專利名稱：去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光掩模板的維護(hù)方法，特別涉及一種去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置及其方法。
背景技術(shù)：
光刻工藝是半導(dǎo)體制造中最為重要的工藝步驟之一。主要作用是將掩膜板上的圖形復(fù)制到硅片上，為下一步進(jìn)行刻蝕或者離子注入工序做好準(zhǔn)備。光掩模板是制作光刻圖形的主要工具。在過(guò)去的幾十年里集成電路的集成規(guī)模沿著摩爾定律的速度快速擴(kuò)大，芯片變得越來(lái)越復(fù)雜，對(duì)光掩模板的要求也越來(lái)越高。特征尺寸的不斷縮小，使得微塵和沾污對(duì)光掩模板的影響越來(lái)越大。尤其是適用于深紫外線波長(zhǎng)的ArF(193nm)化學(xué)放大光刻膠的光掩模板對(duì)微塵和沾污更加敏感。環(huán)境引入的微塵和沾污容易導(dǎo)致霧狀缺陷在適用于深紫外線波長(zhǎng)的ArF(193nm)化學(xué)放大光刻膠的光掩模板上生長(zhǎng)。為了保持光掩模板的清潔，通常要對(duì)光掩模板定期做缺陷檢查，并及時(shí)清除表面吸附的微塵和沾污。目前去除微塵的方法是采用吹氣式空氣或氮?dú)獾臍鈽尰驓夂煂⑽m吹離光掩模板表面。這種方法不能有效去除吸附比較牢固的微塵和沾污。去除沾污需要將光掩模板送返到光掩模板工廠進(jìn)行清洗處理，影響生產(chǎn)周期，成本增高。氣溶劑(Aerosol)是很好的清洗劑。已經(jīng)被用于物體表面清洗中。與液體清洗不同，氣溶劑不但能夠更有效地去除物體表面微塵和沾污，而且氣溶劑氣化后不會(huì)在物體表面留下痕跡。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，以去除光掩模板表面的微塵和沾污。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，所述裝置包括下端開(kāi)口的腔體、容置在腔體內(nèi)的平臺(tái)以及平行于所述平臺(tái)且位于平臺(tái)上方的可移動(dòng)的噴淋裝置，所述腔體上設(shè)有進(jìn)氣管和出氣口，所述進(jìn)氣管一端連接至所述噴淋裝置，另一端用于連接至一氣溶劑發(fā)生裝置。作為優(yōu)選所述氣溶劑發(fā)生裝置包括氮?dú)庠?、氮?dú)饫鋮s器、真空腔，所述氮?dú)庠赐ㄟ^(guò)第一閥體分成兩路并經(jīng)由第二閥體和第三閥體分別接入到真空腔和氮?dú)饫鋮s器中，所述氮?dú)饫鋮s器通過(guò)第四閥體接入到真空腔，所述真空腔通過(guò)第五閥體連接到腔體的進(jìn)氣管上。作為優(yōu)選所述第一閥體、第二閥體、第三閥體、第四閥體、第五閥體為調(diào)節(jié)閥。作為優(yōu)選可移動(dòng)的噴淋裝置由固定在腔體內(nèi)的驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括步進(jìn)電機(jī)。作為優(yōu)選所述噴淋裝置包括噴淋管、噴淋管下表面的通孔或噴嘴。本發(fā)明還提供一種去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，所述方法，包括以下步驟將光掩模板放置在腔體內(nèi)的平臺(tái)上；將氣溶劑發(fā)生裝置連接至進(jìn)氣管上；使噴淋裝置在平臺(tái)上方往復(fù)平行移動(dòng)；作為優(yōu)選所述氣溶劑發(fā)生裝置包括氮?dú)庠?、氮?dú)饫鋮s器、真空腔，所述氮?dú)庠赐ㄟ^(guò)第一閥體分成兩路并經(jīng)由第二閥體和第三閥體分別接入到真空腔和氮?dú)饫鋮s器中，所述氮?dú)饫鋮s器通過(guò)第四閥體接入到真空腔，所述真空腔內(nèi)的氣溶劑通過(guò)第五閥體連接到腔體的進(jìn)氣管上。作為優(yōu)選所述第一閥體、第二閥體、第三閥體、第四閥體、第五閥體為調(diào)節(jié)閥。作為優(yōu)選還包括調(diào)節(jié)所述第一閥體、第二閥體、第三閥體、第四閥體、第五閥體調(diào)整氣溶劑的流量和噴速。作為優(yōu)選所述噴淋裝置包括噴淋管、噴淋管下表面的通孔或噴嘴。作為優(yōu)選所述噴淋管的長(zhǎng)度大于所述光掩模板的長(zhǎng)度。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明采用氣溶劑作為清洗源以及可移動(dòng)的噴淋裝置，有效地提高了去除光掩模板表面微塵和沾污的效率，減少了產(chǎn)生霧狀缺陷的概率，延長(zhǎng)了光掩模板的使用壽命。


圖1是本發(fā)明去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置示意圖。圖2是氣溶劑發(fā)生裝置示意圖。圖3是本發(fā)明所述裝置的工作狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明下面將結(jié)合附圖作進(jìn)一步詳述在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣，因此本發(fā)明不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施的限制。其次，本發(fā)明利用示意圖進(jìn)行詳細(xì)描述，在詳述本發(fā)明實(shí)施例時(shí)，為便于說(shuō)明，表示器件結(jié)構(gòu)的剖面圖會(huì)不依一般比例作局部放大，而且所述示意圖只是實(shí)例，其在此不應(yīng)限制本發(fā)明保護(hù)的范圍。此外，在實(shí)際制作中應(yīng)包含長(zhǎng)度、寬度及深度的三維空間尺寸。如圖1所示，在本實(shí)施例中，所述裝置包括下端開(kāi)口的腔體1、容置在腔體1內(nèi)的平臺(tái)2以及平行于所述平臺(tái)2且位于平臺(tái)2上方的可移動(dòng)的噴淋裝置3、固定在腔體1內(nèi)的噴淋裝置3的驅(qū)動(dòng)裝置(圖中未示)，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括步進(jìn)電機(jī)，所述噴淋裝置3包括噴淋管31、噴淋管下表面的通孔32或噴嘴，所述腔體1上設(shè)有進(jìn)氣管11和出氣口 12，所述進(jìn)氣管11 一端連接至噴淋管31，另一端用于連接至氣溶劑發(fā)生裝置4，所述進(jìn)氣管11為軟管或波紋管，有利于噴淋管31移動(dòng)。如圖2所示，所述氣溶劑發(fā)生裝置4包括氮?dú)庠?1、氮?dú)饫鋮s器42、真空腔43，所述氮?dú)庠?1通過(guò)第一閥體411分成兩路并經(jīng)由第二閥體431和第三閥體421分別接入到真空腔43和氮?dú)饫鋮s器42中，所述氮?dú)饫鋮s器42通過(guò)第四閥體422接入到真空腔43，所述
4真空腔43內(nèi)的氣溶劑通過(guò)第五閥體432連接到腔體1的進(jìn)氣管11上。所述第一閥體411、 第二閥體431、第三閥體421、第四閥體422、第五閥體432為調(diào)節(jié)閥用于調(diào)節(jié)氣溶劑發(fā)生裝置4的氣體流量和流速。圖3是所述去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置的工作狀態(tài)示意圖，下面簡(jiǎn)單描述所述裝置去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，其工作過(guò)程如下先將光掩模板5放置在腔體1內(nèi)的平臺(tái)2上；再將氣溶劑發(fā)生裝置4連接至所述裝置的腔體1的進(jìn)氣管11上；根據(jù)光掩模5的實(shí)際情況調(diào)節(jié)所述第一閥體411、第二閥體431、第三閥體421、第四閥體422、 第五閥體432調(diào)整氣溶劑的流量和噴速；啟動(dòng)噴淋裝置3的驅(qū)動(dòng)裝置，使噴淋管31平行于光掩模板5沿垂直于噴淋管31的方向往復(fù)移動(dòng)；最后將光掩模板5從腔體1內(nèi)取出，并對(duì)光掩模板5進(jìn)行清潔度檢查。其中氣溶劑中的小液滴經(jīng)過(guò)膨脹效應(yīng)凝結(jié)成固體小顆粒，使得冷氣流中帶有固體小顆粒，當(dāng)冷氣流以一定角度吹向光掩模板5表面時(shí)，固體小顆粒會(huì)和光掩模板5表面的顆粒沾污相撞，給其帶來(lái)瞬間的動(dòng)能，當(dāng)這動(dòng)能足夠大，可以克服顆粒沾污和光掩模板5表面之間的粘附力時(shí)，顆粒沾污就會(huì)脫離光掩模板5表面，被冷氣流帶走，另外，氣溶劑中一股平行于光掩模板5表面的純氮?dú)饬髯鳛闅饽蛔柚挂衙撾x的顆粒沾污重新沉積在光掩模板5表面。與液體清洗不同，氣溶劑不但能夠更有效地去除光掩模板 5表面微塵和沾污，而且氣溶劑氣化后不會(huì)在光掩模板5表面留下痕跡，且所述裝置的可移動(dòng)的噴淋管31以及噴淋管31的長(zhǎng)度大于所述光掩模板5的長(zhǎng)度，使得氣溶劑可完全作用于光掩模板5上，去除光掩模板5表面微塵和沾污的效果好，從而有效地提高了去除光掩模板5表面微塵和沾污的效率，減少了產(chǎn)生霧狀缺陷的概率，延長(zhǎng)了光掩模板5的使用壽命。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明權(quán)利要求范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明權(quán)利要求的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，其特征在于所述裝置包括下端開(kāi)口的腔體、容置在腔體內(nèi)的平臺(tái)以及平行于所述平臺(tái)且位于平臺(tái)上方的可移動(dòng)的噴淋裝置，所述腔體上設(shè)有進(jìn)氣管和出氣口，所述進(jìn)氣管一端連接至所述噴淋裝置，另一端用于連接至一氣溶劑發(fā)生裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，其特征在于所述氣溶劑發(fā)生裝置包括氮?dú)庠?、氮?dú)饫鋮s器、真空腔，所述氮?dú)庠赐ㄟ^(guò)第一閥體分成兩路并經(jīng)由第二閥體和第三閥體分別接入到真空腔和氮?dú)饫鋮s器中，所述氮?dú)饫鋮s器通過(guò)第四閥體接入到真空腔，所述真空腔通過(guò)第五閥體連接到腔體的進(jìn)氣管上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，其特征在于所述第一閥體、第二閥體、第三閥體、第四閥體、第五閥體為調(diào)節(jié)閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，其特征在于所述可移動(dòng)的噴淋裝置由固定在腔體內(nèi)的驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括步進(jìn)電機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置，其特征在于所述噴淋裝置包括噴淋管、噴淋管下表面的通孔或噴嘴。
6.一種采用權(quán)利要求1所述的裝置去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，包括以下步驟將光掩模板放置在腔體內(nèi)的平臺(tái)上；將氣溶劑發(fā)生裝置連接至進(jìn)氣管上；使噴淋裝置在平臺(tái)上方往復(fù)平行移動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，其特征在于所述氣溶劑發(fā)生裝置包括氮?dú)庠?、氮?dú)饫鋮s器、真空腔，所述氮?dú)庠赐ㄟ^(guò)第一閥體分成兩路并經(jīng)由第二閥體和第三閥體分別接入到真空腔和氮?dú)饫鋮s器中，所述氮?dú)饫鋮s器通過(guò)第四閥體接入到真空腔，所述真空腔內(nèi)的氣溶劑通過(guò)第五閥體連接到腔體的進(jìn)氣管上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，其特征在于所述第一閥體、第二閥體、第三閥體、第四閥體、第五閥體為調(diào)節(jié)閥。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，其特征在于還包括調(diào)節(jié)所述第一閥體、第二閥體、第三閥體、第四閥體、第五閥體調(diào)整氣溶劑的流量和噴速。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，其特征在于所述噴淋裝置包括噴淋管、噴淋管下表面的通孔或噴嘴。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的去除光掩模板表面微塵和沾污的方法，其特征在于所述噴淋管的長(zhǎng)度大于所述光掩模板的長(zhǎng)度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種去除光掩模板表面微塵和沾污的裝置及其方法，該種裝置包括下端開(kāi)口的腔體、容置在腔體內(nèi)的平臺(tái)以及平行于所述平臺(tái)且位于平臺(tái)上方的可移動(dòng)的噴淋裝置，所述腔體上設(shè)有進(jìn)氣管和出氣口，所述進(jìn)氣管一端連接至氣溶劑發(fā)生裝置，另一端連接至噴淋裝置。本發(fā)明采用氣溶劑作為清洗源以及可移動(dòng)的噴淋裝置，有效地提高了去除光掩模板表面微塵和沾污的效率，減少了產(chǎn)生霧狀缺陷的概率，延長(zhǎng)了光掩模板的使用壽命。
文檔編號(hào)G03F1/00GK102360157SQ20111030105
公開(kāi)日2012年2月22日 申請(qǐng)日期2011年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月28日
發(fā)明者毛智彪 申請(qǐng)人:上海華力微電子有限公司