專利名稱：一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微操作系統(tǒng)，尤其涉及一種可應(yīng)用于壓印光刻系統(tǒng)的兩自由度柔
性并聯(lián)精密定位工作臺。
背景技術(shù)：
納米器件包括納米電子器件和納米光電器件，可廣泛應(yīng)用于電子學(xué)、光學(xué)、微機(jī)械 裝置、新型計(jì)算機(jī)等，是當(dāng)今新材料與新器件研究領(lǐng)域中最富有活力的研究領(lǐng)域，也是元器 件小型化、智能化、高集成化等的主流發(fā)展方向。納米器件由于具有潛在的巨大市場和國防 價(jià)值，使得其設(shè)計(jì)和制造的方法、途徑、工藝等成為眾多科學(xué)家、政府和大型企業(yè)研究和投 資的熱點(diǎn)。目前，納米器件的設(shè)計(jì)與制造正處于一個(gè)飛速發(fā)展時(shí)期，方法多種多樣，圖形化 技術(shù)就是其中之一。 納米壓印光刻技術(shù)是人們在探索更方便、價(jià)廉的設(shè)計(jì)和制備納米器件的過程中開 發(fā)出來的圖形化技術(shù)，用于納米圖形復(fù)制并可用來制作三維納米結(jié)構(gòu)。與其它光刻技術(shù)相 比，納米壓印技術(shù)具有分辨率高、制作成本低、生產(chǎn)效率高的優(yōu)點(diǎn)，已成為下一代32納米工 藝的關(guān)鍵技術(shù)。具有極大潛在的競爭力和廣闊的應(yīng)用前景。在國內(nèi)外納米壓印技術(shù)發(fā)展過 程中，已逐漸形成了三大主流技術(shù)軟壓印技術(shù)、熱壓印技術(shù)、紫外壓印技術(shù)。熱壓印技術(shù)可 以彌補(bǔ)軟壓印工藝中彈性模板材料容易變形的不足，且加工效率比較高，但熱壓印過程中， 光刻膠經(jīng)過高溫、高壓、冷卻的變化過程，脫模后產(chǎn)生的壓印圖形常會(huì)出現(xiàn)變形現(xiàn)象，不易 進(jìn)行多次或三維結(jié)構(gòu)的壓印。與前兩者相比，紫外壓印技術(shù)對環(huán)境要求較低，僅在室溫和低 壓力下就可以進(jìn)行，提高了壓印精度。同時(shí)由于模板材料采用透明石英玻璃，易于實(shí)現(xiàn)模板 與基片之間的對準(zhǔn)，這使得紫外壓印技術(shù)更適合于多次壓印。除此以外，模板使用周期長以 及適于批量生產(chǎn)也是紫外壓印技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)。這些特點(diǎn)都使得紫外壓印技術(shù)在ic制造 領(lǐng)域具有不可替代的優(yōu)越性。 壓印過程看似簡單，但要得到較高的壓印精度，則需要從多個(gè)方面綜合考慮。壓印 過程中要做到盡可能保證模板與基片的平行，使得模板與基片能夠均勻的接觸。若模板和 基片不平行，將得到鍥形的留模，甚至模板的一端直接接觸基片。如果鍥形留模的厚度超過 壓印特征的高度，那么在后續(xù)的干法等厚刻蝕時(shí)就會(huì)將特征刻蝕掉。同時(shí)模板與基片的不 平行也將會(huì)導(dǎo)致下壓時(shí)模板與基片的相對滑移，發(fā)生側(cè)向擴(kuò)張，影響壓印精度。另外，在起 模時(shí)也會(huì)對壓印特征造成破壞。因此壓印過程中必須保證模板與基片的平行度，即模板與 基片的均勻接觸。壓印光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)一般包括以下主要部件①下壓機(jī)構(gòu)；②承載臺；③精 密定位工作臺；④用于固化光刻膠的紫外光光源等，其中精密定位工作臺是壓印光刻系統(tǒng) 的關(guān)鍵部分，由它保證模板與基片平行且能夠均勻接觸，使相對滑動(dòng)盡可能的小，這樣才能 保證兩者之間的定位精度，保證壓印精度和壓印質(zhì)量。 現(xiàn)有的納米壓印設(shè)備中末端執(zhí)行件(模板和基片承載臺)平行度的調(diào)整大多采 用被動(dòng)方式，即通過基片(或模板)承載臺柔性環(huán)節(jié)變形來保證兩者之間的平行度。例如 B. J. Choi等，步進(jìn)閃光壓印光刻定位平臺的設(shè)計(jì)，PrecisionEngineering, 2001年25巻3
3期，192-199 (B. J. Choi， S. V. Sreenivasan， S. Johnson, M. Colburn， C. G. Wilson, Design of orientation stage for step and flash imprint lithogr即hy，PrecisionEngineering， 2001,25(3) :192-199.)、 Jae-JongLee等，用于制備lOOnm線寬特征的納米壓印光刻設(shè) 備的設(shè)計(jì)與分析，CurrentA卯lied Physics, 2006年第6期，1007-1011 (Jae-JongLee， Kee_Bong Choi，Gee_Hong Kim，Design and analysis of the single—st印nanoimprinting lithography equipment for sub_100 nm linewidth. Current AppliedPhysics2006， 6 :1007-011. )、 Jae-JongLee等，用于制備50nm半傾斜特征的紫外壓印光刻多頭納米壓 印單元，SICEICASEInternationalJointConference，2006年，4902-4904 (Jae-Jong Lee， Kee_Bong Choi，Gee_Hong Kim et al，The UV_Nanoimprint Lithographywith Multi_head nanoimprinting Unit for Sub_50nm Half-pitch Patterns. SICEICASEInternationalJo intConference2006，4902-4904.)中就報(bào)道了此種類型的設(shè)備及相關(guān)技術(shù)；也有些研究者 采用被動(dòng)適應(yīng)、主動(dòng)找平及手工調(diào)整相結(jié)合的方式，如范細(xì)秋等，寬范圍高對準(zhǔn)精度納米 壓印樣機(jī)的研制，中國機(jī)械工程，2005年，16巻增刊，64-67、嚴(yán)樂等，冷壓印光刻工藝精密 定位工作臺的研制，中國機(jī)械工程，2004年，15巻1期，75-78.中報(bào)道的此類精密定位工作 臺設(shè)計(jì)；而另一些研究者則另辟新徑，比如，董曉文等，氣囊氣缸式紫外納米壓印系統(tǒng)的設(shè) 計(jì)，半導(dǎo)體光電，2007年，28巻5期，676-684.中介紹的技術(shù)。這些已有的技術(shù)中，自適應(yīng)調(diào) 整精密定位系統(tǒng)雖然結(jié)構(gòu)簡單、結(jié)構(gòu)緊湊、成本低廉，但它的定位精度，尤其平行度的調(diào)整 精度較低，從而限制了加工精度和質(zhì)量的提高。雖然通過主動(dòng)找平和手工調(diào)整機(jī)構(gòu)，在一定 程度上可以提高壓印模板和基片的平行度，但不能補(bǔ)償壓印過程中由于壓印力不均勻而導(dǎo) 致的模板和基片的平行度誤差。氣囊氣缸式壓印系統(tǒng)克服了壓印過程中硅膠易伸張變形， 壓印力分布不均勻，模板易破裂等不足但其真空室的設(shè)計(jì)使用費(fèi)用昂貴且壓印時(shí)間過長。 基于上述精密定位系統(tǒng)的不足，具有新型機(jī)構(gòu)形式和控制方法的主動(dòng)調(diào)整型精密定位系統(tǒng) 的研制，對促進(jìn)IC加工技術(shù)的發(fā)展具有重要的理論意義和工程實(shí)用價(jià)值。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服已有技術(shù)的不足，提供一種可以實(shí)現(xiàn)主動(dòng)調(diào)整末端執(zhí)行件 在水平面內(nèi)的兩個(gè)平動(dòng)自由度的一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺，用 于實(shí)現(xiàn)壓印光刻過程中的微量進(jìn)給和精密定位。
本發(fā)明解決現(xiàn)有技術(shù)問題的方案是 —種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺，它包括基座、設(shè)置在所述 的基座中間的動(dòng)平臺、連接在所述的基座底部的一個(gè)剛性支架以及連接在所述的動(dòng)平臺和 基座之間的四個(gè)柔性支鏈，以所述的動(dòng)平臺的兩個(gè)對稱軸為中心線，所述的四個(gè)柔性支鏈 分別上下和左右對稱的設(shè)置在所述的動(dòng)平臺四周，每一所述的柔性支鏈包括一個(gè)移動(dòng)塊和 對稱的連接在所述的移動(dòng)塊左右兩側(cè)的兩個(gè)柔性板簧結(jié)構(gòu)，每一所述的板簧結(jié)構(gòu)由四個(gè)一 字形柔性板簧構(gòu)成，所述的四個(gè)一字形柔性板簧兩兩并聯(lián)設(shè)置形成兩個(gè)U形柔性結(jié)構(gòu)，所 述的兩個(gè)U形柔性結(jié)構(gòu)的U形底部通過剛性連接板相連而每個(gè)U形的兩個(gè)頂部則分別與所 述的移動(dòng)塊和基座相連，在所述的移動(dòng)塊的前壁和與所述的移動(dòng)塊的前壁相對的動(dòng)平臺側(cè) 壁之間連接有兩個(gè)相互平行以并聯(lián)形式設(shè)置的一字形柔性板簧，四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器分別 水平放置，每個(gè)驅(qū)動(dòng)器尾部均由螺栓固聯(lián)于基座上并且前端通過螺紋連接有球形接頭，所述的球形接頭頂在移動(dòng)塊上，二個(gè)位置傳感器的導(dǎo)電片分別連接在剛性支架的上平面和動(dòng) 平臺的下平面上，連接于剛性支架的上平面的兩個(gè)導(dǎo)電片中的一個(gè)導(dǎo)電片的對稱軸與剛性 支架上平面的上下邊緣中線重合，另一個(gè)導(dǎo)電片的對稱軸與剛性支架上平面的左右邊緣中 線重合；連接于動(dòng)平臺下平面的兩個(gè)導(dǎo)電片與剛性支架上的兩個(gè)導(dǎo)電片的位置相對平行設(shè)置。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下顯著優(yōu)點(diǎn) 本發(fā)明設(shè)計(jì)的精密定位工作臺，其柔性機(jī)構(gòu)和剛性支架均可利用線切割一體化加 工技術(shù)整體加工而成，免于裝配、無間隙、無摩擦、不需潤滑，利于實(shí)現(xiàn)微納米級高精度定 位。 本發(fā)明設(shè)計(jì)的精密定位工作臺，采用柔性并聯(lián)結(jié)構(gòu)，具有高剛度、高精度、低慣量、 結(jié)構(gòu)緊湊、無誤差積累等優(yōu)點(diǎn)。 本發(fā)明設(shè)計(jì)的精密定位工作臺，采用柔性板簧作為傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，具有無機(jī)械摩擦、無 間隙的優(yōu)點(diǎn)。另外，本發(fā)明基于材料的彈性變形，柔性板簧所產(chǎn)生的變形以及執(zhí)行器末端工 作空間均很微小，可以有效消除并聯(lián)機(jī)構(gòu)固有的非線性等缺點(diǎn)。 本發(fā)明設(shè)計(jì)的精密定位工作臺采用四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器推動(dòng)驅(qū)動(dòng)環(huán)節(jié)實(shí)現(xiàn)壓印 光刻過程中模板和基片間相對位置的主動(dòng)調(diào)整?？勺鳛榧{米壓印光刻定位系統(tǒng)的輔助定位 平臺，實(shí)現(xiàn)微量進(jìn)給和精密定位。


圖1是本發(fā)明的一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺柔性機(jī)構(gòu) 示意圖； 圖2是本發(fā)明的一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺支架機(jī)構(gòu) 示意圖； 圖3是本發(fā)明的一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺整體結(jié)構(gòu) 示意圖； 圖4是圖1所示的柔性機(jī)構(gòu)的橫截面示意圖。 其中1、U形柔性結(jié)構(gòu)2、基座3、移動(dòng)塊4、剛性連接板5、一字形柔性板簧6、動(dòng)平 臺7、位置傳感器8、剛性支架9、凸起10、球形接頭11、壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對依據(jù)本發(fā)明提供的具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其 功效，詳細(xì)說明如下。 請參見圖1 4，一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺。此工作臺 (圖3)有四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器ll，分別在頂部安裝有球形接頭IO，通過球形接頭10以小面 積赫茲接觸方式與移動(dòng)塊3接觸，壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器11呈水平放置，為了避免壓電陶瓷與柔 性機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)環(huán)節(jié)在工作過程中脫離，壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器11尾部分別通過孔21螺紋固定在基 座2上，以過盈裝配方式安裝在柔性機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)環(huán)節(jié)和基座之間，實(shí)現(xiàn)預(yù)緊。兩平動(dòng)精密定位 工作臺還包括基座2、設(shè)置在所述的基座2中心位置的動(dòng)平臺6、連接在所述的動(dòng)平臺6和 基座2之間的四個(gè)柔性支鏈以及連接在所述的基座底部的一個(gè)剛性支架8，如圖4所示(圖
5中的剖面線部分為在實(shí)體上的開通孔部分)以所述的動(dòng)平臺的兩個(gè)對稱軸為中心線，所述 的四個(gè)柔性支鏈分別上下和左右對稱的設(shè)置在所述的動(dòng)平臺四周，每一所述的柔性支鏈包 括一個(gè)移動(dòng)塊3和對稱的連接在所述的移動(dòng)塊3左右兩側(cè)的兩個(gè)梳齒形柔性板簧結(jié)構(gòu)，每 一所述的柔性板簧結(jié)構(gòu)由四個(gè)一字形柔性板簧5構(gòu)成，所述的四個(gè)一字形柔性板簧兩兩并 聯(lián)設(shè)置形成兩個(gè)U形柔性結(jié)構(gòu)l，所述的兩個(gè)U形柔性結(jié)構(gòu)1的U形底部通過剛性連接板4 相連而每個(gè)U形的兩個(gè)頂部則分別與所述的移動(dòng)塊3和基座2相連，對移動(dòng)塊3起到支撐 的作用。在所述的移動(dòng)塊3的前壁和與所述的移動(dòng)塊的前壁相對設(shè)置的動(dòng)平臺6側(cè)壁之間 連接有兩個(gè)相互平行以并聯(lián)方式設(shè)置的一字形柔性板簧5。四個(gè)柔性支鏈中，其中兩個(gè)對稱 分布于動(dòng)平臺6上下兩側(cè)邊緣中心線上，用于實(shí)現(xiàn)動(dòng)平臺6沿y軸方向的平動(dòng)自由度，另兩 個(gè)支鏈則對稱分布于動(dòng)平臺6左右兩側(cè)邊緣的中心線上，用來實(shí)現(xiàn)動(dòng)平臺6沿x軸方向的 平動(dòng)自由度。 如圖1和2，工作臺柔性機(jī)構(gòu)通過四個(gè)孔22及凸起9上的四個(gè)孔91與剛性支架8 螺栓連接。二個(gè)位置傳感器7的導(dǎo)電片分別固定于剛性支架8上平面和動(dòng)平臺6下平面上， 二個(gè)位置傳感器7均安裝于上述兩個(gè)平面的中心位置，連接于剛性支架的上平面的位置傳 感器7的兩個(gè)導(dǎo)電片中，其中一個(gè)導(dǎo)電片的對稱軸與剛性支架8上平面的上下邊緣中線重 合，另一個(gè)導(dǎo)電片的對稱軸與剛性支架8上平面的左右邊緣中線重合。連接于動(dòng)平臺6下 平面的兩個(gè)導(dǎo)電片與剛性支架8上的兩個(gè)導(dǎo)電片位置相對且相互平行，安裝時(shí)要保證其位 置對準(zhǔn)。 位置傳感器7選用2個(gè)PI公司研制的D-050型號超高分辨率電容式位置傳感器， 用來檢測動(dòng)平臺6的實(shí)際輸出。 為提高本工作臺的控制精度，本工作臺還可以包括一個(gè)計(jì)算機(jī)，所述的計(jì)算機(jī)用 于輸出電壓信號給四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器，讀取所述的二個(gè)位置傳感器輸出的位移信號并與 計(jì)算機(jī)中的設(shè)定值比較后輸出位移補(bǔ)償電壓控制信號給所述的四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
此二自由度精密定位工作臺具有兩個(gè)平動(dòng)自由度(即水平面內(nèi)沿x方向，y方向 的移動(dòng))，這里假設(shè)在工作臺水平面內(nèi)沿動(dòng)平臺6左右邊緣中線為x軸，而上下邊緣中線為 y軸，那么精密定位工作臺所能實(shí)現(xiàn)的兩個(gè)運(yùn)動(dòng)的實(shí)現(xiàn)方式分別為(l)沿x方向的平動(dòng) 計(jì)算機(jī)控制四通道的放大器提供正向驅(qū)動(dòng)電流給位于動(dòng)平臺6右側(cè)柔性驅(qū)動(dòng)支鏈中的壓 電陶瓷驅(qū)動(dòng)器ll，(為了方便，這里稱為右壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器)，同時(shí)，提供反向驅(qū)動(dòng)電流給位 于左側(cè)柔性驅(qū)動(dòng)支鏈中的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器ll，(為了方便，這里稱為左壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器)， 位于動(dòng)平臺上、下兩側(cè)的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器(為了方便，這里稱為上、下壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器)不 驅(qū)動(dòng)，那么所述的右壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器發(fā)生伸長(而所述的左壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器縮短)，推動(dòng)其 前端的移動(dòng)塊3發(fā)生沿x方向的移動(dòng)，經(jīng)后續(xù)的兩個(gè)并聯(lián)的平行一字形柔性板簧5的傳遞， 將此平動(dòng)動(dòng)作傳遞給動(dòng)平臺6，使其發(fā)生沿x方向的平動(dòng)。沿x軸反方向運(yùn)動(dòng)的實(shí)現(xiàn)與上 述過程相同，只是在左、右壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器上施加與上述方向相反的驅(qū)動(dòng)電流即可；(2)沿 y方向的平動(dòng)計(jì)算機(jī)控制四通道的放大器提供正向驅(qū)動(dòng)電流給下壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器，同時(shí)， 提供反向驅(qū)動(dòng)電流給上壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器，而左、右壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器不驅(qū)動(dòng)，那么所述的下壓 電陶瓷驅(qū)動(dòng)器發(fā)生伸長(而所述的上壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器縮短)，推動(dòng)其前端的移動(dòng)塊3發(fā)生 沿y方向的移動(dòng)，經(jīng)后續(xù)的兩個(gè)并聯(lián)的平行一字形柔性板簧5的傳遞，將此平動(dòng)動(dòng)作傳遞給 動(dòng)平臺6，使其發(fā)生沿y軸方向的平動(dòng)。沿y軸反方向運(yùn)動(dòng)的實(shí)現(xiàn)與上述過程相同，只是在
6上、下壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器上施加與上述方向相反的驅(qū)動(dòng)電流即可。 為了克服壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器的遲滯現(xiàn)象的影響，二個(gè)高精度的電容式位置傳感器7在動(dòng)平臺6運(yùn)動(dòng)過程中，實(shí)時(shí)的檢測動(dòng)平臺6的實(shí)際輸出，并形成閉環(huán)控制系統(tǒng)。利用建立的模型在線計(jì)算動(dòng)平臺的定位誤差，并把補(bǔ)差電壓實(shí)時(shí)施加到壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器11上。 一個(gè)快速16位的多通道D/A和A/D轉(zhuǎn)換器用來實(shí)現(xiàn)模擬信號和數(shù)字信號之間的轉(zhuǎn)換。
所發(fā)明的二自由度精密定位工作臺可作為納米壓印光刻定位系統(tǒng)的輔助定位平臺，實(shí)現(xiàn)壓印光刻過程中的微量進(jìn)給和精密定位。
權(quán)利要求
一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的兩平動(dòng)精密定位工作臺，其特征在于它包括基座、設(shè)置在所述的基座中間的動(dòng)平臺、連接在所述的基座底部的一個(gè)剛性支架以及連接在所述的動(dòng)平臺和基座之間的四個(gè)柔性支鏈，以所述的動(dòng)平臺的兩個(gè)對稱軸為中心線，所述的四個(gè)柔性支鏈分別上下和左右對稱的設(shè)置在所述的動(dòng)平臺四周，每一所述的柔性支鏈包括一個(gè)移動(dòng)塊和對稱的連接在所述的移動(dòng)塊左右兩側(cè)的兩個(gè)柔性板簧結(jié)構(gòu)，每一所述的板簧結(jié)構(gòu)由四個(gè)一字形柔性板簧構(gòu)成，所述的四個(gè)一字形柔性板簧兩兩并聯(lián)設(shè)置形成兩個(gè)U形柔性結(jié)構(gòu)，所述的兩個(gè)U形柔性結(jié)構(gòu)的U形底部通過剛性連接板相連而每個(gè)U形的兩個(gè)頂部則分別與所述的移動(dòng)塊和基座相連，在所述的移動(dòng)塊的前壁和與所述的移動(dòng)塊的前壁相對的動(dòng)平臺側(cè)壁之間連接有兩個(gè)相互平行以并聯(lián)形式設(shè)置的一字形柔性板簧，四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器分別水平放置，每個(gè)驅(qū)動(dòng)器尾部均由螺栓固聯(lián)于基座上并且前端通過螺紋連接有球形接頭，所述的球形接頭頂在移動(dòng)塊上，二個(gè)位置傳感器的導(dǎo)電片分別連接在剛性支架的上平面和動(dòng)平臺的下平面上，連接于剛性支架的上平面的兩個(gè)導(dǎo)電片中的一個(gè)導(dǎo)電片的對稱軸與剛性支架上平面的上下邊緣中線重合，另一個(gè)導(dǎo)電片的對稱軸與剛性支架上平面的左右邊緣中線重合，連接于動(dòng)平臺下平面的兩個(gè)導(dǎo)電片與剛性支架上的兩個(gè)導(dǎo)電片位置相對平行設(shè)置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米壓印光刻系統(tǒng)的二平動(dòng)精密定位工作臺，其特征在于它還包括一個(gè)計(jì)算機(jī)，所述的計(jì)算機(jī)用于輸出電壓信號給四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器，讀取所 述的二個(gè)位置傳感器輸出的位移信號并與計(jì)算機(jī)中的設(shè)定值比較后輸出位移補(bǔ)償電壓控 制信號給所述的四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于納米壓印光刻系統(tǒng)的二自由度精密定位工作臺，它包括基座、動(dòng)平臺、連接在基座底部的剛性支架以及連接在動(dòng)平臺和基座之間的四個(gè)柔性支鏈，結(jié)構(gòu)中采用四個(gè)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器，每個(gè)驅(qū)動(dòng)器尾部通過螺栓與基座相連，頂端通過螺紋連接球形接頭實(shí)現(xiàn)赫茲接觸。二個(gè)位置傳感器用來測量動(dòng)平臺的實(shí)際輸出，分別固定于剛性支架和動(dòng)平臺之間。本精密定位工作臺具有分辨率高、動(dòng)態(tài)響應(yīng)速度快的特點(diǎn)，可作為納米壓印光刻定位系統(tǒng)的輔助定位平臺，實(shí)現(xiàn)微量進(jìn)給和精密定位。
文檔編號G03F7/00GK101770166SQ20101030005
公開日2010年7月7日 申請日期2010年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月6日
發(fā)明者張大衛(wèi), 田延嶺, 賈曉輝 申請人:天津大學(xué)