有經(jīng)層壓來使其慢軸在不同方向取向的兩層或多于兩層的光學各 向異性層的雙折射圖案制作材料。該情況下，例如，可以將潛像設置來使一個慢軸方向不同 于另一個慢軸方向。(雙折射圖案制作材料的制造方法)雙折射圖案制作材料的制造方法不受特殊限制。例如，可以通過下述方式制造雙 折射圖案制作材料在支持體上直接形成光學各向異性層；形成包含光學各向異性層的轉(zhuǎn) 印材料，然后將其轉(zhuǎn)印到另一支持體上；形成為自我支持的光學各向異性層；在自我支持 的光學各向異性層上形成另一功能性層；將支持體與自我支持的光學各向異性層貼合；等 等。當中，就避免對光學各向異性層的性質(zhì)的限制而言，優(yōu)選在支持體上直接形成光學各向 異性層的方法，和形成包含光學各向異性層的轉(zhuǎn)印材料然后將其轉(zhuǎn)印到另一支持體上的方 法。此外，就避免對支持體的限制而言，更優(yōu)選形成包含光學各向異性層的轉(zhuǎn)印材料然后將 其轉(zhuǎn)印到另一支持體上的方法。就具有兩層或多于兩層光學各向異性層的雙折射圖案制作材料的制造方法而言， 可以通過例如以下方式制造雙折射圖案制作材料在不同的雙折射圖案制作材料上直接形 成光學各向異性層；利用雙折射圖案制作材料作為轉(zhuǎn)印材料將光學各向異性層轉(zhuǎn)印在另一 種雙折射圖案制作材料上。下面將說明用作轉(zhuǎn)印材料的雙折射圖案制作材料。在本說明書中、尤其是下述實 施例中，用作轉(zhuǎn)印材料的雙折射圖案制作材料可以稱作“雙折射圖案生成用轉(zhuǎn)印材料”。[臨時支持體]用作轉(zhuǎn)印材料的雙折射圖案制作材料優(yōu)選形成在臨時支持體上。臨時支持體不 受特殊限制，可以是透明的或不透明的?？蓸嫵膳R時支持體的聚合物的實例包括纖維素酯(例如，乙酸纖維素、丙酸纖維素和丁酸纖維素)、聚烯烴(例如，降冰片烯類聚合物)、 聚(甲基)丙烯酸酯(例如，聚甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、聚酯、聚砜和降冰片烯類聚 合物。出于制造過程中的光學性質(zhì)檢驗的目的，支持體優(yōu)選選自透明的低雙折射性聚合物 膜。就低雙折射性的角度而言，優(yōu)選纖維素酯和降冰片烯類聚合物。低雙折射性聚合物膜 的實例包括纖維素酯膜和降冰片烯類聚合物膜?？梢允褂蒙藤従酆衔?，如降冰片烯類聚合 物、“ART0N"(商品名，JSRCorporation 制造)以及〃 ZEONEX〃和〃 ZE0N0R"(商品 名，ZE0NC0RP0RATI0N制造)。還可優(yōu)選使用廉價的聚碳酸酯或聚對苯二甲酸乙二醇酯等。[轉(zhuǎn)印用粘合層]轉(zhuǎn)印材料可以具有轉(zhuǎn)印用粘合層。轉(zhuǎn)印用粘合層不受特殊限制，只要該層透明無 色并具有充分的轉(zhuǎn)印性即可。實例包括利用粘合劑的粘合層、壓敏樹脂層、熱敏樹脂層和感 光樹脂層?？梢匀鏙P-A-2008-281989第WlOO] W119]段所述使用粘合劑、壓敏樹脂層 或感光樹脂層作為轉(zhuǎn)印用粘合層。在顯現(xiàn)潛像時，當偏振光穿過轉(zhuǎn)印用粘合層時，轉(zhuǎn)印用粘合層優(yōu)選具有不影響如 “支持體”部分所述的潛像的光學性質(zhì)。具體而言，其優(yōu)選為各向同性或優(yōu)選具有不影響潛 像顯現(xiàn)的延遲。(力學性質(zhì)控制層)在轉(zhuǎn)印材料的臨時支持體和光學各向異性層之間，優(yōu)選提供可控制機械特性和對 不均勻性(凹凸性)的追隨性的力學性質(zhì)控制層。作為力學性質(zhì)控制層，可以使用例如 JP-A-2008-281989的第W120]段所述的那些層。[中間層]出于在涂布多層的過程中和涂布后儲存的過程中防止成分混合的目的，轉(zhuǎn)印材料 優(yōu)選具有中間層。優(yōu)選用作中間層的有JP-A_5-72724中“分離層”所述的具有氧阻斷功能 的氧阻斷膜，或上述用于形成光學各向異性的取向?qū)印．斨?，特別優(yōu)選含有聚乙烯醇或聚乙 烯吡咯烷酮和其一種或多種衍生物的混合物的層。熱塑性樹脂層、氧阻斷層或取向?qū)右部?用作中間層。[剝離層]用作轉(zhuǎn)印材料的雙折射圖案制作材料可以包含處于臨時支持體上的剝離層 (delamination layer)。剝離層可控制臨時支持體與剝離層之間的粘合性、或剝離層與直 接層壓于其上的層之間的粘合性，并可發(fā)揮在光學各向異性層轉(zhuǎn)印后幫助臨時支持體剝離 的作用。例如取向?qū)印⒘W性質(zhì)控制層和中間層等上述其它功能性層可以充當剝離層。[表面保護層]優(yōu)選在雙折射圖案部件的表面上形成具有防污性或硬涂層性的表面保護層，從而 保護表面免受污染或損傷。表面保護層的性質(zhì)不受限制。表面保護層可以利用已知材料制 造并且可以由與支持體(臨時支持體)或任何其它功能性層相同或相似的材料制成。例如，表面保護層可以是由諸如聚四氟乙烯等氟樹脂制成的防污層或由包含多官 能團丙烯酸酯的丙烯酸類樹脂制成的硬涂層。而且，可以將防污層設置在硬涂層上，并且可 以將保護層設置在光學各向異性層或任何其它功能性層上。[其它功能性層]可以將上述功能性層與各種其它功能性層組合使用，所述其它功能性層例如有引起破壞或光學性質(zhì)改變從而使得不可能將雙折射圖案部件分離和再利用的功能性層；和 使得可與任何其它安全技術(例如，以不可見光顯現(xiàn)潛像的技術)組合的潛像層?？梢詫?構成待認證部件的任何其它層構造來使其具有不影響潛像形成的延遲，也可以考慮到上述 那些層的延遲或光學各向異性層中形成潛像所需的延遲值而進行設置。光學各向異性層、感光樹脂層、轉(zhuǎn)印用粘合層和可選形成的取向?qū)?、熱塑性樹?層、力學性質(zhì)控制層和中間層等各層可以通過諸如浸涂、氣刀刮涂、旋涂、狹縫涂布、幕涂、 輥涂、絲棒涂布(wire bar coating)、凹版涂布和擠出涂布(美國專利第2，681，294號) 等涂布來形成。兩層以上可以同時進行涂布。同時涂布法在美國專利第2，761，791號、第 2，941，898 號、第 3，508, 947 號、第 3，526，528 號和“Kotingu Kogaku (CoatingEngineering )，，(Yuji Harazaki 著，第 253 頁，Asakura Shoten(1973)出版)中有所描述。當將緊鄰光學各向異性層之上的層(例如，轉(zhuǎn)印用粘合層)涂布到光學各向異性 層時，可以向涂布液添加增塑劑或光聚合引發(fā)劑。因此，通過這些添加劑的滲透，可以同時 進行光學各向異性層的改性。(將轉(zhuǎn)印材料向轉(zhuǎn)印目標材料轉(zhuǎn)印的方法)將轉(zhuǎn)印材料向如支持體等轉(zhuǎn)印目標材料轉(zhuǎn)印的方法不受特殊限制，只要能將光 學各向異性層轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印目標材料上即可。例如，可以將膜形式的轉(zhuǎn)印材料貼附而使轉(zhuǎn) 印用粘合層的表面面向轉(zhuǎn)印目標材料的表面，然后在加熱下或非加熱下用通過層壓機加 熱和/或加壓的輥或平板進行壓制。層壓機和層壓方法的具體實例包括JP-A-7-110575、 JP-A-11-77942、JP-A-2000-334836 和 JP-A-2002-148794 中所述的那些層壓機和層壓方 法，其中就低污染而言優(yōu)選JP-A-7-110575中所述方法。轉(zhuǎn)印目標材料的實例包括支持體、含有支持體和另一功能性層的層壓結構體以及 雙折射圖案制作材料。(轉(zhuǎn)印中包含的步驟)在將雙折射圖案制作材料轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印目標材料上之后，可以將臨時支持體剝離或 不將其剝離。當不將臨時支持體剝離時，臨時支持體優(yōu)選具有適合于之后的圖案化曝光的 透明性和足以耐受烘焙步驟的耐熱性。該方法中可包括除去已隨光學各向異性層轉(zhuǎn)印的不 需要的層的步驟。例如，當在取向?qū)又惺褂镁垡蚁┐?聚乙烯吡咯烷酮共聚物時，可以通過 以弱堿性顯影用水溶液進行顯影來去除取向?qū)雍蜕厦娴膶?。顯影方法可以是任何已知方 法，例如槳式顯影(paddle development)、噴淋顯影(showerdevelopment)、噴淋旋轉(zhuǎn)顯影 和浸漬顯影。顯影液的溫度優(yōu)選為20°C 40°C，顯影液的pH優(yōu)選為8 13。根據(jù)需要，在臨時支持體剝離后或不需要的層去除后所剩余的表面上可以形成其 它層。根據(jù)需要，在臨時支持體剝離后或不需要的層去除后所剩余的表面上可以轉(zhuǎn)印另一 轉(zhuǎn)印材料。該轉(zhuǎn)印材料與此前轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印材料可以相同，也可以不同。此外，第一次轉(zhuǎn)印的 轉(zhuǎn)印材料中光學各向異性層的慢軸與第二次轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印材料中光學各向異性層的慢軸具 有相同或不同的方向。如上所述，對于產(chǎn)生帶有經(jīng)層壓而使慢軸方向相同的多個光學各向 異性層的具有較大延遲的雙折射圖案、和帶有經(jīng)層壓而使慢軸方向互不相同的多個光學各 向異性層的特定雙折射圖案，轉(zhuǎn)印多個光學各向異性層是有用的。[轉(zhuǎn)印時機]當在本發(fā)明的雙折射圖案的制造中進行轉(zhuǎn)印時，轉(zhuǎn)印的時機是任意的。具體而言，當在至少依次包括例如以下步驟的雙折射圖案的制造中進行轉(zhuǎn)印時涂布含有液晶化合物的液體并使其干燥；通過加熱或照射電離輻射線使一種反應基團反應；再次進行熱處理或照射電離輻射線從而使下述反應基團反應，所述反應基團包括 與上一步驟中反應的反應基團不同的反應基團；和使光學各向異性層中剩余的未反應的反應基團反應或鈍化(例如，在50°C以上且 400°C以下的溫度烘焙)，轉(zhuǎn)印可以在涂布含有液晶化合物的液體并使其干燥的步驟之后立即進行，可以在 通過加熱或照射電離輻射線使一種反應基團反應的步驟之后進行，或者可以在使剩余的未 反應的反應基團反應或鈍化的步驟之前或之后立即進行。該情形中，根據(jù)轉(zhuǎn)印時機，所用材料可能受到限制。例如當在涂布并干燥后立即進 行轉(zhuǎn)印時，材料必須由能夠耐受轉(zhuǎn)印并處于未反應狀態(tài)的液晶化合物制成。例如當如使剩 余的未反應的反應基團反應或鈍化的步驟那樣進行烘焙然后進行轉(zhuǎn)印時，待用作轉(zhuǎn)印前的 臨時支持體的材料必須是能夠耐受烘焙的材料。就能夠使用廣泛的材料的角度而言，轉(zhuǎn)印 優(yōu)選在通過加熱或照射電離輻射線使一種反應基團反應的步驟之后進行。[圖案形成的時機]在本發(fā)明的雙折射圖案的制造中，可以在進行熱處理或照射電離輻射線的任何步 驟時進行圖案樣熱處理或照射電離輻射線。具體而言，例如，在至少依次包括以下步驟的雙 折射圖案的制造中涂布含有液晶化合物的液體并使其干燥；通過加熱或照射電離輻射線使一種反應基團反應；和再次進行熱處理或照射電離輻射線從而使下述反應基團反應，所述反應基團包括 與上一步驟中反應的反應基團不同的反應基團，通過加熱或照射電離輻射線使一種反應基團反應的步驟可以以圖案化方式進行， 再次進行熱處理或照射電離輻射線從而使反應基團(該反應基團包括與上一步驟中反應 的反應基團不同的反應基團)反應的步驟可以以圖案化方式進行，或者這兩個步驟還可均 以圖案化方式進行。另一方面，當在雙折射圖案的制造中進行轉(zhuǎn)印時，所用材料可能根據(jù)進行圖案樣 熱處理或照射電離輻射線的時機而受到限制。例如，當以圖案化方式進行通過加熱或照射 電離輻射線使一種反應基團反應的步驟并在之后立即進行轉(zhuǎn)印的時候，材料必須由能夠耐 受轉(zhuǎn)印的液晶化合物制成同時存在未反應區(qū)域。就能夠使用廣泛的材料的角度而言，當在 雙折射圖案的制造過程中進行轉(zhuǎn)印時，在轉(zhuǎn)印前優(yōu)選進行非圖案樣熱處理或照射電離輻射 線。另一方面，當期望在轉(zhuǎn)印之后根據(jù)轉(zhuǎn)印后支持體或基材(底材)的形狀形成圖案 時，優(yōu)選的是，首先以非圖案化方式(全面)進行通過加熱或照射電離輻射線使一種反應基 團反應的步驟，然后進行轉(zhuǎn)印，之后以圖案化方式再次進行熱處理或照射電離輻射線從而 使反應基團(該反應基團包括與上一步驟中反應的反應基團不同的反應基團)反應的步 驟。下文將描述這種情況。[使用雙折射圖案部件的產(chǎn)品]
如上所述通過對雙折射圖案制作材料進行曝光和烘焙而獲得的本發(fā)明的待認證 部件在正常條件下幾乎是無色透明的。然而，當將其放置在兩片偏光板之間或反射層和偏 光板之間時，其就顯示出明顯的明暗圖案、或由來自經(jīng)調(diào)節(jié)的延遲的干涉產(chǎn)生的期望顏色， 這易于進行視覺識別。利用這種性質(zhì)，通過上述方法獲得的待認證部件可被用作例如防偽 手段。即，待認證部件通常是肉眼幾乎不可見的，而透過偏光板，圖案化雙折射產(chǎn)品能夠顯 示出易于鑒別的多色圖像。不帶有任何偏光板的雙折射圖案副本不顯示圖像，而通過偏光 板的副本顯示出不經(jīng)任何偏光板即肉眼可見的永久圖像。因此，難以將雙折射圖案復制。這 種制造雙折射圖案的方法并未廣泛傳播，并且需要不常用或特殊種類的材料。因此，可以考 慮將所述圖案化雙折射產(chǎn)品有利地改造作為防偽手段。除了防偽手段之外，所述產(chǎn)品的應用可以包括利用能夠顯示細致細節(jié)和/或多色 的潛像的信息顯示介質(zhì)或圖像顯示介質(zhì)。下面描述了利用本發(fā)明的觀察器的雙折射圖案認證用方法的具體的示例性實施 方式。將本發(fā)明的觀察器設置在雙折射圖案上從而相互適當平行。此時，可將觀察器層 壓在雙折射圖案上。作為另一種選擇，可以在它們之間留有處于一定范圍內(nèi)的間隔從而使 雙折射圖案的可見性不受該間隔的干擾。在此狀態(tài)下，從大概的法線方向目視觀察雙折射 圖案。本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方式是雙折射圖案認證用工具盒，該工具盒具有至少兩個 不同的觀察器，而所述觀察器中至少一個是本發(fā)明的觀察器。例如，可以在紙板上設置左右 窗并將本發(fā)明的觀察器附在一個或兩個窗上，從而形成工具盒。該情況中，形成工具盒從而 使得本發(fā)明的觀察器置于待認證部件一側。此外，當一個觀察器由本發(fā)明的觀察器形成時， 另一觀察器可以由本發(fā)明的觀察器形成。作為另一種選擇，可以將未經(jīng)改造的常規(guī)偏光板 用作另一觀察器?？梢允褂镁哂兄辽賰蓚€觀察器的工具盒從而可以連續(xù)地認證各種彩色圖 案，由此可以比一個觀察器更確切地確定真實性。作為本發(fā)明的雙折射圖案認證用工具盒，優(yōu)選的是，就位于待認證部件側面的光 學各向異性層的光軸和/或延遲而言，至少兩個觀察器彼此不同。例如，可以通過使一個觀 察器的偏光板的吸收軸方向與另一觀察器的偏光板的吸收軸方向不同的方式將兩個觀察 器附在上述兩個窗上，從而形成具有互不相同光軸的兩個觀察器。如上所述，就位于待認證部件側面的光學各向異性層的光軸和/或延遲而言，至 少兩個觀察器彼此不同，從而所述至少兩個觀察器使得具有互不相同顏色的潛像能夠可視 化。安裝在雙折射圖案認證用工具盒中的不同觀察器的數(shù)量沒有特殊限制。該數(shù)量優(yōu) 選為2 4。本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方式是其中觀察器一體化在待認證部件的一部分中的真 實性認證介質(zhì)。所述介質(zhì)的實例包括其中雙折射圖案設置在一個區(qū)域中而本發(fā)明的觀察器 設置在另一區(qū)域中的待認證部件，如禮券。例如，在上述觀察器一體型雙折射圖案中，使待 認證部件彎曲并將觀察器重疊在雙折射圖案上從而將觀察器的光學各向異性層置于雙折 射圖案側面。以這種方式，任何人在任何地點任何時間都能夠確定例如待認證部件的真實 性。
本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方式是利用上述雙折射圖案認證用觀察器或雙折射圖案 認證用工具盒進行真實性認證的方法。例如，通過將相位差膜設置在雙折射圖案側的方式， 通過雙折射圖案來觀察雙折射圖案認證用觀察器或雙折射圖案認證用工具盒。通過以這種 方式觀察，光軸圖案化的雙折射圖案可顯示多種顏色。結果，無需如旋轉(zhuǎn)偏光板等復雜工作 就可以認證和確認真實性。例如，在通過經(jīng)所述觀察器或工具盒觀察其中已在真品中形成 有上述雙折射圖案的待認證部件來確認具有至少3種顏色的潛像時，可以將待認證部件的 真實性鑒別為真品。本發(fā)明提供了能夠?qū)τ糜诜纻螛俗R等的雙折射圖案進行容易且確切認證的觀察 本發(fā)明的觀察器使得可以顯現(xiàn)雙折射圖案的多色潛像。另外，從前方視角還可以 將光軸圖案化潛像鑒別為多種顏色。因此，在不旋轉(zhuǎn)觀察器而通過觀察器觀察雙折射圖案 時，可以通過潛像的顏色確定真實性。結果，本發(fā)明的觀察器可縮短認證所需時間。因此，利用本發(fā)明的觀察器或使用該觀察器的工具盒可以以容易的方式確切地進 行確定待認證部件(例如使用雙折射圖案的防偽標識等)真/偽的真實性認證。實施例將基于下述實施例對本發(fā)明進行更詳細的描述。實施例中所示的應用和操作的任 何材料、試劑、量和比例均可被適當改變而不背離本發(fā)明的實質(zhì)和范圍。因此，應當理解本 發(fā)明不以任何方式受限于下述具體實施例。在以下實施例中，延遲是通過在KOBRA WR(商品名，Oji ScientificInstruments) 中以法線方向?qū)δふ丈洳ㄩL為550nm的光而測定的值。參考例1[雙折射圖案的制造](取向?qū)佑猛坎家篈L-I的制備)制備下述組合物，并通過孔徑為30 μ m的聚丙烯過濾器過濾，并將濾液用作取向 層形成用涂布液AL-I。
取向?qū)佑猛坎家篈L-I的組成(質(zhì)量％)
液晶取向劑(AL-1-1)1.0
四氫呋喃99.0 (取向?qū)佑猛坎家篈L-2的制備)制備下述組合物，并通過孔徑為30 μ m的聚丙烯過濾器過濾，并將濾液用作取向 層用涂布液AL-2。 (光學各向異性層用涂布液LC-I的制備)制備下述組合物，并通過孔徑為0. 2 μ m的聚丙烯過濾器過濾，并將濾液用作光學 各向異性層用涂布液LC-I。 (光學各向異性層用涂布液LC-2的制備)制備下述組合物，并通過孔徑為0. 2 μ m的聚丙烯過濾器過濾，并將濾液用作光學 各向異性層用涂布液LC-2。
LC-1-1是具有兩個反應基團的液晶化合物，所述兩個反應基團中一個是丙烯酸 基，即自由基反應基團，另一個是環(huán)氧丙烷基，即陽離子反應基團。LC-1-2是出于取向控制目的而添加的圓盤狀化合物。LC-1-2根據(jù)Tetrahedron Lett.，第43卷，第6793頁(2002)所述方法合成。
光學各向異性層用涂布液LC-2的組成(質(zhì)量％)
棒狀液晶(LC-1-1)32.59
水平取向劑(LC-1-2)0.02
陽離子光聚合引發(fā)劑(商品名CPIl00-P, SAN-APRO Co., Ltd.制造)0.66 聚合控制劑(商品名IRGANOX1076,
Chiba Speciality Chemicals Co., Ltd.制造)0.07
甲乙酮66.66(保護層用涂布液PL-1的制備)制備下述組合物，并通過孔徑為0. 2 μ m的聚丙烯過濾器過濾，并將濾液用作保護 層用涂布液PL-I。
(圖案曝光用光掩膜)實施例中使用了圖4(A) 4(E)和圖4(A’ ) 4(D’ )的平面圖中所示的光掩膜 11。分別地，圖4(A)顯示光掩膜A，圖4(B)顯示光掩膜B，圖4(C)顯示光掩膜C，圖4(D) 顯示光掩膜D，圖4(E)顯示光掩膜E，圖4(A’)顯示光掩膜A’，圖4(B’)顯示光掩膜B’，圖 4(C)顯示光掩膜C’，圖4(D’)顯示光掩膜D’。各光掩膜是厚度為2. Imm并以石英玻璃為 基材的乳膠掩膜。在圖4㈧ 4(D)和圖4(A’) 4(D’)中，黑暗區(qū)域的365nm波長的透 射率是0 %，而白色區(qū)域的365nm波長的透射率是92 %。光掩膜E是由字母“A”、字母“B”、字母“C”和背景等四個區(qū)域組成的濃度掩膜。各 區(qū)域中λ = 365nm的紫外光的透射率如表A所示。表 A (雙折射圖案BP-I的制造)在50 μ m厚的聚對苯二甲酸乙二酯膜(LUMIRR0R L-25T60 (商品名)，Toray Industries, Inc.制造)上沉積厚度為60nm的鋁層。之后，利用絲棒在鋁上涂布取向?qū)佑?涂布液AL-I并干燥。干膜厚度為0. 1 μ m。在以上獲得的有機膜上設置光掩膜A，然后以100mW/Cm2 (365nm)的強度經(jīng)由直線 偏光板(線性偏光板)由相對于支持體垂直的方向照射由紫外光照射器(EXECURE 3000,HOYA CANDEO 0PTR0NICSC0RP0RATI0N制造)發(fā)射的紫外光1秒鐘。此時，將偏光板安置來 使直線偏光板的吸收軸相對于光掩膜的長邊的方位角為0°。之后，依次將光掩膜分別變更為光掩膜B、光掩膜C和光掩膜D。將偏光板安置來 使直線偏光板的吸收軸相對于光掩膜的長邊分別處于45°、90°和135°的方向。在此條 件下，以與上述相同的方式照射紫外光。之后，利用絲棒在線性偏光板上涂布光學各向異性層用涂布液LC-1，然后在 105°C的膜表面溫度干燥2分鐘從而形成液晶相態(tài)。然后，利用160mW/cm2的氣冷金屬鹵化 物燈(EYE GRAPHICS CO.，LTD.制造)在空氣氛圍中在400mW/cm2的照度和400mJ/cm2的照 射量的條件下照射紫外光。結果，液晶相的取向態(tài)被固定從而形成0.9 μ m厚的光學各向異 性層，從而產(chǎn)生具有如圖5的平面圖所示圖案的BP-1。相對于BP-I的長邊，BP-I的字母A 12、字母B 13、字母C 14和背景15的延遲相 軸分別為0°、45°、90°和135°。這些區(qū)域的延遲均為135ηπι(λ/4)。(雙折射圖案制作材料TR-I的制造)對由具有易粘性的IOOym厚的聚對苯二甲酸乙二酯膜(C0SM0SHINE Α4100(商品 名)，Toyobo Co.，Ltd.制造)形成的臨時支持體的表面，利用絲棒涂布器順次涂布取向?qū)?用涂布液AL-2并干燥。所獲的層具有0.5μπι的干膜厚度。之后，通過在MD方向上摩擦而 形成取向?qū)樱⒂媒z棒對其涂布光學各向異性層用涂布液LC-2。在105°C的涂層表面溫度 干燥涂層2分鐘從而形成液晶相。然后利用160mW/cm2的氣冷金屬鹵化物燈(EYE GRAPHICS CO. ,LTD.制造)在空氣氛圍中通過紫外輻照對所涂布的層進行照射，以使所述液晶相的取 向態(tài)固定從而獲得3. 1 μ m厚的光學各向異性層。以此方式，制備了涂布有光學各向異性層 的樣品TRC-I。所用紫外光在UV-A范圍內(nèi)的照度是lOOmW/cm2 (320nm 400nm波長之間的 積分值)，在UV-A范圍內(nèi)的照射水平是80mJ/cm2。光學各向異性層在20°C時是固體聚合物 并顯示耐MEK (甲乙酮)性。之后，在光學各向異性層上涂布保護層用涂布液PL-I，然后干燥形成1. 2 μ m厚的 保護層，從而產(chǎn)生雙折射圖案形成用轉(zhuǎn)印材料TR-1。(轉(zhuǎn)印雙折射圖案制作材料TR-A、TR-B,TR-C和TR-D的制造)光掩膜A’、B’、C’和D’的尺寸彼此相同。從TR-I切下尺寸相同的4片作為光掩 膜。此時，以使片的長邊與MD(縱向)方向相同的方式切下第一片。同樣地，以片的長邊從 MD方向分別傾斜135°、90°和45°的方式切下第二片、第三片和第四片。相似地，分別在下述各片TR-I上利用光掩膜B’、C’和D’并對這些復合物中每一 個曝光來產(chǎn)生轉(zhuǎn)印雙折射圖案制作材料TR-B、TR-C和TR-D —片TR-I以該片的長邊與MD 方向傾斜135°的方式切下，一片TR-I以該片的長邊與MD方向傾斜90°的方式切下，一片 TR-I以該片的長邊與MD方向傾斜45°的方式切下。將光掩膜A’層壓在一片TR-I片上， 該TR-I片以該片的長邊與MD方向相同的方式切下。對此復合物，利用MIKASA CO.，LTD. 制造的M-3L掩膜分析儀以6. 25mff/cm2的曝光強度照射10秒鐘峰值波長為365nm的光，從 而產(chǎn)生雙折射圖案用轉(zhuǎn)印雙折射圖案制作材料TR-A。相似地，分別在下述各片TR-I上利用光掩膜B’、C’和D’并對這些復合物中每一 個曝光來產(chǎn)生轉(zhuǎn)印雙折射圖案制作材料TR-B、TR-C和TR-D —片TR-I以該片的長邊與MD 方向傾斜135°的方式切下，一片TR-I以該片的長邊與MD方向傾斜90°的方式切下，一片TR-I以該片的長邊與MD方向傾斜45°的方式切下。(雙折射圖案BP-2的制造)制備其上沉積有60nm的鋁的25 μ m厚的聚酰亞胺膜(KAPT0N200H，DU P0NT-T0RAY CO.，LTD制造)。在橡膠輥溫度為130°C、線性壓力為lOON/cm和傳送速度為1. 4m/分鐘的 條件下，利用層壓機(LAMICII，制造商Hitachi Industries Co. , Ltd.，現(xiàn) Hitachi Plant Technologies, Ltd.)將轉(zhuǎn)印雙折射圖案制作材料TR-A層壓至在100°C受熱2分鐘的聚酰 亞胺膜的鋁沉積表面上。層壓后，將臨時支持體與層壓體分離。在所獲材料上，以與上述相 同的方式層壓轉(zhuǎn)印雙折射圖案制作材料TR-B、TR-C和TR-D。之后，將所獲層壓體在200°C的清潔烘箱中烘焙30分鐘，從而制成具有與圖5的平 面圖中所示相同的圖案的雙折射圖案BP-2。BP-2的字母A 12、字母B 13、字母C 14和背景15的延遲相軸相對于BP-2的長邊 分別為0°、45°、90°和135°。這些區(qū)域的延遲均為270ηπι(λ/2)。(雙折射圖案ΒΡ-3的制造)具有與圖5的平面圖中所示相同的圖案的雙折射圖案ΒΡ-3的制造方式與雙折射 圖案BP-I相同，不同之處在于將支持體變?yōu)槠渖铣练e有60nm的鋁的50 μ m厚的噴砂聚對 苯二 甲酸乙二酯膜(LUMIRR0R L-25T60(商品名)，Toray Industries, Inc.制造)，而且光 學各向異性層的膜厚度變?yōu)?. 8 μ m。ΒΡ-3的字母A 12、字母B 13、字母C 14和背景15的延遲相軸相對于BP_3的長邊 分別為0°、45°、90°和135°。這些區(qū)域的延遲均為420ηπι(3λ/4)。(雙折射圖案ΒΡ-4的制造)制備其上沉積有60nm鋁的50 μ m厚的聚酰亞胺膜(ΚΑΡΤ0Ν 200H, DU P0NT-T0RAY C0.，LTD制造)。然后，在鋁上，利用絲棒順次涂布形成取向?qū)有纬捎猛坎家篈L-2，并干 燥。干膜厚度為0.5μπι。在MD方向摩擦取向?qū)雍螅媒z棒涂布光學各向異性層用涂布 液LC-2，并在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘從而形成液晶態(tài)。之后，在空氣中利用160mW/ cm2的氣冷金屬鹵化物燈(EYE GRAPHICS CO.，LTD.制造)對光學各向異性層照射紫外光， 由此固定取向態(tài)。結果，形成了 3. 5μπι厚的光學各向異性層，從而產(chǎn)生光學各向異性層涂 布的樣品TRC-2。此時，所用紫外光在UV-A范圍內(nèi)的照度(320nm 400nm波長的積分值) 為lOOmW/cm2，UV-A范圍內(nèi)的照射量為80mJ/cm2。光學各向異性層在20°C是固體聚合物并 顯示出耐MEK(甲乙酮)性。之后，在光學各向異性層上涂布保護層用涂布液PL-I并干燥從而制備1. 2 μ m厚 的保護層。利用MIKASA C0.，LTD.制造的M-3L掩膜分析儀和光掩膜E在6. 25mff/cm2的曝 光照度將所得膜曝光8. 2秒鐘。此時，將安置所述膜來使膜的MD方向相對于光掩膜的水平 軸為45°。然后，將已曝光的膜在200°C的烘箱中烘焙30分鐘。最后，進行常規(guī)印刷之后制成 了具有與圖5的平面圖中所示圖案相同的圖案的雙折射圖案BP-4。BP-4的字母A 12、字母B 13、字母C 14和背景15各自的延遲分別為143nm、 202nm、297nm和3nm。這些區(qū)域的延遲相軸均為45°的方向。比較例1(觀察器1)
將圖6的示意性截面圖中所示的偏光板21(超高對比線性偏光板，SANRITZ CORPORATION制造)指定為觀察器1。觀察器1的相位差(延遲)是0。實施例1(觀察器2)利用絲棒涂布器向80 μ m厚的三乙酰纖維素膜(Fuji Tac TD80,FujiPhoto Film Co.，Ltd.制造)表面涂布取向?qū)佑猛坎家篈L-2并干燥。所獲的層具有0.5μπι的干膜厚 度。然后通過在MD方向摩擦來形成取向?qū)?，并用絲棒對其涂布光學各向異性層用涂布液 LC-1。涂層在105°C的涂層表面溫度干燥2分鐘從而形成液晶相。然后通過利用160mW/cm2 的氣冷金屬鹵化物燈(EYE GRAPHICS CO.，LTD.制造)的紫外輻照在空氣氛圍中照射所涂 布的層以固定取向態(tài)，從而獲得0. 9 μ m厚的光學各向異性層。相位差膜的延遲相軸在MD的方向上。延遲為135nm( λ /4)。如圖7的示意性截面圖所示，通過從超高對比線性偏光板21 (SANRITZ CORPORATION制造)的吸收軸的逆時針方向?qū)⑾辔徊钅?2的延遲相軸旋轉(zhuǎn)45°的方式，利 用粘合劑將相位差膜22貼合在偏光板上。所得產(chǎn)品被指定為觀察器2。實施例2(觀察器3)如圖8的示意性截面圖所示，通過從超高對比線性偏光板21 (SANRITZ CORPORATION制造)的吸收軸的逆時針方向?qū)屋S拉伸膜23的延遲相軸旋轉(zhuǎn)45°的方式， 利用粘合劑將單軸拉伸膜23貼合在偏光板上。所得產(chǎn)品被指定為觀察器3。實施例3(觀察器4)觀察器4的制造方式與觀察器2相同，不同之處在于光學各向異性層的膜厚度變 為2.8 μ m。此時，相位差膜的延遲是420ηπι(3λ/4)。實施例4(雙折射圖案認證用工具盒1)如圖9的平面圖所示，制備了具有制出于紙板中的2厘米X 2厘米的窗31和窗32 的 4 厘米 X 7. 5 厘米的紙板 33 (OK BOURU (商品名)，Oji PaperCo.，Ltd.制造，310g/m2)。 以單軸拉伸膜23處于底部并且偏光板21的吸收軸在與紙板33的長邊成90°的方向上的 方式，將圖8所示的實施例2的觀察器3放置在紙板左側的窗31上。以單軸拉伸膜23處 于底部并且偏光板21的吸收軸在與紙板33的長邊成45°的方向上的方式，將觀察器3放 置在紙板右側的窗32上。如此獲得雙折射圖案認證用工具盒1。實施例5(雙折射圖案認證用工具盒2)以與實施例4相同的方式，制備具有制出于紙板中的2厘米X 2厘米的窗31和窗 32的4厘米X 7. 5厘米的紙板33。以單軸拉伸膜23處于底部并且偏光板21的吸收軸在 與紙板33的長邊成90°的方向上的方式，將圖8所示的實施例2的觀察器3放置在紙板左 側的窗31上。以偏光板21的吸收軸在與紙板33的長邊成90°的方向上的方式，將觀察器 1放置在紙板右側的窗32上。測試例1
對于以普通肉眼觀察時呈現(xiàn)為反射性銀色膜的雙折射圖案BP-1，通過比較例1的 觀察器1以將其設置來使觀察器1的吸收軸處于與雙折射圖案BP-I的長邊成90°的方向 上的方式進行觀察。結果，字母“A”和“C”顯得明亮，而其它部分顯得黑暗。當將觀察器1 旋轉(zhuǎn)45°時，明部和暗部反轉(zhuǎn)。偏光板的旋轉(zhuǎn)使得可以進行真實性的確定。然而，當需要進 行大量真實性確定時，使用比較例1的觀察器1是沒效率的。測試例2對于以普通肉眼觀察時呈現(xiàn)為反射性銀色膜的雙折射圖案BP-2，通過比較例1的 觀察器1進行觀察。結果，字母“A”和“C”看起來明亮，而其它部分呈現(xiàn)綠色。當將觀察器 1旋轉(zhuǎn)45°時，明部和綠色反轉(zhuǎn)。偏光板的旋轉(zhuǎn)使得可以進行真實性的確定。然而，當需要 進行大量真實性確定時，使用比較例1的觀察器1是沒效率的。測試例3通過比較例1的觀察器1觀察雙折射圖案BP-3。結果，字母“A”和“C”看起來明 亮，而其它部分呈現(xiàn)紫色。當將觀察器1旋轉(zhuǎn)45°時，明部和紫色反轉(zhuǎn)。偏光板的旋轉(zhuǎn)使得 可以進行真實性的確定。然而，當需要大量進行真實性確定時，使用比較例1的觀察器1是 沒效率的。測試例4通過實施例1的觀察器2觀察雙折射圖案BP-1。此時，相位差膜被設置在雙折射 圖案BP-I側面。結果，字母“A”和“C”呈現(xiàn)淺綠色；字母“B”呈現(xiàn)綠色；背景呈現(xiàn)灰色。如 此可以以肉眼觀察由3種顏色構成的圖案。測試例5通過實施例2的觀察器3觀察雙折射圖案BP-1。此時，相位差膜被設置在雙折射 圖案BP-I側面。結果，字母“A”和“C”呈現(xiàn)淺灰色；字母“B”呈現(xiàn)紫色；背景呈現(xiàn)深藍色。 如此可以以肉眼清楚地觀察由3種顏色構成的圖案。測試例6通過實施例2的觀察器3觀察雙折射圖案BP-2。此時，相位差膜被設置在雙折射 圖案BP-2側面。結果，字母“A”和“C”呈現(xiàn)淺黃綠色；字母“B”呈現(xiàn)綠色；背景呈現(xiàn)灰色。 如此可以以肉眼觀察由3種顏色構成的圖案。測試例7通過觀察器3觀察雙折射圖案BP-3。此時，相位差膜被設置在雙折射圖案BP-3側 面。結果，字母“A”和“C”呈現(xiàn)淺黃綠色；字母“B”呈現(xiàn)綠色；背景呈現(xiàn)灰色。如此可以以 肉眼清楚地觀察由3種顏色構成的圖案。測試例8通過觀察器4觀察雙折射圖案BP-I。此時，相位差膜設置在雙折射圖案BP-I側 面。結果，字母“A”和“C”呈現(xiàn)灰色；字母“B”呈現(xiàn)綠色；背景呈現(xiàn)黃綠色。如此可以以肉 眼觀察由3種顏色構成的圖案。測試例1 8的結果綜合顯示在表1中。表1 (此處，雙折射圖案的相位差和觀察器的相位差分別表示雙折射圖案的正面延遲 和觀察器的光學各向異性層的正面延遲)表1中，關于鑒別性評價的標記“C”是指由于潛像由兩種顏色形成，鑒別程度較 低。相反，標記“B”是指由于潛像由3種顏色形成，鑒別程度較高，但3種顏色中的兩種具 有彼此相似的色調(diào)。進而，標記“A”表示由于潛像由色調(diào)互不相同的3種顏色形成，鑒別性 非常優(yōu)異。如表1所示，比較例1的觀察器1能夠在視覺上區(qū)分不超過兩種顏色的圖案，因此 除非旋轉(zhuǎn)觀察器，否則不能確定真實性。相反，當使用實施例1 3的觀察器2 4時，可 以在視覺上區(qū)分由3種顏色構成的圖案，因此不旋轉(zhuǎn)偏光板就可以確定真實性。特別是當 使用觀察器3時，因為3種顏色的色調(diào)相互明顯不同，視覺區(qū)分進一步得到改善。測試例9利用實施例4的雙折射圖案認證用工具盒1觀察BP-I。當通過位于左側的觀察器 觀察時，在深藍色背景中觀察到灰色字母“A”和“C”以及紫色字母“B”。另外，當通過位于 右側的觀察器觀察時，在透明背景中觀察到紫色字母“A”和深藍色字母“C”。測試例10利用實施例5的雙折射圖案認證用工具盒2觀察BP-I。當通過位于左側的觀察器 觀察時，在深藍色背景中觀察到灰色字母“A”和“C”以及紫色字母“B”。另外，當通過位于 右側的觀察器觀察時，在深藍色背景中觀察到灰色字母“A”和“C”。如測試例9和10所示，使用具有兩個或多于兩個觀察器的工具盒使得可以更加確 切地確定真實性。測試例11對于以普通肉眼觀察時呈現(xiàn)為印刷的反射性銀色膜的雙折射圖案BP-4，通過比較 例1的觀察器1以設置來使觀察器1的吸收軸處于與雙折射圖案BP-4的長邊成90°的方 向上的方式進行觀察。結果，字母“A”、“B”、“C”和背景看起來分別是深藍色、黃綠色、黃色和灰色。測試例12以與試驗例11相同的方式觀察雙折射圖案BP-4，不同之處在于使用實施例1的 觀察器2作為觀察器。結果，字母“A”、“B”和“C”各區(qū)域和背景的顏色分別變?yōu)辄S綠色、橙 色、紫色和深藍色。測試例13以與試驗例11相同的方式觀察雙折射圖案BP-4，不同之處在于使用實施例2的 觀察器3作為觀察器。結果，字母“A”、“B”和“C”各區(qū)域和背景的顏色分別變?yōu)樽仙⑺{綠 色、黃色和綠色。如測試例11 13所示，通過觀察器1的觀察仍然展現(xiàn)出一定的鑒別程度，而使用 觀察器2或3使得可以表現(xiàn)出更豐富的顏色。結果，鑒別性進一步得到改善。實施例6(觀察器一體型雙折射圖案)如圖10的平面圖所示，將信息印刷在紙板41上。圖中由42標識的區(qū)域的背景以 銀色油墨印刷，而金額部分“￥10，000”以紅色油墨印刷。之后，在區(qū)域42上涂布取向?qū)佑猛坎家篈L-1，然后干燥。在如此涂布的取向?qū)由?設置有圖11(a)的平面圖所示的光掩膜44(以文字“genuine”(“真”)作為透射區(qū)域的石英 玻璃乳膠掩膜)。然后，從與支持體垂直的方向，以100mW/Cm2 (365nm)的強度經(jīng)線性偏光板 對光掩膜照射1秒鐘由紫外光照射器(EXECURE 3000,HOYA CANDEO 0PTR0NICSCORPORATION 制造)發(fā)射的紫外光。此時，將偏光板安置來使線性偏光板的吸收軸相對于紙板41的長邊 的方位角為45°。隨后，依次將光掩膜變?yōu)閳D11(b)的平面圖所示的光掩膜45(以文字“春萬円 (一萬日元)”作為透射區(qū)域的石英玻璃乳膠掩膜)和圖11(c)的平面圖所示的光掩膜 46 (以文字“genuine”和“春萬円”作為透射區(qū)域的石英玻璃乳膠掩膜)。另外，將線性偏 光板安置來使偏光板的各吸收軸相對于紙板41的長邊分別為90°和135°。之后，以與上 述相同的方式進行紫外光的照射。光掩膜44 46中每一個的平面形狀與區(qū)域42的外形 幾乎相同。此外，將光學各向異性層用涂布液LC-I涂布在線性偏光板上，然后在105°C的膜 表面溫度干燥2分鐘從而形成液晶相態(tài)。然后，在照度為400mW/cm2和照射量為400mJ/cm2 的條件下，利用160mW/cm2的氣冷金屬鹵化物燈(EYE GRAPHICS CO.，LTD.制造)在空氣氛 圍中照射紫外光。結果，將液晶相的取向態(tài)固定從而形成0.9μπι厚的光學各向異性層。以上得到的圖案化形式的文字“genuine”、文字“春萬円”和背景中每一個的延遲 相軸相對于紙板41的長邊分別為45°、90°和135°。這些區(qū)域均顯示135nm的延遲。之后，可將圖10所示的區(qū)域43揭起。將圖8所示的實施例2的觀察器3放在該 區(qū)域從而使單軸拉伸膜設置在前側并且偏光板的吸收軸朝向90°的方向。這樣就制成了觀 察器一體型雙折射圖案BP-5。測試例14以普通肉眼觀察時，圖10所示禮券的區(qū)域42呈現(xiàn)為銀色背景印刷上的紅色印制 的“￥10，000”。然而，當將禮券的右下部分摳起而與窗部分重疊，即區(qū)域43在區(qū)域42上時，紫色文字“genuine”出現(xiàn)在“￥10，000”之上，而灰色文字“春萬円”出現(xiàn)在“￥10，000”
下。此時，背景部分為深藍色。在觀察器一體型雙折射圖案BP-5中，任何人在任何地點任 何時間都可以確定禮券的真實性，而無需單獨準備觀察器，因為觀察器已經(jīng)嵌入禮券。已就本文中的實施方式對本發(fā)明進行了描述，其意圖在于，除非另外指出，否則本 發(fā)明不限于所述描述的任何細節(jié)，而且應當在所附權利要求記述的本發(fā)明的實質(zhì)和范圍內(nèi) 對本發(fā)明進行寬泛的理解。本申請要求于2009年5月26日在日本遞交的專利申請第2009-126829號的優(yōu)先 權，將其全部內(nèi)容以參考方式并入本文。
權利要求
一種用于對具有雙折射性彼此不同的至少兩個區(qū)域的雙折射圖案進行認證的觀察器，其中，所述觀察器包括偏光板和層壓在所述偏光板上的至少一個光學各向異性層，所述至少一個光學各向異性層的正面延遲為5nm以上，并且所述至少一個光學各向異性層的正面延遲與所述雙折射圖案的正面延遲的最大值之和大于λ/2。
2.如權利要求1所述的觀察器，其中，所述觀察器鑒別根據(jù)光軸方向形成的雙折射圖案。
3.如權利要求2所述的觀察器，其中，所述雙折射圖案的正面延遲為(ηι/2+1/8)λ (V2+3/8) λ，其中ηι代表0或大于0的整數(shù)。
4.如權利要求2或3所述的觀察器，其中，所述觀察器的至少一個光學各向異性層的正 面延遲為(η2/2-1/8) λ (η2/2+1/8) λ，其中η2代表自然數(shù)。
5.如權利要求1所述的觀察器，其中，所述觀察器鑒別其中延遲被圖案化的雙折射圖案。
6.一種雙折射圖案認證用工具盒，其中，所述工具盒包括至少兩個觀察器，而至少一個 所述觀察器是如權利要求1 5中任一項所述的觀察器。
7.如權利要求6所述的雙折射圖案認證用工具盒，其中，就設置于待認證部件側面的 光學各向異性層的光軸和/或延遲中的至少一項而言，所述至少兩個觀察器互不相同。
8.一種真實性認證介質(zhì)，所述介質(zhì)包含處于待認證部件的一部分中的如權利要求1 5中任一項所述的觀察器。
9.一種真實性認證方法，所述方法包括使用如權利要求1 5中任一項所述的觀察器 或如權利要求6或7所述的雙折射圖案認證用工具盒。
10.如權利要求9所述的真實性認證方法，所述方法包括通過所述雙折射圖案認證用觀察器或工具盒觀察其中所述雙折射圖案形成在真品中 的待認證部件，和確認由至少3種顏色組成的潛像，從而認證所述待認證部件的真實性。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種觀察器和工具盒、真實性認證介質(zhì)和真實性認證方法。所述觀察器是一種用于對具有雙折射性彼此不同的至少兩個區(qū)域的雙折射圖案進行認證的觀察器，其中所述觀察器包括偏光板和層壓在所述偏光板上的至少一個光學各向異性層，所述至少一個光學各向異性層的正面延遲為5nm以上，并且所述至少一個光學各向異性層的正面延遲與所述雙折射圖案的正面延遲的最大值之和大于λ/2。
文檔編號G02B27/02GK101900847SQ20101018980
公開日2010年12月1日 申請日期2010年5月26日 優(yōu)先權日2009年5月26日
發(fā)明者兼巖秀樹, 網(wǎng)盛一郎, 鈴木聰美, 高橋弘毅 申請人:富士膠片株式會社