專利名稱：反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)、掃描曝光裝置、微元件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)、反射折射光學(xué)裝置、掃描曝光裝置、以及使用該掃描曝光裝置的微元件的制造方法，上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)將第1物體(光罩 (mask)、標(biāo)線片(reticle)等)的像投影至第2物體(基板等)上，上述掃描曝光裝置將第 1物體的像投影曝光于第2物體上。
背景技術(shù)：
制造例如半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件等時，使用投影曝光裝置，該投影曝光裝置利用投影光學(xué)系統(tǒng)，將光罩(reticle、photomask等)的圖案投影至涂敷著光阻(resist) 的板(玻璃板(glass plate)或半導(dǎo)體晶圓等)上。先前多使用投影曝光裝置(步進式曝光機(stepper))，上述投影曝光裝置以分步重復(fù)(st印and repeat)方式，將各個光罩的圖案一并曝光于板上的各曝光照射(shot)區(qū)域。近年來提出了步進掃描(St印and scan)方式的投影曝光裝置，上述步進掃描方式的投影曝光裝置代替使用1個大的投影光學(xué)系統(tǒng)，沿著掃描方向并以規(guī)定間隔，將具有相等倍率的小的多個部分投影光學(xué)系統(tǒng)配置為多行，且一邊對光罩及板進行掃描，一邊利用各部分投影光學(xué)系統(tǒng)將各個光罩的圖案曝光于板上。近年來，板日益大型化，使用超過2平方米的方形板。此處，使用上述步進掃描方式的曝光裝置，于大型板上進行曝光時，部分投影光學(xué)系統(tǒng)具有相等的倍率，因此，光罩亦大型化。亦必須維持光罩基板的平面性，從而光罩越大型化則其成本越高。又，為了形成通常的薄膜晶體管(thin film transistor, TFT)部，必須4 5層的光罩，需要巨大的成本。 因此，提出了一種投影曝光裝置，其藉由將投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為放大倍率，而減小光罩的大小(日本專利申請案公開平成1^65848號公報)。上述投影曝光裝置中，多個投影光學(xué)系統(tǒng)的光罩上的光軸與板上的光軸實質(zhì)上配置于相同位置。因此，存在如下問題藉由不同行的投影光學(xué)系統(tǒng)而掃描曝光于板上的圖案彼此不相互連接。又，為了于上述投影曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)中，增大曝光區(qū)域，必須使構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡大型化，但使透鏡大型化時，因保持透鏡而產(chǎn)生光軸非對稱的變形，或因重力而導(dǎo)致透鏡本身產(chǎn)生光軸非對稱的變形。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，使用多個投影光學(xué)系統(tǒng)，以掃描曝光方式，將光罩圖案的放大像形成于板等物體上時，進行良好的圖案轉(zhuǎn)印。本發(fā)明的另一目的在于，不會使透鏡中產(chǎn)生光軸非對稱的變形而進行良好的圖案轉(zhuǎn)印。根據(jù)本發(fā)明的第1態(tài)樣，提供一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，把配置于第1面的第1物體的放大像形成在配置于第2面的第2物體上，所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的特征在于包括光束傳送部，從所述第1面發(fā)出并沿著與所述第1面正交的方向行進的光，是在沿著所述第1面的第1方向傳送，并使在所述第1方向已傳送的光沿著與所述第1面正交的方向行進，并引導(dǎo)往所述第2面。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述光束傳送部包括第1偏向構(gòu)件，把沿著與所述第 1面正交的方向行進的光，偏向到所述第1方向；第2偏向構(gòu)件，使從所述第1偏向構(gòu)件而來、往所述第1方向行進的光，沿與所述第1面正交的方向行進，并引導(dǎo)往所述第2面。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)包括凹面反射鏡，配置于所述第1面與所述第2面之間的光路中；第1透鏡群，配置于所述第1面與所述凹面反射鏡之間的光路中；第2透鏡群，配置于所述第1透鏡群與所述凹面反射鏡之間的光路中；以及第3透鏡群，配置于所述第2偏向構(gòu)件與所述第2面之間的光路中，且具有與所述第1透鏡群的光軸大致平行的光軸，其中，所述第1偏向構(gòu)件配置在所述第2透鏡群與所述第2面之間的光路中，使從所述第2透鏡群而來、沿著與所述第1面正交的方向而往所述第1面?zhèn)鹊墓猓虻剿龅?方向，且所述第2偏向構(gòu)件配置在所述第1偏向構(gòu)件與所述第2面之間的光路中，使從所述第1偏向構(gòu)件而來、沿著所述第1方向行進的光，沿與所述第1面正交的方向偏向到所述第2面?zhèn)?。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述第1面與所述第2面的距離大于所述第1面與所述凹面反射鏡的距離。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，構(gòu)成所述第1透鏡群、所述第2透鏡群、以及所述第3 透鏡群，且具有折射能力的光學(xué)構(gòu)件，是以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)還包括孔徑光圈，所述孔徑光圈配置于所述凹面反射鏡與所述第2透鏡群之間的光路中，用以規(guī)定所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的所述第2面?zhèn)葦?shù)值孔徑，且所述孔徑光圈以所述第1面?zhèn)燃八龅?面?zhèn)却笾率沁h心的方式而定位著。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，當(dāng)將所述第1透鏡群的焦點距離設(shè)為fl、將所述第3 透鏡群的焦點距離設(shè)為f3、將所述投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為β時，滿足0.8Χ| β I彡f3/ fl 彡 1. 25 X I β I，I β I 彡 1. 8。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)包括調(diào)整所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)特性的光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)配置于所述凹面反射鏡與所述第2面之間的光路中。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，形成于所述第2面的所述第1物體的放大像，是所述第 1物體的一次像。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述第1偏向構(gòu)件，使沿著與所述第1面正交的方向行進的光，以橫切所述第1透鏡群的光軸的方式被偏向。根據(jù)本發(fā)明的第2態(tài)樣，提供一種反射折射光學(xué)裝置，其特征在于包括形成第1 面的中間像的第1成像光學(xué)系統(tǒng)、以及使已形成所述中間像的面與所述第2面呈光學(xué)共軛的第2成像光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述第1成像光學(xué)系統(tǒng)與所述第2成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個， 藉由上述任一的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)而構(gòu)成。
又，根據(jù)本發(fā)明的第3態(tài)樣，提供一種掃描曝光裝置，其特征在于使配置于第1面的第1物體、與配置于第2面的第2物體，在掃描方向上同步移動，而使所述第1物體的像投影曝光至所述第2物體上，所述掃描曝光裝置包括第1投影光學(xué)裝置以及第2投影光學(xué)裝置，所述第1投影光學(xué)裝置于所述掃描方向上、定位于第1位置，所述第2投影光學(xué)裝置于所述掃描方向上、定位于與所述第1位置不同的第2位置，且所述第1及第2投影光學(xué)裝置包括上述任一所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)。 在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述第1及第2投影光學(xué)裝置是以所述第1及第2投影光學(xué)裝置的所述第2面?zhèn)鹊拈g隔大于所述第1面?zhèn)鹊拈g隔的方式而配置著。在本發(fā)明的一實施形態(tài)中，所述第2物體是外徑大于500mm的感光基板。根據(jù)本發(fā)明的第4態(tài)樣，提供一種微元件的制造方法，其特征在于包括使用如上述的掃描曝光裝置，將光罩圖案曝光于感光基板上；以及對所述圖案已曝光的所述感光基板進行顯影。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。


圖1是表示第1實施形態(tài)的掃描曝光裝置的構(gòu)成圖。圖2是表示第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖3是表示實施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的光罩圖。圖4是表示第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的視場及像場圖。圖5是表示第2實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖6是表示第2實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的視場及像場圖。圖7是表示第3實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖8是表示第4實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖9是表示配置了照明視場光圈時的投影光學(xué)系統(tǒng)的視場及像場圖，上述照明視場光圈于照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)具有圓弧狀孔徑。圖10是用以說明實施形態(tài)的微元件的制造方法的流程圖。圖11是表示第1實施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖12是第1實施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。圖13是第1實施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。圖14是表示第2實施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖15是第2實施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。圖16是第2實施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。2 橢圓鏡 3:分光鏡4、9b、9c 準(zhǔn)直透鏡 5 波長選擇濾光片6 中性密度濾光片 7、llb、llc: 聚光透鏡8 光纖 8a 射入口8b 8h: 射出口 IObUOc: 復(fù)眼透鏡


12bU2c 14b、Hc 16b、16c 52:對準(zhǔn)系統(tǒng) ADlb,ADlc AD2b,AD2c AD3b,AD3c AD4b、AD4c ASb 孔徑光圈 CCM、CCMb、CCMc FM1、FMlb、FMlc FM2、FM2b、FM2c FM2b、FM2c GU Gib, Glc G2,G2b,G2c G3、G3b、G3c II、12、13 像場
照明視場光圈 13b、13c:成像光學(xué)系統(tǒng)第1成像光學(xué)系統(tǒng) Mb、15c:視場光圈第2成像光學(xué)系統(tǒng)50:移動鏡 54 自動對焦系統(tǒng)
第1光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)第2光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)第3光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)第4光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu) Dm、Dp:間隔凹面反射鏡第1偏向構(gòu)件第2偏向構(gòu)件第2光路偏向面第1透鏡群第2透鏡群第3透鏡群
ILl IL7:部分照明光學(xué)系統(tǒng) IL3 IL7:照明光學(xué)系統(tǒng) L10、L16、L18、L20、L26 正彎月透鏡 Lll、L12、L14、L17、L21、L22、L24、L27、L28 負(fù)彎月透鏡 L13、L19、L23、L29 雙凸透鏡 L15、L25: 雙凹透鏡 Ml: 光罩 MlO M16 行圖案部 Pl 板 PL投影光學(xué)裝置PLl PL7:投影光學(xué)系統(tǒng)
PL10.PL20 反射折射光學(xué)系統(tǒng) V1、V2、V3:視場 β 投影倍率
具體實施例方式以下，參照圖式，說明本發(fā)明的第1實施形態(tài)。本實施形態(tài)中，列舉步進掃描方式的掃描投影曝光裝置為例加以說明，上述步進掃描方式的掃描投影曝光裝置相對于包含多個反射折射型投影光學(xué)系統(tǒng)PLl PL7的投影光學(xué)裝置PL，使光罩Ml與板Pl于掃描方向上同步移動，從而將形成于光罩Ml上的圖案的像掃描曝光于板Pl上，上述多個反射折射型投影光學(xué)系統(tǒng)PLl PL7將光罩(第1物體)M1的圖案的一部分，部分地投影至作為感光基板的外徑大于500mm的板(第2物體)Pl上。此處，所謂外形大于500mm，是指一邊或?qū)蔷€大于500mm。又，以下的說明中，設(shè)定圖1中所示的正交坐標(biāo)系，一邊參照該CTZ正交坐標(biāo)系，一邊說明各構(gòu)件的位置關(guān)系。XYZ正交坐標(biāo)系以X軸及Y軸相對于板Pl成平行的方式而設(shè)定，Z軸設(shè)定于相對于板Pl正交的方向上。對于圖中的CTZ坐標(biāo)系而言，實際上XY平面以與水平面平行的方式而設(shè)定，Z軸設(shè)定于垂直方向。又，本實施形態(tài)中，將使板Pl移動的方向(掃描方向)設(shè)定為X方向。圖1是表示本實施形態(tài)的掃描投影曝光裝置的整體的概略構(gòu)成的立體圖。本實施形態(tài)的掃描投影曝光裝置具備包含例如超高壓水銀燈(mercury lamp)光源構(gòu)成的光源。 自光源射出的光束由橢圓鏡(elliptical mirror) 2及分光鏡(dichroic mirror) 3反射后，射入準(zhǔn)直透鏡(Collimate lens)40亦即，藉由橢圓鏡2的反射膜及分光鏡3的反射膜，取出包含g線(波長436nm)、h線(波長405nm)及i線(波長365nm)的光的波長帶 (wavelength band)的光，包含g、h、i線的光的波長帶的光射入準(zhǔn)直透鏡4。又，光源配置于橢圓鏡2的第1焦點位置，因此包含g、h、i線的光的波長帶的光于橢圓鏡2的第2焦點位置形成光源像。來自形成于橢圓鏡2的第2焦點位置的光源像的發(fā)散光束藉由準(zhǔn)直透鏡 4而變?yōu)槠叫泄猓彝ㄟ^僅使規(guī)定的曝光波長帶的光束通過的波長選擇濾光片5。通過波長選擇濾光片5的光束通過中性密度濾光片(neutral density filter)6, 并藉由聚光透鏡7而于光纖(lightguide fiber)8的射入口 8a的射入端聚集。此處，光纖 8是例如隨機地結(jié)合多條光纖心線而構(gòu)成的隨機光纖，具有射入口 8a與7個射出口(以下， 稱為射出口 8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h)。射入光纖8的射入口 8a的光束于光纖8的內(nèi)部傳播后，藉由7個射出口 8b 他分割而射出，分別射入部分地對光罩Ml照明的7個部分照明光學(xué)系統(tǒng)(以下，稱為部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL2、IL 3、IL4、IL5、IL6、IL7)。通過各部分照明光學(xué)系統(tǒng)ILl IL7的光分別大致均一地對光罩Ml照明。來自光罩Ml的照明區(qū)域、亦即與部分照明光學(xué)系統(tǒng)ILl IL7對應(yīng)的照明區(qū)域的光，分別射入7個投影光學(xué)系統(tǒng)(以下，稱為投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、PL5、PL6、 PL7)，上述7個投影光學(xué)系統(tǒng)以與各照明區(qū)域?qū)?yīng)的方式而排列，且分別將光罩Ml的圖案的一部分的像投影至板Pl上。通過投影光學(xué)系統(tǒng)PLl PL7的光分別使光罩Ml的圖案像成像于板Pl上。此處，光罩Ml藉由光罩固持器(mask holder)(未圖示)而固定，且載置于光罩載物臺(mask Stage)(未圖示)上。又，于光罩載物臺上配置著激光干涉儀(laser interferometer)(未圖示)，光罩載物臺激光干涉儀用來測量及控制光罩載物臺的位置。 又，板Pl藉由板固持器(未圖示)而固定，且載置于板載物臺(未圖示)上。又，于板載物臺上設(shè)置著移動鏡50。自未圖標(biāo)的板載物臺激光干涉儀射出的激光射入移動鏡50，或由移動鏡50反射。根據(jù)該經(jīng)射入/反射的激光的干涉，以測量及控制板載物臺的位置。上述部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL3、IL5、IL7于與掃描方向正交的方向上具有規(guī)定間隔，且作為第1行而配置于掃描方向的后方側(cè)(第1方向側(cè))，與部分照明光學(xué)系統(tǒng)ILl、 IL 3、IL5、IL7相對應(yīng)而設(shè)置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、PL5、PL7亦同樣于與掃描方向正交的方向上，具有規(guī)定間隔，且作為第1行而配置于掃描方向的后方側(cè)(第1方向側(cè))。又，部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL2、IL4、IL6于與掃描方向正交的方向上，具有規(guī)定間隔，且作為第2行而配置于掃描方向的前方側(cè)(第2方向側(cè))，與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL2、IL4、IL6相對應(yīng)而設(shè)置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4、PL6亦同樣于與掃描方向正交的方向上，具有規(guī)定間隔，且作為第2行而配置于掃描方向的前方側(cè)(第2方向側(cè))。此處，第1行投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、PL5、PL7分別具有沿著配置著光罩Ml的第1 面上的第1行的視場，且于配置著板Pl的第2面上的第3行上，于掃描正交方向上具有規(guī)定間隔的像場(投影區(qū)域)中分別形成像。又，第2行投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4、PL6分別具有沿著配置著光罩Ml的第1面上的第2行的視場，且于配置著板Pl的第2面上的第4行上，于掃描正交方向上具有規(guī)定間隔的像場(投影區(qū)域)中分別形成像。為了于第1行的投影光學(xué)系統(tǒng)與第2行的投影光學(xué)系統(tǒng)之間，進行板Pl的位置對準(zhǔn)，配置著偏向軸(off-axis)的對準(zhǔn)(alignment)系統(tǒng)52，或為了使光罩Ml及板Pl的焦點(focus)對準(zhǔn)，配置著自動對焦系統(tǒng)Μ。圖2是表示部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL2及投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2的構(gòu)成圖。再者，部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL3、IL5、IL7具有與部分照明光學(xué)系統(tǒng)ILl相同的構(gòu)成，部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL4、IL6具有與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL2相同的構(gòu)成。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3、PL5、 PL7具有與投影光學(xué)系統(tǒng)PLl相同的構(gòu)成，投影光學(xué)系統(tǒng)PL4、PL6具有與投影光學(xué)系統(tǒng)PL2 相同的構(gòu)成。自光纖8的射出口 8b射出的光束射入部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1，藉由配置于射出口汕附近的準(zhǔn)直透鏡9b而聚集的光束射入作為光學(xué)積分器(optical integrator)的復(fù)眼透鏡(fly eye lens) 10b。來自形成于復(fù)眼透鏡IOb的后側(cè)焦點面上的多個二次光源的光束， 藉由聚光透鏡(condenser lens) lib而大致均一地對光罩Ml照明。又，藉由配置于射出口 8c附近的準(zhǔn)直透鏡9c而聚集的光束，射入作為光學(xué)積分器的復(fù)眼透鏡10c。來自形成于復(fù)眼透鏡IOc的后側(cè)焦點面上的多個二次光源的光束，藉由聚光透鏡Ilc而大致均一地對光罩Ml照明。投影光學(xué)系統(tǒng)PLl是如下的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，即，將作為光罩Ml上的視場內(nèi)的放大像的一次像形成于板Pl上的像場內(nèi)，上述投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的掃描方向(X軸方向)上的放大倍率超過+1倍，且掃描正交方向上的放大倍率低于-1。投影光學(xué)系統(tǒng)PLl包括凹面反射鏡CCMb，配置于光罩Ml與板Pl之間的光路中； 第1透鏡群Glb，配置于光罩Ml與凹面反射鏡CCMb之間的光路中；第2透鏡群G2b，配置于第1透鏡群Glb與凹面反射鏡CCMb之間的光路中；第1偏向構(gòu)件FMlb，配置于第2透鏡群G2b與板Pl之間的光路中，且使自第2透鏡群G2b向Z軸負(fù)方向前進的光偏向X軸負(fù)方向(第1方向)，以橫切第1透鏡群Glb的光軸；第2偏向構(gòu)件FM2b，配置于第1偏向構(gòu)件 FMlb與板Pl之間的光路中，且使自第1偏向構(gòu)件FMlb向X軸負(fù)方向前進的光偏向Z軸負(fù)方向；以及第3透鏡群G 3b，配置于第2偏向構(gòu)件FM2b與板Pl之間的光路中，且具有與第 1透鏡群Glb的光軸大致平行的光軸。此處，第1偏向構(gòu)件FMlb與第2偏向構(gòu)件FM2b可構(gòu)成第1光束傳送部，上述第1 光束傳送部將例如自第2透鏡群G2b向Z軸正方向前進的光傳送至X軸負(fù)方向(第1方向)后，使上述光沿著Z軸負(fù)方向前進。此處，投影光學(xué)系統(tǒng)PLl中，以光罩Ml與板Pl的距離大于光罩Ml與凹面反射鏡 CCMb的距離的方式，分別配置著凹面反射鏡CCMb、第1透鏡群Gib、第2透鏡群G2b、第3透鏡群G3b、第1偏向構(gòu)件FMlb、以及第2偏向構(gòu)件FM2b。又，具有構(gòu)成第1透鏡群Gib、第2 透鏡群G2b、以及第3透鏡群G3b的折射能力的光學(xué)構(gòu)件，以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PLl中，以板Pl側(cè)的距離大于光罩Ml側(cè)的距離的方式，配置著第1透鏡群Gib、凹面反射鏡CCMb、以及第3透鏡群G3b。再者，于凹面反射鏡CCMb與第2透鏡群G2b之間的光路中，亦即，凹面反射鏡CCMb 的反射面附近，具有用以規(guī)定投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的板Pl側(cè)的孔徑數(shù)的孔徑光圈(aperturestop)ASb，孔徑光圈ASb以光罩Ml側(cè)及板Pl側(cè)為大致是遠心(telecentric)的方式而定位著。該孔徑光圈ASb的位置可看作投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的光瞳面。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PLl于將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的第1透鏡群Glb的焦點距離設(shè)為 Π、將第3透鏡群G3b的焦點距離設(shè)為f3、將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的倍率設(shè)為β時，滿足0. 8Χ I β I 彡 f3/fl 彡 1. 25X | βI β I ^ 1. 8。投影光學(xué)系統(tǒng)PL2具有于掃描方向上與投影光學(xué)系統(tǒng)PLl對稱地配置的構(gòu)成，與投影光學(xué)系統(tǒng)PLl同樣，也是如下所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，即，將作為光罩Ml上的視場內(nèi)的放大像的一次像形成于板Pl上的像場內(nèi)，上述投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的掃描方向(X軸方向)上的放大倍率超過+1倍，且掃描正交方向上的放大倍率低于-1。投影光學(xué)系統(tǒng)PL2與投影光學(xué)系統(tǒng)PLl相同，具有凹面反射鏡CCMc、第1透鏡群 Glc、第2透鏡群G2c、第3透鏡群G3c、第1偏向構(gòu)件FMlc、第2偏向構(gòu)件FM2b、以及孔徑光 HASb0此處，第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的第1偏向構(gòu)件FMlc及第2偏向構(gòu)件FM2b可以構(gòu)成第2光束傳送部，上述第2光束傳送部將例如自第2透鏡群G2c向Z軸正方向前進的光傳送至X軸正方向(第2方向)后，使上述光沿著Z軸負(fù)方向前進。又，孔徑光圈Ak的位置可以看作投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的光瞳面。投影光學(xué)系統(tǒng)PLl及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2以如下方式而配置著，即，當(dāng)將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場的中心彼此的掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dm、將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl及第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的像場的中心彼此的掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dp、將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的各投影倍率設(shè)為β時，滿足Dp = DmX I β I (其中，I β I > 1. 8)。并且，本例中，自Y方向觀察，第1線(本例中相當(dāng)于第1光束傳送部的光軸)與第2線(本例中相當(dāng)于第2光束傳送部的光軸)彼此未重疊，上述第1線是連接第1投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的視場與像場(投影區(qū)域)的線，上述第2線是連接第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL2 的視場與像場(投影區(qū)域)的線。圖3是表示本實施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的光罩Ml的構(gòu)成圖。如圖3所示，光罩Ml具有沿著非掃描方向(Y軸方向)而配置的行圖案部MlO Μ16。此處，行圖案部MlO中，定位著投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的視場，行圖案部Mll中，定位著投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場。同樣，行圖案部Μ12 Μ16中，分別定位著投影光學(xué)系統(tǒng)PL3 PL7的視場。圖4是用以說明作為第1行而配置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3及作為第2行而配置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場及像場的狀態(tài)圖。投影光學(xué)系統(tǒng)PLl分別具有視場Vl及像場 11，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2分別具有視場V2及像場12，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3分別具有視場V3及像場13。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PLl將光罩Ml上的視場Vl內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場 Il內(nèi)。同樣，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2將光罩Ml上的視場V2內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場 12內(nèi)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3將光罩Ml上的視場V3內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場13內(nèi)。于投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的像場Il與投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的像場12之間、投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的像場12與投影光學(xué)系統(tǒng)PL3的像場13之間，分別形成著連接部，但于板Pl上藉由將形成連接部的光罩上的圖案的端部形成為鋸齒形等，可以于板Pl上連續(xù)地形成圖案。
10
本實施形態(tài)中，當(dāng)將沿著第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)PLl、PL2的掃描方向的倍率設(shè)為β時，第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2的視場的間隔(第1行與第2行的間隔)Dp與像場(投影區(qū)域)的間隔(第3行與第4行的間隔)Dm滿足Dp = β XDm,因此，即使使用光罩Μ1，亦可以于板Pl上連續(xù)地形成圖案，上述光罩Ml于圖3所示的掃描方向上，使各行圖案部Mll Μ16的端部對齊而使掃描方向上的大小最小化。根據(jù)本實施形態(tài)的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，以使具備具有折射能力的光學(xué)構(gòu)件的第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的光軸與重力方向平行的方式而配置著，因此，即使于為了增大曝光區(qū)域，而使構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡，亦即，構(gòu)成第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的透鏡大型化時，亦可以提供不會使透鏡產(chǎn)生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)。又，根據(jù)實施形態(tài)的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，不會形成中間像，因此，可以簡化光學(xué)的構(gòu)成。又，根據(jù)本發(fā)明的掃描曝光裝置，具有不會使透鏡產(chǎn)生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，因此，可以進行良好的曝光。又，反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以實現(xiàn)光罩的制造成本的降低。其次，說明本發(fā)明的第2實施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)。再者，該第2實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)，于第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)配置著照明視場光圈。關(guān)于其它處，具有與第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。因此，第2實施形態(tài)的說明中， 省略與第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成的詳細(xì)說明。又，該第2 實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的說明中，對與第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成，附加與第1實施形態(tài)中所使用的符號相同的符號來進行說明。圖5是表示第2實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。再者，圖5 中，僅表示照明光學(xué)系統(tǒng)ILl、IL2及投影光學(xué)系統(tǒng)PLl、PL2，但照明光學(xué)系統(tǒng)IL3 IL7及投影光學(xué)系統(tǒng)PL3 PL7亦具有相同構(gòu)成。于與本實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)ILl的聚光透鏡lib的射出側(cè)的光罩Ml成光學(xué)共軛的位置，配置著具有梯形或六邊形孔徑部的照明視場光圈12b，且于照明視場光圈12b與光罩Ml之間的光路中，配置著成像光學(xué)系統(tǒng)13b。同樣， 于與照明光學(xué)系統(tǒng)IL2的聚光透鏡Ilc的射出側(cè)的光罩Ml成光學(xué)共軛的位置，配置著照明視場光圈12c，且于照明視場光圈12c與光罩Ml之間的光路中，配置著成像光學(xué)系統(tǒng)13c。圖6是用以說明于照明光學(xué)系統(tǒng)中配置著具有六邊形孔徑部的照明視場光圈時的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場及像場的狀態(tài)的圖。投影光學(xué)系統(tǒng) PLl分別具有六邊形視場Vl及像場II，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2分別具有六邊形視場V2及像場 12，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3分別具有六邊形視場V3及像場13。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PLl將藉由照明視場光圈而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的視場Vl內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場Il內(nèi)。 同樣，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2將藉由照明視場光圈而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的視場V2內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場12內(nèi)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3將光罩Ml上的視場V3內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場13內(nèi)。根據(jù)本實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)，無須如第1實施形態(tài)的掃描曝光裝置般進行光罩圖案的畫面合成，即可以于板上良好地進行圖案的非掃描方向上的合成。其次，說明本發(fā)明的第3實施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)。再者，該第3實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)是于第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)，變更投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成。關(guān)于其它處，具有與第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。因此，第3實施形態(tài)的說明中，省略與第 1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成的詳細(xì)說明。又，該第3實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的說明中，對與第1實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成，附加與第1實施形態(tài)中所使用的符號相同的符號來進行說明。圖7是表示第3實施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。再者，圖 7中，僅表示照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL2及投影光學(xué)系統(tǒng)PLl、PL2，但照明光學(xué)系統(tǒng)IL13 IL7 及投影光學(xué)系統(tǒng)PL3 PL7亦具有相同構(gòu)成。本實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2藉由投影光學(xué)裝置而構(gòu)成，上述投影光學(xué)裝置具備形成光罩Ml的中間像的第1成像光學(xué)系統(tǒng)14b、14c，以及使中間像與板Pl成光學(xué)共軛的第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c。此處，上述各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2的放大倍率以掃描方向上的放大倍率超過+1，且掃描正交方向上的放大倍率超過+1的方式而設(shè)定。即，上述各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2根據(jù)放大倍率，于第2面上形成第1面的正像(erected image)。又，于第1成像光學(xué)系統(tǒng)14b、Hc與第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c之間的光路中形成著中間像的位置上，配置著視場光圈15b、15c。此處，第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c具有與第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2相同的構(gòu)成。根據(jù)本實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)，可以容易地進行視場光圈的配置，又，以投影光學(xué)系統(tǒng)的精度將視場光圈投影至板上，因此，可以進行高精度的投影。其次，說明本發(fā)明的第4實施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的投影光學(xué)系統(tǒng)。再者，該第4實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)是于第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)置著光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)。關(guān)于其它處，具有與第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。因此，第4實施形態(tài)的說明中，省略與第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成的詳細(xì)說明。又，該第4實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的說明中，對與第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成，附加與第1實施形態(tài)中所使用的符號相同的符號來進行說明。圖8是表示第4實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。再者，圖8中，僅表示投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2，但投影光學(xué)系統(tǒng)PL 3 PL7亦具有相同構(gòu)成。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2于光罩Ml與第1透鏡群Glb、Glc之間的光路中，具有藉由楔狀雙層玻璃而構(gòu)成的第1光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)ADlb、ADlc。該第1光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)ADlb、ADlc中，使雙層玻璃沿著楔形角而移動，從而使玻璃厚度變化，藉此，可以調(diào)整焦點或像面傾斜。如此，本實施形態(tài)中，將第 1光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)ADlb、ADlc配置于反射折射光學(xué)系統(tǒng)的縮小側(cè)(偏反射折射光學(xué)系統(tǒng)的孔徑光圈位置的物體側(cè))的光路，因此，可以增大光學(xué)特性相對于調(diào)整機構(gòu)的移動量的變化量。亦即，可以使調(diào)整機構(gòu)的作用的靈敏度良好。而且，可以不增加調(diào)整機構(gòu)的移動量范圍(stroke，行程)，而擴大光學(xué)特性的調(diào)整范圍。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2具備藉由第2光路偏向構(gòu)件FM2b、FM2c的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)而構(gòu)成的第2光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD2b、AD2c。該第2光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD2b、AD2c可以藉由使具有第2光路偏向構(gòu)件FM2b、FM2c的棱鏡(prism mirror)旋轉(zhuǎn)，來調(diào)整像的旋轉(zhuǎn)。又， 具備第3光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD!3b、AD3C，其由具有相同曲率的3個透鏡群而構(gòu)成。該第3光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD3b、AD3c可以藉由使3個以相同曲率而構(gòu)成的透鏡群的中央部的透鏡，于光罩Ml與板Pl間的垂直方向(上下方向)上移動，來調(diào)整倍率。又，具有由平行平板而構(gòu)成的第4光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD4b、AMc。該第4光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD4b、AMc可以藉由使平行平板相對于光軸傾斜，來調(diào)整像位置。本實施形態(tài)中，于凹面反射鏡CCMb、CCMc與第2面之間的光路中，換言之，即光瞳面與第2面之間的光路中，配置著光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)AD2b、AD2c、AD3b, AD3c。該光路是投影光學(xué)系統(tǒng)中的放大倍率側(cè)的光路，因此，具有如下優(yōu)點易于確保配置上述各光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)的空間。再者，上述第2實施形態(tài)中，將具有6邊形孔徑部的照明視場光圈配置于照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)，但代替上述情形，亦可以將具有圓弧狀的照明視場光圈配置于照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)。圖 9是用以說明于照明光學(xué)系統(tǒng)中配置著具有圓弧狀孔徑部的照明視場光圈時，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場及像場的狀態(tài)的圖。投影光學(xué)系統(tǒng)PLl分別具有圓弧狀視場Vl及像場II，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2分別具有圓弧狀視場V2及像場12，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3分別具有圓弧狀視場V3及像場13。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PLl將藉由照明視場光圈而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的圓弧狀視場Vl內(nèi)的放大像，形成于板Pl上的圓弧狀像場Il內(nèi)。 同樣，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2將藉由照明視場光圈而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的圓弧狀視場V2 內(nèi)的放大像形成于板Pl上的圓弧狀像場12內(nèi)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3將光罩Ml上的圓弧狀視場V3內(nèi)的放大像形成于板Pl上的圓弧狀像場13內(nèi)。又，上述第3實施形態(tài)中，第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c具有與第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PLl、PL2相同的構(gòu)成，但第1成像光學(xué)系統(tǒng)14b、14c，或第1成像光學(xué)系統(tǒng)14b、 14c及第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c亦可以具有與第1實施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2相同的構(gòu)成。又，上述實施形態(tài)中，投影光學(xué)系統(tǒng)形成的像場的形狀亦可以為例如梯形。像場為梯形時，較好的是，使梯形的下邊(梯形中彼此平行的2邊中較長的邊)朝向光軸側(cè)而配置。又，上述實施形態(tài)中，具備放電燈作為光源，選擇必要的g線G36nm)的光、h線 (405nm)及i線(365nm)的光。然而，不限于此，使用如下各光時亦可以適用本發(fā)明，上述各光即，來自紫外線發(fā)光二極管(light-emitting diode, LED)的光，來自KrF準(zhǔn)分子激光 (excimer laser) (248nm)或ArF準(zhǔn)分子激光(193nm)的激光，固體激光的高頻諧波(higher harmonic)，來自作為固體光源的紫外線半導(dǎo)體激光的激光。又，本實施形態(tài)的掃描曝光裝置中，可以于板(玻璃基板)上藉由形成規(guī)定的圖案 (電路圖案、電極圖案等)，來獲得作為微元件的液晶顯示元件。以下，參照圖10的流程圖， 說明此時的方法的一例。圖10中，圖案形成步驟S401中，執(zhí)行所謂光微影步驟，即，使用本實施形態(tài)的掃描曝光裝置，將光罩的圖案轉(zhuǎn)印曝光于感光基板上。藉由該光微影步驟，于感光基板上形成包含多個電極等的規(guī)定圖案。之后，已被曝光的基板藉由經(jīng)過顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟，而于基板上形成規(guī)定圖案，并進入下一個彩色濾光片形成步驟 S402。其次，于彩色濾光片形成步驟S402中形成彩色濾光片，上述彩色濾光片中，矩陣 (matrix)狀地排列著多個與R(Red，紅色)、G (Green，綠色)、B (Blue，藍色)相對應(yīng)的3個點(dot)的組，或于水平掃描線方向上排列多個R、G、B的3根條紋(stripe)的濾光片的CN 102253477 A
說明書
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組。并且，于彩色濾光片形成步驟S402后，執(zhí)行單元(cell)組裝步驟S403。單元組裝步驟 S403中，使用具有于圖案形成步驟S401而獲得的規(guī)定圖案的基板、以及于彩色濾光片形成步驟S402而獲得的彩色濾光片等，以組裝液晶面板(液晶單元(liquid crystal cell))。 單元組裝步驟S403中，例如，于具有于圖案形成步驟S401而獲得的規(guī)定圖案的基板、與于彩色濾光片形成步驟S402而獲得的彩色濾光片之間，注入液晶，以制造液晶面板(液晶單元)°之后，于模塊組裝步驟S404中，安裝電路、背光源(back light)等各零件后，完成液晶顯示元件，上述電路進行已組裝的液晶面板(液晶單元)的顯示動作。根據(jù)上述液晶顯示元件的制造方法，使用本實施形態(tài)的掃描曝光裝置，因此，可以低成本地制造液晶顯示元件。根據(jù)本發(fā)明的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置，以具有折射能力的光學(xué)構(gòu)件的第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的光軸與重力方向平行的方式而配置著，因此，即使為了增大曝光區(qū)域等，而使構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡，亦即，構(gòu)成第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的透鏡大型化時，亦可提供不會使透鏡產(chǎn)生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置，而且，可以進行良好的圖案轉(zhuǎn)印。又，根據(jù)本發(fā)明的掃描曝光裝置，可以藉由光束移相構(gòu)件，使來自多個投影光學(xué)系統(tǒng)的多個視場的光束沿著第1方向，傳送至相反方向，并導(dǎo)向多個投影區(qū)域，且可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)定沿著此時的第1方向的視場間隔與投影區(qū)域間隔。因此，即使使用不同行的投影光學(xué)系統(tǒng)，亦可將圖案良好地轉(zhuǎn)印于板上。又，根據(jù)本發(fā)明的掃描曝光裝置，具備不會使透鏡產(chǎn)生與光軸非對稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置，因此，可以進行良好的曝光。又，反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以實現(xiàn)光罩的制造成本的降低
又，根據(jù)本發(fā)明的微元件的制造方法，可以避免光罩的大型化的同時，使用大型基板來制造微元件，因此，可以低成本地制造微元件。[實施例]以下說明實施例1及實施例2。表1、表2表示實施例1、實施例2的反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL10、PL20的光學(xué)構(gòu)件的各種要素。表1、表2的光學(xué)構(gòu)件各種要素中，分別表示為 第1行(column)的面編號是沿著來自物體側(cè)的光線前進方向的面的順序，第2行是各面的曲率半徑(mm)，第3行的面間隔是光軸上的面間隔(mm)，第4行是對光學(xué)構(gòu)件的硝材的g 線的折射率，第5行是對光學(xué)構(gòu)件的硝材的h線的折射率，第6行是對光學(xué)構(gòu)件的硝材的i 線的折射率。(實施例1)如圖11所示，反射折射光學(xué)系統(tǒng)PLlO具備凹面反射鏡CCM、第1透鏡群G1、第2 透鏡群G2、第3透鏡群G3、第1偏向構(gòu)件FMl、以及第2偏向構(gòu)件FM2。此處第1透鏡群Gl包括凹面朝向光罩M的正彎月透鏡(positive meniscus lens) L10、凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透鏡(negative meniscus lens)Lll、以及凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透鏡L12。第2透鏡群G2包括雙凸透鏡(biconvex lens) L13、凹面朝向光罩M的負(fù)
14彎月透鏡L14、雙凹透鏡(biconcave lens) L15、以及凹面朝向光罩M的正彎月透鏡L16。第 3透鏡群G3包括凹面朝向板P的負(fù)彎月透鏡L17、凹面朝向板P的正彎月透鏡L18、以及雙凸透鏡L19而構(gòu)成。
0132]表示實施例1的反射折射光學(xué)系統(tǒng)PLlO的各種要素的值如下。0133](各種要素)0134]投影倍率2. 4倍0135]像側(cè) NA 0. 056250136]物體側(cè)NA 0. 1350137]像場Φ 228mm0138]視場Φ 95mm0139]條件式的對應(yīng)值:f3/fl = 1430/600 = 2. 380140](表1)0141](光學(xué)構(gòu)件各種要素)0142][表1]0143]
權(quán)利要求
1.一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，把配置于第1面的第1物體的放大像形成在配置于第 2面的第2物體上，所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的特征在于包括光束傳送部，從所述第1面發(fā)出并沿著與所述第1面正交的方向行進的光，是在沿著所述第1面的第1方向傳送，并使在所述第1方向已傳送的光沿著與所述第1面正交的方向行進，并引導(dǎo)往所述第2面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光束傳送部包括 第1偏向構(gòu)件，把沿著與所述第1面正交的方向行進的光，偏向到所述第1方向；第2偏向構(gòu)件，使從所述第1偏向構(gòu)件而來、往所述第1方向行進的光，沿與所述第1 面正交的方向行進，并引導(dǎo)往所述第2面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)包括凹面反射鏡，配置于所述第1面與所述第2面之間的光路中； 第1透鏡群，配置于所述第1面與所述凹面反射鏡之間的光路中； 第2透鏡群，配置于所述第1透鏡群與所述凹面反射鏡之間的光路中；以及第3透鏡群，配置于所述第2偏向構(gòu)件與所述第2面之間的光路中，且具有與所述第1 透鏡群的光軸大致平行的光軸，其中，所述第1偏向構(gòu)件配置在所述第2透鏡群與所述第2面之間的光路中，使從所述第2透鏡群而來、沿著與所述第1面正交的方向而往所述第1面?zhèn)鹊墓?，偏向到所述?方向，且所述第2偏向構(gòu)件配置在所述第1偏向構(gòu)件與所述第2面之間的光路中，使從所述第 1偏向構(gòu)件而來、沿著所述第1方向行進的光，沿與所述第1面正交的方向偏向到所述第2 面?zhèn)取?br> 4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述第1面與所述第2面的距離大于所述第1面與所述凹面反射鏡的距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于構(gòu)成所述第1透鏡群、所述第2透鏡群、以及所述第3透鏡群，且具有折射能力的光學(xué)構(gòu)件，是以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于還包括孔徑光圈，所述孔徑光圈配置于所述凹面反射鏡與所述第2透鏡群之間的光路中，用以規(guī)定所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的所述第2面?zhèn)葦?shù)值孔徑，且所述孔徑光圈以所述第1面?zhèn)燃八龅?面?zhèn)却笾率沁h心的方式而定位著。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于當(dāng)將所述第1透鏡群的焦點距離設(shè)為fl、將所述第3透鏡群的焦點距離設(shè)為f 3、將所述投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為β時，滿足 0. 8Χ I β I 彡 f3/fl 彡 1. 25X I ββ I 彡 1. 8。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)包括調(diào)整所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)特性的光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)特性調(diào)整機構(gòu)配置于所述凹面反射鏡與所述第2面之間的光路中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于 形成于所述第2面的所述第1物體的放大像，是所述第1物體的一次像。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述第1偏向構(gòu)件，使沿著與所述第1面正交的方向行進的光，以橫切所述第1透鏡群的光軸的方式被偏向。
12.一種反射折射光學(xué)裝置，其特征在于包括形成第1面的中間像的第1成像光學(xué)系統(tǒng)、以及使已形成所述中間像的面與所述第2 面呈光學(xué)共軛的第2成像光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述第1成像光學(xué)系統(tǒng)與所述第2成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個，藉由權(quán)利要求1 11任一項所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)而構(gòu)成。
13.一種掃描曝光裝置，其特征在于使配置于第1面的第1物體、與配置于第2面的第2物體，在掃描方向上同步移動，而使所述第1物體的像投影曝光至所述第2物體上，所述掃描曝光裝置包括第1投影光學(xué)裝置以及第2投影光學(xué)裝置， 所述第1投影光學(xué)裝置于所述掃描方向上、定位于第1位置，所述第2投影光學(xué)裝置于所述掃描方向上、定位于與所述第1位置不同的第2位置，且所述第1及第2投影光學(xué)裝置包括權(quán)利要求1 11任一項所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的掃描曝光裝置，其特征在于 所述第1及第2投影光學(xué)裝置是以所述第1及第2投影光學(xué)裝置的所述第2面?zhèn)鹊拈g隔大于所述第1面?zhèn)鹊拈g隔的方式而配置著。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的掃描曝光裝置，其特征在于 所述第2物體是外徑大于500mm的感光基板。
16.一種微元件的制造方法，其特征在于包括使用如權(quán)利要求13所述的掃描曝光裝置，將光罩圖案曝光于感光基板上；以及對所述圖案已曝光的所述感光基板進行顯影。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，把配置于第1面的第1物體的放大像形成在配置于第2面的第2物體上，所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的特征在于包括光束傳送部，從所述第1面發(fā)出并沿著與所述第1面正交的方向行進的光，是在沿著所述第1面的第1方向傳送，并使在所述第1方向已傳送的光沿著與所述第1面正交的方向行進，并引導(dǎo)往所述第2面。
文檔編號G02B17/08GK102253477SQ20111016329
公開日2011年11月23日 申請日期2007年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月20日
發(fā)明者加藤正紀(jì) 申請人:株式會社尼康