專(zhuān)利名稱(chēng)：用于在平版印版的單步?jīng)_洗之后干燥的方法和裝置的制作方法
用于在平版印版的單步?jīng)_洗之后干燥的方法和裝置本發(fā)明涉及一種用于在平版印版的單步?jīng)_洗之后干燥的方法和裝置。平版印刷的技術(shù)領(lǐng)域是基于油和水的不混溶性，其中含油材料或印刷油墨優(yōu)選被圖像區(qū)域接受，而水或潤(rùn)版液優(yōu)選被非圖像區(qū)域接受。當(dāng)恰當(dāng)產(chǎn)生的表面經(jīng)水潤(rùn)濕并且施加印刷油墨時(shí)，背景或非圖像區(qū)域接受水并且排斥印刷油墨，而圖像區(qū)域接受印刷油墨并且排斥水。然后，將圖像區(qū)域中的印刷油墨轉(zhuǎn)移至諸如紙、織物等等材料的表面，在該表面上形成圖像。然而，印刷油墨通常首先轉(zhuǎn)移至稱(chēng)作橡皮布的中間材料，其隨后反過(guò)來(lái)將印刷油墨轉(zhuǎn)移至材料的表面上，在該表面上形成圖像；該技術(shù)稱(chēng)作平版膠印術(shù)。頻繁使用的平版印版前體的類(lèi)型包含被施加至鋁基底上的襯底上的感光涂層。該涂層可以對(duì)輻射起反應(yīng)，使得曝光部分變得可溶以便在顯影過(guò)程期間被去除。將這種版稱(chēng)作陽(yáng)圖制版的。另一方面，如果涂層的曝光部分通過(guò)輻射硬化，則將版稱(chēng)作陰圖制版的。在這兩種情況下，剩余圖像區(qū)域均接受印刷油墨，即是親油的，而非圖像區(qū)域(背景)接受水， 即是親水的。在曝光期間，在圖像區(qū)域和非圖像區(qū)域之間發(fā)生差別化，為此，使膜在真空下附著在印版前體上，從而保證良好接觸。然后借助于輻射源使版曝光，所述輻射源的一部分由紫外(UV)輻射組成。當(dāng)使用陽(yáng)圖版時(shí)，對(duì)應(yīng)于該版上圖像的膜上區(qū)域是不透明的，使得光不會(huì)到達(dá)該版，而對(duì)應(yīng)于非圖像區(qū)域的膜上區(qū)域是透明的，使得光透過(guò)涂層，涂層的溶解度增加。在陰圖版的情況下，發(fā)生相反情形對(duì)應(yīng)于版上圖像的膜上區(qū)域是透明的，而非圖像區(qū)域是不透明的。在透明膜區(qū)域下面的涂層由入射光硬化，而未受光影響的區(qū)域在顯影期間被去除。陰圖制版的光硬化表面因此是親油的并接受印刷油墨，而用于用被顯影劑去除的涂層涂布的非圖像區(qū)域被純化并因此是親水的。或者，該版還可以數(shù)字地成像式曝光而不需膜。從90年代后期以來(lái)，通過(guò)成像式直接加熱或用轉(zhuǎn)化成熱的紅外(IR)輻射使具有熱敏感層的版前體顯影，涂層的加熱和未加熱區(qū)域的顯影劑溶解度產(chǎn)生差異；這種版通常稱(chēng)作"頂版"或"熱版"。根據(jù)最新發(fā)展，已使這樣的版前體顯影，所述版前體可以通過(guò)使其成像曝光于由紫外激光器(包括 2-光子激發(fā)系統(tǒng))發(fā)射的近紫外(near UV)輻射或可見(jiàn)(VK)輻射而成像。對(duì)于干凈的印刷圖像而言，必需的是(與所用前體的類(lèi)型無(wú)關(guān))，圖像區(qū)域(即成像式剩余涂層)很好地接受印刷油墨，而非圖像區(qū)域(即成像式顯露的襯底，諸如鋁襯底) 不應(yīng)接受該印刷油墨。為了在印版被安裝于印刷機(jī)上或者被儲(chǔ)存一段時(shí)間時(shí)保護(hù)成像式顯露的襯底諸如鋁襯底免受指紋、氧化鋁的形成、腐蝕和機(jī)械沖擊諸如劃傷的影響，即維持并有可能提高非圖像區(qū)域的親水性質(zhì)，通常使顯影的印版經(jīng)受〃涂膠〃處理(也稱(chēng)作〃純化"或"整理(finishing)“。在儲(chǔ)存之前或在長(zhǎng)時(shí)間靜止印刷機(jī)之前對(duì)版涂膠，確保非圖像區(qū)域保持親水性。當(dāng)印刷開(kāi)始時(shí)，涂膠溶液必須能用潤(rùn)版液快速地從版上洗掉，使得圖像區(qū)域能夠立即接受油墨。涂膠溶液是長(zhǎng)期以來(lái)已知的。第一種涂膠溶液基于阿拉伯膠，并且現(xiàn)在阿拉伯膠被廣泛使用。多年前，曾嘗試發(fā)現(xiàn)聚合物膠代用品，因?yàn)閮H存在有限資源的阿拉伯膠。因?yàn)榫酆衔锶芤号c某些類(lèi)型的版可能導(dǎo)致失明問(wèn)題，所以嘗試從純化組合物中去除所述聚合物，這產(chǎn)生特殊鹽如磷酸鹽和任選的表面活性劑的溶液。在其它嘗試中，通常用糖和糊精型材料替代磷酸鹽。
涂膠組合物描述于例如DE 29 26 645 Al、DE 20 42 217 Al、US 4, 880, 555 Al、 US 4，033，919 A 中。呈乳液形式的整理劑描述在US 4，162，920 Al中。其它整理劑描述在EP 0 397 407 A2禾口 EP 0 024 298 A2中。DE 25 30 502 Al公開(kāi)一種方法、一種裝置和一種用于同時(shí)對(duì)陰圖制版印版顯影和涂膠的液體；該液體據(jù)說(shuō)是基于水的并且含有少量有機(jī)溶劑以及水溶性膠質(zhì)并且其PH 介于3和11之間。EP 1 868 036 Al涉及一種用于沖洗具有外涂層的光聚合物印版的方法。水性堿性沖洗液體包含水、至少一種表面活性劑、至少一種形成水溶性膜的親水聚合物和用于將 PH值調(diào)節(jié)到9. 5至14的至少一種堿性試劑；通過(guò)使用去除外涂層的所述沖洗液體，以一個(gè)單一沖洗步驟進(jìn)行顯影和涂膠。本發(fā)明的目的是提供一種方法，該方法允許用少量的方法步驟來(lái)制造成像的平版印版并且同時(shí)提高分辨率，以及擴(kuò)大線性點(diǎn)和澄清點(diǎn)(clear point)曝光之間的窗口。這一目的出乎意料地通過(guò)用于產(chǎn)生成像的平版印版的方法實(shí)現(xiàn)，該方法包含(a)用包含形成親水膜的聚合物的水性顯影劑處理包含輻射敏感涂層的成像曝光的平版印版前體；(b)擠壓步驟(a)的顯影版以去除任何過(guò)量的顯影劑；(c)立即用至少一種以下可能方式干燥至少?gòu)脑摪娴挠∷⒚娓稍锊襟E(b)的受擠壓版(i)鼓風(fēng)，其中空氣溫度和/或空氣流是可變或可調(diào)節(jié)的，并且版溫度不高于 60 0C ；(ii)熱輥，其中輥的溫度是可變或可調(diào)節(jié)的，并且是至少30°C ；(iii)輻射源，其中輻射源和版表面之間的距離和/或由輻射源發(fā)射的能量是可變或可調(diào)節(jié)的；(iv)在至少150°C的溫度下快速烘烤。在本發(fā)明中使用的術(shù)語(yǔ)"印版前體"涉及未成像版(即尚未成像式曝光和顯影的版)，印版是通過(guò)成像式曝光和顯影從未成像版產(chǎn)生。在本發(fā)明中使用的術(shù)語(yǔ)〃印版〃(也稱(chēng)作〃印刷表單(printing form)“)是指從印版前體產(chǎn)生的已成像版。在本發(fā)明內(nèi)，丨‘涂膠組合物〃、“整理劑組合物〃和〃純化劑組合物〃可互換使用。在本發(fā)明內(nèi)，表述"一涂層"或"一個(gè)涂層"并非規(guī)定該涂層的結(jié)構(gòu)；其涵蓋單層涂層以及多層涂層例如兩層涂層。在本發(fā)明內(nèi)，〃一“、“該〃和〃所述〃并不一定意味著僅指單一化合物。在本發(fā)明中使用的術(shù)語(yǔ)“顯影“是指通過(guò)水性堿性顯影劑溶液在曝光于輻射之后去除輻射敏感前體涂層的非圖像區(qū)域?！徊?jīng)_洗〃、‘‘單步?jīng)_洗〃或〃 2合1沖洗〃是指這樣一種方法，其中通過(guò)使用適宜的液體組合物以單個(gè)步驟進(jìn)行顯影和涂膠。原則上，任何可用的"2合1沖洗組合物"O合1顯影劑)均可以用于本發(fā)明的方法中。
下文所述的任何實(shí)施方式、優(yōu)選范圍等等可以與下文所述的一個(gè)或多個(gè)其它實(shí)施方式、優(yōu)選范圍等等組合。所有這種可能的組合均被視為在本發(fā)明公開(kāi)內(nèi)容范疇內(nèi)，即使未對(duì)它們明確提及?；旧希ㄟ^(guò)一步?jīng)_洗獲得的所有類(lèi)型的平版印版均可用于本發(fā)明的方法中。既可使用由陽(yáng)圖制版前體產(chǎn)生的印版，也可使用由陰圖制版前體產(chǎn)生的印版；可使用經(jīng)紫外 /可見(jiàn)輻射成像的印版和經(jīng)紅外輻射或直接加熱成像的印版。在下文中，更詳細(xì)地解釋某些類(lèi)型的前體，但并非旨在將本發(fā)明限制于這些類(lèi)型。HL^印版前體可以是陰圖制版前體以及陽(yáng)圖制版前體；根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，前體對(duì)紫外/可見(jiàn)輻射敏感，根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式，前體對(duì)紅外輻射或直接加熱敏感。任何類(lèi)型的前體、特別是下文所述的適宜前體的實(shí)例可以與下文所述干燥步驟的任何實(shí)施方式組合。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式，前體對(duì)紅外輻射敏感，并且其涂層是多層涂層(優(yōu)選是2層涂層)；在該實(shí)施方式內(nèi)，前體優(yōu)選是陽(yáng)圖制版的。適宜前體的更多細(xì)節(jié)描述于下面IM用于前體的襯底優(yōu)選是尺寸穩(wěn)定的板或箔形材料，如已用作印刷物質(zhì)的襯底的材料。這種襯底的實(shí)例包括紙張；涂布有塑性材料(諸如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的紙張；金屬板或箔，諸如鋁(包括鋁合金)、鋅和銅板；塑料膜，例如由二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、硝酸纖維素、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制成；和層疊材料，由紙張或塑料膜和一種上述金屬、或已通過(guò)汽相沉積而覆金屬的紙張/塑料膜制成。在這些襯底之中，鋁板或箔是特別優(yōu)選的，因?yàn)槠滹@示出卓越的尺寸穩(wěn)定程度，是價(jià)廉的，并且還具有對(duì)輻射敏感涂層的優(yōu)異粘附性。此外，可以使用復(fù)合物膜，其中已將鋁箔層疊至塑料膜上諸如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜上，或紙張上，或者其上已借助于汽相沉積施加了鋁的塑料膜上。優(yōu)選襯底是金屬襯底，其中本文所用的術(shù)語(yǔ)"金屬襯底"也涵蓋最上層為金屬層或箔的復(fù)合物膜。金屬襯底、特別是鋁襯底優(yōu)選經(jīng)受表面處理，例如通過(guò)在干燥狀態(tài)下刷涂或用研磨劑懸浮液刷涂磨版；或電化學(xué)磨版，例如借助于鹽酸電解質(zhì)或HNO3 ；以及任選陽(yáng)極化，例如在硫酸或磷酸中。根據(jù)優(yōu)選實(shí)施方式，金屬襯底包括Al2O3層、ZnO層、SW2層或TW2層， 其中層在上下文中并非一定是指在襯底的整個(gè)表面上的完全連續(xù)層。特別優(yōu)選的襯底是優(yōu)選具有0. 1至0. 7mm厚度、更優(yōu)選0. 15至0. 5mm厚度的鋁箔。優(yōu)選的是，所述箔被磨版(優(yōu)選電化學(xué)磨版)并隨后顯示0.2至ιμπι、特別優(yōu)選0.3至 0. 8 μ m的平均粗糙度。襯底還可以是其上具有可成像涂層的圓柱表面，并因此是印刷機(jī)的組成部分。這種成像圓柱的使用描述在例如US 5，713，287中。根據(jù)特別優(yōu)選實(shí)施方式，磨版的鋁箔被進(jìn)一步陽(yáng)極化。所得氧化鋁的層重量?jī)?yōu)選為1. 5至5g/m2，特別優(yōu)選為2至4g/m2。金屬襯底可以另外用例如堿金屬硅酸鹽、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、 聚乙烯基膦酸、乙烯基膦酸共聚物或膦酸的水溶液進(jìn)行后處理(所謂"密封")，從而在其表面上提供親水化層(也稱(chēng)作"中間層")；該襯底也可用可進(jìn)一步含有無(wú)機(jī)氟化物的磷酸鹽溶液處理。襯底的背面(非成像面)可以涂布抗靜電劑和/或平滑層或消光層以改善可成像元件的"手感"和"觸感"。上述的襯底處理的細(xì)節(jié)為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知。陰圖制版輻射敏感元件陰圖制版涂層描述在許多參考文獻(xiàn)中，例如，基于陰性重氮樹(shù)脂的紫外敏感涂層例如描述在EP 0 752 430 Bl中，對(duì)405nm敏感的光聚合物層例如描述在DE 103 07 451 中，對(duì)可見(jiàn)光敏感的光聚合物層例如描述在EP 0 684 522 Bl中并且紅外敏感的可聚合體系例如描述在DE 199 06 823 Al中。具有〃物理的〃而非〃化學(xué)的〃機(jī)理的陰圖制版涂層例如描述在EP 0 770 497 AUEP 0 514 145 Al和EP 1 342 568 Al中；這些文件中描述的版是通過(guò)聚合物粒子的聚結(jié)而成像。光致聚合(紫外/可見(jiàn)和紅外)施加至襯底上的一種類(lèi)型的陰圖制版涂層包含(a)選自光敏引發(fā)劑和敏化劑/ 共引發(fā)劑體系的至少一種吸收劑組分，其吸收250至1，200nm范圍的波長(zhǎng)的輻射并能夠引發(fā)自由基聚合；(b)可自由基聚合單體、低聚物和/或預(yù)聚物；并任選的(c)至少一種聚合物粘結(jié)劑。吸收劑組分輻射敏感涂層進(jìn)一步包含選自光敏引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系的至少一種吸收劑組分。選擇吸收劑組分，使得其能夠在其中待稍后在成像期間使用的輻射源發(fā)射的范圍中顯著吸收；優(yōu)選地，該吸收劑在該范圍中顯示最大吸收。因此，如果例如將要借助于紅外激光使輻射敏感元件成像，則吸收劑應(yīng)該基本上吸收在750至1，200nm的范圍中的輻射并優(yōu)選在該范圍中顯示最大吸收。另一方面，如果將借助于紫外/可見(jiàn)輻射進(jìn)行成像，則吸收劑應(yīng)該基本上吸收在250至750nm的范圍中的輻射并優(yōu)選在該范圍中顯示最大吸收。適宜的光敏引發(fā)劑和/或敏化劑是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的，或可以容易地借助于簡(jiǎn)單測(cè)試(例如記錄吸收光譜)確定是否在期望的波長(zhǎng)范圍中發(fā)生顯著吸收。在本發(fā)明中，光引發(fā)劑是當(dāng)曝光時(shí)能夠吸收輻射和能獨(dú)自(即不添加共引發(fā)劑) 形成自由基的化合物。吸收紫外或可見(jiàn)輻射的適宜光引發(fā)劑的實(shí)例包括具有1至3個(gè)CX3 基的三嗪衍生物(其中每個(gè)X獨(dú)立選自氯或溴原子，優(yōu)選是氯原子)、六芳基雙咪唑化合物、 苯偶姻醚、苯偶酰縮酮、肟基醚、肟酯、α-羥基-或α-氨基-苯乙酮、?；ⅰⅤ；趸?、 ?；蚧?、茂金屬、過(guò)氧化物等等。適宜三嗪衍生物的實(shí)例包括2-苯基-4，6_雙(三氯甲基)_均三嗪、2，4，6_三(三氯甲基)_均三嗪、2-甲基_4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)_均三嗪、2_(對(duì)甲氧基苯乙烯基)-4，6_雙(三氯甲基)_均三嗪、2-(4_甲氧基-萘酰-1-基)-4，6_雙(三氯甲基)_均三嗪和2-(4-乙氧基-萘酰-1-基)_4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪和2-[4- (2-乙氧基乙基)-萘酰-1-基]_4，6-雙(三氯-甲基)-均三嗪。 適宜的肟基醚和肟酯是例如衍生自苯偶姻的那些。優(yōu)選茂金屬例如是具有兩個(gè)五元環(huán)二烯基如環(huán)戊二烯基和一個(gè)或兩個(gè)六元芳基的二茂鈦，所述六元芳基具有至少一個(gè)鄰位氟原子和還有任選的一個(gè)吡咯基；最優(yōu)選的茂金屬是雙(環(huán)戊二烯基)_雙-[2，6_ 二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]鈦和二環(huán)戊二烯-雙-2，4，6-三氟苯基-鈦或鋯。在本發(fā)明中，可以使用單一光引發(fā)劑或兩種或更多種的混合物。光引發(fā)劑可以單獨(dú)使用或與一種或多種共引發(fā)劑組合使用；添加共引發(fā)劑可以提高光引發(fā)的效率。光引發(fā)劑的量不受特別限制；然而，如果存在光引發(fā)劑，則其優(yōu)選基于干層重量為 0.2至25重量％，特別優(yōu)選為0.5至15重量％。在本發(fā)明中所謂的敏化劑是當(dāng)其曝光時(shí)可以吸收輻射但不能獨(dú)自(即未添加共引發(fā)劑)形成自由基的化合物。光可氧化或光可還原或能夠?qū)⑺鼈兊募ぐl(fā)能量轉(zhuǎn)移至受體分子的所有光吸收化合物是用于本發(fā)明的適宜敏化劑。這種染料的實(shí)例包括花青染料、部花青染料、氧雜菁染料(oxonol dye)、二芳基甲烷染料、三芳基甲烷染料、咕噸染料、香豆素衍生物、香豆素酮(ketocoumarin)染料、吖啶染料、吩嗪染料、喹喔啉染料、吡咯鐺染料或噻吡咯鐺染料、 azaanulene染料(例如酞菁和卟啉)、靛青染料、蒽醌染料、聚亞芳基、聚芳基多烯、2，5_ 二苯基異苯并呋喃、2，5-二芳基呋喃、2，5-二芳基噻呋喃、2，5-二芳基吡咯、2，5-二芳基環(huán)戊二烯、聚芳基亞苯基、聚芳基-2-吡唑啉、羰基化合物例如芳族酮或醌，例如二苯甲酮衍生物、米蚩酮(Michler' s ketone)、噻噸酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。WO 2004/049068 Al中所公開(kāi)的式(I)的香豆素敏化劑例如適合于電磁光譜的紫
外范圍
權(quán)利要求
1.用于產(chǎn)生成像的平版印版的方法，其包括(a)用包含形成親水膜的聚合物的水性顯影劑處理包含輻射敏感涂層的成像曝光的平版印版前體；(b)擠壓步驟(a)的顯影版以去除任何過(guò)量的顯影劑；(c)立即用至少一種以下可能方式至少?gòu)乃霭娴挠∷⒚娓稍锊襟E(b)的所述版(i)鼓風(fēng)，其中空氣溫度和/或空氣流是可變或可調(diào)節(jié)的，并且所述版溫度不高于60 0C ；( )熱輥，其中所述輥的溫度是可變或可調(diào)節(jié)的，并且是至少30°C ；(iii)輻射源，其中所述輻射源和所述版表面之間的距離和/或由所述輻射源發(fā)射的能量是可變或可調(diào)節(jié)的；(iv)在至少150°C的溫度下快速烘烤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在步驟(c)中，所述干燥是通過(guò)鼓風(fēng)進(jìn)行，所述空氣流僅引導(dǎo)至所述版的印刷面，或者第一空氣流引導(dǎo)至所述版的印刷面而第二空氣流引導(dǎo)至所述版的背面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中各空氣流干燥器和所述版表面之間的距離獨(dú)立地選自0. 5至20cm的范圍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，其中各空氣流干燥器的空氣溫度是在18 至100°C的范圍內(nèi)獨(dú)立可變或可調(diào)節(jié)的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其中在步驟(c)中，通過(guò)鼓風(fēng)進(jìn)行干燥， 并且將所述鼓風(fēng)施加5至20秒。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述輻射敏感涂層對(duì)選自250至 750nm范圍的波長(zhǎng)的輻射敏感并且用選自所述250至750nm范圍的波長(zhǎng)的輻射進(jìn)行成像曝光，或者所述輻射敏感涂層對(duì)選自大于750至1200nm范圍的波長(zhǎng)的輻射敏感并且用選自大于所述750至1200nm范圍的波長(zhǎng)的輻射進(jìn)行成像曝光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述前體是陰圖制版前體，其任選地包含外涂層，所述外涂層任選地在曝光之后但在步驟(a)之前被去除。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述前體是具有輻射敏感涂層的陽(yáng)圖制版前體，所述輻射敏感涂層對(duì)選自大于750至1200nm范圍的波長(zhǎng)的輻射敏感，并且用選自大于所述750至1200nm范圍的波長(zhǎng)的輻射進(jìn)行成像曝光。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述輻射敏感涂層是2層涂層，其具有包含第一聚合物粘結(jié)劑的內(nèi)層和接受油墨并包含不同于所述第一聚合物粘結(jié)劑的第二聚合物粘結(jié)劑的外層，并且其中所述層中的至少一個(gè)層包含頂吸收材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述第一聚合物粘結(jié)劑包含衍生自N-取代的環(huán)狀酰亞胺、(甲基)丙烯酰胺、具有側(cè)環(huán)狀脲基的單體和(甲基)丙烯酸的共聚物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述方法進(jìn)一步包含在曝光之后但在步驟(a)之前的預(yù)熱步驟。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述水性顯影劑進(jìn)一步包含苯甲醇和/或二乙醇胺。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述顯影劑的形成親水膜的聚合物選自阿拉伯膠；支鏈淀粉；纖維素衍生物；淀粉衍生物；聚乙烯醇；聚乙烯吡咯烷酮；多糖；多羥基化合物R1 (CHOH)nR2,其中η為4至7的整數(shù)，R1選自H、芳基或CH2OH,并且R2選自H、C1-C4烷基、CH2OR3、CH2N(R4Rs)和CO2H,并且R3、R4和R5獨(dú)立地選自H和C1-C4烷基，或 R1和R2形成C-C單鍵；和聚合物，其包含伯、仲和/或叔氨基并且同時(shí)包含選自C00H、S03H、 PO2H2和PO3H2的酸基。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述前體的輻射敏感涂層包含聚合物顆粒，其在成像曝光期間施加熱或紅外輻射時(shí)聚結(jié)。
15.用于進(jìn)行根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所定義的方法的裝置。
全文摘要
本發(fā)明描述一種用于產(chǎn)生成像的平版印版的方法和裝置，其中所述方法包括單步?jīng)_洗和從至少版的印刷面進(jìn)行干燥，其中所述干燥步驟是在擠壓經(jīng)沖洗版之后立即進(jìn)行。
文檔編號(hào)G03F7/40GK102483588SQ201080039504
公開(kāi)日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月4日
發(fā)明者C·薩瓦里亞-豪克, G·豪克 申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司