專利名稱：顯示器的修補(bǔ)方法及其修補(bǔ)后的結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是涉及一種顯示器的修補(bǔ)方法及其修補(bǔ)后的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
一般液晶面板是由有源元件陣列基板、彩色濾光基板以及配置于前面所述兩基板 間的液晶層所構(gòu)成。此外，前面所述的兩基板通常是以框膠粘著，并將液晶封存于其間。另 外，在液晶面板的外表面通常會(huì)貼附偏光片，透過偏光片的偏振方向搭配液晶分子的扭轉(zhuǎn) 方向，便可控制顯示面板各像素單元的呈現(xiàn)亮態(tài)或是暗態(tài)。通常，若偏光片中具有缺陷，將 會(huì)使得顯示面板在操作過程的中在對(duì)應(yīng)所述缺陷處產(chǎn)生亮點(diǎn)缺陷。這主要是因?yàn)樯鲜鋈毕?會(huì)使得顯示面板在該處產(chǎn)生漏光，因而該缺陷處即構(gòu)成亮點(diǎn)缺陷。傳統(tǒng)對(duì)于偏光片上的缺陷的修補(bǔ)方法是在偏光片的對(duì)應(yīng)缺陷處涂布一層油墨，以 達(dá)到遮蔽該缺陷所造成的亮點(diǎn)。然而，因油墨非常容易自偏光片表面脫落，因而此種修補(bǔ)的 效果不理想。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種顯示器的修補(bǔ)方法及其修補(bǔ)后的結(jié)構(gòu)，其可以修補(bǔ)顯示面板的亮 點(diǎn)缺陷。本發(fā)明提出一種顯示器的修補(bǔ)方法及其修補(bǔ)后的結(jié)構(gòu)，此方法包括提供一顯示 器，其包括一顯示面板；以及至少一光學(xué)膜，位于該顯示面板的至少一外表面，其中該光 學(xué)膜具有一上表層、一下表層以及位于該上表層以及該下表層之間的一中間層，其中該光 學(xué)膜具有一缺陷；以及進(jìn)行一激光修補(bǔ)程序，以使該光學(xué)膜的對(duì)應(yīng)該缺陷處碳化成一黑點(diǎn)， 其中該激光修補(bǔ)程序是在該光學(xué)膜的該上表層中形成該黑點(diǎn)。該激光修補(bǔ)程序的波長為 400 800納米(nm)。該激光修補(bǔ)程序的一激光脈沖時(shí)間為< 500fs (飛秒或稱為毫微微 秒，即10的-15次方秒)。該激光修補(bǔ)程序的一激光脈沖能量在IMHz的頻率下，脈沖能量 為在IMHz的頻率下，脈沖能量為> 1.0微焦耳(μ J)，其中IMHz的頻率為較佳實(shí)施方式， 但本發(fā)明并不依此為限，可依設(shè)計(jì)的需求做相應(yīng)的改變。該光學(xué)膜的該上表層以及該下表 層的材質(zhì)包括三乙酰纖維素。該光學(xué)膜的該中間層包括聚乙烯醇。該光學(xué)膜的總厚度為 100 500微米(μ m)。該激光修補(bǔ)程序是在該光學(xué)膜的1 100微米處進(jìn)行修補(bǔ)。該顯 示器進(jìn)一步包括至少一第一光學(xué)膜，位于該光學(xué)膜的該上表層、該下表層或是該上表層和 下表層上均有該第一光學(xué)膜。該缺陷的尺寸為10 1000微米。該光學(xué)膜為偏光片。本發(fā)明另提出一種修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其包括一顯示面板；以及至少一光學(xué)膜， 位于該顯示面板的至少一外表面上，其中該光學(xué)膜具有一上表層、一下表層以及位于該上 表層以及該下表層之間的一中間層，且該光學(xué)膜的該上表層中具有一碳化黑點(diǎn)。該光學(xué)膜 的該上表層以及該下表層的材質(zhì)包括三乙酰纖維素。該光學(xué)膜的該中間層包括聚乙烯醇。 該光學(xué)膜的總厚度為100 500微米。該碳化黑點(diǎn)是位于該光學(xué)膜的1 100微米深處。 進(jìn)一步包括至少一第一光學(xué)膜，位于該光學(xué)膜的該上表層、該下表層或是該上表層和下表層上均有該第一光學(xué)膜。該碳化黑點(diǎn)的尺寸為10 1000微米。該光學(xué)膜為偏光片。基于上述，本發(fā)明采用激光修補(bǔ)程序以使光學(xué)膜的對(duì)應(yīng)缺陷處碳化成黑點(diǎn)。由于 碳化黑點(diǎn)可以遮蔽光學(xué)膜的缺陷所造成的漏光，因而可以使得所述缺陷不會(huì)造成顯示面板 的亮點(diǎn)缺陷。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式 作詳細(xì)說明如下。
圖1是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的顯示器的修補(bǔ)方法的剖面示意圖；圖2 圖3是對(duì)應(yīng)圖1的區(qū)域R的放大示意圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的光學(xué)膜的剖面示意圖。主要元件符號(hào)說明
100顯示面板102第一基板102a,110a夕卜表面104像素陣列層110第二基板112電極層/彩色濾光層120顯示介質(zhì)200、300光學(xué)膜202缺陷204碳化黑點(diǎn)210下表層212中間層214上表層220、240光學(xué)膜230、250粘著層L激光修補(bǔ)程序
R區(qū)域Dl、D2厚度/深度
具體實(shí)施例方式圖1是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的顯示器的修補(bǔ)方法的剖面示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1，本實(shí) 施例的修補(bǔ)方法首先提供顯示器，顯示器包括顯示面板100以及至少一光學(xué)膜200，300。顯示面板100包括第一基板102、像素陣列層104、第二基板110、電極層/彩色濾 光層112以及顯示介質(zhì)120。第一基板102與第二基板110彼此相對(duì)設(shè)置，且第一基板102與第二基板110的材 質(zhì)各自可為玻璃、石英、有機(jī)聚合物、或是不透光/反射材料(例如導(dǎo)電材料、金屬、硅片、 陶瓷、或其它可適用的材料)、或是其它可適用的材料。像素陣列層104設(shè)置在第一基板102上。像素陣列層104包括多條掃描線(未繪 示)、多條數(shù)據(jù)線(未繪示)以及多個(gè)像素結(jié)構(gòu)(未繪示)，且每一像素結(jié)構(gòu)與對(duì)應(yīng)的一條 掃瞄線以及對(duì)應(yīng)的一條數(shù)據(jù)線電性連接。根據(jù)本實(shí)施例，每一像素結(jié)構(gòu)具有有源元件以及 像素電極。有源元件可為底部柵極型薄膜電晶體或是頂部柵極型薄膜電晶體，其包括柵極、 溝道、源極以及漏極。
電極層/彩色濾光層112設(shè)置在第二基板110上。更詳細(xì)來說，設(shè)置在第二基板 110上的膜層112可為電極層、彩色濾光層或是電極層與彩色濾光層。根據(jù)一實(shí)施例，膜層 112是由彩色濾光層以及覆蓋彩色濾光層的電極層所構(gòu)成。在此，電極層為透明導(dǎo)電層，其 材質(zhì)包括金屬氧化物，例如是銦錫氧化物或者是銦鋅氧化物。彩色濾光層可包括紅、綠、藍(lán) 色濾光圖案。另外，彩色濾光層更可包括設(shè)置遮光圖案，其又可稱為黑矩陣。顯示介質(zhì)120位于第一基板102以及第二基板110之間。顯示介質(zhì)120可包括液 晶分子、電泳顯示介質(zhì)或是其它可適用的顯示介質(zhì)。另外，光學(xué)膜200、300位于顯示面板100的外表面。更詳細(xì)來說，光學(xué)膜300是設(shè) 置在顯示面板100的第一基板102的外表面10 上。光學(xué)膜200是設(shè)置在顯示面板100 的第二基板110的外表面IlOa上。換言的，在第一基板102的外表面10 貼附有光學(xué)膜 300，而像素陣列層104則是設(shè)置在相對(duì)于第一基板102的外表面10 的內(nèi)表面上。在第 二基板110的外表面IOOa貼附有光學(xué)膜200，而電極層/彩色濾光層112則是設(shè)置在相對(duì) 于第二基板110的外表面IOOa的內(nèi)表面上。根據(jù)本實(shí)施例，上述的光學(xué)膜200、300為偏光 片。值得一提的是，本實(shí)施例是以顯示面板100的兩外表面各自設(shè)置有光學(xué)膜200、 300為例，但本發(fā)明不限于此。根據(jù)其他實(shí)施例，也可以僅在顯示面板100的第一基板102 的外表面10 設(shè)置光學(xué)膜300，或是僅在顯示面板100的第二基板110的外表面IlOa設(shè)置 光學(xué)膜200。特別是，在本實(shí)施例中，光學(xué)膜200中具有缺陷202。上述的缺陷202可為顆粒、凹 痕或是其他種可能導(dǎo)致顯示面板漏光的缺陷。上述的缺陷202的尺寸實(shí)質(zhì)上為10 1000 微米(um)，。因此，本實(shí)施例以激光修補(bǔ)程序L的方式來修補(bǔ)上述的漏光缺陷，詳細(xì)說明如 下。圖2是圖1的區(qū)域R的放大示意圖。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D1以及圖2，在本實(shí)施例中，光 學(xué)膜200具有上表層214、下表層210以及位于上表層214以及下表層210之間的中間層 212。根據(jù)本實(shí)施例，光學(xué)膜200的上表層214以及下表層210的材質(zhì)包括三乙酰纖維素 (TAC)，光學(xué)膜200的中間層212包括聚乙烯醇(PVA)。以圖2的實(shí)施例為例，光學(xué)膜200的缺陷202是位于上表層214。接著，進(jìn)行激光修 補(bǔ)程序L，以使光學(xué)膜200的對(duì)應(yīng)缺陷處202碳化成黑點(diǎn)204，特別是，上述的激光修補(bǔ)程序 L是于光學(xué)膜202的上表層214中形成黑點(diǎn)204。激光修補(bǔ)程序L所形成的碳化黑點(diǎn)204的 尺寸是實(shí)質(zhì)上大于等于缺陷202的尺寸。此外，若光學(xué)膜200的總厚度Dl實(shí)質(zhì)上為100 500微米，則激光修補(bǔ)程序L實(shí)質(zhì)上是于光學(xué)膜200的1 100微米處(即D2深度)進(jìn)行 修補(bǔ)。根據(jù)本實(shí)施例，上述激光修補(bǔ)程序L的波長實(shí)質(zhì)上為400 800微米(nm)。激光修 補(bǔ)程序L的激光脈沖時(shí)間(pulse duration)實(shí)質(zhì)上為彡500fs (飛秒或稱為毫微微秒，即 10的-15次方秒)。激光修補(bǔ)程序L的激光脈沖能量(pulse energy)實(shí)質(zhì)上為> 1. 0微 焦耳(μ J)。其中該激光修補(bǔ)程序L的最佳操作頻率為1MHz，但是該頻率可以根據(jù)需求由 技術(shù)人員做出調(diào)整，并不以此例為限。并且任何頻率都是本發(fā)明所包含的保護(hù)范圍。承上所述，本實(shí)施例是利用激光修補(bǔ)程序L以于光學(xué)膜202的上表層214中形成 黑點(diǎn)204，所述碳化黑點(diǎn)204可以遮蔽光學(xué)膜200中的缺陷202所導(dǎo)致的漏光，因此可使得 缺陷202所產(chǎn)生的亮點(diǎn)得以修補(bǔ)成暗點(diǎn)。
在圖2的實(shí)施例中，光學(xué)膜200中的缺陷202是形成在上表層214中。然，本發(fā)明 不限于此。根據(jù)其他實(shí)施例，如圖3所示，光學(xué)膜200中的缺陷202也可以是形成在中間 層212中。當(dāng)然，根據(jù)另一實(shí)施例，光學(xué)膜200中的缺陷202也可以是形成在下表層212中 (未繪示出)。無論光學(xué)膜200中的缺陷202是形成在上表層214、下表層210還是中間層 212，本實(shí)施例的激光修補(bǔ)程序L都是在光學(xué)膜200上表層214形成碳化黑點(diǎn)204，以遮蔽缺 陷202所造成的漏光。這主要是因?yàn)楣鈱W(xué)膜200的上表層214是最靠近外部的膜層，因此 激光修補(bǔ)程序L的光線可以輕易地且快速地在上表層214形成碳化黑點(diǎn)204。而碳化黑點(diǎn) 204主要是用來遮蔽缺陷202所產(chǎn)生的漏光，因此只要碳化黑點(diǎn)204可以形成在足以遮蔽缺 陷202的漏光路徑即可。因此，本實(shí)施例在光學(xué)膜200的上表層214形成碳化黑點(diǎn)204既 可達(dá)到遮蔽缺陷202所產(chǎn)生的漏光，又可使激光修補(bǔ)程序L易于執(zhí)行。值得一提的是，傳統(tǒng)的顯示面板的亮點(diǎn)缺陷的修補(bǔ)方法大多是對(duì)顯示面板100內(nèi) 的膜層(例如是彩色濾光層11 進(jìn)行暗點(diǎn)修補(bǔ)。但是，對(duì)彩色濾光層112進(jìn)行暗點(diǎn)修補(bǔ)的 缺點(diǎn)是，若光學(xué)膜200的缺陷(顆粒)是位于對(duì)應(yīng)彩色濾光層112的兩個(gè)彩色濾光圖案(例 如綠色濾光圖案與紅色濾光圖案)之間的話，因?yàn)楣饩€折射的關(guān)系，那么彩色濾光層112所 要修補(bǔ)的區(qū)域則需涵蓋整個(gè)綠色濾光圖案與紅色濾光圖案。這樣一來，修補(bǔ)的面積就會(huì)過 大，導(dǎo)致碳化黑點(diǎn)過于明顯，反而影響顯示面板的顯示品質(zhì)。因此，本實(shí)施例的修補(bǔ)方法是 對(duì)顯示面板100外部的光學(xué)膜200來進(jìn)行修補(bǔ)，而且是對(duì)光學(xué)膜200的上表層214進(jìn)行碳 化以形成黑點(diǎn)。相較于傳統(tǒng)修補(bǔ)方法來說，本實(shí)施例的修補(bǔ)程序不但較為容易，且也較容易 掌控碳化黑點(diǎn)的尺寸。在上述實(shí)施例中，是以光學(xué)膜200中具有缺陷202為例來說明。然，本發(fā)明不限于 此。根據(jù)其他實(shí)施例，若顯示面板100下方的另一光學(xué)膜300具有缺陷存在的話，也可以采 用如上所述的激光修補(bǔ)程序L來進(jìn)行修補(bǔ)。也就是，利用激光修補(bǔ)程序使光學(xué)膜300的表 層對(duì)應(yīng)有缺陷的處碳化成黑點(diǎn)，以達(dá)到遮蔽缺陷所造成的漏光。此外，在上述實(shí)施例中，光學(xué)膜200是以具有上表層214、下表層210以及位于上表 層214以及下表層210之間的中間層212為例，然本發(fā)明不限于此。根據(jù)其他實(shí)施例，在光 學(xué)膜200的上表層214及/或下表層210上可進(jìn)一步設(shè)置其他光學(xué)膜。以圖4的實(shí)施例為 例，在光學(xué)膜200的上表層214還可進(jìn)一步設(shè)置抗反射膜220 (Antiglare layer)在光學(xué)膜 200的下表層210上還可進(jìn)一步設(shè)置相位差膜對(duì)0，其中相位差膜240與下表層210之間具 有粘著層230。另外，在相位差膜240上可進(jìn)一步設(shè)置粘著層250，此粘著層250用以使圖 4的光學(xué)膜的迭層與顯示面板100貼合。綜上所述，本實(shí)施例采用激光修補(bǔ)程序以使光學(xué)膜的對(duì)應(yīng)缺陷處碳化成黑點(diǎn)。由 于碳化黑點(diǎn)可以遮蔽光學(xué)膜的缺陷所造成的漏光，因而可以使得所述缺陷不會(huì)造成顯示面 板的亮點(diǎn)缺陷。另外，本實(shí)施的修補(bǔ)程序是在光學(xué)膜的上表層形成碳化黑點(diǎn)，以遮蔽光學(xué)膜中的 缺陷所造成的漏光。由于光學(xué)膜的上表層是最靠近外部的膜層，因此激光修補(bǔ)程序的光線 可以很容易地在光學(xué)膜的上表層形成碳化黑點(diǎn)。換言的，本實(shí)施例在光學(xué)膜的上表層形成 碳化黑點(diǎn)既可達(dá)到遮蔽缺陷所產(chǎn)生的漏光，又可使激光修補(bǔ)程序易于執(zhí)行。再者，本實(shí)施例的修補(bǔ)方法是對(duì)顯示面板外面的光學(xué)膜來進(jìn)行碳化修補(bǔ)，而且是 對(duì)光學(xué)膜的上表層進(jìn)行碳化以形成黑點(diǎn)。相較于傳統(tǒng)修補(bǔ)方法來說，本實(shí)施例不但激光修補(bǔ)程序較為容易，且也較容易掌控碳化黑點(diǎn)的尺寸。 雖然本發(fā)明已以實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域 中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動(dòng)與潤飾，故本發(fā)明 的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的申請(qǐng)專利范圍所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種顯示器的修補(bǔ)方法，包括提供一顯示器，其包括一顯示面板；以及至少一光學(xué)膜，位于該顯示面板的至少一外表面，其中該光學(xué)膜具有一上表層、一下表 層以及位于該上表層以及該下表層之間的一中間層，其中該光學(xué)膜具有一缺陷；以及進(jìn)行一激光修補(bǔ)程序，以使該光學(xué)膜的對(duì)應(yīng)該缺陷處碳化成一黑點(diǎn)，其中該激光修補(bǔ) 程序是在該光學(xué)膜的該上表層中形成該黑點(diǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該激光修補(bǔ)程序的波長為 400 800納米。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該激光修補(bǔ)程序的一激光脈 沖時(shí)間為< 500飛秒。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該激光修補(bǔ)程序的一激光脈 沖能量在IMHz的頻率下，脈沖能量為> 1. 0微焦耳。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該光學(xué)膜的該上表層以及該 下表層的材質(zhì)包括三乙酰纖維素。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該光學(xué)膜的該中間層包括聚 乙烯醇。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該光學(xué)膜的總厚度為100 500微米。
8.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該激光修補(bǔ)程序是在該光學(xué) 膜的1 100微米處進(jìn)行修補(bǔ)。
9.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該顯示器進(jìn)一步包括至少一 第一光學(xué)膜，位于該光學(xué)膜的該上表層、該下表層或是該上表層和下表層上均有該第一光 學(xué)膜。
10.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該缺陷的尺寸為10 1000 微米。
11.如權(quán)利要求1所述的顯示器的修補(bǔ)方法，其特征在于該光學(xué)膜為偏光片。
12.—種修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，包括一顯示面板；以及至少一光學(xué)膜，位于該顯示面板的至少一外表面上，其中該光學(xué)膜具 有一上表層、一下表層以及位于該上表層以及該下表層之間的一中間層，且該光學(xué)膜的該 上表層中具有一碳化黑點(diǎn)。
13.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于該光學(xué)膜的該上表層以 及該下表層的材質(zhì)包括三乙酰纖維素。
14.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于該光學(xué)膜的該中間層包 括聚乙烯醇。
15.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于該光學(xué)膜的總厚度為 100 500微米。
16.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于該碳化黑點(diǎn)是位于該光學(xué)膜的1 100微米深處。
17.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于進(jìn)一步包括至少一第一 光學(xué)膜，位于該光學(xué)膜的該上表層、該下表層或是該上表層和下表層上均有該第一光學(xué)膜。
18.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于該碳化黑點(diǎn)的尺寸為 10 1000微米。
19.如權(quán)利要求12所述的修補(bǔ)后的顯示器結(jié)構(gòu)，其特征在于該光學(xué)膜為偏光片。
全文摘要
一種顯示器的修補(bǔ)方法及其修補(bǔ)后的結(jié)構(gòu)，此方法包括提供顯示器，所述顯示器包括顯示面板以及至少一光學(xué)膜。光學(xué)膜位于顯示面板的至少一外表面，且光學(xué)膜具有上表層、下表層以及位于上表層以及下表層之間的中間層，且光學(xué)膜具有缺陷。接著，進(jìn)行激光修補(bǔ)程序，以使光學(xué)膜的對(duì)應(yīng)缺陷處碳化成黑點(diǎn)，其中激光修補(bǔ)程序是在光學(xué)膜的上表層中形成黑點(diǎn)。
文檔編號(hào)G02F1/13GK102116948SQ201110060780
公開日2011年7月6日 申請(qǐng)日期2011年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月22日
發(fā)明者張一凡, 梁嘉杉, 洪彬哲 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司