專利名稱：一種激光干涉光刻系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及微納結(jié)構(gòu)制造領(lǐng)域，特別是涉及一種激光干涉光刻系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
表面周期性微納結(jié)構(gòu)，作為一種前沿技術(shù)，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域表現(xiàn)出了誘人的應(yīng)用前景，如減反、陷光、防水自清潔、光子晶體等。制作這種表面周期性微納結(jié)構(gòu)的方法通常有電子束刻蝕、納米壓印光刻，但這兩種方法往往成本高，設(shè)備昂貴，不能大面積制備或者制備出來的表面結(jié)構(gòu)不夠精細(xì)；而激光干涉光刻則能夠以較低的成本大面積制備表面周期性微納結(jié)構(gòu)。激光干涉光刻的基本原理是利用兩束或兩束以上的相干激光疊加照射在樣品表面，產(chǎn)生干涉圖樣?，F(xiàn)有技術(shù)中，有一種入射方向和角度可控的激光干涉光刻系統(tǒng)。參見圖1，為現(xiàn)有技術(shù)中的激光干涉光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。圖1所示系統(tǒng)的工作原理主要是入射光線1 (激光) 經(jīng)半透半反分光鏡組后，被分成強(qiáng)度相等的四束光，再經(jīng)圖2中的光路，最終在樣品表面形成干涉。但是，現(xiàn)有技術(shù)中的激光干涉光刻系統(tǒng)存在如下缺點(diǎn)一個(gè)是該系統(tǒng)分光鏡遠(yuǎn)離主光軸，光路系統(tǒng)比較復(fù)雜；另一個(gè)是該系統(tǒng)為了避免對入射光的遮擋，與驅(qū)動(dòng)裝置相連的轉(zhuǎn)輪2被設(shè)計(jì)成扇形，導(dǎo)致干涉光束角度的調(diào)節(jié)范圍較小，限制了干涉圖樣的多樣性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種激光干涉光刻系統(tǒng)，能夠增加干涉光束角度的調(diào)節(jié)范圍，實(shí)現(xiàn)更加多樣的干涉圖樣。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下方案一種激光干涉光刻系統(tǒng)，包括至少兩個(gè)鏡組；所述鏡組包括分光鏡、第一全反鏡和第二全反鏡；所述鏡組的分光鏡均位于入射光的主光軸上；不同鏡組位于所述主光軸的不同位置；入射光經(jīng)過所述鏡組的分光鏡后，產(chǎn)生反射光和透射光；所述反射光經(jīng)過本鏡組的第一全反鏡和第二全反鏡的反射后，照射在待光刻樣品的干涉點(diǎn)；所述透射光成為與本鏡組相鄰的鏡組的入射光。優(yōu)選的，所述鏡組還包括光束壓縮單元，用于對所述鏡組的分光鏡反射的光束進(jìn)行壓縮。優(yōu)選的，所述光束壓縮單元包括凸柱透鏡和凹柱透鏡，所述凸柱透鏡和凹柱透鏡共焦。優(yōu)選的除去一個(gè)所述鏡組為固定鏡組，其余所述鏡組各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂上；
或者，除去一個(gè)所述鏡組為固定鏡組，其余所述鏡組各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上，以確保同一個(gè)所述鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。一種激光干涉光刻系統(tǒng)，包括一型鏡組和一個(gè)二型鏡組；所述一型鏡組包括一個(gè)分光鏡和兩個(gè)全反鏡；所述二型鏡組包括三個(gè)全反鏡；所述一型鏡組的分光鏡和所述二型鏡組的一個(gè)全反鏡，均位于入射光的主光軸上；入射光經(jīng)過所述一型鏡組的分光鏡后，產(chǎn)生反射光和透射光；所述反射光經(jīng)過本鏡組的第一全反鏡和第二全反鏡的反射后，照射在待光刻樣品的干涉點(diǎn)；所述透射光成為與本鏡組相鄰的鏡組的入射光；入射光經(jīng)過所述二型鏡組的第一全反鏡、第二全反鏡和第三全反鏡的反射后，照射在所述待光刻樣品的干涉點(diǎn)。優(yōu)選的，所述一型鏡組和二型鏡組還包括光束壓縮系統(tǒng)，用于對所述一型鏡組和二型鏡組的分光鏡反射的光束進(jìn)行壓縮。優(yōu)選的，所述光束壓縮系統(tǒng)包括凸柱透鏡和凹柱透鏡，所述凸柱透鏡和凹柱透鏡共焦。優(yōu)選的除去一個(gè)所述一型鏡組為固定鏡組，其余所述一型鏡組和所述二型鏡組分別各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂上；或者，除去一個(gè)所述一型鏡組為固定鏡組，其余所述一型鏡組和所述二型鏡組分別各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上，以確保同一個(gè)所述鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。優(yōu)選的所述一型鏡組分別固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂上；或者，所述一型鏡組分別固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上，以確保同一個(gè)所述鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。根據(jù)本發(fā)明提供的具體實(shí)施例，本發(fā)明公開了以下技術(shù)效果通過將分光鏡放在主光軸上，簡化了類似系統(tǒng)的光路，減少了光路損耗，增加了光路的可靠性；由于入射光線在系統(tǒng)的光路中，不存在任何元件的阻擋，因此，干涉光線的入射角度可以圍繞入射光線的主光軸，進(jìn)行任意角度的調(diào)節(jié)，大大增加了干涉光束角度的調(diào)節(jié)范圍，能夠滿足干涉圖樣的多樣性。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的激光干涉光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的激光干涉光刻系統(tǒng)光路圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例一所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例二所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖；圖5為未經(jīng)壓縮的光斑示意圖6為兩個(gè)未經(jīng)壓縮的光斑干涉區(qū)域示意圖；圖7為本實(shí)施例所公開的光束壓縮單元結(jié)構(gòu)圖；圖8為經(jīng)過壓縮后的光斑示意圖；圖9為兩個(gè)經(jīng)過壓縮后的光斑干涉區(qū)域示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。實(shí)施例一參見圖3，為本發(fā)明實(shí)施例一所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示，該系統(tǒng)包括四個(gè)鏡組。第一鏡組包括分光鏡1011、第一全反鏡1012和第二全反鏡1013 ； 第二鏡組包括分光鏡1021、第一全反鏡1022和第二全反鏡1023 ；第三鏡組包括分光鏡 1031、第一全反鏡1032和第二全反鏡1033 ；第四鏡組包括分光鏡1041、第一全反鏡1042 和第二全反鏡1043。每個(gè)鏡組的分光鏡均位于入射光的主光軸上。第一鏡組至第四鏡組按照距離樣品由遠(yuǎn)到近的順序依次設(shè)置在主光軸上，即不同鏡組位于主光軸的不同位置。下面以第一鏡組為例，對本發(fā)明所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)的光路做簡要說明。 入射光線從圖3的左側(cè)，水平射入分光鏡1011。經(jīng)分光鏡1011分光后，一部分光線從分光鏡 1011透射出去，成為第二鏡組的分光鏡1021的入射光線；另一部分光線在分光鏡1011表面發(fā)生反射，照射到第一全反鏡1012，再經(jīng)第一全反鏡1012反射，照射到第二全反鏡1013 表面，最后經(jīng)第二全反鏡1013反射，照射在樣品表面的干涉點(diǎn)。入射光線在第二鏡組、第三鏡組、第四鏡組的光路與第一鏡組相類似。S卩，每個(gè)鏡組的光線經(jīng)過本鏡組的分光鏡后，一部分光線經(jīng)過本鏡組的全反鏡，最終會(huì)照射在樣品表面的干涉點(diǎn)，另一部分光線穿過分光鏡，成為相鄰的下一個(gè)鏡組的入射光線。本實(shí)施例中，四個(gè)鏡組的反射光線，加上最后經(jīng)過分光鏡1041透射出來的光線， 總共有五條光線照射在樣品表面的干涉點(diǎn)，對樣品進(jìn)行干涉光刻。需要說明的是，本實(shí)施例中，鏡組的個(gè)數(shù)至少是兩個(gè)(因?yàn)橹辽儆袃蓷l光線才能發(fā)生干涉)，也可以是兩個(gè)以上，例如3個(gè)，4個(gè)，5個(gè)等等。實(shí)際應(yīng)用中，鏡組的個(gè)數(shù)，是可以根據(jù)光刻的具體圖案，靈活選擇的。 故此處不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限定。本實(shí)施例中，創(chuàng)造性地將分光鏡放在主光軸上，大大地簡化了類似系統(tǒng)的光路，減少了光路損耗，增加了光路的可靠性。本實(shí)施例中，由于入射光線在系統(tǒng)的光路中，不存在任何元件的阻擋，因此，干涉光線的入射面可以圍繞入射光線的主光軸，進(jìn)行任意角度的調(diào)節(jié)，大大增加了干涉光束入射面角度的調(diào)節(jié)范圍，能夠滿足干涉圖樣的多樣性。實(shí)際應(yīng)用中，激光光束是截面形狀為圓形的光束。參見圖5，為未經(jīng)壓縮的光斑示意圖。如圖5所示，當(dāng)橫截面為圓形的光束以一定的角度斜入射到樣品表面時(shí)，其在樣品表面的光斑為橢圓形。當(dāng)不同的光束相互疊加干涉時(shí)，橢圓長軸的方向并不相同，即橢圓不能完全重合， 因而造成能量損失。參見圖6，為兩個(gè)未經(jīng)壓縮的光斑干涉區(qū)域示意圖。如圖6所示，兩個(gè)橢圓形光斑的重疊區(qū)域(即產(chǎn)生干涉的區(qū)域)很小，非重疊部分不產(chǎn)生相干圖樣，為能量損失部分。為減少這種能量損失，需要在光束照射到樣品表面前對光束進(jìn)行壓縮。因此，本實(shí)施例中，每個(gè)鏡組還可以包括光束壓縮單元。如圖1所示，第一鏡組包括光束壓縮單元 1014，第二鏡組包括光束壓縮單元1024，第三鏡組包括光束壓縮單元1034，第四鏡組包括光束壓縮單元1034，第四鏡組包括光束壓縮單元1044。參見圖7，為本實(shí)施例所公開的光束壓縮單元結(jié)構(gòu)圖。如圖7所示，該光束壓縮單元包括凸柱透鏡701和凹柱透鏡702，所述凸柱透鏡701和凹柱透鏡702共焦。
入射光線1經(jīng)過該光束壓縮單元后，會(huì)被壓縮。參見圖8，為經(jīng)過壓縮后的光斑示意圖。與圖5相比，可以看出，原先橢圓形的光斑，明顯趨近于圓形。參見圖9，為兩個(gè)經(jīng)過壓縮后的光斑干涉區(qū)域示意圖。與圖6相比，可以看出，兩個(gè)光斑的干涉區(qū)域明顯增大，提高了對入射光線的利用率。更具體的，實(shí)際應(yīng)用中，光束壓縮單元對光線的壓縮方向與光束在樣品表面的拉伸方向相同，壓縮比與拉伸比相同或相近。壓縮系統(tǒng)采用凹凸柱透鏡的組合。凸柱透鏡和凹柱透鏡共焦，則平行光入射時(shí)，壓縮后仍為平行光。凸柱透鏡固定，改變壓縮比時(shí)，只需更換不同的凹柱透鏡。壓縮系統(tǒng)也可以采用三個(gè)或三個(gè)以上的凹凸柱透鏡組合，通過改變各透鏡間的距離來改變壓縮比。實(shí)際應(yīng)用中，為了能夠方便調(diào)節(jié)本系統(tǒng)中入射光線的干涉角度，可以將鏡組固定在機(jī)械手臂上。具體的，為避免聯(lián)動(dòng)裝置導(dǎo)致的機(jī)械上的復(fù)雜，可將除第一鏡組外的其它鏡組分別可旋轉(zhuǎn)的固定在同一個(gè)機(jī)械手臂上。固定在機(jī)械手臂上的鏡組可以單獨(dú)繞主光軸旋轉(zhuǎn)任意角度。實(shí)施例二參見圖4，為本發(fā)明實(shí)施例二所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。如圖4所示，該系統(tǒng)包括分光鏡2011、全反鏡2012和全反鏡2013構(gòu)成的第一一型鏡組；分光鏡2021、全反鏡2022和全反鏡2023構(gòu)成的第二一型鏡組；分光鏡2031、全反鏡2032和全反鏡2033構(gòu)成的第三一型鏡組；全反鏡2041、2042、2043構(gòu)成的二型鏡組。其中，第一一型鏡組的分光鏡2011、第二一型鏡組的分光鏡2021、第三一型鏡組的分光鏡2031和二型鏡組的全反鏡2041，均位于入射光的主光軸上。下面以第一一型鏡組為例，對本發(fā)明所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)的光路做簡要說明。入射光線從圖4的左側(cè)，水平射入分光鏡2011。經(jīng)分光鏡2011分光后，一部分光線從分光鏡2011透射出去，成為第二一型鏡組的分光鏡2021的入射光線；另一部分光線在分光鏡2011表面發(fā)生反射，照射到第一鏡組的第一全反鏡2012，再經(jīng)第一全反鏡2012反射，照射到第一鏡組的第二全反鏡2013表面，最后經(jīng)第二全反鏡2013反射，照射在樣品表面的干涉點(diǎn)。入射光線在第二一型鏡組、第三一型鏡組的光路與第一一型鏡組相類似。即，每個(gè)鏡組的光線經(jīng)過本鏡組的分光鏡后，一部分光線經(jīng)過本鏡組的全反鏡，最終會(huì)照射在樣品表面的干涉點(diǎn)，另一部分光線穿過分光鏡，成為相鄰的下一個(gè)鏡組的入射光線。二型鏡組的光路與一型鏡組的區(qū)別是一型鏡組中的分光鏡，在二型鏡組中被全反鏡2041所取代。這主要是取決于需要進(jìn)行干涉光刻的圖樣。本實(shí)施例中的激光干涉光刻系統(tǒng)，適用于需要二維OD)多光束干涉的圖樣。需要二維OD)多光束干涉的圖樣，要求主光軸方向沒有干涉光束。本實(shí)施例中，由于最后的二型鏡組中，設(shè)置在主光軸上的是全反鏡，所以能夠阻擋主光軸方向的入射光。與實(shí)施例一相同，為了減少干涉光的能量損失，本實(shí)施例中，每個(gè)鏡組還可以包括光束壓縮單元。如圖4所示，第一一型鏡組包括光束壓縮單元2014，第二一型鏡組包括光束壓縮單元20 ，第三一型鏡組包括光束壓縮單元2034，二型鏡組包括光束壓縮單元 2044。每個(gè)光束壓縮單元包括凸柱透鏡和凹柱透鏡，所述凸柱透鏡和凹柱透鏡共焦。實(shí)際應(yīng)用中，為了能夠方便調(diào)節(jié)本系統(tǒng)中入射光線的干涉角度，可以將鏡組固定在機(jī)械手臂上。具體的，除去一個(gè)所述一型鏡組，可以將其余的一型鏡組和二型鏡組分別可旋轉(zhuǎn)的固定在同一個(gè)機(jī)械臂上，也可以將一型鏡組分別可旋轉(zhuǎn)的固定在同一個(gè)機(jī)械臂上， 令二型鏡組固定。固定在機(jī)械手臂上的鏡組可以單獨(dú)繞主光軸旋轉(zhuǎn)任意角度。此外，當(dāng)?shù)谝蝗寸R2012與第二全反鏡2013的距離較遠(yuǎn)時(shí)，也可以將第一一型鏡組的元件分別固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上。例如，可以將分光鏡2011、第一全反鏡2012固定在第一轉(zhuǎn)環(huán)，將第二全反鏡2013固定在第二轉(zhuǎn)環(huán)，第一轉(zhuǎn)環(huán)與第二轉(zhuǎn)環(huán)聯(lián)動(dòng)，即可保證同一鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的原理及其核心思想；同時(shí)，對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體實(shí)施方式
及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處。綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于，包括至少兩個(gè)鏡組；所述鏡組包括分光鏡、 第一全反鏡和第二全反鏡；所述鏡組的分光鏡均位于入射光的主光軸上；不同鏡組位于所述主光軸的不同位置；入射光經(jīng)過所述鏡組的分光鏡后，產(chǎn)生反射光和透射光；所述反射光經(jīng)過本鏡組的第一全反鏡和第二全反鏡的反射后，照射在待光刻樣品的干涉點(diǎn)；所述透射光成為與本鏡組相鄰的鏡組的入射光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述鏡組還包括光束壓縮單元，用于對所述鏡組的分光鏡反射的光束進(jìn)行壓縮。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述光束壓縮單元包括凸柱透鏡和凹柱透鏡，所述凸柱透鏡和凹柱透鏡共焦。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其特征在于除去一個(gè)所述鏡組為固定鏡組， 其余所述鏡組各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂上；或者，除去一個(gè)所述鏡組為固定鏡組，其余所述鏡組各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上，以確保同一個(gè)所述鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。
5.一種激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于，包括一型鏡組和一個(gè)二型鏡組；所述一型鏡組包括一個(gè)分光鏡和兩個(gè)全反鏡；所述二型鏡組包括三個(gè)全反鏡；所述一型鏡組的分光鏡和所述二型鏡組的一個(gè)全反鏡，均位于入射光的主光軸上；入射光經(jīng)過所述一型鏡組的分光鏡后，產(chǎn)生反射光和透射光；所述反射光經(jīng)過本鏡組的第一全反鏡和第二全反鏡的反射后，照射在待光刻樣品的干涉點(diǎn)；所述透射光成為與本鏡組相鄰的鏡組的入射光；入射光經(jīng)過所述二型鏡組的第一全反鏡、第二全反鏡和第三全反鏡的反射后，照射在所述待光刻樣品的干涉點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述一型鏡組和二型鏡組還包括光束壓縮系統(tǒng)，用于對所述一型鏡組和二型鏡組的分光鏡反射的光束進(jìn)行壓縮。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述光束壓縮系統(tǒng)包括凸柱透鏡和凹柱透鏡，所述凸柱透鏡和凹柱透鏡共焦。
8.根據(jù)權(quán)利要求5-7任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其特征在于除去一個(gè)所述一型鏡組為固定鏡組，其余所述一型鏡組和所述二型鏡組分別各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂上；或者，除去一個(gè)所述一型鏡組為固定鏡組，其余所述一型鏡組和所述二型鏡組分別各自固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上，以確保同一個(gè)所述鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求5-7任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其特征在于所述一型鏡組分別固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的機(jī)械臂上；或者，所述一型鏡組分別固定在同一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動(dòng)的機(jī)械裝置上，以確保同一個(gè)所述鏡組內(nèi)的元件繞入射光主光軸轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。
全文摘要
本發(fā)明公開一種激光干涉光刻系統(tǒng)，包括至少兩個(gè)鏡組；所述鏡組包括分光鏡、第一全反鏡和第二全反鏡；所述鏡組的分光鏡均位于入射光的主光軸上；不同鏡組位于所述主光軸的不同位置；入射光經(jīng)過所述鏡組的分光鏡后，產(chǎn)生反射光和透射光；所述反射光經(jīng)過本鏡組的第一全反鏡和第二全反鏡的反射后，照射在待光刻樣品的干涉點(diǎn)；所述透射光成為與本鏡組相鄰的鏡組的入射光。采用本發(fā)明所公開的激光干涉光刻系統(tǒng)，干涉光線的入射面可以圍繞入射光線的主光軸，進(jìn)行任意角度的調(diào)節(jié)，大大增加了干涉光束入射面之間角度的調(diào)節(jié)范圍，能夠滿足干涉圖樣的多樣性。
文檔編號G02B7/00GK102236267SQ20111017887
公開日2011年11月9日 申請日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月29日
發(fā)明者劉維萍, 周云, 張偉, 彭長四, 董曉軒, 顧小勇 申請人:蘇州大學(xué)