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      光學(xué)元件及其制造方法

      文檔序號:2755428閱讀:132來源:國知局
      專利名稱:光學(xué)元件及其制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及環(huán)境耐久性改善的光學(xué)元件及其制造方法,特別涉及使用磷酸玻璃等 作為玻璃材料時,抑制光學(xué)元件的灰霧、變質(zhì)、改善環(huán)境耐久性的光學(xué)元件及其制造方法。
      背景技術(shù)
      近年來,將玻璃透鏡等光學(xué)玻璃元件模壓成型,不對成型面進(jìn)行研磨而可以直接 使用的直接模壓成型法受到關(guān)注。在提高低模壓成型溫度下的加工性時,調(diào)節(jié)該模壓成型法中使用的玻璃材料的組 成以使玻璃化轉(zhuǎn)變溫度降低。例如,特別是為了實(shí)現(xiàn)低玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,已知通過將玻璃的 組成體系從石英玻璃變更為磷酸玻璃可以實(shí)現(xiàn)成型溫度的大幅降低。不過,使用磷酸玻璃時環(huán)境耐久性顯著下降,對此,即使通過形成防反射膜等光學(xué) 功能膜對表面進(jìn)行保護(hù),有時環(huán)境耐久性也不好。另外,不僅限于模壓成型用玻璃材料,光學(xué)玻璃中還存在優(yōu)先考慮光學(xué)性能而以 磷酸為主成分的磷酸玻璃和在磷酸玻璃中進(jìn)一步添加有氟的氟磷酸玻璃。這些玻璃由于優(yōu) 先考慮光學(xué)性能,因此在環(huán)境耐久性低的狀態(tài)下使用,但是,該低環(huán)境耐久性在實(shí)用上成為 大的問題。如上所述,將環(huán)境耐久性差的玻璃材料實(shí)用化時,以往通過下述方法等進(jìn)行改善 (1)采用氧化鋁等的致密膜作為防反射膜的第一層從而防止水分進(jìn)入(例如,參考專利文 獻(xiàn)1),或者(2)將無覆膜(未二一卜)透鏡的整個面用防反射膜等膜覆蓋以消除水分的影 響(例如,參考專利文獻(xiàn)2),或者(3)防反射膜的形成方法不是通過通常的真空蒸鍍而是采 用使用IAD(離子束輔助成膜)的真空蒸鍍,或者(4)著眼于模壓成型品的表面變質(zhì)層,形 成SiO2膜作為表面變質(zhì)層上的第一層,以提高玻璃與防反射膜的密合性(例如,參考專利 文獻(xiàn)3)。另外,上述現(xiàn)有例(1)和(4)中稱為第一層的是與芯玻璃接觸的層。另外,上述現(xiàn) 有例(4)中稱為表面變質(zhì)層的是在專利文獻(xiàn)3中所述的受到模壓成型時的熱影響而產(chǎn)生的 變質(zhì)層。專利文獻(xiàn)1 日本特開平9-159803號公報專利文獻(xiàn)2 日本特開平2-178601號公報專利文獻(xiàn)3 日本特開平1-287501號公報

      發(fā)明內(nèi)容
      但是,已知⑴的方法中,無論第一層形成多么致密的膜,由于玻璃在帶覆膜(二 一卜付t )透鏡的側(cè)面露出,因此如果放置在濕度高的環(huán)境中,則磷酸成分從側(cè)面溶出并 與帶覆膜透鏡光學(xué)面的表面反應(yīng),結(jié)果在帶覆膜透鏡上產(chǎn)生灰霧。另外,在(2)的方法中,由于帶覆膜透鏡的側(cè)面也由膜覆蓋,因此磷酸不溶出從而 具有防止灰霧的效果,但是,由于其采用的是可以一次涂布整個面的浸漬涂布,該方法中使 用的化學(xué)品具有溶解玻璃的作用,因此當(dāng)浸漬環(huán)境耐久性差的玻璃材料時,有時玻璃表面
      3發(fā)生白濁或者玻璃本身溶解而消失,因此能夠應(yīng)用的玻璃材料受到限制。另外,如果想使用通常的蒸鍍方法進(jìn)行(2)這樣的整面涂布,則側(cè)面難以進(jìn)行涂 布,如果僅涂布光學(xué)功能面則通常通過表里兩次成膜可以完成,但是加上側(cè)面的成膜,成膜 次數(shù)大幅增加到約4 6次,并且產(chǎn)生需要特殊的工具或者難以確保光學(xué)功能面的防反射 膜的性能等各種問題。另外,(3)的方法對于加強(qiáng)膜的密合性是有效的,但是,由于帶覆膜透鏡的側(cè)面露 出,因此與(1)的方法同樣有時在帶覆膜透鏡上產(chǎn)生灰霧。另外,IAD方式中裝置的價格比 通常的真空蒸鍍的情況大幅提高,因此成本上也存在問題。另外,在(4)的方法中,雖然SiO2與氧化鋁同樣為致密膜,但是,無論第一層形成 多么致密的膜,由于玻璃在帶覆膜透鏡的側(cè)面露出,因此如果放置在濕度高的環(huán)境中,則磷 酸成分從側(cè)面溶出并與帶覆膜透鏡光學(xué)面的表面反應(yīng),結(jié)果在帶覆膜透鏡上產(chǎn)生灰霧。另 外,在SiO2的單層膜的情況下,帶覆膜透鏡上不產(chǎn)生灰霧,但是,作為防反射膜的特性(反 射率)比通常的氟化鎂的情況下劣化約2%,因此存在帶覆膜透鏡性能下降的缺點(diǎn)。如上所述,現(xiàn)有方法中,耐久性差的玻璃材料、特別是磷酸玻璃的環(huán)境耐久性還未 提高到完全耐受實(shí)用的水平,而且不能充分確保帶覆膜透鏡的光學(xué)特性。本發(fā)明的目的在于提供即使是包含環(huán)境耐久性差的磷酸玻璃或氟磷酸玻璃的玻 璃制光學(xué)元件,在高溫高濕下長時間保持時表面也不產(chǎn)生灰霧等劣化、變質(zhì)的光學(xué)元件及 其制造方法。本發(fā)明人為了提高使用環(huán)境耐久性差的玻璃材料、特別是磷酸玻璃的光學(xué)元件的 環(huán)境耐久性,對以防反射膜為代表的光學(xué)功能膜的形成進(jìn)行了各種研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),在光學(xué) 功能膜的最表面層采用與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)是非常有效的。S卩,本發(fā)明的光學(xué)元件,涉及以下[1] [4]的光學(xué)元件及[5] [9]的制造方法。[1] 一種光學(xué)元件,具有包含磷酸玻璃或氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃以及在所述光學(xué) 玻璃的表面形成的光學(xué)功能膜,其中,所述光學(xué)功能膜包含以不同材質(zhì)形成的兩層以上的膜,所述光學(xué)功能膜的最表面層由與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)形成。[2]如[1]所述的光學(xué)元件,其中,所述光學(xué)功能膜的最表面層為氧化物膜。[3]如[2]所述的光學(xué)元件,其中,所述氧化物膜包含選自由3102、々1203、103、 La203、HfO2, Ta2O5, TiO2, ZrO2和Nb2O5構(gòu)成的組中的至少一種材質(zhì)。[4]如[1] [3]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)元件,其中,所述光學(xué)功能膜的最表面層的 膜厚為5nm以上且450nm以下。[5] 一種光學(xué)元件的制造方法,在包含磷酸玻璃或氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃的表面 形成光學(xué)功能膜,所述光學(xué)功能膜通過將以不同材質(zhì)形成的兩層以上的膜依次層疊而形 成,其中,由與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)形成所述光學(xué)功能膜的最表面層。[6]如[5]所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,通過使用電子槍蒸發(fā)源的真空蒸鍍 成膜法形成所述光學(xué)功能膜。[7]如[6]所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,通過使用電子槍蒸發(fā)源的等離子體 輔助或離子輔助蒸鍍成膜法形成所述光學(xué)功能膜。
      [8]如[5]所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,通過濺射成膜法形成所述光學(xué)功能膜。[9]如[5] [8]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,所述包含磷酸玻璃 或氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃,通過將光學(xué)玻璃成型材料加熱軟化并利用成型模具進(jìn)行模壓而 得到。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)元件,以磷酸玻璃或氟磷酸玻璃作為玻璃材料的光學(xué)玻璃的表 面上形成的光學(xué)功能膜,即使在高溫高濕環(huán)境中也不受侵蝕,可以有效地抑制灰霧的產(chǎn)生。另外,根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)元件的制造方法,可以利用現(xiàn)有的制造方法,廉價地制造 即使在高溫高濕環(huán)境下也不產(chǎn)生灰霧的環(huán)境耐久性改善的光學(xué)元件。


      圖1是本發(fā)明的一個實(shí)施方式的光學(xué)元件的剖視圖。
      圖2是形成本發(fā)明的光學(xué)功能膜時使用的真空蒸鍍裝置的概略構(gòu)成圖。
      圖3是表示現(xiàn)有例1中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖4是表示比較例1中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖5是表示實(shí)施例1中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖6是表示實(shí)施例2中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖7是表示實(shí)施例3中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖8是表示現(xiàn)有例2中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖9是表示實(shí)施例4中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖10是表示現(xiàn)有 歹3中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖11是表示實(shí)施 歹5中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖12是表示實(shí)施 歹6中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖13是表示現(xiàn)有 歹4中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖14是表示實(shí)施 歹7中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖15是表示實(shí)施 歹8中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖16是表示實(shí)施 歹9中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖17是表示實(shí)施 歹10中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖18是表示實(shí)施 歹11中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖19是表示現(xiàn)有 歹5中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖20是表示實(shí)施 歹12中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖21是表示現(xiàn)有 歹6中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖22是表示實(shí)施 歹13中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖23是表示現(xiàn)有 歹7中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖24是表示實(shí)施 歹14中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖25是表示現(xiàn)有 歹8中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖26是表示實(shí)施 歹15中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      圖27是表示實(shí)施 歹16中波長與光譜反射率之間的關(guān)系的圖。
      標(biāo)號說明
      1光學(xué)元件2芯玻璃3光學(xué)功能膜11真空室12加熱器13半球形罩14抽真空口15氣體導(dǎo)入口16蒸發(fā)源17電子槍
      具體實(shí)施例方式本發(fā)明的光學(xué)元件,如上所述其特征在于,通過在磷酸玻璃或氟磷酸玻璃制的光 學(xué)玻璃的表面上形成光學(xué)功能膜而得到。而且,該光學(xué)功能膜是通過將以不同材質(zhì)形成的 兩種以上的膜依次層疊而形成的,其特征在于,其最表面層由與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)構(gòu) 成。以下,參考附圖對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。圖1是表示本發(fā)明的光學(xué)元件的一例的概略構(gòu)成的剖視圖。在此,光學(xué)元件1包 含芯玻璃2、和在其表面上形成的包含第一層膜3a和和最表面層(第二層膜)3b兩層的光 學(xué)功能膜3。在此,芯玻璃2包含磷酸玻璃或氟磷酸玻璃,通過作為光學(xué)玻璃進(jìn)行加工而得到。 該芯玻璃2可以通過公知的光學(xué)玻璃制造方法得到。光學(xué)玻璃(無覆膜透鏡)可以通過將 玻璃材料切割、剪圓(丸力)、粗磨(荒f >0 )、中磨(砂力)、細(xì)磨(研磨)、定中心磨邊 (芯取”),或者通過模壓成型將玻璃材料模壓、定中心磨邊來得到。另外,作為芯玻璃2的玻璃材料,可以列舉例如具有表1 表3所示組成(質(zhì) 量%)的磷酸玻璃或氟磷酸玻璃。關(guān)于這些玻璃材料,一并列出其折射率(nd)、阿貝數(shù) (vd)、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)、屈服溫度(At)。表 權(quán)利要求
      一種光學(xué)元件,具有包含磷酸玻璃或氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃以及在所述光學(xué)玻璃的表面形成的光學(xué)功能膜,其中,所述光學(xué)功能膜包含以不同材質(zhì)形成的兩層以上的膜,所述光學(xué)功能膜的最表面層由與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)形成。
      2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件,其中,所述光學(xué)功能膜的最表面層為氧化物膜。
      3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)元件,其中,所述氧化物膜包含選自由Si02、A1203、Y203、 La2O3> HfO2, Ta2O5, TiO2, ZrO2和Nb2O5構(gòu)成的組中的至少一種材質(zhì)。
      4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)元件,其中,所述光學(xué)功能膜的最表面層的膜 厚為5nm以上且450nm以下。
      5.一種光學(xué)元件的制造方法,在包含磷酸玻璃或氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃的表面形成光 學(xué)功能膜,所述光學(xué)功能膜通過將以不同材質(zhì)形成的兩層以上的膜依次層疊而形成,其中,由與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)形成所述光學(xué)功能膜的最表面層。
      6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,通過使用電子槍蒸發(fā)源的真空蒸 鍍成膜法形成所述光學(xué)功能膜。
      7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,通過使用電子槍蒸發(fā)源的等離子 體輔助或離子輔助蒸鍍成膜法形成所述光學(xué)功能膜。
      8.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,通過濺射成膜法形成所述光學(xué)功 能膜。
      9.如權(quán)利要求5至8中任一項(xiàng)所述的光學(xué)元件的制造方法,其中,所述包含磷酸玻璃或 氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃,通過將光學(xué)玻璃成型材料加熱軟化并利用成型模具進(jìn)行模壓而得 到。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及光學(xué)元件,具有包含磷酸玻璃或氟磷酸玻璃的光學(xué)玻璃以及在所述光學(xué)玻璃的表面形成的光學(xué)功能膜,其中,所述光學(xué)功能膜包含以不同材質(zhì)形成的兩層以上的膜,所述光學(xué)功能膜的最表面層由與磷酸的反應(yīng)性低的物質(zhì)形成。
      文檔編號G02B1/10GK101937109SQ201010218320
      公開日2011年1月5日 申請日期2010年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月26日
      發(fā)明者宮崎直, 高橋通人 申請人:旭硝子株式會社
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