專利名稱：光刻膠組合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種光刻膠組合物。
技術背景
用于采用光刻工藝的半導體微制造的光刻膠組合物包含樹脂、產(chǎn)酸劑和堿性化 合物，所述樹脂具有衍生自具有酸敏基團的化合物的結(jié)構(gòu)單元，不溶或難溶于堿性水溶 液，但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液，所述產(chǎn)酸劑含有通過輻射生成酸的化合 物。
美國專利5,914,219披露了一種包含樹脂、產(chǎn)酸劑和作為堿性化合物的四丁基氫 氧化銨的光刻膠組合物，所述樹脂具有衍生自具有酸敏基團的化合物的結(jié)構(gòu)單元，不溶 或難溶于堿性水溶液，但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液，所述產(chǎn)酸劑含有通過輻 射生成酸的化合物。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光刻膠組合物。
本發(fā)明涉及以下內(nèi)容
<1> 一種光刻膠組合物，包含
樹脂，其含有衍生自具有酸敏基團的化合物的結(jié)構(gòu)單元，且其不溶或難溶于堿 性水溶液但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液，
產(chǎn)酸劑，和
式(I')表示的化合物
權(quán)利要求
1.一種光刻膠組合物，包含樹脂，其含有衍生自具有酸敏基團的化合物的結(jié)構(gòu)單元，且其不溶或難溶于堿性水 溶液但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液，產(chǎn)酸劑，和
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物，其中所述式(1')表示的化合物為式⑴表示的 化合物
3.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物，其中所述樹脂含有衍生自式(a2-0)表示的化合 物的結(jié)構(gòu)單元R8其中R8代表氫原子、鹵素原子、C1-C6烷基或C1-C6鹵代烷基，R9在各情形中獨 立地為鹵素原子、羥基、C1-C6燒基、C1-C6烷氧基、C2-C4?；2-C4酰氧基、丙 烯?；蚣谆；?，ma代表0到4的整數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物，其中所述具有酸敏基團的化合物為式(al-1)表 示的化合物
5.—種產(chǎn)生光刻膠圖案的方法，包括以下步驟(1)到(5)(1)在襯底上施加根據(jù)權(quán)利要求1到4中任一項的光刻膠組合物的步驟，(2)通過進行干燥形成光刻膠膜的步驟，(3)使所述光刻膠膜曝光于輻射的步驟，(4)烘焙經(jīng)曝光的所述光刻膠膜的步驟，和(5)用堿性顯影劑使經(jīng)烘焙的所述光刻膠膜顯影從而形成光刻膠圖案的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到4中任一項的光刻膠組合物用于采用電子束光刻系統(tǒng)或遠紫外光 刻系統(tǒng)產(chǎn)生光刻膠圖案的用途。
7.—種式(1-12)表示的化合物
8.
9.根據(jù)權(quán)利要求8的光刻膠組合物，其中所述式(I")表示的化合物為式(I')表示 的化合物
10.根據(jù)權(quán)利要求8的光刻膠組合物，其中所述具有酸敏基團的化合物為式(al-Ι)表 示的化合物
11. 一種產(chǎn)生光刻膠圖案的方法，包括以下步驟(1)到(5)(1)在襯底上施加根據(jù)權(quán)利要求8到10中任一項的光刻膠組合物的步驟，(2)通過進行干燥形成光刻膠膜的步驟，(3)使所述光刻膠膜曝光于輻射的步驟，(4)烘焙經(jīng)曝光的所述光刻膠膜的步驟，和(5)用堿性顯影劑使經(jīng)烘焙的所述光刻膠膜顯影從而形成光刻膠圖案的步驟。
12.根據(jù)權(quán)利要求8到10中中任一項的光刻膠組合物用于采用電子束光刻系統(tǒng)或遠紫 外光刻系統(tǒng)產(chǎn)生光刻膠圖案的用途。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光刻膠組合物，包含樹脂，其含有衍生自具有酸敏基團的化合物的結(jié)構(gòu)單元，且其不溶或難溶于堿性水溶液但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液，產(chǎn)酸劑，和式(I′)表示的化合物其中R51、R52、R53和R54各自獨立地代表C1-C8烷基，A11代表可含有1個或更多個雜原子且具有1個或更多個取代基的C3-C36二價飽和環(huán)烴基，或者可含有1個或更多個雜原子且具有1個或更多個取代基的C6-C20二價芳烴基。
文檔編號G03F7/039GK102023479SQ201010276810
公開日2011年4月20日 申請日期2010年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月9日
發(fā)明者山下裕子, 釜淵明 申請人:住友化學株式會社