專利名稱：多色調(diào)光掩模的制造方法及圖案轉(zhuǎn)印方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在光刻工序中使用的多色調(diào)光掩模的制造方法及圖案轉(zhuǎn)印方法。
背景技術(shù)：
以往，在制造液晶顯示裝置等電子設(shè)備時采用光刻工藝。在光刻工序中，使用光掩 模對形成于待蝕刻的被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜轉(zhuǎn)印預(yù)定圖案，使該抗蝕劑膜顯影而形成抗蝕 劑圖案，然后把該抗蝕劑圖案作為掩模來進(jìn)行被轉(zhuǎn)印體的蝕刻。采用多色調(diào)光掩模作為光掩模，對被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，形成具有級 差的抗蝕劑圖案，這種技術(shù)已被公知(參照日本特開2006-268035號公報(bào))。關(guān)于除了遮光 部、透光部之外還具有使曝光光的一部分透射的半透光部的多色調(diào)光掩模，可以根據(jù)部位 改變透射過該多色調(diào)光掩模的曝光光的光量，由此在被轉(zhuǎn)印體上形成殘膜值隨部位而異的 第1抗蝕劑圖案。然后，通過利用灰化使第1抗蝕劑圖案整體減少，由此可以形成第2抗蝕 劑圖案。由此，減少制造工藝中的光刻工序的次數(shù)，同時能夠減少在該工序中使用的光掩模 的數(shù)量，所以非常有用。另一方面，在這種多色調(diào)光掩模的制造方法中，為了形成預(yù)期形狀 的抗蝕劑圖案，半透光部的圖案形狀、形成半透光部的膜質(zhì)(膜的材料)、膜厚的確定等是 很重要的。在使用多色調(diào)光掩模進(jìn)行光刻工序的情況下，所要形成的第1抗蝕劑圖案的形狀 控制會對下一工序中使用的以第2抗蝕劑圖案作為掩模的薄膜蝕刻的線寬控制產(chǎn)生較大 影響，盡管如此，但該第1抗蝕劑圖案的形狀控制往往還是根據(jù)經(jīng)驗(yàn)來進(jìn)行的。特別的，對 抗蝕劑圖案的形狀的薄膜蝕刻產(chǎn)生較大影響的因素是該抗蝕劑圖案的線寬和膜厚值。因 此，在對曝光后的抗蝕劑膜進(jìn)行顯影時，旨在在獲得預(yù)期線寬的時刻保留預(yù)期的抗蝕劑殘 膜(獲得預(yù)期范圍的抗蝕劑殘膜值)，反復(fù)進(jìn)行蝕刻的條件設(shè)定，確定最佳條件。但是，當(dāng)在各蝕刻工序中通過反復(fù)進(jìn)行條件設(shè)定來確定最佳條件的情況下，存在 再現(xiàn)性和穩(wěn)定性不足、且花費(fèi)時間的問題。并且，這樣有損光刻工序的再現(xiàn)性和穩(wěn)定性，所 以還存在對液晶顯示裝置等電子設(shè)備的性能穩(wěn)定性和制造成本造成不良影響的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述情況而提出的，其目的之一在于，提供一種多色調(diào)光掩模的 制造方法及圖案轉(zhuǎn)印方法，能夠在光刻工序中準(zhǔn)確控制抗蝕劑圖案的形狀，提高再現(xiàn)性和 穩(wěn)定性。本發(fā)明的一個方式是多色調(diào)光掩模的制造方法，該多色調(diào)光掩模具有包括透光 部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案，針對形成在要被蝕刻 加工的被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜，轉(zhuǎn)印預(yù)定圖案，使抗蝕劑膜構(gòu)成為抗蝕劑圖案，該抗蝕劑圖 案成為蝕刻加工中的掩模，其中，制造方法包括如下步驟掌握抗蝕劑膜所使用的抗蝕劑相 對于曝光光的抗蝕劑特性；根據(jù)抗蝕劑特性來確定半透光部對于曝光光的實(shí)效透射率；以 及根據(jù)實(shí)效透射率至少對形成在透明基板上的遮光膜進(jìn)行構(gòu)圖，由此形成半透光部。
根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，預(yù)先掌握在光刻工序中使用的抗蝕劑膜的特性，根據(jù)考慮顯影后 的抗蝕劑圖案的形狀而確定的半透光部的實(shí)效透射率，來制作多色調(diào)光掩模，所以能夠制 造可準(zhǔn)確控制抗蝕劑圖案的形狀的多色調(diào)光掩模。由此，能夠提高光刻工序的再現(xiàn)性和穩(wěn) 定性。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，抗蝕劑特性是利用抗蝕劑特 性曲線來規(guī)定的，該抗蝕劑特性曲線表示曝光光的曝光量與抗蝕劑相對于該曝光量的減膜 量之間的關(guān)系。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，可以根據(jù)所確定的實(shí)效透射 率、半透光部的圖案形狀和曝光機(jī)的曝光條件，來確定半透光部的膜透射率，根據(jù)半透光部 的膜透射率來形成該半透光部。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，能夠抑制下述情況在實(shí)際曝光時，實(shí)際 透射過半透光部的光的透射率由于半透光部的圖案形狀和曝光條件，相對實(shí)效透射率而變動。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，可以在透明基板上利用下述 遮光膜圖案來形成半透光部，該遮光膜圖案具有多色調(diào)光掩模的曝光時所使用的曝光機(jī)的 分辨極限以下的尺寸。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，可以使用形成于透明基板上 的半透光膜來形成半透光部。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，可以根據(jù)通過半透光部的透 射光而形成于被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案相對于抗蝕劑膜的初始膜厚的減膜量t，來確定半 透光部的實(shí)效透射率。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，在使用正性抗蝕劑的情況下，也由于減膜量與曝光量 具有相關(guān)關(guān)系而易于進(jìn)行光致抗蝕劑的設(shè)計(jì)。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，能夠構(gòu)成為多色調(diào)光掩模 的半透光部具有實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部和第2半透光部，該制造方法包括如 下步驟根據(jù)抗蝕劑特性分別確定第1半透光部的目標(biāo)實(shí)效透射率和第2半透光部的目標(biāo) 實(shí)效透射率。在本發(fā)明的多色調(diào)光掩模的制造方法的一個方式中，可以根據(jù)通過第1半透光部 的透射光而形成于被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案相對于抗蝕劑膜的初始膜厚的減膜量^，來確 定第1半透光部的目標(biāo)實(shí)效透射率，并且根據(jù)通過第2半透光部的透射光而形成于被轉(zhuǎn)印 體上的抗蝕劑圖案相對于抗蝕劑膜的初始膜厚的減膜量t2，來確定第2半透光部的實(shí)效透 射率。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，在通過多色調(diào)光掩模對形成于具有級差的被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn) 行曝光的情況下，也可以使通過第1半透光部曝光的抗蝕劑圖案與通過第2半透光部曝光 的抗蝕劑圖案的殘膜值大致相同。本發(fā)明的圖案轉(zhuǎn)印方法的一個方式使用按照上述任一種制造方法制造的多色調(diào) 光掩模，對被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，由此在被轉(zhuǎn)印體上形成抗蝕劑圖案。本發(fā)明的圖案轉(zhuǎn)印方法的一個方式包括如下步驟在具有級差的被轉(zhuǎn)印體上形成 抗蝕劑膜，以及通過使用多色調(diào)光掩模對被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，由此在被轉(zhuǎn)印 體上形成抗蝕圖案，該圖案轉(zhuǎn)印方法使用通過上述制造方法制造的具有第1半透光部和第 2半透光部的多色調(diào)光掩模，作為多色調(diào)光掩模，使形成在具有級差的被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑 圖案的抗蝕劑殘膜值形成為大致相同。
根據(jù)本發(fā)明的一個方式，預(yù)先掌握在光刻工序中使用的抗蝕劑膜的特性，根據(jù)考 慮顯影后的抗蝕劑圖案的形狀而確定的半透光部的實(shí)效透射率，來制作多色調(diào)光掩模，所 以能夠制造可準(zhǔn)確控制抗蝕劑圖案的形狀的多色調(diào)光掩模。并且，使用這種多色調(diào)光掩模 進(jìn)行光刻工序，由此能夠提高再現(xiàn)性和穩(wěn)定性。


圖1是說明多色調(diào)光掩模的制造方法的步驟的一例的圖。圖2是說明使用多色調(diào)光掩模進(jìn)行光刻工序的情況的圖。圖3是說明使用多色調(diào)光掩模進(jìn)行光刻工序的情況的圖。圖4是說明使用了多色調(diào)光掩模的電子器件制造方法的圖。圖5是說明承接圖4的、使用了多色調(diào)光掩模的電子器件制造方法的圖。圖6是說明適用于電子器件制造方法的多色調(diào)光掩模的一例的圖。圖7是說明抗蝕劑特性曲線的圖。圖8是表示半透光膜的配置及實(shí)效透射率的圖。
具體實(shí)施例方式(實(shí)施方式1)圖2示出使用多色調(diào)光掩模100進(jìn)行光刻工序的情況，該多色調(diào)光掩模100具有 包括透光部102、遮光部103以及使曝光光的一部分透射的半透光部104的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案。 抗蝕劑膜105形成在要被實(shí)施蝕刻加工的被轉(zhuǎn)印體106上，通過對該抗蝕劑膜105轉(zhuǎn)印多 色調(diào)光掩模100的圖案，由此可以使抗蝕劑膜105成為第1抗蝕劑圖案107，該第1抗蝕劑 圖案107作為被轉(zhuǎn)印體106的第1蝕刻加工中的掩模(參照圖2㈧、(B))。然后，利用灰化 處理使第1抗蝕劑圖案107整體減少，成為第2抗蝕劑圖案108，該第2抗蝕劑圖案108作 為被轉(zhuǎn)印體106的第2蝕刻加工中的掩模(參照圖2(C))，然后使用該第2抗蝕劑圖案108 對被轉(zhuǎn)印體106進(jìn)行蝕刻，由此可以進(jìn)行預(yù)期的構(gòu)圖(參照圖2(D))。下面，說明在圖2所示的光刻工序中使用的多色調(diào)光掩模100的制造方法的一例。首先，在進(jìn)行光刻工序之前的階段(制造多色調(diào)光掩模之前(圖2(A)之前)的 階段)，掌握形成于被轉(zhuǎn)印體106上的抗蝕劑膜105所使用的抗蝕劑特性(參照圖1 (步驟 1))。關(guān)于掌握抗蝕劑特性，可以通過掌握抗蝕劑相對于照射抗蝕劑膜105的光(曝光 光)的減膜量來進(jìn)行。具體地講，可以利用表示曝光光的曝光量與抗蝕劑相對于該曝光量 的減膜量之間的關(guān)系的抗蝕劑特性曲線，來規(guī)定抗蝕劑特性。簡單說明抗蝕劑特性曲線的制作方法的一例。首先，在基板上形成具有預(yù)定膜厚 的抗蝕劑膜。然后，以預(yù)定曝光量向該抗蝕劑膜照射曝光光，對該抗蝕劑膜進(jìn)行顯影，然后 求出顯影后的抗蝕劑膜相對于初始膜厚的減膜量。這樣，可以通過分別求出抗蝕劑相對于 預(yù)定曝光量的減膜量，來制作抗蝕劑特性曲線。但是，抗蝕劑特性曲線的制作方法不限于 此，只要能規(guī)定照射抗蝕劑的光的曝光量與該抗蝕劑相對于該曝光量的減膜量之間的關(guān) 系，則可以采用任何方法。另外，在制作上述抗蝕劑特性曲線時，作為曝光光，可以設(shè)定對實(shí)際光刻工序中的曝光裝置的曝光條件進(jìn)行模擬的條件。這里，所謂模擬曝光條件是指曝光波長近似，例如在 曝光光具有波長區(qū)域的情況下，指光強(qiáng)度最大的曝光波長相同的情況?；蛘撸缫部梢赃x 擇以強(qiáng)度比為1 1 1的比率包含i線、h線、g線的照射光，作為與實(shí)際曝光光近似的 光。并且，所謂模擬曝光條件是指光學(xué)系統(tǒng)近似，例如指成像系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑)大致相 同、或者σ (相干度)大致相同。這里，關(guān)于NA大致相同，示例了相對于實(shí)際曝光裝置的NA 在士0.005范圍內(nèi)的情況。關(guān)于ο大致相同，示例了相對于實(shí)際曝光裝置的σ在士0.005 范圍內(nèi)的情況。然后，實(shí)際在光刻工序中對抗蝕劑膜105進(jìn)行顯影而形成第1抗蝕劑圖案107的 情況下，確定作為半透光部104區(qū)域(通過半透光部104被曝光的區(qū)域)的目標(biāo)的抗蝕劑 膜105的減膜量t (參照圖1 (步驟2))。作為目標(biāo)的抗蝕劑膜105的減膜量t小于該抗蝕 劑膜105的初始膜厚值t0即可，可以由實(shí)施者適當(dāng)設(shè)定。另外，可以將遮光部103區(qū)域的 抗蝕劑膜105的減膜量設(shè)為0，將透光部102區(qū)域的抗蝕劑膜的減膜量設(shè)為t0。然后，確定多色調(diào)光掩模100的半透光部104相對于曝光光的實(shí)效透射率Ta(參照 圖1(步驟3))。在本說明書中，所謂實(shí)效透射率是指除了膜固有的透射率，還包括圖案的形 狀(尺寸或線寬(⑶=Critical Dimension))和曝光機(jī)的光學(xué)條件(光學(xué)波長、數(shù)值孔徑、 σ值等)因素的透射率，指反映了實(shí)際曝光環(huán)境的透射率(確定透過光掩模所照射的光量 的實(shí)效透射率)。例如，在確定了作為半透光部的目標(biāo)的實(shí)效透射率并固定了半透光部的圖 案形狀及曝光環(huán)境中的光學(xué)條件后，可以根據(jù)該實(shí)效透射率來設(shè)計(jì)光掩模的半透光部。可以使用曝光量&和曝光量Et，利用下式(1)來求出實(shí)效透射率ΤΑ，該曝光量&與 上述步驟2中求出的作為抗蝕劑膜105的目標(biāo)的減膜量t相應(yīng)，曝光量Et是光刻工序中的 曝光光的曝光量。另外，與抗蝕劑膜105的減膜量t對應(yīng)的曝光量&可以根據(jù)在上述步驟 1中制作的抗蝕劑特性曲線來求出，曝光量Et可以設(shè)為在光刻工序中實(shí)際曝光的曝光量。TA = EL/ET......(1)可以通過在上述步驟3中確定半透光部的實(shí)效透射率TA，來確定多色調(diào)光掩模 100的半透光部104的制作條件。在多色調(diào)光掩模100上設(shè)置實(shí)效透射率彼此不同的多個 半透光部的情況下，根據(jù)各個半透光區(qū)域的抗蝕劑膜的減膜量來分別確定實(shí)效透射率Ta即可。然后，根據(jù)所得到的實(shí)效透射率Ta制作多色調(diào)光掩模(參照圖1 (步驟4))。例如， 通過至少對形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行構(gòu)圖，由此制作在透明基板101上具有包括透 光部102、遮光部103以及使曝光光的一部分透射的半透光部104的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案的多色調(diào) 光掩模100。此時，半透光部104的透射率根據(jù)在上述步驟3得到的實(shí)效透射率Ta來確定。半透光部104的結(jié)構(gòu)可以通過把半透光膜設(shè)為均勻膜，也可以通過形成細(xì)微圖案 來設(shè)置，該細(xì)微圖案是對遮光膜或半透光膜進(jìn)行曝光條件下的分辨極限以下的構(gòu)圖而得到 的。在利用半透光膜來形成半透光部104的情況下，根據(jù)預(yù)先確定的實(shí)效透射率TA，來確定 能實(shí)現(xiàn)該實(shí)效透射率Ta的膜透射率和圖案形狀即可。在利用遮光膜或半透光膜的細(xì)微圖案 來形成半透光部的情況下，根據(jù)預(yù)先確定的實(shí)效透射率TA，來確定能實(shí)現(xiàn)該實(shí)效透射率Ta 的膜透射率和圖案形狀即可。另外，關(guān)于細(xì)微圖案，也可以通過在由半透光膜形成的半透光 部中配置細(xì)微的透光部和/或遮光部來形成?？梢酝ㄟ^以上工序，來制造多色調(diào)光掩模。在本實(shí)施方式中，預(yù)先掌握在光刻工序中使用的抗蝕劑膜的特性，根據(jù)考慮顯影后的抗蝕劑圖案的形狀而確定的半透光部的實(shí)效 透射率Ta，來制作多色調(diào)光掩模，所以可以制作能準(zhǔn)確控制抗蝕劑圖案形狀的多色調(diào)光掩 模。并且，在本實(shí)施方式中，在顯影后在被轉(zhuǎn)印體上存在想要得到的抗蝕劑圖案的膜厚(殘 膜值)時，不是根據(jù)該殘膜值，而是根據(jù)通過顯影而相對于抗蝕劑膜的初始膜厚減少的減 膜值，來進(jìn)行多色調(diào)光掩模的設(shè)計(jì)。這樣，通過根據(jù)減膜值來設(shè)計(jì)光掩模，能夠容易地進(jìn)行 設(shè)計(jì)。這是因?yàn)樵谑褂谜钥刮g劑的情況下，減膜值與曝光量之間存在直接的相關(guān)關(guān)系。另 一方面，殘膜值與曝光量之間不一定直接相關(guān)。(實(shí)施方式2)在本實(shí)施方式中，具體說明根據(jù)在上述圖1的步驟3確定的實(shí)效透射率Ta來制作 多色調(diào)光掩模的半透光部的情況。在使用半透光膜形成多色調(diào)光掩模的半透光部時，可以根據(jù)預(yù)先得到的實(shí)效透射 率Ta確定半透光部的膜透射率，控制半透光膜的膜質(zhì)和膜厚以實(shí)現(xiàn)該膜透射率。另外，在 本說明書中，膜透射率是指在透明基板上形成半透膜而構(gòu)成半透光區(qū)域時，相對于曝光條 件下的分辨極限足夠大的面積(例如20 μ mX20 μ m 口以上，即長和寬各為20 μ m以上)處 半透光區(qū)域的透射率。因此，在多色調(diào)光掩模的半透光部的圖案形狀足夠大的情況下，作為 “實(shí)效透射率4半透光部的膜透射率”，可以控制半透光膜的膜質(zhì)和膜厚來設(shè)計(jì)光掩模。另一方面，在半透光部的圖案形狀較小(面積或?qū)挾任⑿?的情況下，優(yōu)選考慮半 透光部的圖案形狀和曝光光的光學(xué)條件等，使半透光部的膜透射率反映實(shí)效透射率TA。這 是因?yàn)椋诎胪腹獠康膱D案形狀變小時，由于在該半透光部的圖案的端部產(chǎn)生的曝光光的 衍射的影響，在實(shí)際曝光時半透光部的透射率發(fā)生變化。即，在使用半透光膜形成光掩模的 半透光部時，如果通過控制膜質(zhì)和膜厚把半透光部的膜透射率設(shè)定為與實(shí)效透射率Ta相同 的值，則根據(jù)半透光部的圖案形狀和曝光光的波長等光學(xué)條件，在實(shí)際曝光時有時不能獲 得想要得到的實(shí)效透射率TA。在這種情況下，導(dǎo)致第1抗蝕劑圖案的減膜量不同于預(yù)先確 定的減膜量t。因此，按照上面所述，根據(jù)預(yù)先得到的實(shí)效透射率Ta、半透光部的圖案形狀和曝光 機(jī)的曝光條件來確定半透光部的膜透射率，并根據(jù)該膜透射率形成半透光部，由此可以抑 制下述情況實(shí)際透過半透光部的光的透射率由于半透光部的圖案形狀和曝光條件，相對 于想要得到的實(shí)效透射率Ta而變動(使實(shí)際透射的透射光的透射率與想要得到的實(shí)效透 射率Ta近似)。確定半透光部的膜透射率的工序可以在上述圖1中確定實(shí)效透射率Ta(步 驟3之后)后進(jìn)行。通常，半透光部的圖案越細(xì)微或者曝光光的波長越長，則相比于半透光部的膜透 射率，實(shí)際透射的透射光的光強(qiáng)度分布越差。因此，在想要制造的多色調(diào)光掩模中，在半透 光部的圖案形狀較小的情況下，有效的方式是設(shè)定成使半透光部中形成的半透光膜的膜透 射率比預(yù)先得到的實(shí)效透射率Ta高。另外，在半透光部的圖案形狀較小的情況下確定該半透光部的膜透射率時，掌握 半透光部的預(yù)定圖案形狀中的膜透射率和與該膜透射率對應(yīng)的實(shí)效透射率之間的相關(guān)關(guān) 系，根據(jù)所掌握的相關(guān)關(guān)系進(jìn)行確定。例如，可以通過執(zhí)行如下步驟來掌握半透光部的圖案 形狀中的膜透射率與實(shí)效透射率之間的相關(guān)關(guān)系，所述步驟包括對形成有預(yù)定測試圖案 的測試掩模進(jìn)行測試曝光，利用攝像單元獲取該測試掩模的透射光圖案，根據(jù)所獲取的透射光圖案獲得透射光圖案數(shù)據(jù)；根據(jù)該透射光圖案數(shù)據(jù)獲得曝光條件下測試圖案的實(shí)效透 射率。由此，可以根據(jù)所得到的實(shí)效透射率和半透光部的圖案形狀，來確定半透光部的膜透 射率，并確定形成該半透光部的膜質(zhì)、膜厚。并且，在獲得透射光圖案數(shù)據(jù)的步驟中，使用具 有多個測試圖案的測試掩模，該測試圖案具有遮光部、透光部和半透光部，并且半透光部的 圖案形狀、形成半透光部的膜質(zhì)或膜厚中的任意一個半透光部特性不同，根據(jù)由多個測試 掩模得到的多個透射光圖案數(shù)據(jù)，掌握半透光部的特性和與該半透光部的特性對應(yīng)的實(shí)效 透射率的相關(guān)關(guān)系，由此可以根據(jù)半透光部的圖案形狀和所得到的實(shí)效透射率，可靠地確 定形成半透光部的膜質(zhì)、膜厚。并且，預(yù)先對半透光膜的圖案形狀、膜質(zhì)、膜厚等半透光部特性、和與該半透光部 特性對應(yīng)的實(shí)效透射率的關(guān)系制作數(shù)據(jù)庫，根據(jù)該數(shù)據(jù)庫、半透光部的圖案形狀以及預(yù)先 得到的實(shí)效透射率Ta進(jìn)行仿真，由此可以確定半透光部的膜透射率。例如，對具有遮光部、 透光部和半透光部，并且半透光部的圖案形狀、形成該半透光部的膜質(zhì)或膜厚中的任意一 個半透光部特性不同的多個測試掩模，進(jìn)行測試曝光，利用攝像單元獲取這些測試掩模的 透射光圖案。然后根據(jù)獲取到的透射光圖案獲得透射光圖案數(shù)據(jù)，根據(jù)該透射光圖案數(shù)據(jù) 獲得曝光條件下的實(shí)效透射率，由此可以按照固定的規(guī)則對半透光部的特性和與其對應(yīng)的 實(shí)效透射率制作數(shù)據(jù)庫。由此，可以根據(jù)半透光部的圖案形狀和所得到的實(shí)效透射率，來迅 速地確定形成半透光部的膜質(zhì)和膜厚。(實(shí)施方式3)在本實(shí)施方式中，說明具有實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部和第2半透光部 的多色調(diào)光掩模的制造方法、以及使用該多色調(diào)光掩模進(jìn)行光刻工序的情況。圖3示出使用多色調(diào)光掩模200進(jìn)行光刻工序的情況，該多色調(diào)光掩模200具有 透光部202、遮光部203、實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部204a和第2半透光部204b。 下面，說明在圖3(A) (C)所示的光刻工序中使用的多色調(diào)光掩模200的制造方法的一 例。并且，在下面的說明中說明如下情況，即，在具有級差的被轉(zhuǎn)印體206上形成抗蝕劑膜 205，使通過第1半透光部204a的透射光而形成于被轉(zhuǎn)印體206的級差上的第1抗蝕劑圖 案207的膜厚、與通過第2半透光部204b的透射光而形成于被轉(zhuǎn)印體206上的第1抗蝕劑 圖案207的膜厚形成為大致相同。首先，通過上述圖1的步驟1 步驟3，掌握抗蝕劑膜205的抗蝕劑特性(步驟1)， 然后確定抗蝕劑膜205的減膜量(步驟2)，分別確定第1半透光部204a和第2半透光部 204b相對于曝光光的實(shí)效透射率Ta (步驟3)。這里，確定第1半透光部的減膜值^和第2 半透光部的減膜值t2，以使在顯影后第1半透光部204a區(qū)域的抗蝕劑圖案與第2半透光部 204b區(qū)域的抗蝕劑圖案的膜厚大致相同。在圖3所示的情況下，由于在具有級差的部分設(shè) 置第1半透光部204a，因此、< t2。具體地講，使第2半透光部的減膜值t2比第1半透光 部的減膜值、大被轉(zhuǎn)印體206的級差部分的膜厚(高度)那么多。然后，根據(jù)第1半透光部204a的減膜值、和第2半透光部204b的減膜值t2，分 別確定第1半透光部204a的實(shí)效透射率Ta和第2半透光部204b的實(shí)效透射率TA。然后， 可以根據(jù)所得到的實(shí)效透射率TA，來制造多色調(diào)光掩模200(步驟4)。多色調(diào)光掩模200的 第1半透光部204a的膜透射率和第2半透光部204b的膜透射率分別根據(jù)所得到的實(shí)效透 射率Ta來確定。另外，當(dāng)在同一光掩模上設(shè)置不同膜透射率的多個半透光部的情況下，分別控制形成各個半透光部的半透光膜的膜質(zhì)和膜厚即可。并且，如在上述實(shí)施方式2中說 明的那樣，優(yōu)選在分別確定了第1半透光部204a的實(shí)效透射率Ta和第2半透光部204b的 實(shí)效透射率Ta后，根據(jù)第1半透光部204a和第2半透光部204b各自的圖案形狀和曝光機(jī) 的曝光條件，確定第1半透光部和/或第2半透光部的膜透射率，根據(jù)該膜透射率形成第1 半透光部和/或第2半透光部。這樣，在制造具有實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部和第2半透光部的多色調(diào) 光掩模時，根據(jù)通過顯影相對于抗蝕劑膜的初始膜厚而減少的減膜值，來設(shè)計(jì)多色調(diào)光掩 模，由此可以在具有級差的被轉(zhuǎn)印體上形成膜厚大致相同的抗蝕劑圖案。另外，在上述說明中，示出了制造具有實(shí)效透射率彼此不同的兩種半透光部的多 色調(diào)光掩模的情況，但不限于此，也可以形成具有實(shí)效透射率彼此不同的三種以上的半透 光部的多色調(diào)光掩模。(實(shí)施方式4)在本實(shí)施方式中，參照圖4說明使用多色調(diào)光掩模來制造電子器件的情況以及該 多色調(diào)光掩模的制造方法。這里作為一例，說明具有晶體管的液晶顯示裝置的制造工藝。首先，在絕緣表面300上形成導(dǎo)電層，然后在該導(dǎo)電層上形成第1抗蝕劑膜，使用 光刻工序?qū)υ搶?dǎo)電層進(jìn)行蝕刻，由此形成柵極301 (參照圖4 (A))。然后，在柵極301上依次 層疊形成柵絕緣層302、非晶硅層303、摻雜硅層304和導(dǎo)電層305 (參照圖4 (B))。然后，在導(dǎo)電層305上形成第2抗蝕劑膜306 (參照圖4 (C))，之后使用第1多色調(diào) 光掩模307使第2抗蝕劑膜306顯影，由此形成第2抗蝕劑膜306的第1抗蝕劑圖案308 (參 照圖4(D))。第1多色調(diào)光掩模307如上述圖2所示，可以采用在透明基板上具有包括透 光部、遮光部及半透光部的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案的結(jié)構(gòu)，也可以使用上述實(shí)施方式1、2所示的方 法來制造。即，掌握第2抗蝕劑膜306所使用的抗蝕劑的特性，確定半透光部區(qū)域的第2抗 蝕劑膜的減膜值，然后根據(jù)該減膜值確定半透光部的實(shí)效透射率Ta，根據(jù)該實(shí)效透射率Ta 制造第1多色調(diào)光掩模307。另外，在半透光部的圖案形狀較小的情況下，如上述實(shí)施方式 2所示，也可以考慮半透光部的圖案形狀和曝光光的光學(xué)條件等，使用所得到的實(shí)效透射率 來求出半透光部的膜透射率。然后，把第1抗蝕劑圖案308作為掩模，對導(dǎo)電層305、摻雜硅層304和非晶硅層 303進(jìn)行蝕刻(參照圖4(E))。然后，對第1抗蝕劑圖案308進(jìn)行灰化處理使其整體減少， 形成第2抗蝕劑膜306的第2抗蝕劑圖案309 (參照圖4(F))。然后，把第2抗蝕劑圖案 309作為掩模，對導(dǎo)電層305、摻雜硅層304和非晶硅層303進(jìn)行蝕刻，由此形成具有溝道形 成區(qū)、源區(qū)、漏區(qū)、源極和漏極的薄膜晶體管(參照圖4(G))。另外，這里作為一例示出了形 成溝道蝕刻型晶體管的情況，該晶體管在作為溝道形成區(qū)發(fā)揮作用的非晶硅層的一部分形 成有凹部。然后，在形成鈍化膜310后，在該鈍化膜310上形成第3抗蝕劑膜311 (參照圖 4(H))。作為鈍化膜可以使用氮化硅膜等。并且，第3抗蝕劑膜311利用涂布法(旋涂法) 形成，所以在級差上形成第3抗蝕劑膜311的情況下，該第3抗蝕劑膜311的表面也是大致 平坦的。然后，使用至少具有實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部和第2半透光部的第2 多色調(diào)光掩模312，使第3抗蝕劑膜311顯影，由此形成第3抗蝕劑膜311的第1抗蝕劑圖 案313 (參照圖4(1))。第2多色調(diào)光掩模312可以采用在透明基板上具有包括透光部、遮光部及第1半透光部和第2半透光部的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案的結(jié)構(gòu)，也可以使用上述實(shí)施方式3 所示的方法來制造。即，掌握第3抗蝕劑膜311所使用的抗蝕劑的特性，來分別設(shè)定第1半 透光部區(qū)域的第3抗蝕劑膜311的減膜值、及第2半透光部區(qū)域的第3抗蝕劑膜311的 減膜值t2，然后根據(jù)這些減膜值確定第1半透光部的實(shí)效透射率Ta及第2半透光部的實(shí)效 透射率TA，根據(jù)這些實(shí)效透射率Ta制造第2多色調(diào)光掩模312。在進(jìn)行顯影后，可以預(yù)先調(diào) 整第1半透光部的減膜值^和第2半透光部的減膜值t2，以使第1半透光部區(qū)域的第1抗 蝕劑圖案313和第2半透光部區(qū)域的第1抗蝕劑圖案313的膜厚(殘膜值)大致相同(參 照圖6)。另外，在第1半透光部和/或第2半透光部的圖案形狀較小的情況下，如上述實(shí)施 方式2所示，也可以考慮第1半透光部和/或第2半透光部的圖案形狀和曝光光的光學(xué)條 件等，使第1半透光部和/或第2半透光部的膜透射率反映所得到的實(shí)效透射率TA。然后，把第1抗蝕劑圖案313作為掩模，對鈍化膜310進(jìn)行蝕刻，使作為源極或漏 極發(fā)揮作用的導(dǎo)電層的一部分露出(參照圖4(J))。然后，對第1抗蝕劑圖案313進(jìn)行灰化 處理使其整體厚度減少，形成第3抗蝕劑膜的第2抗蝕劑圖案314 (參照圖5 (K))。這里，由 于第1半透光部區(qū)域的第1抗蝕劑圖案313和第2半透光部區(qū)域的第1抗蝕劑圖案313的 膜厚形成為大致相同，因此可以通過灰化完全去除形成在雙方區(qū)域中的第1抗蝕劑圖案。 然后，以與作為源極或漏極發(fā)揮作用的導(dǎo)電層電連接的方式形成透明導(dǎo)電層315(參照圖 5(L)) 0此時，透明導(dǎo)電層315也形成在第3抗蝕劑膜的第2抗蝕劑圖案314上。作為透明 導(dǎo)電層315，可以使用具有透光性的導(dǎo)電層(例如ΙΤ0、IZO等)。然后，去除(剝離)第3 抗蝕劑膜的第2抗蝕劑圖案314，由此形成像素電極316 (參照圖5 (M))。然后，在與相對基 板之間設(shè)置液晶材料，由此形成液晶顯示裝置。如本實(shí)施方式所示，可以通過使用多色調(diào)光掩模，來簡化電子器件的制造工藝，并 且削減部件成本。此外，通過使用根據(jù)預(yù)先得到的實(shí)效透射率Ta制造的多色調(diào)光掩模，可 以在光刻工序中準(zhǔn)確進(jìn)行抗蝕劑圖案的形狀控制，提高再現(xiàn)性和穩(wěn)定性。結(jié)果，能夠提高電 子器件的性能穩(wěn)定性，并降低制造成本。另外，本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式1 實(shí)施方式4，可以適當(dāng)變更來實(shí)施。并且，可 以適當(dāng)組合實(shí)施方式1 實(shí)施方式4來實(shí)施。例如，上述實(shí)施方式中的材質(zhì)、圖案結(jié)構(gòu)、部 件數(shù)量、尺寸、處理步驟等只是一個示例，可以在發(fā)揮本發(fā)明效果的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變更來 實(shí)施。另外，可以在不脫離本發(fā)明目的的范圍內(nèi)適當(dāng)進(jìn)行變更來實(shí)施。實(shí)施例在本實(shí)施例中，示出了制造具有實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部和第2半透 光部的多色調(diào)光掩模，并使用該多色調(diào)光掩模進(jìn)行光刻工序的情況。另外，在本實(shí)施例中， 對下述情況進(jìn)行實(shí)施在具有級差的被轉(zhuǎn)印體上形成抗蝕劑膜，通過第1半透光部對在被 轉(zhuǎn)印體的具有級差的部分形成的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，通過第2半透光部對在不具有級差的 部分形成的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光(參照圖3)。并且，在本實(shí)施例中，改變被轉(zhuǎn)印體的級差膜厚 (高度)、第1半透光部和第2半透光部的圖案形狀，制造以下四種多色調(diào)光掩模(多色調(diào) 光掩模(a) 多色調(diào)光掩模(d))，使用各個多色調(diào)光掩模進(jìn)行光刻工序。首先，示出所要設(shè)計(jì)的多色調(diào)光掩模(a) (d)。多色調(diào)光掩模(a)·第1半透光部區(qū)域中的被轉(zhuǎn)印體的級差0. 4μ m
第1半透光部的圖案形狀50μπι □以上 第2半透光部的圖案形狀50μπι □以上多色調(diào)光掩模(b)·第1半透光部區(qū)域中的被轉(zhuǎn)印體的級差0. 4μ m·第1半透光部的圖案形狀被遮光部包圍的寬度4. 0 μ m 第2半透光部的圖案形狀50μπι □以上多色調(diào)光掩模(C)·第1半透光部區(qū)域中的被轉(zhuǎn)印體的級差0. 2 μ m 第1半透光部的圖案形狀50μπι以上·第2半透光部的圖案形狀被遮光部包圍的寬度4. 0 μ m多色調(diào)光掩模(d)·第1半透光部區(qū)域中的被轉(zhuǎn)印體的級差0. 2 μ m·第1半透光部的圖案形狀被遮光部包圍的寬度4. 0 μ m·第2半透光部的圖案形狀被遮光部包圍的寬度8. 0 μ m下面，說明求出上述多色調(diào)光掩模(a) (d)的第1半透光部的膜透射率及第2 半透光部的膜透射率，并制作這些多色調(diào)光掩模(a) (d)的方法。首先，在制作各個多色調(diào)光掩模(a) (d)之前的階段，按照下面所述設(shè)定實(shí)際進(jìn) 行的光刻工序的條件。曝光機(jī)光學(xué)條件NA = 0. 08，σ =0.8,曝光波長(各個波長的強(qiáng)度的比率為g線 /h 線/i 線=1.0/1.0/1.0)光刻工序中的曝光量120mJ/cm2抗蝕劑膜正性抗蝕劑抗蝕劑膜的初始膜厚2. 4 μ m另外，上述光刻工序的條件在各個多色調(diào)光掩模(a) (d)中是相同的。然后，掌握在光刻工序中使用的抗蝕劑的特性。在本實(shí)施例中，在上述曝光機(jī)光學(xué) 條件下，向初始膜厚為2. 4μπι的正性抗蝕劑照射曝光光，求出該曝光光的曝光量與通過顯 影造成的抗蝕劑減膜量之間的關(guān)系，由此制作抗蝕劑特性曲線(參照圖7)。在圖7中，橫軸 表示上述曝光機(jī)光學(xué)條件下的曝光光的曝光量，縱軸表示抗蝕劑相對于曝光光的曝光量的 減膜量。然后，以使得顯影后的第1半透光部區(qū)域的抗蝕劑圖案和第2半透光部區(qū)域的抗 蝕劑圖案的殘膜值相同的方式，確定第1半透光部區(qū)域的抗蝕劑的目標(biāo)減膜量^和第2半 透光部區(qū)域的抗蝕劑的目標(biāo)減膜量t2。在本實(shí)施例中，以抗蝕劑圖案的殘膜值為0. 8 μ m的 方式，分別確定多色調(diào)光掩模(a) (d)的第1半透光部區(qū)域的抗蝕劑的目標(biāo)減膜量和第2 半透光部區(qū)域的抗蝕劑的目標(biāo)減膜量，然后按照下面所述分別求出與目標(biāo)減膜量對應(yīng)的實(shí) 效透射率TA。另外，可以在根據(jù)抗蝕劑特性曲線求出與各個目標(biāo)減膜量對應(yīng)的曝光量后，利 用上式(1)確定各個實(shí)效透射率TA。多色調(diào)光掩模(a) 第1半透光膜的減膜量、1· 2 μ m(實(shí)效透射率Ta = 42. 2mJ/120mJ = 35.2% ) 第2半透光膜的減膜量t2 :1.6ym(實(shí)效透射率Ta = 52. lmj/120mj = 43.4% )
多色調(diào)光掩模(b)
第1半透光膜的減膜量、,2 μ m (實(shí)效透射率Ta=42.2mJ/MOmJ =35. 2% )
第2半透光膜的減膜量、,:1. 6 μ m (實(shí)效透射率Ta=52.ImJ/MOmJ =43. 4% )
多色調(diào)光掩模(C)
第1半透光膜的減膜量、,:1. 4 μ m (實(shí)效透射率Ta=47.2mJ/MOmJ =39. 3% )
第2半透光膜的減膜量、,:1. 6 μ m (實(shí)效透射率Ta=52.lmj.MOmJ =43. 4% )
多色調(diào)光掩模(d)
第1半透光膜的減膜量、,:1. 4 μ m (實(shí)效透射率Ta=47.2mJ/MOmJ =39. 3% )
第2半透光膜的減膜量、,:1. 6 μ m (實(shí)效透射率Ta=52.lmj.MOmJ =43. 4% )
然后，按照下面所述分別求出多色調(diào)光掩模(a) (d)的第1半透光膜的膜透射
率和第2半透光膜的膜透射率，制作了光掩模。在多色調(diào)光掩模(a)中，由于第1半透光部的圖案形狀和第2半透光部的圖案形 狀足夠大，所以可以將實(shí)效透射率和膜透射率設(shè)為相同的值。在本實(shí)施例中，把第1半透光 部的膜透射率設(shè)為35% (實(shí)效透射率Ta 35.2%)，把第2半透光部的膜透射率設(shè)為43% (實(shí)效透射率Ta43. 4% )，制作了多色調(diào)光掩模(a)。在多色調(diào)光掩模(b)中，由于第1半透光部的圖案形狀較小，所以根據(jù)實(shí)效透射率 Ta通過仿真求出膜透射率。圖8 (A)表示此時的第1半透光部的空間像仿真結(jié)果。在圖8 (A) 中，橫軸表示半透光膜的配置，縱軸表示圖案形狀的寬度為4. Oym并且膜透射率為40%的 實(shí)效透射率。另一方面，由于第2半透光部的圖案形狀足夠大，所以可以將實(shí)效透射率1\和 膜透射率設(shè)為相同的值。結(jié)果，在本實(shí)施例中，把第1半透光部的膜透射率設(shè)為40% (實(shí)效 透射率Ta 35. 2% )，把第2半透光部的膜透射率設(shè)為43% (實(shí)效透射率Ta 43. 4% )，制作 了多色調(diào)光掩模(b)。在多色調(diào)光掩模(c)中，由于第1半透光部的圖案形狀足夠大，所以可以將實(shí)效透 射率和膜透射率設(shè)為相同的值。另一方面，由于第2半透光部的圖案形狀較小，所以根據(jù)實(shí) 效透射率通過仿真求出膜透射率。圖8 (B)表示此時的第2半透光部的空間像仿真結(jié)果。在 圖8 (B)中，橫軸表示半透光膜的配置，縱軸表示圖案形狀的寬度為4. 0 μ m并且膜透射率為 49%的實(shí)效透射率。結(jié)果，在本實(shí)施例中，把第1半透光部的膜透射率設(shè)為39% (實(shí)效透射 率Ta 39. 3% )，把第2半透光部的膜透射率設(shè)為49% (實(shí)效透射率Ta 43. 4% )，制作了多 色調(diào)光掩模(c)。在多色調(diào)光掩模(d)中，由于第1半透光部的圖案形狀和第2半透光部的圖案形 狀較小，所以根據(jù)實(shí)效透射率Ta通過仿真求出膜透射率。圖8(C)表示此時的第1半透光 部和第2半透光部的空間像仿真結(jié)果。在圖8(C)中，橫軸表示半透光膜的配置，縱軸表示 圖案形狀的寬度為4. 0 μ m并且膜透射率為43%的實(shí)效透射率TA，以及圖案形狀的寬度為 8.0μπι并且膜透射率為44%的實(shí)效透射率。結(jié)果，在本實(shí)施例中，把多色調(diào)光掩模(d)的 第1半透光部的膜透射率設(shè)為43% (實(shí)效透射率Ta39. 3% )，把第2半透光部的膜透射率 設(shè)為44% (實(shí)效透射率Ta 43.4%)，制作了多色調(diào)光掩模(d)。另外，在多色調(diào)光掩模(d) 中，第1半透光部的膜透射率與第2半透光部的膜透射率之差為1%，所以也可以利用相同 的膜透射率來制作光掩模。表1示出使用所制作的多色調(diào)光掩模(a) (d)進(jìn)行光刻工序的結(jié)果。
權(quán)利要求
一種多色調(diào)光掩模的制造方法，該多色調(diào)光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案，針對形成在要被蝕刻加工的被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜，轉(zhuǎn)印所述預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案，使所述抗蝕劑膜構(gòu)成為抗蝕劑圖案，該抗蝕劑圖案成為所述蝕刻加工中的掩模，其中，所述制造方法包括如下步驟掌握所述抗蝕劑膜所使用的抗蝕劑相對于所述曝光光的抗蝕劑特性；根據(jù)所述抗蝕劑特性來確定所述半透光部相對于所述曝光光的實(shí)效透射率；以及根據(jù)所述實(shí)效透射率至少對形成在透明基板上的遮光膜進(jìn)行構(gòu)圖，由此形成所述半透光部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，所述抗蝕劑特性是利用抗蝕劑特性曲線來規(guī)定的，所述抗蝕劑特性曲線表示所述曝光 光的曝光量與所述抗蝕劑相對于所述曝光量的減膜量之間的關(guān)系。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，該制造方法根據(jù)所述確定的實(shí)效透射率、所述半透光部的圖案形狀和曝光機(jī)的曝光條 件，來確定所述半透光部的膜透射率，根據(jù)所述半透光部的膜透射率來形成所述半透光部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，所述半透光部是在透明基板上形成遮光膜圖案而成的，該遮光膜圖案具有在對所述多 色調(diào)光掩模進(jìn)行曝光時所使用的曝光機(jī)的分辨極限以下的尺寸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，所述半透光部是在透明基板上形成半透光膜而成的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，根據(jù)利用所述半透光部的透射光而形成在所述被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案相對于所述 抗蝕劑膜的初始膜厚的減膜量(t)，來確定所述半透光部的實(shí)效透射率。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，所述多色調(diào)光掩模的半透光部具有實(shí)效透射率彼此不同的第1半透光部和第2半透光部，所述制造方法包括如下步驟根據(jù)所述抗蝕劑特性分別確定所述第1半透光部的實(shí)效 透射率和所述第2半透光部的實(shí)效透射率。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的多色調(diào)光掩模的制造方法，其中，根據(jù)利用所述第1半透光部的透射光而形成在所述被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案相對于 所述抗蝕劑膜的初始膜厚的減膜量(、)，來確定所述第1半透光部的實(shí)效透射率，根據(jù)利用所述第2半透光部的透射光而形成在所述被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案相對于 所述抗蝕劑膜的初始膜厚的減膜量(t2)，來確定所述第2半透光部的實(shí)效透射率。
9.一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其中，該圖案轉(zhuǎn)印方法使用按照權(quán)利要求1 8中任一項(xiàng)所述的制造方法制造的多色調(diào)光掩 模，對被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，由此在所述被轉(zhuǎn)印體上形成抗蝕劑圖案。
10.一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其中，該圖案轉(zhuǎn)印方法包括如下步驟在具有級差的被轉(zhuǎn)印體上形成抗蝕劑膜，以及通過使用多色調(diào)光掩模對所述被轉(zhuǎn)印體上的所述抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，由此在所述被轉(zhuǎn) 印體上形成抗蝕劑圖案，該圖案轉(zhuǎn)印方法使用按照權(quán)利要求7或8所述的制造方法制造的多色調(diào)光掩模，作為 所述多色調(diào)光掩模，使形成在所述抗蝕劑圖案的各個級差上的抗蝕劑的殘膜值形成為大致相同。
全文摘要
本發(fā)明提供多色調(diào)光掩模的制造方法及圖案轉(zhuǎn)印方法。該多色調(diào)光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的預(yù)定轉(zhuǎn)印圖案，針對形成在要被蝕刻加工的被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜，轉(zhuǎn)印預(yù)定圖案，使抗蝕劑膜構(gòu)成為抗蝕劑圖案，該抗蝕劑圖案成為蝕刻加工中的掩模，其中，該制造方法包括如下步驟掌握抗蝕劑膜所使用的抗蝕劑相對于曝光光的抗蝕劑特性；根據(jù)抗蝕劑特性來確定半透光部相對于曝光光的實(shí)效透射率；以及根據(jù)實(shí)效透射率至少對形成在透明基板上的遮光膜進(jìn)行構(gòu)圖，由此形成半透光部。
文檔編號G03F7/20GK101989042SQ20101024319
公開日2011年3月23日 申請日期2010年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月29日
發(fā)明者吉田光一郎 申請人:Hoya株式會社