專利名稱：彩膜基板的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器的制造方法，尤其涉及一種彩膜基板的制造方法。
背景技術：
液晶顯示器是目前常用的平板顯示器，液晶面板是液晶顯示器中的重要部件，液晶面板包括對盒設置的陣列基板和彩膜基板，其間填充液晶。現(xiàn)有的彩膜基板的制造方法，如圖1所示，首先在襯底基板1上形成黑矩陣2，然后再在形成黑矩陣2的襯底基板1上涂覆一種顏色的彩色樹脂層3，采用掩膜版4從彩色樹脂層3的正上方對彩色樹脂層3進行曝光，其中，掩膜版4的透光區(qū)域或者不透光區(qū)域與襯底基板1上需形成彩色樹脂圖案5的區(qū)域對應，形成該顏色的彩色樹脂圖案5。其他顏色的彩色樹脂圖案5也采用這種方法形成。參見圖2和圖3，現(xiàn)有的彩膜基板的制造方法，由于曝光設備的誤差，以及掩膜版存在變形的問題，使得掩膜版表面的圖案與襯底基板上需形成彩色樹脂圖案的區(qū)域出現(xiàn)對位誤差，從而導致彩色樹脂圖案與兩相鄰黑矩陣之間的重疊部分高度不對稱，甚至出現(xiàn)漏光，彩膜基板表面不平整，進而影響了配向液的印刷以及陣列基板和彩膜基板的對盒效果。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種彩膜基板的制造方法，以解決彩膜基板表面不平，甚至出現(xiàn)漏光的問題，改善配向液的印刷效果以及陣列基板和彩膜基板的對盒效果。本發(fā)明提供一種彩膜基板的制造方法，包括在襯底基板上形成黑矩陣和至少兩種顏色的彩色樹脂圖案的流程，形成每種顏色的彩色樹脂圖案的流程包括在形成黑矩陣的襯底基板上形成對應顏色的彩色樹脂層；采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案，所述掩膜版中透光區(qū)域的邊緣對應于所述黑矩陣圖案的范圍內。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案之前，還包括在所述彩色樹脂層表面涂覆負性光刻膠。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案具體為采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣一側對所述彩色樹脂層進行曝光，并通過顯影在所述彩色樹脂層表面形成與彩色樹脂圖案對應的光刻膠圖案；對所述彩色樹脂層進行刻蝕，形成所述彩色樹脂圖案；剝離所述彩色樹脂圖案表面的負性光刻膠。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案具體為采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，并通過顯影形成所述彩色樹脂圖案，所述彩色樹脂為負性感光材料。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在襯底基板上形成黑矩陣的流程包括在襯底基板上涂覆一層黑色光刻膠；采用掩膜版，從所述襯底基板靠近所述黑色光刻膠的一側對所述黑色光刻膠進行曝光，并通過顯影形成所述黑矩陣。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在襯底基板上形成黑矩陣的流程包括在襯底基板上沉積一層黑矩陣材料；在所述黑矩陣材料表面涂覆一層正性光刻膠；采用掩膜版，從所述襯底基板面向所述黑矩陣材料一側對所述黑矩陣材料進行曝光，并通過顯影形成與黑矩陣圖案對應的光刻膠圖案，所述掩膜版中不透光區(qū)域與所述黑矩陣圖案相對應；對所述黑矩陣材料進行刻蝕，形成所述黑矩陣圖案；剝離所述黑矩陣圖案表面的正性光刻膠。如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在襯底基板上形成黑矩陣的流程包括在襯底基板上沉積一層黑矩陣材料；在所述黑矩陣材料表面涂覆一層負性光刻膠；采用掩膜版，從所述襯底基板面向所述黑矩陣材料一側對所述黑矩陣材料進行曝光，并通過顯影形成與黑矩陣圖案對應的光刻膠圖案，所述掩膜版中透光區(qū)域與所述黑矩陣圖案相對應；對所述黑矩陣材料進行刻蝕，形成所述黑矩陣圖案；剝離所述黑矩陣圖案表面的負性光刻膠。本發(fā)明提供的彩膜基板的制造方法，采用掩膜版，從襯底基板上背離黑矩陣的一側對彩色樹脂層進行曝光，形成彩色樹脂圖案，解決了掩膜版和襯底基板對位誤差出現(xiàn)的彩色樹脂圖案與兩相鄰黑矩陣之間的重疊部分高度不對稱的問題，避免出現(xiàn)漏光的現(xiàn)象。 實現(xiàn)彩色樹脂圖案與黑矩陣無重疊區(qū)域，使彩膜基板表面平整，無漏光現(xiàn)象，提高了配向液的印刷效果，以及陣列基板和彩膜基板的對盒效果。


圖1為現(xiàn)有的彩膜基板的制造方法的操作示意圖；圖2為采用圖1所示彩膜基板的制造方法對位不良時得到的彩膜基板的局部側視圖；圖3為采用圖1所示的彩膜基板的制造方法制造得到彩膜基板局部側視圖；圖4為本發(fā)明提供的彩膜基板的制造方法的第一實施例的操作示意圖；圖5為采用圖4所示的彩膜基板的制造方法對位不良時得到的彩膜基板的局部側視6為采用圖4所示的彩膜基板的制造方法制造得到彩膜基板局部側視圖。附圖標記1-襯底基板；2-黑矩陣； 3-彩色樹脂層；4-掩膜版；5-彩色樹脂圖案。
具體實施例方式為使本發(fā)明實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。實施例一圖4為本發(fā)明提供的彩膜基板的制造方法的第一實施例的操作示意圖，如圖4所示，該彩膜基板的制造方法包括在襯底基板1上形成黑矩陣2和至少兩種顏色的彩色樹脂圖案5的流程；其中，形成每種顏色的彩色樹脂圖案5的流程包括在形成黑矩陣2的襯底基板1上形成對應顏色的彩色樹脂層3 ；采用掩膜版4，從襯底基板1背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光，形成彩色樹脂圖案5，掩膜版4中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣2圖案的范圍內。本實施例提供的彩膜基板的制造方法，采用掩膜版，從襯底基板上背離黑矩陣的一側對彩色樹脂層進行曝光，形成彩色樹脂圖案，解決了掩膜版和襯底基板對位誤差出現(xiàn)的彩色樹脂圖案與兩相鄰黑矩陣之間的重疊部分高度不對稱的問題，避免出現(xiàn)漏光的現(xiàn)象。實現(xiàn)彩色樹脂圖案與黑矩陣無重疊區(qū)域，使彩膜基板表面平整，無漏光現(xiàn)象，提高了配向液的印刷效果，以及陣列基板和彩膜基板的對盒效果。其中，在襯底基板1上形成黑矩陣2的工藝可以采用現(xiàn)有技術，形成黑矩陣2后， 在形成黑矩陣2的襯底基板1上形成一種顏色的彩色樹脂層3，然后采用掩膜版4從襯底基板1背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光。形成第一種顏色的彩色樹脂圖案5的過程具體是在形成黑矩陣2的襯底基板1上形成第一種顏色的彩色樹脂層3，將掩膜版4直接面向襯底基板1放置，使彩色樹脂層3與掩膜版4之間依次為黑矩陣2和襯底基板1。在曝光過程中，彩色樹脂層3受到掩膜版4中不透光區(qū)域的遮擋，除此之外，由于黑矩陣2位于掩膜版4和彩色樹脂層3之間，且黑矩陣2也是不透光的，可以看出，彩色樹脂層3還受到黑矩陣2的遮擋。由于現(xiàn)有的形成彩色樹脂圖案5的工藝中，彩色樹脂層3中可能是受到光照射的區(qū)域被保留下來，而沒有受到光照射的區(qū)域被去除掉；或者，彩色樹脂層3中還可能是受到光照射的區(qū)域被去除掉，而沒有受到光照射的區(qū)域被保留下來。本發(fā)明提供的實施例中，由于從襯底基板1上背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光，因此，彩色樹脂層3受到黑矩陣2的阻擋，由于相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂為需要保留的彩色樹脂圖案5，黑矩陣2上方的彩色樹脂為需要去除的彩色樹脂，而黑矩陣2上方的彩色樹脂已經(jīng)受到黑矩陣 2的遮擋，如果相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂上方的掩膜版4區(qū)域也為不透光區(qū)域，那么黑矩陣2上方的彩色樹脂和相鄰黑矩陣2之間的彩色樹脂將都受到遮擋，即整個彩色樹脂層3都受到遮擋，則無法在彩色樹脂層3表面形成彩色樹脂圖案5。因此，需要注意的是，相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂上方的掩膜版4區(qū)域應為透光區(qū)域。由于相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂上方的掩膜版4區(qū)域應為透光區(qū)域，而相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂又為需要保留的彩色樹脂圖案5，因此，彩色樹脂層3可以采用彩色負性光刻膠材料，或者，在彩色樹脂層3表面涂覆一層負性光刻膠，以使光穿過掩膜版 4中的透光區(qū)域照射到相鄰黑矩陣2之間的彩色樹脂后，受到光照射的彩色樹脂層被保留下來，而位于黑矩陣2上方的彩色樹脂由于受到黑矩陣2的遮擋而被去除掉。在形成一種顏色的彩色樹脂圖案5的過程中，在放置掩膜版4時，應使掩膜版4中的透光區(qū)域與需要形成的彩色樹脂圖案5相對應。而由于彩色樹脂圖案5位于兩個相鄰黑矩陣2之間，為了保證兩個相鄰黑矩陣2之間充滿彩色樹脂圖案5，保證黑矩陣2與形成彩色樹脂圖案5之間不存在縫隙，防止出現(xiàn)漏光的情況，因此，掩膜版4中的透光區(qū)域要略微大于相對應的需要形成的彩色樹脂圖案5?？梢钥闯?，掩膜版4中透光區(qū)域的邊緣應對應于黑矩陣2圖案的范圍內。采用上述方法進行曝光，黑矩陣2正上方對應的彩色樹脂，由于被黑矩陣2遮擋而沒有受到光照射，因此，被完全去除掉；而兩相鄰黑矩陣2之間的彩色樹脂由于受到光照射而得以保留。因此，形成的彩色樹脂圖案5在兩相鄰的黑矩陣2之間，而由于黑矩陣2正上方的彩色樹脂被完全去掉，使得形成的彩色樹脂圖案5與黑矩陣2不存在重疊區(qū)域，這樣使得最終形成的彩膜基板表面，僅在黑矩陣2正上方是凹陷的，其余的彩色樹脂圖案5部分的高度是一致的，而并不存在黑矩陣2和彩色樹脂圖案5重疊區(qū)域凸起的現(xiàn)象。在曝光工藝過程中，掩膜版4與襯底基板1的對位精度通常是較高的，但由于曝光設備本身有一定的誤差范圍，另外掩膜版4存在變形的問題，這樣會導致掩膜版4和襯底基板1的對位出現(xiàn)一定的偏差。參見圖5和圖6，而采用掩膜版4，從襯底基板1背離黑矩陣2 的一側對彩色樹脂層3進行曝光，由于不透光的黑矩陣2位于彩色樹脂層3和掩膜版4之間，因此，黑矩陣2起到輔助掩膜的作用。即便由于對位偏差導致掩膜版4中的透光區(qū)域邊緣超出需要形成的彩色樹脂圖案5邊緣較多，由于有不透光的黑矩陣2遮擋，也會使該黑矩陣2上方的彩色樹脂被完全去除，從而不會出現(xiàn)黑矩陣2與彩色樹脂圖案5重疊的問題，因此更不會出現(xiàn)兩個相鄰黑矩陣2與彩色樹脂圖案5的重疊部分高度不一致的情況，從而不會出現(xiàn)重疊部分高度不一致而導致的圖形偏移問題。不影響配向液印刷和對盒效果。形成一種彩色樹脂圖案5之后，采用與上述相同的方法，首先在襯底基板1上形成另一種顏色的彩色樹脂層3，然后采用掩膜版4，從襯底基板1背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光。其中，掩膜基板4中的不透光區(qū)域遮擋住襯底基板1上已形成的彩色樹脂圖案5，而透光區(qū)域位于待形成的彩色樹脂圖案5上方，且掩膜版4中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣2圖案的范圍內。需要說明的是，形成一種顏色的彩色樹脂圖案5之后，要對其進行烘烤(post bake)，而經(jīng)過烘烤后的彩色樹脂圖案5，只有采用濃度極高的化學藥品經(jīng)過長時間的作用才能去除掉。從而保證了在形成另一種顏色的彩色樹脂圖案5的過程中，位于另一種顏色的彩色樹脂層3下方的，已經(jīng)形成的彩色樹脂圖案5，不會連同另一種顏色的彩色樹脂一起被去除掉。實施例二在前一實施例的基礎上，進一步的，在襯底基板1上形成黑矩陣2的具體過程可以是在襯底基板1上沉積一層黑矩陣材料；在所述黑矩陣材料表面涂覆一層正性光刻膠；
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采用掩膜版4，從所述襯底基板1面向所述黑矩陣材料一側對所述黑矩陣材料進行曝光，并通過顯影形成與黑矩陣圖案對應的光刻膠圖案，所述掩膜版4中不透光區(qū)域與所述黑矩陣圖案相對應；對所述黑矩陣材料進行刻蝕，形成所述黑矩陣圖案；剝離所述黑矩陣圖案表面的正性光刻膠?；蛘呤?，在襯底基板1上沉積一層黑矩陣材料；在所述黑矩陣材料表面涂覆一層負性光刻膠；采用掩膜版4，從所述襯底基板1面向所述黑矩陣材料一側對所述黑矩陣材料進行曝光，并通過顯影形成與黑矩陣圖案對應的光刻膠圖案，所述掩膜版4中透光區(qū)域與所述黑矩陣圖案相對應；對所述黑矩陣材料進行刻蝕，形成所述黑矩陣圖案；剝離所述黑矩陣圖案表面的負性光刻膠。以上兩種方法均是在黑矩陣材料表面涂覆光刻膠，再進行曝光、顯影和刻蝕形成黑矩陣2的方法。而另一種更為常用的形成黑矩陣2工藝為在襯底基板1上涂覆一層黑色光刻膠，然后采用掩膜版4，從襯底基板1靠近黑色光刻膠一側對黑色光刻膠進行曝光， 通過顯影形成黑矩陣2。這種方法步驟少、工藝簡單，能夠節(jié)約生產(chǎn)成本和提高生產(chǎn)效率。由于相鄰黑矩陣2之間的彩色樹脂為需要保留的彩色樹脂圖案5，而從上一實施例的描述中可以得出相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂上方的掩膜版4區(qū)域應為透光區(qū)域。 因此，作為一種較佳的實施方式，采用掩膜版4，從襯底基板1上背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光，形成彩色樹脂圖案5的過程可以具體包括在彩色樹脂層3表面涂覆負性光刻膠；采用掩膜版4，從襯底基板1上背離黑矩陣2 —側對彩色樹脂層3進行曝光，并通過顯影在彩色樹脂層3表面形成與彩色樹脂圖案5對應的光刻膠圖案；對彩色樹脂層3進行刻蝕，形成彩色樹脂圖案5 ；剝離彩色樹脂圖案5表面的負性光刻膠。具體的，由于掩膜版4放置在襯底基板1上背離黑矩陣2 —側，因此，彩色樹脂層 3與掩膜版4之間依次為黑矩陣2和襯底基板1。則在曝光過程中，彩色樹脂層3表面的負性光刻膠受到掩膜版4中不透光區(qū)域的遮擋，除此之外，由于黑矩陣2也是不透光的，受到遮擋的負性光刻膠在顯影后被去除掉，而受到光照射的負性光刻膠在顯影后保留下來。由于相鄰的黑矩陣2之間的彩色樹脂上方的掩膜版4區(qū)域應為透光區(qū)域，該區(qū)域的彩色樹脂層3表面的負性光刻膠由于受到光照射而被保留下來，而位于黑矩陣2上方的彩色樹脂層 3表面的負性光刻膠，由于受到黑矩陣2的遮擋而被去除掉。因此，在顯影之后，在彩色樹脂層3表面形成了與所需彩色樹脂圖案5相對應的光刻膠圖案。在刻蝕過程中，表面具有負性光刻膠的彩色樹脂層，在負性光刻膠的保護作用下得以保留，而表面沒有負性光刻膠的彩色樹脂則被刻蝕掉。在刻蝕工藝后，在襯底基板1表面形成了一種顏色的彩色樹脂圖案5在放置掩膜版4時，應使掩膜版4中的透光區(qū)域與需要形成的彩色樹脂圖案5相對應。而由于彩色樹脂圖案5位于兩個相鄰黑矩陣2之間，為了保證兩個相鄰黑矩陣2之間充滿彩色樹脂圖案5，保證黑矩陣2與形成彩色樹脂圖案5之間不存在縫隙，防止出現(xiàn)漏光的情況，因此，掩膜版4中的透光區(qū)域要略微大于相對應的需要形成的彩色樹脂圖案5， 即掩膜版4中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣2圖案的范圍內。采用上述方法進行曝光，在顯影后，黑矩陣2正上方的彩色樹脂表面的負性光刻膠，由于被黑矩陣2遮擋而沒有受到光照射，因此，被完全去除掉；而兩相鄰黑矩陣2之間的彩色樹脂表面的負性光刻膠由于受到光照射而得以保留。因此，顯影后，形成的光刻膠圖案在兩相鄰的黑矩陣2之間，而由于黑矩陣2正上方彩色樹脂表面的負性光刻膠被完全去掉， 使得刻蝕后形成的彩色樹脂圖案5與黑矩陣2不存在重疊區(qū)域，這樣使得最終形成的彩膜基板表面，僅在黑矩陣2正上方是凹陷的，其余的彩色樹脂圖案5部分的高度是一致的，而并不存在黑矩陣2和彩色樹脂圖案5重疊區(qū)域凸起的現(xiàn)象。而作為另一種較佳的實施方式，采用掩膜版4，從襯底基板1上背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光，形成彩色樹脂圖案5的過程還可以包括采用掩膜版4，從襯底基板1背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光，并通過顯影形成彩色樹脂圖案5，彩色樹脂為負性感光材料。由于彩色樹脂本身即為負性感光材料，這種材料受到光照射后，在顯影中得以保留，而沒有受到光照射則在顯影過程后被去除。采用這種方式會減少工藝步驟，提高生產(chǎn)效率。采用這種進行曝光，在顯影后，黑矩陣2正上方的彩色樹脂，由于被黑矩陣2遮擋而沒有受到光照射，因此，被完全去除掉；而兩相鄰黑矩陣2之間的彩色樹脂由于受到光照射而得以保留。因此，顯影后，形成的彩色樹脂圖案5在兩相鄰的黑矩陣2之間，而由于黑矩陣2正上方彩色樹脂被完全去掉，使得顯影后形成的彩色樹脂圖案5與黑矩陣2不存在重疊區(qū)域，這樣使得最終形成的彩膜基板表面，僅在黑矩陣2正上方是凹陷的，其余的彩色樹脂圖案5部分的高度是一致的，而并不存在黑矩陣2和彩色樹脂圖案5重疊區(qū)域凸起的現(xiàn)象。形成一種彩色樹脂圖案5之后，可以采用上述的方法，在襯底基板1上形成另一種顏色的彩色樹脂層3，然后采用掩膜版4，從襯底基板1背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3 進行曝光。其中，掩膜板4中的不透光區(qū)域遮擋住襯底基板1上已形成的彩色樹脂圖案5， 而透光區(qū)域位于待形成的彩色樹脂圖案5上方，且掩膜版4中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣2圖案的范圍內。顯影后，形成相應的彩色樹脂圖案5。在曝光工藝過程中，由于曝光設備本身有一定的誤差范圍，而掩膜版4本身存在變形的問題，會導致掩膜版4和襯底基板1的對位出現(xiàn)一定的偏差。參見圖5和圖6，而采用掩膜版4，從襯底基板1背離黑矩陣2的一側對彩色樹脂層3進行曝光，由于不透光的黑矩陣2位于彩色樹脂層3和掩膜版4之間，因此，黑矩陣2起到輔助掩膜的作用。即便由于對位偏差導致掩膜版4中的透光區(qū)域邊緣超出需要形成的彩色樹脂圖案5邊緣較多，由于有不透光的黑矩陣2遮擋，也會使該黑矩陣2上方的彩色樹脂或彩色樹脂表面的負性光刻膠被完全去除，從而不會出現(xiàn)黑矩陣2與彩色樹脂圖案5重疊的問題，因此更不會出現(xiàn)兩個相鄰黑矩陣2與彩色樹脂圖案5的重疊部分高度不一致的情況，從而不會出現(xiàn)重疊部分高度不一致而導致的圖形偏移問題。不影響配向液印刷和對盒效果。實施例三在前一實施例的基礎上，優(yōu)選的，本實施例給出彩膜基板的制造方法的具體操作過程，可以包括將襯底基板放置在操作臺上；在此步驟之前，通常需要對襯底基板進行清洗和干燥，以保證襯底基板表面無雜質。在襯底基板上涂覆一層黑色光刻膠；采用掩膜版，從襯底基板靠近黑色光刻膠的一側對黑色光刻膠進行曝光，并通過顯影形成黑矩陣。以上步驟僅為形成黑矩陣的一種較佳的方法，而實際上，還可以通過其他方式在襯底基板上形成黑矩陣。在襯底基板上形成黑矩陣之后，形成一種顏色的彩色樹脂圖案的流程包括對形成黑矩陣的襯底基板表面進行清洗；在形成黑矩陣的襯底基板上形成一種顏色的彩色樹脂層；對襯底基板進行真空干燥；對彩色樹脂層進行預烘焙；對彩色樹脂層進行冷卻；將襯底基板沿水平方向翻轉180度，使彩色樹脂層與操作臺接觸；采用掩膜版，從襯底基板背離黑矩陣的一側對彩色樹脂層進行曝光，并通過顯影形成彩色樹脂圖案，掩膜版中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣圖案的范圍內；對形成的彩色樹脂圖案進行后烘焙；對形成的彩色樹脂圖案進行檢驗，合格后則進入形成另一種顏色彩色樹脂圖案的流程中。可以看出，形成每一種顏色的彩色樹脂圖案的基本流程是基板投入一基板表面清洗一涂光刻膠一真空干燥一預烘焙一冷卻一曝光一顯影一后烘焙一檢查等步驟。其中， 經(jīng)過翻轉步驟后，彩色樹脂層與操作臺接觸，黑矩陣和襯底基板依次位于彩色樹脂層的上方。將掩膜版放置于襯底基板的正上方，使掩膜版中的透光區(qū)域與需要形成的彩色樹脂圖案相對應，對彩色樹脂層進行曝光。由于彩色樹脂層受到襯底基板上方的掩膜版中不透光區(qū)域的遮擋，還受到上方不透光的黑矩陣遮擋。顯影后，黑矩陣正上方對應的彩色樹脂，由于被黑矩陣遮擋而沒有受到光照射，被完全去除掉；而兩相鄰黑矩陣之間的彩色樹脂由于受到光照射而得以保留。因此，顯影后， 形成的彩色樹脂圖案在兩相鄰的黑矩陣之間，而由于黑矩陣正上方的彩色樹脂被完全去掉，使得形成的彩色樹脂層圖案與黑矩陣不存在重疊區(qū)域，這樣使得最終形成的彩膜基板表面，僅在黑矩陣正上方是凹陷的，其余的彩色樹脂圖案部分的高度是一致的，而并不存在黑矩陣和彩色樹脂圖案重疊區(qū)域凸起的現(xiàn)象。即便由于對位偏差導致掩膜版中的透光區(qū)域邊緣超出需要形成的彩色樹脂圖案邊緣較多，由于有不透光的黑矩陣遮擋，也會使該黑矩陣上方的彩色樹脂被完全去除，從而不會出現(xiàn)黑矩陣與彩色樹脂圖案重疊的問題，因此更不會出現(xiàn)兩個相鄰黑矩陣與彩色樹脂圖案的重疊部分高度不一致的情況，從而不會出現(xiàn)重疊部分高度不一致而導致的圖形偏移問題。不影響配向液印刷和對盒效果。在形成一種顏色的彩色樹脂圖案之后，形成另一種顏色的彩色樹脂圖案可以包括將形成一種顏色的彩色樹脂圖案的襯底基板沿水平方向翻轉180度，使另一種彩色樹脂層與操作臺接觸；采用掩膜版，從襯底基板背離黑矩陣的一側對彩色樹脂層進行曝光，并通過顯影形成彩色樹脂圖案，掩膜版中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣圖案的范圍內。以上只給出了形成另一種顏色彩色樹脂圖案中較為重要的步驟，而該流程中所涉及的完整流程可以參考前面的描述，在此不再贅述。在形成一種彩色樹脂圖案之后，采用相同的方法，首先在襯底基板上形成另一種顏色的彩色樹脂層，翻轉襯底基板，使該彩色的樹脂層與操作臺接觸。然后將掩膜版放置在襯底基板的正上方，對彩色樹脂層進行曝光。其中，掩膜基板中的不透光區(qū)域遮擋住襯底基板上已形成的彩色樹脂圖案，而透光區(qū)域位于待形成的彩色樹脂圖案上方，且掩膜版中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣圖案的范圍內。顯影后，形成相應的彩色樹脂圖案。本實施例提供了在襯底基板上形成黑矩陣和至少兩種顏色的彩色樹脂圖案的具體流程，在形成一種顏色的彩色樹脂圖案后，由于彩色樹脂層與操作臺直接接觸，為了保證后續(xù)其他彩膜基板的制作環(huán)境整潔，以免出現(xiàn)誤差，可以在形成一種顏色的彩色樹脂圖案后，進行清洗操作臺的步驟將形成彩色樹脂圖案的襯底基板沿水平方向翻轉180度，使襯底基板與操作臺接觸；將形成彩色樹脂圖案的襯底基板從操作臺上移除；對操作臺進行清洗。另外，本發(fā)明提供的彩膜基板制造方法中，其曝光過程具體是由曝光設備，例如曝光機來完成。以下給出曝光機在曝光工藝中所執(zhí)行的具體過程在曝光機中放置襯底基板(Glass Input)—翻轉襯底基板(Glass TurnOver)— 將襯底基板加載到操作臺上(Glass Loading)—基板預對位(PreAlignment)—基板真空吸附(Glass Chuck)—基板與掩膜版間距控制(Gapcontrol)—基板精對位(Alignment)— 基板曝光(Exposure)—真空吸附解除(Chuck Release)—翻轉襯底基板(Glass Tum Over)—襯底基板從操作臺上卸載(Glass Unloading)—自動清洗操作臺或人工清洗操作臺(Stage AutoCleaning/Stage manual Cleaning)其中，曝光機內具有精密的控溫裝置，以保持曝光機內部處于恒溫環(huán)境，可以最大限度地避免出現(xiàn)襯底基板和掩膜版變形的情況。曝光機中設有承載襯底基板的操作臺(stage)，該操作臺為不反光材質，以防止出現(xiàn)曝光用到的光出現(xiàn)反射的情況。進一步的，曝光機中設有翻轉機構，可實現(xiàn)將襯底基板在曝光機空間內翻轉180度。另外，曝光機內還設有清潔機構，能夠定期對操作臺表面進行清潔，以去除由于彩色樹脂層與操作臺直接接觸而殘留的彩色樹脂。最后應說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本發(fā)明各實施例技術方案的精神和范圍。
權利要求
1.一種彩膜基板的制造方法，包括在襯底基板上形成黑矩陣和至少兩種顏色的彩色樹脂圖案的流程，其特征在于，形成每種顏色的彩色樹脂圖案的流程包括在形成黑矩陣的襯底基板上形成對應顏色的彩色樹脂層；采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案，所述掩膜版中透光區(qū)域的邊緣對應于所述黑矩陣圖案的范圍內。
2.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案之前，還包括在所述彩色樹脂層表面涂覆負性光刻膠。
3.根據(jù)權利要求2所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案具體為采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣一側對所述彩色樹脂層進行曝光，并通過顯影在所述彩色樹脂層表面形成與彩色樹脂圖案對應的光刻膠圖案；對所述彩色樹脂層進行刻蝕，形成所述彩色樹脂圖案；剝離所述彩色樹脂圖案表面的負性光刻膠。
4.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，形成所述彩色樹脂圖案具體為采用掩膜版，從所述襯底基板背離黑矩陣的一側對所述彩色樹脂層進行曝光，并通過顯影形成所述彩色樹脂圖案，所述彩色樹脂為負性感光材料。
5.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成黑矩陣的流程包括在襯底基板上涂覆一層黑色光刻膠；采用掩膜版，從所述襯底基板靠近所述黑色光刻膠的一側對所述黑色光刻膠進行曝光，并通過顯影形成所述黑矩陣。
6.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成黑矩陣具體包括在襯底基板上沉積一層黑矩陣材料；在所述黑矩陣材料表面涂覆一層正性光刻膠；采用掩膜版，從所述襯底基板面向所述黑矩陣材料一側對所述黑矩陣材料進行曝光， 并通過顯影形成與黑矩陣圖案對應的光刻膠圖案，所述掩膜版中不透光區(qū)域與所述黑矩陣圖案相對應；對所述黑矩陣材料進行刻蝕，形成所述黑矩陣圖案；剝離所述黑矩陣圖案表面的正性光刻膠。
7.根據(jù)權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成黑矩陣具體包括在襯底基板上沉積一層黑矩陣材料；在所述黑矩陣材料表面涂覆一層負性光刻膠；采用掩膜版，從所述襯底基板面向所述黑矩陣材料一側對所述黑矩陣材料進行曝光， 并通過顯影形成與黑矩陣圖案對應的光刻膠圖案，所述掩膜版中透光區(qū)域與所述黑矩陣圖案相對應；對所述黑矩陣材料進行刻蝕，形成所述黑矩陣圖案； 剝離所述黑矩陣圖案表面的負性光刻膠。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩膜基板的制造方法，包括在襯底基板上形成黑矩陣和至少兩種顏色的彩色樹脂圖案的流程，形成每種顏色的彩色樹脂圖案的流程包括在形成黑矩陣的襯底基板上形成對應顏色的彩色樹脂層；采用掩膜版，從襯底基板背離黑矩陣的一側對彩色樹脂層進行曝光，形成彩色樹脂圖案，掩膜版中透光區(qū)域的邊緣對應于黑矩陣圖案的范圍內。本發(fā)明提供的彩膜基板的制造方法，解決了掩膜版和襯底基板對位誤差出現(xiàn)的彩色樹脂圖案與兩相鄰黑矩陣之間的重疊部分高度不對稱的問題，避免出現(xiàn)漏光的現(xiàn)象。實現(xiàn)彩色樹脂圖案與黑矩陣無重疊區(qū)域，使彩膜基板表面平整，無漏光現(xiàn)象，提高了配向液的印刷效果，以及陣列基板和彩膜基板的對盒效果。
文檔編號G02F1/1335GK102455542SQ20101052081
公開日2012年5月16日 申請日期2010年10月21日 優(yōu)先權日2010年10月21日
發(fā)明者林鴻濤 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司