專利名稱：液晶顯示器制造方法、液晶顯示器以及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器、該液晶顯示器的制造方法以及電子設(shè)備。更具體地，本發(fā)明涉及具有用于結(jié)合一對彼此相對設(shè)置的母基板的密封材料的液晶顯示器、該液晶顯示器 的制造方法以及具有該液晶顯示器的電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
已知具有用于結(jié)合一對彼此相對設(shè)置的母基板的密封材料的液晶顯示器、該液晶 顯示器的制造方法以及具有該液晶顯示器的電子設(shè)備(例如，見JP-A-2008-145634(專利 文件1))。專利文件1公開了一種液晶顯示器，其包括彼此相對設(shè)置的TFT基板(第一母基 板)和相對基板(第二母基板)、在相對基板的表面上形成的注入孔/柱狀隔離物以及用 于結(jié)合TFT基板和相對基板的密封材料。在這樣的液晶顯示器中，密封材料采用分配器沿 著TFT基板和相對基板的每個面板區(qū)域的周邊涂布，涂布開始于起點，而結(jié)束于終點。注入 孔/柱狀隔離物由光敏樹脂制作，并且一個注入孔/柱狀隔離物提供在密封材料的起點和 與其相鄰的面板區(qū)域之間以及密封材料的終點和與其相鄰的面板區(qū)域之間。在結(jié)合TFT基 板和相對基板時，密封材料通過TFT基板和相對基板朝著相鄰的面板區(qū)域擴展。因為如此 擴展的密封材料被注入孔/柱狀隔離物停止，所以能夠防止密封材料從TFT基板和相對基 板的周邊的附近(朝著相鄰的面板區(qū)域)擠出。

發(fā)明內(nèi)容
專利文件1公開的液晶顯示器包括提供為額外部分的注入孔/柱狀隔離物，以防 止在結(jié)合TFT基板和相對基板時密封材料擠入面板區(qū)域。因此，造成顯示器的結(jié)構(gòu)變得復(fù) 雜的問題。因此，所希望的是提供這樣的液晶顯示器，其中可以防止密封材料流出而不采用 復(fù)雜結(jié)構(gòu)，并且提供制造這樣的液晶顯示器的方法和具有這樣的液晶顯示器的電子設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所提供的制造液晶顯示器的方法包括如下步驟在彼此相 對設(shè)置且每個都具有多個面板區(qū)域的第一母基板和第二母基板至少之一上形成保護膜；在 至少與密封材料的起點和終點相關(guān)且鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊的區(qū)域中去除保護 膜；在將母基板分成單獨面板區(qū)域的分割線附近，采用分配器將密封材料涂布到第一母基 板和第二母基板上的保護膜，該密封材料從起點涂布到終點，以形成用作液晶注入口的間 隙；結(jié)合第一母基板和第二母基板；以及將被結(jié)合的第一母基板和第二母基板分成單獨面 板區(qū)域。根據(jù)本發(fā)明實施例的制造液晶顯示器的方法，如上所述，保護膜在一區(qū)域中被去 除，該區(qū)域至少與所涂布密封材料的用于形成用作液晶注入口的間隙的起點和終點相關(guān)且 鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。因此，在結(jié)合第一母基板和第二母基板時，被第一母基板 和第二母基板擴展的密封材料流入去除了密封材料的保護膜的區(qū)域。因此，當采用分配器涂布密封材料時，能夠防止密封材料因大量沉積材料而至少在密封材料很可能被擠出的起 點和終點處擠入包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊附近。如上所述，防止由第一母基板和第二母 基板擴展的密封材料從包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊附近被擠出。因為僅通過去除部分保護 膜可以實現(xiàn)這樣的效果，所以該顯示器的結(jié)構(gòu)沒有為實現(xiàn)這樣的效果而提供了額外結(jié)構(gòu)的
顯不器復(fù)雜。 根據(jù)制造液晶顯示器的方法實施例，形成保護膜的步驟可以包括由光敏材料形成 保護膜的步驟，并且去除保護膜的步驟可以包括采用光刻技術(shù)去除保護膜的一部分的步 驟。這樣的構(gòu)造允許保護膜的期望區(qū)域易于采用光刻技術(shù)而去除。根據(jù)制造液晶顯示器的方法實施例，每個面板區(qū)域從上面看時大體上可以具有矩 形形狀。涂布密封材料的步驟可以包括沿著每個面板區(qū)域的周邊涂布密封材料的步驟。去 除保護膜的步驟可以包括去除保護膜的一區(qū)域的步驟，該區(qū)域延伸為遍及包括單獨面板區(qū) 域的區(qū)域的提供有液晶注入口的側(cè)邊。被去除的區(qū)域不包括保護膜的與在密封材料的起點 和終點之間的液晶注入口相關(guān)的區(qū)域并且鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。在這樣的構(gòu)造 中，在結(jié)合第一母基板和第二母基板時，由第一母基板和第二母基板擴展的密封材料流入 保護膜的一區(qū)域，該區(qū)域延伸為遍及包括單獨面板區(qū)域的區(qū)域的提供有液晶注入口的側(cè)邊 并且鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。因此，可以使密封材料不僅在密封材料的起點和終 點而且在區(qū)域的提供有液晶注入口的整個側(cè)邊流到已經(jīng)去除保護膜的區(qū)域。結(jié)果，可以防 止密封材料從提供有液晶注入口的整個側(cè)邊的包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊附近被擠出。根據(jù)本發(fā)明實施例的制造液晶顯示器的方法，每個面板區(qū)域從上面看時大體上具 有矩形形狀。涂布密封材料的步驟可以包括沿著每個面板區(qū)域的周邊涂布密封材料的步 驟。去除保護膜的步驟可以包括去除保護膜的一區(qū)域的步驟，所述區(qū)域延伸為遍及包括單 獨面板區(qū)域的區(qū)域的提供有液晶注入口的側(cè)邊，并且鄰近包括所述面板區(qū)域的區(qū)域的周 邊，被去除的區(qū)域不包括保護膜的與在密封材料的起點和終點之間的液晶注入口相關(guān)的區(qū) 域。在這樣的構(gòu)造中，與保護膜的與液晶注入口相關(guān)的區(qū)域被去除時形成的開口大小相比， 液晶注入口的開口大小可以保持為較小。因此，可以防止密封液晶注入口所用的密封劑在 液晶注入口中流動到達不期望的深度。結(jié)果，可以防止液晶的配向受到流動到液晶注入口 不期望的深度的密封劑的干擾。根據(jù)本發(fā)明實施例的制造液晶顯示器的方法，去除保護膜的步驟可以包括去除保 護膜的一區(qū)域的步驟，所述區(qū)域與密封材料的起點和終點相關(guān)，并且鄰近包括面板區(qū)域的 區(qū)域的周邊，被去除的區(qū)域不包括保護膜的與密封材料的起點和終點不相關(guān)的區(qū)域。在這 樣的構(gòu)造中，在結(jié)合第一母基板和第二母基板時，密封材料僅從密封材料因為沉積大量材 料很可能被擠出的起點和終點流入已經(jīng)去除保護膜的區(qū)域。因此，能夠防止密封材料在起 點和終點處從包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊附近被擠出。根據(jù)本發(fā)明實施例的制造液晶顯示器的方法，去除保護膜的步驟包括去除保護膜 的一區(qū)域的步驟，所述區(qū)域與密封材料的起點和終點之間的液晶注入口相關(guān)，并且鄰近包 括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。在這樣的構(gòu)造中，在結(jié)合第一母基板和第二母基板時，即使密封 材料在包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊流入液晶注入口的區(qū)域，也可以防止由第一母基板和第二 母基板擴展的密封材料從包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊附近被擠出。根據(jù)本發(fā)明實施例的制造液晶顯示器的方法，保護膜可以包括第一保護膜和第二保護膜。形成保護膜的步驟可以包括在第一母基板和第二母基板的表面上分別形成第一保 護膜和第二保護膜的步驟。去除保護膜的步驟可以包括去除第一保護膜的一區(qū)域的步驟和 去除第二保護膜的一區(qū)域的步驟，所述第一保護膜的所述區(qū)域至少與密封材料的起點和終 點相關(guān)，并且鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊，第二保護膜的所述區(qū)域至少與密封材料的 起點和終點相關(guān)，并且鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。在這樣的構(gòu)造中，在結(jié)合第一母基 板和第二母基板時，可以有效地防止被第一和第二母基板擴展的密封材料從包括面板區(qū)域 的區(qū)域的周邊附近被擠出，這是因為可以使密封材料流入第一和第二母基板的已經(jīng)去除第 一和第二保護膜的區(qū)域。根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，所提供的液晶顯示器包括第一基板和第二基板，設(shè)置 為彼此相對；保護膜，形成在第一基板和第二基板至少之一的表面上；以及密封材料，具有 起點和終點，該起點和該終點限定用作液晶注入口的間隙，并且沿著第一基板和第二基板 的周邊涂布到保護膜上。保護膜在至少與密封材料的起點和終點相關(guān)且與密封材料的注入 液晶的一側(cè)相反的一側(cè)的區(qū)域中被部分地去除，由此提供密封材料可流入的流入部分。在上述液晶顯示器中，如上所述，保護膜在至少與密封材料的起點和終點相關(guān)且 與密封材料的注入液晶的一側(cè)相反的一側(cè)的區(qū)域中被部分地去除以提供密封材料可流入 的流入部分。在結(jié)合第一基板和第二基板時，可以使被第一和第二基板擴展的密封材料流 入保護膜的流入部分。因此，能夠防止密封材料因大量沉積材料而至少在密封材料很可能 被擠出的起點和終點處從包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊附近被擠出。因此，該顯示器的結(jié)構(gòu)可 以保持為不復(fù)雜，這是因為它不需要提供單獨的額外結(jié)構(gòu)便能夠防止由第一和第二基板擴 展的密封材料從面板區(qū)域附近被擠出。

在本發(fā)明實施例的上述液晶顯示器中，起點和終點的形成在保護膜的流入部分中 的部分的厚度大于沒有提供流入部分的區(qū)域中的密封材料的厚度。在這樣的構(gòu)造中，可以 使更大量的密封材料流入保護膜與密封材料的起點和終點相關(guān)的流入部分，這是因為保護 膜的形成有流入部分的部分的厚度大于其它區(qū)域的厚度。因此，可以易于防止密封材料在 密封材料的起點和終點處被擠出。根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，所提供的電子設(shè)備包括具有上述構(gòu)造任何之一的液 晶顯示器。這樣的構(gòu)造使得能夠提供具有這樣的液晶顯示器的電子設(shè)備，在該液晶顯示器 中不需要復(fù)雜的結(jié)構(gòu)便可以防止密封材料被擠出。


圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的平面圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的放大平面圖；圖3是沿著圖2中的200-200線剖取的截面圖；圖4是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 TFT基板上形成TFT(薄膜晶體管)、鈍化膜和平整膜(OVL)的步驟的示意圖；圖5是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 平整膜(OVL)中形成流入部分和接觸孔的步驟的示意圖；圖6是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 鈍化膜中形成流入部分的步驟的示意圖7是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 平整膜(OVL)的表面上形成像素電極、低溫鈍化膜、公用電極和配向膜的步驟的示意圖； 圖8是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 相對基板上形成黑矩陣、濾色器和涂層(OVC)的步驟的示意圖；圖9是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 涂層中形成流入部分的步驟的截面圖；圖10是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的在 涂層的表面上形成光學(xué)隔離物(PS)和配向膜的步驟的示意圖；圖11是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的將 密封材料涂布到TFT基板的步驟的示意圖；圖12是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的結(jié) 合TFT基板和相對基板的步驟的示意圖；圖13是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的結(jié) 合TFT基板和相對基板的步驟的示意圖；圖14是用于說明在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器的制造工藝中執(zhí)行的結(jié) 合TFT基板和相對基板的步驟的示意圖；圖15是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的液晶顯示器的放大平面圖；圖16是本發(fā)明第三實施例的液晶顯示器的放大平面圖；圖17是根據(jù)本發(fā)明第四實施例的液晶顯示器的放大平面圖；圖18是用于說明利用根據(jù)第一至第四實施例任何一個的液晶顯示器的電子設(shè)備 的第一示例的示意圖；圖19是用于說明利用根據(jù)第一至第四實施例任何一個的液晶顯示器的電子設(shè)備 的第二示例的示意圖；圖20是用于說明利用根據(jù)第一至第四實施例任何一個的液晶顯示器的電子設(shè)備 的第三示例的示意圖；以及圖21是用于說明根據(jù)第一至第四實施例任何一個的液晶顯示器的修改的示意 圖。
具體實施例方式現(xiàn)在，將參考附圖描述本發(fā)明的實施例。(第一實施例)現(xiàn)在，將參考圖1至3描述根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器100的構(gòu)造。第 一實施例是本發(fā)明應(yīng)用于橫向場模式的液晶顯示器100。如圖1所示，根據(jù)第一實施例的液晶顯示器100包括基本上為矩形形狀的TFT基 板1和基本上為矩形形狀的相對基板2。TFT基板1是上述“第一基板”的示例，并且相對 基板2是上述“第二基板”的示例。TFT基板1和相對基板2采用密封材料3結(jié)合。密封材 料3采用分配器沿著TFT基板1或相對基板2的周邊涂布在TFT基板1或相對基板2上。 密封材料3涂布到TFT基板1或相對基板2的表面上，從而涂布在起點3a開始，并且在終 點3b完成。密封材料3的起點3a和終點3b之間的間隙用作液晶注入所用的液晶注入口4。驅(qū)動液晶顯示器100的驅(qū)動IC 5提供在TFT基板1的表面上。液晶顯示器100具有多 個子像素6。如圖3所示，子像素6的截面結(jié)構(gòu)為柵極電極7形成在TFT基板1的表面上。包 括由SiN等制造的柵極絕緣膜8a的絕緣層8形成在柵極電極7上和TFT基板1的表面上。 半導(dǎo)體層9形成為面對柵極電極7，其間插設(shè)有絕緣層8。半導(dǎo)體層9由a-Si和n+Si制造。 源極電極10和漏極電極11形成在半導(dǎo)體層9上。薄膜晶體管12由柵極電極7、絕緣層8、 半導(dǎo)體層9、源極電極10和漏極電極11形成。 由SiN等制造的鈍化膜13形成為覆蓋源極電極10和漏極電極11。鈍化膜13是 上述“保護膜”的示例。在本發(fā)明的第一實施例中，鈍化膜13的一部分(具有寬度Wl)在 其由箭頭Yl所指的一端(點A和B之間的部分)處被去除，以提供密封材料3可流入的流 入部分(relief portion) 13a。如圖1和2中的斜線所示，通過去除包括面板區(qū)域(由TFT 基板1和相對基板2形成)的區(qū)域的提供有液晶注入口 4的整個側(cè)邊(設(shè)備的由箭頭Yl 指示的側(cè)邊)的鈍化膜13而提供流入部分13a。具體地講，流入部分13a提供為當從上 面看顯示器時，其在包括面板區(qū)域的區(qū)域的由箭頭Yl指示的一側(cè)的周邊與密封材料3之間 延伸在由箭頭X指示的方向上。鈍化膜13的流入部分13a的寬度Wl的范圍為從約0. 1 μ m 至約0. 3μπι。如圖3所示，鈍化膜13形成有接觸孔13b。由光敏丙烯酸樹脂制作的平整膜(OVL) 14形成在鈍化膜13的表面上。平整膜14 是上述“第一保護膜”的示例。在第一實施例中，平整膜14的一部分(具有寬度Wl)在其 由箭頭Yl指示的端部(點A和B之間的部分)被去除，以提供密封材料3可流入的流入部 分14a。如圖1和2中的斜線所示，通過去除包括面板區(qū)域(由TFT基板1和相對基板2形 成)的區(qū)域的圍繞區(qū)域的提供有液晶注入口 4的整個側(cè)邊(設(shè)備的由箭頭Yl指示的側(cè)邊) 的平整膜14而提供流入部分14a。具體地講，流入部分14a提供為當從上面看顯示器時， 其在包括面板區(qū)域的區(qū)域的由箭頭Yl指示的一側(cè)的周邊與密封材料3之間延伸在由箭頭X 指示的方向上。平整膜14的流入部分14a和鈍化膜13的流入部分13a提供在TFT基板1 的表面上，從而當從上面看時它們彼此交疊。平整膜14的流入部分14a的寬度Wl的范圍 為從約0. 1 μ m至約0. 3 μ m。如圖3所示，平整膜14形成有接觸孔14b。平整膜14的流入 部分14a和鈍化膜13的流入部分13a形成為彼此齊平，從而沒有形成臺階。由ITO(銦錫氧化物)或IZO(銦鋅氧化物)制作的透明電極構(gòu)成的像素電極15 形成在平整膜14的表面上。每個像素電極15通過鈍化膜13中的接觸孔13b和平整膜14 中的接觸孔14b在接觸部分Ila與漏極電極11連接。由SiN等制作的低溫鈍化膜16形成在像素電極15的表面上。由ITO(銦錫氧化 物)或IZO (銦鋅氧化物)制作的透明電極構(gòu)成的公用電極17形成在低溫鈍化膜16的表 面上。公用電極17具有多個狹長切口 17a。由諸如聚酰亞胺的有機膜構(gòu)成的配向膜18形 成在公用電極17的表面上。從TFT基板1的表面到配向膜18的表面的距離(厚度tl)的 范圍為約1. 8 μ m至約2. 2 μ m。相對基板2提供為相對于TFT基板1。TFT基板1設(shè)置為距相對基板2的間隔Ll 為約10 μ m。由樹脂等制作的黑矩陣(BM) 20形成在相對基板2的頂表面上。紅(R)、綠(G)和藍(B)濾色器(CF) 21形成在黑矩陣20的頂表面上。由丙烯酸 類光敏樹脂制作且用作保護膜的涂層(0VC，OVercOat layer) 22形成在濾色器21的頂表面上。涂層22是上述“第二保護膜”和“保護膜”的示例。在第一實施例中，去除涂層22在其由箭頭Yl所指端部的部分(具有寬度Wl)(點A和B之間的部分)，以形成密封材料3可流 入的流入部分22a。如圖2中的斜線所示，流入部分22a是涂層22的沿包括面板區(qū)域(由 TFT基板1和相對基板2形成)的區(qū)域的圍繞區(qū)域的提供有液晶注入口 4的整個側(cè)邊(設(shè) 備的由箭頭Yl指示的側(cè)邊)延伸的部分。具體地講，流入部分22a提供為當從上面看顯 示器時，其在包括面板區(qū)域的區(qū)域的由箭頭Yl指示的一側(cè)的周邊與密封材料3之間延伸在 由箭頭X指示的方向上。涂層22的流入部分22a提供在相對基板2的表面上，從而其從上 面看時與鈍化膜13的流入部分13a和平整膜14的流入部分14a交疊。涂層22的流入部 分22a的寬度Wl的范圍為約0. 1 μ m至約0. 3 μ m。如圖3所示，由樹脂制作的光學(xué)隔離物(photo spacer, PS) 23形成在涂層22的 頂表面上。光學(xué)隔離物23具有調(diào)整單元間隙(TFT基板1和相對基板2之間的距離)的功 能。由聚酰亞胺等制作的配向膜24形成在光學(xué)隔離物23和涂層22的頂表面上。從相對 基板2的頂表面到配向膜24的頂表面的距離(厚度t2)的范圍為約2. 8 μ m至約3. 2 μ m。TFT基板1和相對基板2之間涂布的密封材料3由環(huán)氧型光固化樹脂制造。密封 材料3包括涂布在配向膜18和配向膜24之間的密封部分3c以及擠出進入TFT基板1和 相對基板2之間的間隙的擠出部分3d。密封擠出部分3d擠入TFT基板1和相對基板2之 間的流入部分13a、流入部分14a和流入部分22a，而它們沒有被擠出超過TFT基板1和相對 基板2在箭頭Yl所示方向上的端部A。密封擠出部分3d沒有擴展到達TFT基板1和相對 基板2在由箭頭Yl所示方向上的端部。因此，密封擠出部分3d在方向Yl上的端部與TFT 基板1和相對基板2在方向Yl上的端部之間留有空間。密封部分3c的厚度t3的范圍為 約3. 8 μ m至約4. 2 μ m，并且密封部分3c的寬度W2為約0. 7 μ m。密封擠出部分3d的厚度 t4為約10 μ m,并且密封擠出部分3d的寬度W3為約0. 1 μ m。因此，在起點3a和終點3b處 密封材料3的形成在流入部分13a、14a和22a中的密封擠出部分3d的厚度t4大于形成在 沒有提供流入部分13a、14a和22a的區(qū)域中的密封部分3c的厚度t3。液晶層30包封在配向膜18和配向膜24之間。液晶層30的厚度t3的范圍為約 3. 8 μ m至約4.2 μ m。背光40提供在TFT基板1的在由箭頭Zl所指示的方向上的一側(cè)。背 光40構(gòu)造為將光從TFT基板1側(cè)朝著相對基板2側(cè)(在箭頭Z2所示方向上)出射?，F(xiàn)在，將參考圖1和圖3至14描述根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示器100的制 造工藝ο首先，如圖4所示，在處于未分割狀態(tài)的TFT基板101的表面上進行光刻技術(shù)和蝕 亥丨J，以形成柵極電極7，其包括為Al層的底層和為Mo層的頂層。TFT基板101是上述“母基 板”的示例。在柵極電極 和TFT基板101上進行CVD(化學(xué)氣相沉積)工藝，以形成絕緣 層8，其包括由SiN膜等構(gòu)建的柵極絕緣膜8a。在柵極電極7上執(zhí)行光刻和蝕刻，以形成由 a-Si層和η導(dǎo)電類型的n+Si層形成的具有兩層結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體層9，且之間插設(shè)有柵極絕緣 膜8a，從而從上面看時各層彼此交疊。接下來，在半導(dǎo)體層9上形成源極電極10和漏極電極11，其每一個都包括由Mo制 作的底層、由Al制作的中間層和由Mo制作的頂層，從而從上面看時它們與柵極電極7和半 導(dǎo)體層9交疊，源極電極和漏極電極電連接到半導(dǎo)體層9。因此，形成薄膜晶體管12。接下 來，執(zhí)行CVD工藝以形成由SiN膜等制作的用作保護膜的鈍化膜13，從而覆蓋源極電極10、漏極電極11和絕緣層8。 接下來，在鈍化層13的頂表面上執(zhí)行涂布工藝，以形成由丙烯酸類光敏樹脂制作 的用作保護膜的平整膜14。在第一實施例中，如圖5所示，執(zhí)行光刻以去除平整膜14的在 由箭頭Yl所示方向上的端部處的部分。具體地講，去除平整膜14的一部分，該部分在箭 頭Y2所指示方向上從相鄰面板區(qū)域的邊界(分割線)延伸，該部分的寬度Wl的范圍為約 0. 1 μ m至約0. 3 μ m。流入部分14a形成在包括面板區(qū)域的區(qū)域在其由箭頭Yl所指示的一 側(cè)的周邊與密封材料3之間。形成在TFT 4的漏極電極11的頂表面上的平整膜14在形成 流入部分14a的同時采用光刻被去除。因此，形成接觸孔14b。接下來，如圖6所示，蝕刻鈍化膜13的一部分，以在與流入部分14a對應(yīng)的位置形 成流入部分13a。從上方看時，流入部分13a形成在包括面板區(qū)域的區(qū)域在由箭頭Yl所指 示一側(cè)的周邊與密封構(gòu)件3之間。在形成流入部分13a的同時，接觸孔13b形成在在TFT 4 的漏極電極11的頂表面上形成的鈍化膜13中。因此，暴露漏極電極11的頂表面。接下來，如圖7所示，在平整膜14的頂表面上執(zhí)行濺射工藝，以形成由ITO或IZO 制作的像素電極15。此時，每個像素電極15的一部分通過接觸孔13b和14b在接觸部分 Ila連接到漏極電極11。由SiN膜構(gòu)成的低溫鈍化膜16采用CVD工藝形成在像素電極15的頂表面上。由 ITO或IZO制作的公用電極17采用濺射形成在低溫鈍化膜16的頂表面上。公用電極17形 成有多個狹長切口 17a。液晶通過電場配向，該電場產(chǎn)生在像素電極15和公用電極17之 間，像素電極15和公用電極17之間插設(shè)有低溫鈍化膜16。因此，驅(qū)動液晶顯示器100。接 下來，在公用電極17的頂表面上執(zhí)行涂布工藝，以形成由聚酰亞胺等制作的配向膜18。因 此，形成液晶顯示器100的TFT基板101。參考圖7，像素電極15和配向膜18在流入部分 13a和14a的位置形成為到達鈍化膜13和平整膜14的端部。像素電極15和配向膜18不 是必須形成為延伸到這樣的位置。至少所需要的是將像素電極和配向膜形成為到達提供有 子像素6 (見圖1)的顯示區(qū)域的端部。接下來，如圖8所示，由例如黑色樹脂材料制作的膜形成在處于為未分割狀態(tài)的 相對基板102的表面上，并且該樹脂材料被蝕刻以形成黑矩陣(BM) 20。相對基板102是上 述"第二母基板"的示例。其后，紅(R)、綠(G)和藍(B)濾色器(CF) 21采用光刻形成在每 個子像素6 (見圖1)處。接下來，由丙烯酸類光敏樹脂制作的涂層(OVC) 22采用涂布工藝形成在黑矩陣20 和濾色器21的頂表面上。涂層22形成為基本上覆蓋黑矩陣20和濾色器21的整個頂表面。在第一實施例中，如圖9所示，采用光刻去除涂層22的一部分，該部分在由箭頭 Y2所指示的方向上從相鄰面板區(qū)域的邊界(分割線)延伸，該部分的寬度Wl的范圍為約 0. 1 μ m至約0. 3 μ m。因此，形成流入部分22a。從上面看時，流入部分22a形成在包括面板 區(qū)域的區(qū)域在其由箭頭Yl所指示一側(cè)的周邊與密封材料3之間。接下來，如圖10所示，由丙烯酸類光敏樹脂制作的光學(xué)隔離物23采用光刻形成在 涂層22的頂表面上。其后，由聚酰亞胺等制作的配向膜24形成在涂層22和光學(xué)隔離物23 的頂表面上。因此，形成液晶顯示器100的相對基板102。接下來，如圖11所示，密封材料3采用分配器涂布到每個面板，以形成用作液晶注 入口 4的間隙，涂布開始在起點3a，并且結(jié)束在終點3b。從上面看時，密封材料3基本上涂布成矩形形狀。圖12所示，密封材料3涂布到配向膜18的存在于TFT基板101的平整 膜14上的頂表面上。如圖13所示，結(jié)合TFT基板101和相對基板102。此時，當密封材料3與相對基板 102的配向膜24接觸時，密封材料3被TFT基板101的配向膜18和相對基板102的配向 膜24在方向Y上擴展。與本發(fā)明的第一實施例一樣，當采用分配器涂布密封材料3時，密 封材料可以沉積在包括起點3a和終點3b的區(qū)域中。密封材料3在包括起點3a和終點3b 的區(qū)域中的量(厚度)傾向于大于密封材料3在包括起點3a和終點3b的區(qū)域之外的區(qū)域 中的量(厚度)。就是說，在包括起點3a和終點3b的區(qū)域中的密封材料3的擴展量大于密 封材料3在包括起點3a和終點3b的區(qū)域之外的區(qū)域中的擴展量。如上所述擴展的密封材 料3進入流入部分13a、流入部分14a和流入部分22a。其后，如圖14所示，當光學(xué)隔離物23上的配向膜24接觸TFT基板101的配向膜 18，以調(diào)整TFT基板101和相對基板102之間的單元間隙時，密封材料3的密封擠出部分3d 進入流入部分13a、流入部分14a和流入部分22a，但不擴展(沒有被擠出)進入相鄰的面 板區(qū)域。此時，密封擠出部分3d沒有擴展到達TFT基板101和相對基板102在方向Yl上 的端部，并且在密封擠出部分3d在方向Yl上的端部與TFT基板101和相對基板102在方 向Yl上的端部之間留有空間(間隙)。其后，通過用紫外線對其輻射而固化密封材料3，以 接合(固定)TFT基板101和相對基板102。接下來，TFT基板101和相對基板102分割成單獨的面板。液晶注入TFT基板101 和相對基板102之間的間隙中。其后，由諸如光固化樹脂的密封劑密封液晶注入口 4。安裝 驅(qū)動IC 5和背光40，以完成橫向場模式的液晶顯示器100 (見圖3)。在本發(fā)明的第一實施例中，如上所述，去除鈍化膜13、平整膜14和涂層22與密封 材料3的起點3a和終點3b對應(yīng)且靠近包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊的區(qū)域。在結(jié)合TFT基板 101和相對基板102時，由TFT基板101和相對基板102擴展的密封材料3進入鈍化膜13 的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂層22的流入部分22a。因此，當采用分配器 涂布密封材料3時，能夠防止密封材料因大量沉積材料而至少在密封材料3很可能被擠出 的起點和終點處擠入相鄰的面板區(qū)域。與采用額外的結(jié)構(gòu)用于防止密封材料3因利用TFT 基板101和相對基板102的擴展而擠入相鄰的面板區(qū)域不同，僅通過去除鈍化膜13、平整膜 14和涂層22的一部分便可達到相同的效果，而不需要復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的第一實施例，如上所述，可以采用光刻去除平整膜14和涂層22的一 部分，以易于去除平整膜14和涂層22的期望部分(流入部分14a和22a)。在本發(fā)明的第一實施例中，如上所述，在去除鈍化膜13、平整膜14和涂層22的與 包括單獨面板的區(qū)域的提供有液晶注入口 4的整個側(cè)邊對應(yīng)且靠近包括面板區(qū)域的區(qū)域 周邊的區(qū)域后，TFT基板101和相對基板102被結(jié)合。在結(jié)合基板時，因TFT基板101和相 對基板102擴展的密封材料3流入鈍化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和 涂層22的流入部分22a，這些流入部分與包括單獨面板區(qū)域的區(qū)域的提供有液晶注入口 4 的側(cè)邊相關(guān)。不僅可以使密封材料3從靠近起點3a和終點3b的區(qū)域而且可以使密封材料 3從沿著提供液晶注入口 4的側(cè)邊的整個區(qū)域流入流入部分13a、14a和22a。因此，能夠防 止密封材料3在提供有液晶注入口 4的整個一側(cè)從周邊的附近被擠出。在本發(fā)明的第一實施例中，如上所述，在起點3a和終點3b處密封材料3在鈍化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂層22的流入部分22a中的區(qū)域的厚度 t4大于沒有提供鈍化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂層22的流入部 分22a的區(qū)域中形成的密封材料3的厚度t3。因為如所述的其中形成有流入部分13a、14a 和22a的區(qū)域的厚度t4較大，所以可以使較大量的密封材料3流入與密封材料3的起點和 終點對應(yīng)的流入部分13a、14a和22a中。(第二實施例) 現(xiàn)在，將參考圖15描述本發(fā)明的第二實施例。第二實施例與第一實施例的區(qū)別如 下。第一實施例的流入部分13a、14a和22a提供為遍及包括面板區(qū)域的區(qū)域的提供有液晶 注入口的側(cè)邊，而根據(jù)第二實施例的流入部分113a、114a和122a形成在包括面板區(qū)域的區(qū) 域側(cè)邊的除了提供有液晶注入口 4的區(qū)域之外的區(qū)域中。在根據(jù)本發(fā)明第二實施例的液晶顯示器IOOa中，如圖15所示，在由箭頭Yl指示 的側(cè)邊，流入部分113a、114a和122a鄰近顯示器的周邊分別提供在鈍化膜13、平整膜14和 涂層22的除了與液晶注入口 4相關(guān)的區(qū)域之外的區(qū)域中(如圖15中的斜線所示)。具體 地講，從上面看時，流入部分113a、114a和122a提供在包括面板區(qū)域的區(qū)域在其由箭頭Yl 所指示一側(cè)的周邊與密封材料3之間。流入部分113a、114a和122a沒有提供在包括面板 區(qū)域的區(qū)域在其由箭頭Yl所指示一側(cè)的周邊與液晶注入口 4之間。另外，第二實施例的構(gòu) 造和制造方法類似于上述第一實施例。在本發(fā)明的第二實施例中，如上所述，鈍化膜13、平整膜14和涂層22在這樣的區(qū) 域中被去除，該區(qū)域延伸遍及包括單獨面板的區(qū)域的提供有液晶注入口 4的側(cè)邊并且靠近 包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊，所去除的區(qū)域不包括與形成在密封材料3的起點3a和終點 3b之間的液晶注入口 4對應(yīng)的區(qū)域。因此，與鈍化膜13、平整膜14和涂層22在與液晶注 入口 4相關(guān)的區(qū)域中被去除時的開口大小相比，液晶注入口 4的開口大小可以保持為較小。 因此，可以防止密封液晶注入口 4所用的密封劑在液晶注入口 4中流動到達不期望的深度。 結(jié)果，可以防止液晶受到流動到液晶注入口 4中不期望的深度的密封劑的干擾。本發(fā)明第二實施例的其他優(yōu)點與第一實施例的相同。(第三實施例)現(xiàn)在，將參考圖16描述本發(fā)明的第三實施例。第三實施例與第一實施例的區(qū)別如 下。第一實施例的流入部分13a、14a和22a提供為遍及包括面板區(qū)域的區(qū)域的提供有液晶 注入口 4的側(cè)邊，而根據(jù)第三實施例的流入部分213a、214a和222a通過去除鈍化膜13、平 整膜14和涂層22與密封材料3的起點3a和終點3b對應(yīng)的區(qū)域而形成。在根據(jù)第三實施例的液晶顯示器IOOb中，如圖16所示，流入部分213a、214a和 222a僅提供在鈍化膜13、平整膜14和涂層22在顯示器的由箭頭Yl所指示一側(cè)的周邊附 近與密封材料3的起點3a和終點3b相關(guān)的各區(qū)域(圖16中斜線所示)中。就是說，流入 部分213a、214a和222a不提供在鈍化膜13、平整膜14和涂層22在顯示器的由箭頭Yl所 指示一側(cè)的周邊附近與密封材料3的起點3a和終點3b相關(guān)的區(qū)域之外的區(qū)域中。具體地 講，從上面看顯示器時，流入部分213a、214a和222a僅提供在面板區(qū)域的區(qū)域在其由箭頭 Yl所指示一側(cè)的周邊與密封材料3的起點3a和終點3b之間。另外，第三實施例的構(gòu)造和 制造方法與上述的第一實施例類似。在第三實施例中，如上所述，鈍化膜13、平整膜14和涂層22在其與密封材料3的起點3a和終點3b相關(guān)且靠近包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊的區(qū)域中部分去除。結(jié)果，在結(jié)合 TFT基板101和相對基板102時，作為沉積大量材料的結(jié)果，密封材料3僅從密封材料3可 能被擠出的起點3a和終點3b流入鈍化膜13的流入部分213a、平整膜14的流入部分214a 以及涂層22的流入部分222a。因此，能夠防止密封材料3從起點3a和終點3b擠入與其相 鄰的面板區(qū)域。第三實施例的其他優(yōu)點與第一實施例的優(yōu)點類似。(第四實施例)現(xiàn)在，將參考圖17描述本發(fā)明的第四實施例。第四實施例與第一實施例的區(qū)別如 下所述，在第一實施例中，流入部分13a、14a和22a形成為遍及面板區(qū)域的區(qū)域的提供有液 晶注入口 4的側(cè)邊。流入部分313a、314a和322a通過去除密封材料3的起點3a和終點3b 以及與密封材料3的起點3a和終點3b之間形成的液晶注入口 4對應(yīng)的區(qū)域而形成。在根據(jù)本發(fā)明第四實施例的液晶顯示器IOOc中，如圖17所示，流入部分313a、 314a和322a提供在鈍化膜13、平整膜14和涂層22靠近顯示器的由箭頭Yl所指示一側(cè)的 周邊與密封材料3的起點3a和終點3b相關(guān)的區(qū)域中(圖17中斜線所示的區(qū)域)。流入部 分也提供在鈍化 膜13、平整膜14和涂層22與密封材料3的起點3a和終點3b之間形成的 液晶注入口 4相關(guān)的區(qū)域(圖17中斜線所示的區(qū)域)中。具體地講，從上面看顯示器時， 流入部分313a、314a和322a提供在包括面板區(qū)域的區(qū)域在其由箭頭Yl所指示一側(cè)的周邊 與密封材料3的起點3a和終點3b之間的區(qū)域中，并且流入部分也延伸在包括面板區(qū)域的 區(qū)域在其由箭頭Yl所指示一側(cè)的周邊與密封材料3的起點3a和終點3b之間形成的液晶 注入口 4之間的區(qū)域中。另外，第四實施例的構(gòu)造和制造方法與上述第一實施例的類似。在本發(fā)明的第四實施例中，如上所述，鈍化膜13、平整膜14和涂層22在與密封材 料3的起點3a和終點3b以及起點3a和終點3b之間形成的液晶注入口 4相關(guān)且靠近包括 面板區(qū)域的區(qū)域周邊的區(qū)域中部分去除。結(jié)果，在結(jié)合TFT基板101和相對基板102時，即 使密封材料在包括面板區(qū)域的區(qū)域周邊流入液晶注入口 4，也可以防止由TFT基板101和相 對基板102擴展的密封材料3從包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊附近被擠出。第四實施例的其他優(yōu)點與上述第一實施例的優(yōu)點類似。圖18至20是用于說明采用根據(jù)本發(fā)明第一至第四實施例的液晶顯示器100、 100a、IOOb和IOOc的電子設(shè)備的第一、第二和第三示例的示意圖?，F(xiàn)在，將參考圖18至20 描述采用根據(jù)本發(fā)明第一至第四實施例的液晶顯示器100、100a、IOOb和IOOc的電子設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明第一至第四實施例的液晶顯示器100、100a、IOOb和IOOc可以用于作 為第一示例的個人計算機(PC) 300、作為第二示例的移動電話400以及作為第三示例的個 人數(shù)字助理(PDA) 500，如圖18至20所示。在圖18所示的作為第一示例的PC 300中，根據(jù)第一至第四實施例的液晶顯示器 100、100a、IOOb和100c可以用作諸如鍵盤得的輸入部分310以及顯示屏320等。在如圖19 所示的作為第二示例的移動電話400中，根據(jù)第一至第四實施例的液晶顯示器100、100a、 IOOb和IOOc的任何一個可以用作顯示屏410。在如圖20所示的作為第三示例的個人數(shù)字 助理500中，根據(jù)第一至第四實施例的液晶顯示器100、100a、100b和IOOc的任何一個可以 用作顯示屏510。此前所述的實施例應(yīng)當解釋為每個方面的示例，而無論如何不應(yīng)解釋為限制本發(fā)明。本發(fā)明的范圍根據(jù)所附權(quán)利要求而不是上述實施例來解釋，并且包括在所附權(quán)利要求范圍內(nèi)的等同方案和所有替代方案。例如，第一至第四實施例已經(jīng)描述為本發(fā)明應(yīng)用于橫向場模式液晶顯示器的示 例，但是本發(fā)明不限于這樣的顯示器。例如，本發(fā)明可以應(yīng)用于橫向場模式顯示器之外類型 的液晶顯示器。盡管上述第一至第四實施例是涉及采用光刻技術(shù)去除平整膜和涂層一部分的步 驟的示例，但是本發(fā)明不限于這樣的示例。例如，可選擇地采用蝕刻去除平整膜和涂層的一 部分。在上述本發(fā)明的第一至第四實施例中，給出了在TFT基板和相對基板二者的表面 上形成流入部分的步驟示例，本發(fā)明不限于這樣的示例。例如，流入部分可以僅提供在TFT 基板或相對基板之一的表面上。盡管在上述實施例中流入部分也形成在TFT基板上的鈍化 膜中，但是流入部分可備選地僅形成在平整膜中。在任何一種情況下，優(yōu)點是在TFT和相對 基板上的膜當中最厚的保護膜中形成流入部分，以實現(xiàn)該實施例的優(yōu)點，即防止密封材料 在其起點和終點處被擠出。第一至第四實施例已經(jīng)描述為其中涂層形成為覆蓋靠近相對基板的邊緣形成的 黑矩陣的示例，但是本發(fā)明不限于這樣的示例。例如，由作為第一至第四實施例修改的圖21 所示的液晶顯示器IOOd可見，涂層122可以具有流入部分22a，其形成為與在箭頭Yl所指 示方向上靠近相對基板的端部形成的黑矩陣20a的邊緣齊平，從而在流入部分和基板邊緣 之間沒有形成臺階。本申請包含2010年1月14日提交日本專利局的日本優(yōu)先權(quán)專利申請 JP2010-005637中公開的相關(guān)主題，其全部內(nèi)容通過引用結(jié)合于此。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當理解的是，在所附權(quán)利要求或其等同方案的范圍內(nèi)，根據(jù) 設(shè)計需要和其他因素，可以進行各種修改、結(jié)合、部分結(jié)合和替換。
權(quán)利要求
1.一種制造液晶顯示器的方法，包括步驟在彼此相對設(shè)置且每個都具有多個面板區(qū)域的第一母基板和第二母基板至少之一上 形成保護膜；在至少與密封材料的起點和終點對應(yīng)且與包括所述面板區(qū)域的區(qū)域的周邊鄰近的區(qū) 域中去除所述保護膜；在將所述第一母基板和所述第二母基板分成單獨面板區(qū)域的分割線附近，采用分配器 將所述密封材料涂布到所述第一母基板和所述第二母基板上的所述保護膜，所述密封材料 從所述起點涂布到所述終點，以形成用作液晶注入口的間隙； 結(jié)合所述第一母基板和所述第二母基板；以及將被結(jié)合的所述第一母基板和所述第二母基板分成所述單獨面板區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造液晶顯示器的方法，其中形成所述保護膜的步驟包括由光敏材料形成所述保護膜的步驟；并且 去除所述保護膜的步驟包括采用光刻技術(shù)去除所述保護膜的一部分的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造液晶顯示器的方法，其中 每個面板區(qū)域從上面看時大體上具有矩形形狀；涂布所述密封材料的步驟包括沿著每個面板區(qū)域的周邊涂布所述密封材料的步驟；并且去除所述保護膜的步驟包括去除所述保護膜的一區(qū)域的步驟，該區(qū)域延伸為遍及包括 所述單獨面板區(qū)域的區(qū)域的提供有所述液晶注入口的側(cè)邊，并且鄰近包括所述面板區(qū)域的 區(qū)域的周邊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造液晶顯示器的方法，其中 每個面板區(qū)域從上面看時大體上具有矩形形狀；涂布所述密封材料的步驟包括沿著每個面板區(qū)域的周邊涂布所述密封材料的步驟；并且去除所述保護膜的步驟包括去除所述保護膜的一區(qū)域的步驟，所述區(qū)域延伸為遍及包 括所述單獨面板區(qū)域的區(qū)域的提供有所述液晶注入口的側(cè)邊，并且鄰近包括所述面板區(qū)域 的區(qū)域的周邊，被去除的所述區(qū)域不包括所述保護膜的與在所述密封材料的所述起點和所 述終點之間形成的所述液晶注入口對應(yīng)的區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造液晶顯示器的方法，其中去除所述保護膜的步驟 包括去除所述保護膜的一區(qū)域的步驟，所述區(qū)域與所述密封材料的所述起點和所述終點對 應(yīng)，并且鄰近包括所述面板區(qū)域的區(qū)域的周邊，被去除的所述區(qū)域不包括所述保護膜的與 所述密封材料的所述起點和所述終點不相關(guān)的區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造液晶顯示器的方法，其中去除所述保護膜的步驟包 括去除所述保護膜的一區(qū)域的步驟，所述區(qū)域與所述密封材料的所述起點和所述終點之間 的所述液晶注入口對應(yīng)，并且鄰近包括所述面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的制造液晶顯示器的方法，其中 所述保護膜包括第一保護膜和第二保護膜；形成所述保護膜的步驟包括在所述第一母基板和所述第二母基板的表面上分別形成 所述第一保護膜和所述第二保護膜的步驟；并且去除所述保護膜的步驟包括去除所述第一保護膜的一區(qū)域的步驟和去除所述第二保 護膜的一區(qū)域的步驟，所述第一保護膜的所述區(qū)域至少與所述密封材料的所述起點和所述 終點對應(yīng)，并且鄰近包括所述面板區(qū)域的區(qū)域的周邊，所述第二保護膜的所述區(qū)域至少與 所述密封材料的所述起點和所述終點對應(yīng)，并且鄰近包括所述面板區(qū)域的區(qū)域的周邊。
8.一種液晶顯示器，包括第一基板和第二基板，設(shè)置為彼此相對；保護膜，形成在所述第一基板和所述第二基板至少之一的表面上；以及密封材料，具有起點和終點，并且沿著所述第一基板和所述第二基板的周邊涂布到所 述保護膜上，該起點和該終點限定用作液晶注入口的間隙，其中所述保護膜在至少與所述密封材料的所述起點和所述終點對應(yīng)且與所述密封材料的 注入液晶的一側(cè)相反的一側(cè)的區(qū)域中被部分地去除，由此提供用于使所述密封材料流入的 流入部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶顯示器，其中所述密封材料的所述起點和所述終點在所 述保護膜的流入部分中形成的部分的厚度大于在所述保護膜的未提供所述流入部分的區(qū) 域中的所述密封材料的厚度。
10.一種電子設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的液晶顯示器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種制造液晶顯示器的方法，包括步驟在彼此相對設(shè)置且每個都具有面板區(qū)域的第一母基板和第二母基板至少之一上形成保護膜；在至少與密封材料的起點和終點對應(yīng)且鄰近包括面板區(qū)域的區(qū)域的周邊的區(qū)域中去除保護膜；在將第一母基板和第二母基板分成單獨面板區(qū)域的分割線附近，采用分配器將密封材料涂布到第一母基板和第二母基板上的保護膜，密封材料從起點涂布到終點，以形成用作液晶注入口的間隙；結(jié)合第一母基板和第二母基板；以及將被結(jié)合的第一母基板和第二母基板分成單獨面板區(qū)域。
文檔編號G02F1/1333GK102129141SQ201110001648
公開日2011年7月20日 申請日期2011年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月14日
發(fā)明者大前順亮, 安宅美由紀, 梶山將樹, 田中慎一郎, 谷口博教 申請人:索尼公司