專利名稱：光學(xué)裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)裝置及其制造方法，該光學(xué)裝置包括保持拍攝用的透鏡的可動體、將該可動體保持成可移動的固定體。
背景技術(shù)：
以往，作為驅(qū)動裝載于移動電話等的照相機的拍攝用透鏡的透鏡驅(qū)動裝置，本申請人提出一種透鏡驅(qū)動裝置，該透鏡驅(qū)動裝置包括保持多個透鏡并在光軸方向移動的可動體、可將可動體向光軸方向移動地保持的固定體、以及用于將可動體向光軸方向驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu)(例如參照專利文獻1)。專利文獻1公開的透鏡驅(qū)動裝置形成為近似長方體狀。在該透鏡驅(qū)動裝置中，驅(qū)動機構(gòu)包括形成為近似三角柱狀的4個驅(qū)動用磁體、以及卷繞為近似三角筒狀的4個驅(qū)動用線圈。驅(qū)動用磁體由2個驅(qū)動用磁體片和磁性板構(gòu)成，2個驅(qū)動用磁體片與磁性板互相固定，使得在光軸方向2個驅(qū)動用磁體片夾住磁性板。2個驅(qū)動用磁體片與磁性板由粘接劑固定。2個驅(qū)動用磁體片被磁化，使得隔著磁性板對置的對置面的磁極成為相同磁極。另外，驅(qū)動用磁體配置在透鏡驅(qū)動裝置的四角，光軸方向的驅(qū)動用磁體的一端面由粘接劑固定在構(gòu)成固定體的覆蓋構(gòu)件。另外，磁性片由粘接劑固定在光軸方向的驅(qū)動用磁體的另一端面。驅(qū)動用線圈固定在可動體，使得驅(qū)動用磁體的外周面與驅(qū)動用線圈的內(nèi)周面隔著預(yù)定的間隙對置。專利文獻1 日本專利特開2010-217467號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的問題近年來，在裝載于移動電話等的照相機的市場中，對照相機的小型化的要求進一步提高，因此，對照相機所使用的透鏡驅(qū)動裝置的小型化的要求也進一步提高。在專利文獻1公開的透鏡驅(qū)動裝置中，為了使裝置進一步小型化，將驅(qū)動用磁體及驅(qū)動用線圈小型化即可。另一方面，若將驅(qū)動用磁體及驅(qū)動用線圈小型化，則由于驅(qū)動可動體的驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動力下降，因此需要使驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙(gap)變窄，防止驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動力的下降。此處，在使驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙變窄的情況下，若沒有高精度地形成該間隙，則固定驅(qū)動用磁體的固定體與固定驅(qū)動用線圈的可動體有可能會干擾，妨礙可動體的移動。然而，在專利文獻1公開的透鏡驅(qū)動裝置中，由于2個驅(qū)動用磁體片與磁性板由粘接劑固定，因此在驅(qū)動用磁體小型化的情況下，若不對粘接劑的涂布量和涂布位置進行嚴格的管理，則粘接劑有可能從驅(qū)動用磁體片與磁性板之間漏出。所以，在該透鏡驅(qū)動裝置中，在隨著驅(qū)動用磁體和驅(qū)動用線圈的小型化、而驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙變窄的情況下，由于從驅(qū)動用磁體片與磁性板之間漏出的粘接劑的影響，有可能妨礙可動體的移動。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)裝置及其制造方法，該光學(xué)裝置包括保持拍攝用的透鏡的可動體、以及將該可動體保持成可移動的固定體，即使在將裝置小型化的情況下，也能使可動體適當(dāng)移動。用于解決問題的方法為解決上述問題，本發(fā)明的光學(xué)裝置的特征在于，包括保持拍攝用的透鏡的可動體、將可動體保持成可移動的固定體、用于使可動體相對于固定體相對移動的驅(qū)動用磁體及驅(qū)動用線圈、以及固定在驅(qū)動用磁體的金屬構(gòu)件，驅(qū)動用磁體固定在可動體和固定體的一方，驅(qū)動用線圈固定在可動體和固定體的另一方，驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置，在驅(qū)動用磁體的表面及金屬構(gòu)件的表面形成至少包含鎳的鍍鎳層，驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件利用由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成的、配置在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件之間的接合層接合。在本發(fā)明中，例如在與金屬構(gòu)件接合前的驅(qū)動用磁體的表面，形成覆蓋鍍鎳層的鍍錫層，通過在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合時使鍍錫層熔融、固化來形成接合層。在本發(fā)明的光學(xué)裝置中，驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件利用由錫類金屬構(gòu)成的、配置在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件之間的接合層接合。因此，例如能夠形成鍍錫層，以覆蓋與金屬構(gòu)件接合前的驅(qū)動用磁體的表面的鍍鎳層，在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合時使該鍍錫層熔融、固化來形成接合層，將驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合。所以，在本發(fā)明中，能夠防止接合層從接合的驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件之間漏出。其結(jié)果是，在本發(fā)明中，即使為了防止因驅(qū)動用磁體和驅(qū)動用線圈的小型化而引起的驅(qū)動力的下降，而使驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙變窄，在這樣的情況下，也能夠高精度地形成驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙，能夠防止可動體側(cè)與固定體側(cè)的干擾。即，在本發(fā)明中，即使通過使驅(qū)動用磁體和驅(qū)動用線圈小型化，并且將驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙變窄，而將裝置小型化，在這樣的情況下，也能夠防止可動體側(cè)與固定體側(cè)的干擾，使可動體適當(dāng)移動。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是鍍錫層在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合時，利用感應(yīng)加熱而熔融。此處，在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合時，也可以通過使加熱器尖端部接觸金屬構(gòu)件等來使鍍錫層熔融，但在這種情況下，根據(jù)加熱器尖端部與金屬構(gòu)件等的接觸狀態(tài)，金屬構(gòu)件等的溫度有可能不均一，驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件的接合強度有可能產(chǎn)生偏差。與之不同的是，在利用感應(yīng)加熱來使鍍錫層熔融的情況下，由于在感應(yīng)線圈中放置驅(qū)動用磁體及金屬構(gòu)件，通過使金屬構(gòu)件等發(fā)熱，能夠使鍍錫層熔融，因此使金屬構(gòu)件等溫度均勻，能夠防止驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件的接合強度的偏差。另外，在通過使加熱器尖端部接觸金屬構(gòu)件等來使鍍錫層熔融的情況下，由于與金屬構(gòu)件等接觸的加熱器尖端部的影響，在使鍍錫層熔融時，驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件的相對位置有可能偏離。與之不同的是，在利用感應(yīng)加熱來使鍍錫層熔融的情況下，由于不使驅(qū)動用磁體及金屬構(gòu)件接觸感應(yīng)線圈，就能夠使鍍錫層熔融，因此能夠防止在使鍍錫層熔融時產(chǎn)生的、驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件的相對位置的偏離。在本發(fā)明中，例如金屬構(gòu)件固定在透鏡的光軸方向的驅(qū)動用磁體的端面，驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈在與透鏡的光軸方向垂直的方向，隔著預(yù)定的間隙對置配置。在本發(fā)明中，例如接合層的至少一部分與驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置。在本發(fā)明中，由于能夠防止接合層從接合的驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件之間漏出，因此即使接合層的至少一部分與驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置，也能夠防止可動體側(cè)與固定體側(cè)的干擾。在本發(fā)明中，光學(xué)裝置例如包括將驅(qū)動用磁體夾在其間的狀態(tài)下固定在驅(qū)動用磁體的第一金屬構(gòu)件和第二金屬構(gòu)件，作為金屬構(gòu)件。在這種情況下，例如在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合時，若對夾著驅(qū)動用磁體的狀態(tài)下配置的第一金屬構(gòu)件及第二金屬構(gòu)件進行加熱，使驅(qū)動用磁體的表面的鍍錫層熔融、固化，則能夠一次固定驅(qū)動用磁體與第一金屬構(gòu)件與第二金屬構(gòu)件。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，光學(xué)裝置包括1個第一金屬構(gòu)件、多個第二金屬構(gòu)件、以及多個驅(qū)動用磁體，多個第二金屬構(gòu)件分別固定在多個驅(qū)動用磁體中的各個驅(qū)動用磁體，在多個第二金屬構(gòu)件分別形成去除痕跡，該去除痕跡是在去除用于將多個第二金屬構(gòu)件一體化的連結(jié)構(gòu)件時形成的。即，優(yōu)選的是接合前的多個第二金屬構(gòu)件由連結(jié)構(gòu)件一體化。若這樣構(gòu)成，則在將一體化的多個第二金屬構(gòu)件與多個驅(qū)動用磁體接合后，能夠去除連結(jié)構(gòu)件。所以，能夠防止在將第二金屬構(gòu)件與驅(qū)動用磁體接合時產(chǎn)生的、多個第二金屬構(gòu)件間的相對位置的偏離，能夠提高接合后的多個第二金屬構(gòu)件間的相對位置精度。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，去除痕跡形成于其底端部與第二金屬構(gòu)件相連的凸部的前端，去除痕跡的寬度比凸部的底端的寬度要窄，以及/或者去除痕跡的厚度比凸部的底端的厚度要薄。若這樣構(gòu)成，則在將一體化的多個第二金屬構(gòu)件與多個驅(qū)動用磁體接合后，容易從一體化的多個第二金屬構(gòu)件去除連結(jié)構(gòu)件。所以，在將一體化的多個第二金屬構(gòu)件與多個驅(qū)動用磁體接合后，從一體化的多個第二金屬構(gòu)件去除連結(jié)構(gòu)件時，能夠防止固定在驅(qū)動用磁體的第二金屬構(gòu)件的固定位置偏離。在本發(fā)明中，例如可動體保持在固定體以能夠向透鏡的光軸方向移動，驅(qū)動用線圈固定在可動體，驅(qū)動用磁體固定在固定體，驅(qū)動用線圈及驅(qū)動用磁體使可動體相對于固定體向光軸方向相對移動。即，光學(xué)裝置例如是包括用于使光學(xué)像的焦點位置對準的結(jié)構(gòu)的光學(xué)裝置。在本發(fā)明中，例如，驅(qū)動用磁體形成為近似柱狀或者近似平板狀，并且被磁化，使得光軸方向的一個面的磁極與另一個面的磁極不同，驅(qū)動用線圈與垂直于光軸方向的驅(qū)動用磁體的側(cè)面的一部分隔著預(yù)定的間隙對置配置，以覆蓋與光軸方向垂直的驅(qū)動用磁體的側(cè)面的一部分，金屬構(gòu)件分別固定在光軸方向的驅(qū)動用磁體的兩面。在這種情況下，例如，固定在光軸方向的驅(qū)動用磁體的一個面的金屬構(gòu)件是構(gòu)成光學(xué)裝置的外周面的覆蓋構(gòu)件，形成覆蓋構(gòu)件，以覆蓋固定在光軸方向的驅(qū)動用磁體的另一個面的金屬構(gòu)件。在本發(fā)明中，例如，可動體保持在固定體使可動體可擺動，以使得透鏡的光軸傾斜，驅(qū)動用線圈固定在固定體，驅(qū)動用磁體固定在可動體，驅(qū)動用線圈及驅(qū)動用磁體使可動體相對于固定體擺動。即，光學(xué)裝置例如是包括用于校正光學(xué)像的振動的結(jié)構(gòu)的光學(xué)裝置。在本發(fā)明中，例如驅(qū)動用磁體形成為近似平板狀，并且被磁化，使得垂直于光軸方向的方向的一個側(cè)面的磁極與另一個側(cè)面的磁極不同，驅(qū)動用線圈與垂直于光軸方向的驅(qū)動用磁體的側(cè)面隔著預(yù)定的間隙對置配置，金屬構(gòu)件分別固定在光軸方向的驅(qū)動用磁體的兩端面。另外，在這種情況下，光學(xué)裝置包括多個驅(qū)動用磁體、以及多個驅(qū)動用線圈，多個驅(qū)動用磁體固定在可動體的外周面，固定體包括形成為近似筒狀并且構(gòu)成光學(xué)裝置的外周面的殼體，多個驅(qū)動用線圈固定在殼體的內(nèi)周面，以與驅(qū)動用磁體對置，多個驅(qū)動用磁體由金屬構(gòu)件相連。
另外，為解決上述問題，本發(fā)明的光學(xué)裝置的制造方法的特征在于，光學(xué)裝置包括保持拍攝用的透鏡的可動體、將可動體保持成可移動的固定體、用于使可動體相對于固定體相對移動的驅(qū)動用磁體及驅(qū)動用線圈、以及固定在驅(qū)動用磁體的金屬構(gòu)件，驅(qū)動用磁體固定在可動體和固定體的一方，驅(qū)動用線圈固定在可動體和固定體的另一方，驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置，在該光學(xué)裝置的制造方法中，在驅(qū)動用磁體的表面及金屬構(gòu)件的表面形成至少包含鎳的鍍鎳層，在與金屬構(gòu)件接合前的驅(qū)動用磁體的表面，形成由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成并覆蓋鍍鎳層的鍍錫層，通過在驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合時使鍍錫層熔融、固化，將驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合。在本發(fā)明中，鍍錫層能夠在將驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件加壓保持的狀態(tài)下進行加熱，從而使其熔融，例如能夠利用感應(yīng)加熱使其熔融。在這種情況下，與金屬構(gòu)件接合前的驅(qū)動用磁體是未磁化的狀態(tài)，能夠在將驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合之后進行驅(qū)動用磁體的磁化。在本發(fā)明的光學(xué)裝置的制造方法中，通過使鍍錫層熔融、固化，將驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件接合。所以，在本發(fā)明中，能夠防止接合層從接合的驅(qū)動用磁體與金屬構(gòu)件之間漏出。即，在本發(fā)明中，即使通過使驅(qū)動用磁體和驅(qū)動用線圈小型化，并且將驅(qū)動用磁體與驅(qū)動用線圈的間隙變窄，而將裝置小型化，在這樣的情況下，也能夠防止可動體側(cè)與固定體側(cè)的干擾，使可動體適當(dāng)移動。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，例如驅(qū)動用磁體由多個驅(qū)動用磁體構(gòu)成，金屬構(gòu)件是分別固定在多個驅(qū)動用磁體的多個金屬構(gòu)件，多個金屬構(gòu)件分別是通過在由用于將多個金屬構(gòu)件一體化的連結(jié)構(gòu)件進行一體化的狀態(tài)下將多個驅(qū)動用磁體與多個金屬構(gòu)件接合后、去除連結(jié)構(gòu)件而形成的。這樣，能夠在將一體化的多個金屬構(gòu)件與多個驅(qū)動用磁體接合后，去除連結(jié)構(gòu)件，能夠防止在將金屬構(gòu)件與驅(qū)動用磁體接合時產(chǎn)生的、多個金屬構(gòu)件間的相對位置的偏離，能夠提高接合后的多個金屬構(gòu)件間的相對位置精度。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，例如連結(jié)構(gòu)件由連結(jié)部分別與多個金屬構(gòu)件相連，在連結(jié)部設(shè)有至少其寬度形成得較窄、或者其厚度形成得較薄的切斷部，在將多個驅(qū)動用磁體與多個金屬構(gòu)件接合后，通過將切斷部切斷來去除連結(jié)構(gòu)件。通過這樣，在將一體化的多個金屬構(gòu)件與多個驅(qū)動用磁體接合后，容易從一體化的多個金屬構(gòu)件去除連結(jié)構(gòu)件。此外，切斷部若形成得其寬度較窄且其厚度較薄，使得能夠通過反復(fù)彎曲而切斷，則能夠更容易將切斷部切斷。發(fā)明的效果如上所述，在本發(fā)明的光學(xué)裝置中，即使在將裝置小型化的情況下，也能夠使可動體適當(dāng)移動。另外，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)裝置的制造方法，即使在將裝置小型化的情況下，也能夠使可動體適當(dāng)移動。


圖1是本發(fā)明的實施方式1所涉及的光學(xué)裝置的立體圖。圖2是圖1的E-E剖面的剖視圖。圖3是示出在圖1所示的覆蓋構(gòu)件固定驅(qū)動用磁體的狀態(tài)的立體圖。圖4是從被拍攝物體相反側(cè)示出從圖1所示的光學(xué)裝置取下可動體及底座構(gòu)件等的狀態(tài)的圖。圖5是示出圖3所示的覆蓋構(gòu)件、驅(qū)動用磁體及磁性構(gòu)件原體的接合前的狀態(tài)的分解立體圖。圖6是示出圖5所示的覆蓋構(gòu)件、驅(qū)動用磁體及磁性構(gòu)件原體的接合后的狀態(tài)的立體圖。圖7是從被拍攝物體相反側(cè)示出圖6所示的覆蓋構(gòu)件、驅(qū)動用磁體及磁性構(gòu)件原體的接合后的狀態(tài)的立體圖。圖8是示出本發(fā)明的其他實施方式所涉及的磁性構(gòu)件原體的俯視圖。圖9是本發(fā)明的實施方式2所涉及的光學(xué)裝置的立體圖。
圖10是圖9的H-H剖面的剖視圖。圖11是圖10所示的驅(qū)動用線圈、驅(qū)動用磁體及磁體連結(jié)構(gòu)件等的分解立體圖。圖12是示出在圖11所示的驅(qū)動用磁體固定磁體連結(jié)構(gòu)件的狀態(tài)的立體圖。圖13是圖12所示的驅(qū)動用磁體及磁體連結(jié)構(gòu)件的側(cè)視圖。圖14是從被拍攝物體相反側(cè)示出圖10所示的殼體、驅(qū)動用線圈、驅(qū)動用磁體及磁體連結(jié)構(gòu)件等的圖。標號說明1透鏡驅(qū)動裝置(光學(xué)裝置)，2可動體，3、53固定體，10覆蓋構(gòu)件(金屬構(gòu)件、第一金屬構(gòu)件)，13、68驅(qū)動用磁體，14、67驅(qū)動用線圈，15、18、76、77接合層，17磁性構(gòu)件(金屬構(gòu)件、第二金屬構(gòu)件)，17d、Hh去除痕跡，17g凸部，20、30、32、34、36連結(jié)構(gòu)件，51光學(xué)裝置，52照相機模塊(可動體)，62殼體，74、75磁體連結(jié)構(gòu)件(金屬構(gòu)件)，L光軸，Z光軸方向
具體實施例方式下面，參照附圖，說明本發(fā)明的實施方式。實施方式1(光學(xué)裝置的結(jié)構(gòu))圖1是本發(fā)明的實施方式1所涉及的光學(xué)裝置1的立體圖。圖2是圖1的E-E剖面的剖視圖。圖3是示出在圖1所示的覆蓋構(gòu)件10固定驅(qū)動用磁體13的狀態(tài)的立體圖。圖4是從被拍攝物體相反側(cè)示出從圖1所示的光學(xué)裝置1取下可動體2及底座構(gòu)件11等的狀態(tài)的圖。此外，在實施方式1中，如圖1等所示，設(shè)互相垂直的3個方向分別為X方向、Y方向及Z方向，設(shè)X方向為左右方向，Y方向為前后方向，Z方向為上下方向。另外，設(shè)圖1等的Zl方向側(cè)為“上”側(cè)，Z2方向側(cè)為“下”側(cè)。本形態(tài)的光學(xué)裝置1是包括用于使拍攝用的透鏡向光軸方向移動并使光學(xué)像的焦點位置對準的結(jié)構(gòu)的透鏡驅(qū)動裝置，裝載于移動電話、行駛記錄器或者監(jiān)視照相機系統(tǒng)等所使用的比較小型的照相機來使用。下面，將本形態(tài)的光學(xué)裝置1記為“透鏡驅(qū)動裝置1”。透鏡驅(qū)動裝置1如圖1所示，作為整體形成為近似四方柱狀。即，透鏡驅(qū)動裝置1形成為從拍攝用的透鏡的光軸L的方向(光軸方向)觀察時的形狀成為近似四邊形。在本形態(tài)中，透鏡驅(qū)動裝置1形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似。另外，透鏡驅(qū)動裝置1的4個側(cè)面與左右方向或者前后方向近似平行。在本形態(tài)中，Z方向(上下方向)與光軸方向大致一致。另外，在裝載有本形態(tài)的透鏡驅(qū)動裝置1的照相機中，在下側(cè)配置省略圖示的拍攝元件，對配置在上側(cè)的被拍攝物體進行拍攝。即，在本形態(tài)中，上側(cè)(Zl方向側(cè))是被拍攝物體側(cè)(物體側(cè))，下側(cè)(Z2方向側(cè))是被拍攝物體相反側(cè)(拍攝元件側(cè)、像側(cè))。透鏡驅(qū)動裝置1如圖1、圖2所示，包括保持拍攝用的透鏡并可向光軸方向移動的可動體2、將可動體2可向光軸方向移動地保持的固定體3、以及用于將可動體2向光軸方向驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu)4?？蓜芋w2隔著省略圖示的板簧保持在固定體3使可動體2可移動。板簧例如由固定在可動體2的可動體側(cè)固定部、固定在固定體3的固定體側(cè)固定部、以及將可動體側(cè)固定部與固定體側(cè)固定部相連的彈簧部構(gòu)成，配置在可動體2的上端側(cè)及下端側(cè)?？蓜芋w2包括保持固定有多個透鏡的透鏡托架7的套筒8。固定體3包括構(gòu)成透鏡驅(qū)動裝置1的4個側(cè)面(外周面)的覆蓋構(gòu)件10、構(gòu)成透鏡驅(qū)動裝置1的被拍攝物體相反側(cè)的端面的底座構(gòu)件11。透鏡托架7形成為近似圓筒狀，在透鏡托架7的內(nèi)周側(cè)固定有多個透鏡。套筒8形成為近似筒狀，在套筒8的內(nèi)周面固定透鏡托架7的外周面。另外，在套筒8的下端側(cè)形成有凸緣部8a。覆蓋構(gòu)件10由磁性材料形成。本形態(tài)的覆蓋構(gòu)件10由具有磁性的薄鋼板形成。在覆蓋構(gòu)件10的表面形成由以鎳為主的鎳合金、或者鎳構(gòu)成的鍍鎳層。覆蓋構(gòu)件10形成為具有底部IOa和筒部IOb的帶底的近似四方筒狀(近似有底四方筒狀)。底部IOa配置在上側(cè)，構(gòu)成透鏡驅(qū)動裝置1的被拍攝物體側(cè)的端面。在底部IOa的中心形成圓形的貫穿孔10c。覆蓋構(gòu)件10包圍驅(qū)動機構(gòu)4及可動體2的外周側(cè)而配置。底座構(gòu)件11形成為近似正方形的框狀，安裝在覆蓋構(gòu)件10的下端側(cè)。驅(qū)動機構(gòu)4包括配置在透鏡驅(qū)動裝置1的四角(具體而言是覆蓋構(gòu)件10的內(nèi)側(cè)的四角)的近似三角柱狀的4個驅(qū)動用磁體13、固定在套筒8的1個驅(qū)動用線圈14。驅(qū)動用磁體13是以釹、鐵及硼為主成分的釹磁體。該驅(qū)動用磁體13形成為從上下方向觀察時的形狀成為近似直角等腰三角形，包括與光軸L近似平行且互相垂直的矩形的2個第一側(cè)面(第一側(cè)面)13a、與光軸L近似平行且將2個第一側(cè)面13a相連的矩形的1個第二側(cè)面(第二側(cè)面)1北。在驅(qū)動用磁體13的表面形成由以鎳為主的鎳合金、或者鎳構(gòu)成的防銹用的鍍鎳層。驅(qū)動用磁體13這樣配置，使得覆蓋構(gòu)件10的筒部IOb的內(nèi)周面與第一側(cè)面13a近似平行，且隔開預(yù)定的間隙而對置。即，配置在覆蓋構(gòu)件10的內(nèi)側(cè)的對角位置的2個驅(qū)動用磁體13的第二側(cè)面1 互相對置而配置。另外，4個驅(qū)動用磁體13固定在覆蓋構(gòu)件10的底部10a。具體而言，4個驅(qū)動用磁體13的上端面在與底部IOa的下表面抵接的狀態(tài)下，固定在底部IOa的下表面。另外，4個驅(qū)動用磁體13的上端面被底部IOa完全覆蓋。在本形態(tài)中，驅(qū)動用磁體13利用由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成的接合層15與底部IOa接合。S卩，如圖2所示，利用配置在底部IOa的下表面與驅(qū)動用磁體13的上表面之間的接合層15，將驅(qū)動用磁體13與底部IOa接合。接合層15由錫、包含銅的錫合金、包含金的錫合金、包含銀的錫合金、或者包含鉍的錫合金等構(gòu)成。
在驅(qū)動用磁體13的下端面，固定由磁性材料形成的平板狀的磁性構(gòu)件17。本形態(tài)的磁性構(gòu)件17由具有磁性的不銹鋼板形成。在磁性構(gòu)件17的表面形成由以容易與鍍錫進行金屬結(jié)合的鎳為主的鎳合金、或者鎳構(gòu)成的鍍鎳層。磁性構(gòu)件17形成為從上下方向觀察時的形狀成為與驅(qū)動用磁體13同樣的近似直角等腰三角形，包括互相垂直的2個第一端面(第一端面)17a、以及將2個第一端面17a相連的1個第二端面(第二端面)17b。該磁性構(gòu)件17固定在驅(qū)動用磁體13的下端面，使其厚度方向與上下方向大致一致。另外，磁性構(gòu)件17固定在驅(qū)動用磁體13的下端面，使得第一端面17a配置為與驅(qū)動用磁體13的第一側(cè)面13a處于同一平面狀，第二端面17b配置為與驅(qū)動用磁體13的第二側(cè)面1 處于同一平面狀。在本形態(tài)中，磁性構(gòu)件17利用由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成的接合層18與驅(qū)動用磁體13接合。S卩，如圖2所示，利用配置在驅(qū)動用磁體13的下表面與磁性構(gòu)件17的上表面之間的接合層18，將驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合。接合層18由與構(gòu)成接合層15的錫類金屬同樣的錫類金屬構(gòu)成，由錫、包含銅的錫合金、包含金的錫合金、包含銀的錫合金、或者包含鉍的錫合金等構(gòu)成。驅(qū)動用磁體13在上下方向磁化為2極，使得上端面的磁極與下端面的磁極不同。例如，進行磁化，使得驅(qū)動用磁體13的上端面成為S極，驅(qū)動用磁體13的下端面成為N極。另外，驅(qū)動用磁體13的第一側(cè)面13a及磁性構(gòu)件17的第一端面17a被覆蓋構(gòu)件10的筒部IOb從外周側(cè)覆蓋。因此，如圖2所示，在透鏡驅(qū)動裝置1中，形成磁場F，該磁場F通過覆蓋構(gòu)件10的筒部10b、底部10a、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件17，并且從磁性構(gòu)件17的下表面和第一端面17a向筒部IOb的內(nèi)周面繞回。該磁場F從磁性構(gòu)件17的下表面和第一端面17a，向筒部IOb的內(nèi)周面的、與驅(qū)動用磁體13的第一側(cè)面13a及磁性構(gòu)件17的第一端面17a近似平行對置配置的部分繞回。此外，在圖2中，雖然省略圖示，但磁場F也從驅(qū)動用磁體13的下端面與磁性構(gòu)件17的上表面的抵接部分的附近向筒部IOb的內(nèi)周面繞回。驅(qū)動用線圈14卷繞為扁平的近似四方筒狀，使得從上下方向觀察時的形狀成為近似正方形。上下方向的驅(qū)動用線圈14的寬度比磁性構(gòu)件17的厚度要厚。該驅(qū)動用線圈14利用粘接等固定在套筒8的凸緣部8a的上表面。驅(qū)動用線圈14如圖4所示，沿著覆蓋構(gòu)件10的筒部IOb的內(nèi)周面配置，驅(qū)動用線圈14的四角及其附近部分配置在驅(qū)動用磁體13的第一側(cè)面13a和磁性構(gòu)件17的第一端面17a與覆蓋構(gòu)件10的筒部IOb的間隙。S卩，驅(qū)動用線圈14的四角及其附近部分的內(nèi)周面，在前后方向或者左右方向，與驅(qū)動用磁體13的第一側(cè)面13a及磁性構(gòu)件17的第一端面17a隔著預(yù)定的間隙對置。即，驅(qū)動用線圈14的一部分與驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件17的一部分隔著預(yù)定的間隙對置配置，以從外周側(cè)覆蓋驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件17的一部分。另外，驅(qū)動用線圈14的四角及其附近部分的內(nèi)周面，在前后方向或者左右方向，與配置在驅(qū)動用磁體13的下表面與磁性構(gòu)件17的上表面之間的接合層18也隔著預(yù)定的間隙對置(參照圖2)。另外，驅(qū)動用線圈14的四角及其附近部分配置在從磁性構(gòu)件17的下表面和第一端面17a向筒部IOb的內(nèi)周面繞回的磁場F中。在本形態(tài)中，在可動體2的可動范圍內(nèi)配置有驅(qū)動用線圈14，使得磁性構(gòu)件17始終配置在驅(qū)動用線圈14的內(nèi)周側(cè)。即，在可動體2的可動范圍內(nèi)配置有驅(qū)動用線圈14，使得驅(qū)動用線圈14的下端面不從磁性構(gòu)件17的下表面向上側(cè)移動，且驅(qū)動用線圈14的上端面不從磁性構(gòu)件17的上表面向下側(cè)移動。若對驅(qū)動用線圈14供給電流，則由于驅(qū)動用磁體13與驅(qū)動用線圈14的作用，可動體2向上下方向(光軸方向)移動。即，驅(qū)動用磁體13與驅(qū)動用線圈14使可動體2相對于固定體3向光軸方向相對移動。此外，本形態(tài)的覆蓋構(gòu)件10及磁性構(gòu)件17是固定在驅(qū)動用磁體13的金屬構(gòu)件。另外，本形態(tài)的覆蓋構(gòu)件10是第一金屬構(gòu)件，磁性構(gòu)件17是第二金屬構(gòu)件。(驅(qū)動用磁體、覆蓋構(gòu)件及磁性構(gòu)件的接合方法)圖5是示出圖3所示的覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21的接合前的狀態(tài)的分解立體圖。圖6是示出圖5所示的覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21的接合后的狀態(tài)的立體圖。圖7是從被拍攝物體相反側(cè)示出圖6所示的覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21的接合后的狀態(tài)的立體圖。下面，說明覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17的接合方法。在與覆蓋構(gòu)件10及磁性構(gòu)件17接合前的驅(qū)動用磁體13的表面，形成接合后成為接合層15、18的鍍錫層以覆蓋鍍鎳層。另外，與覆蓋構(gòu)件10及磁性構(gòu)件17接合前的驅(qū)動用磁體13不被磁化。此外，在本形態(tài)中，雖然在與驅(qū)動用磁體13接合前的覆蓋構(gòu)件10的表面及磁性構(gòu)件17的表面，未形成鍍錫層以覆蓋鍍鎳層，但也可以形成鍍錫層以覆蓋鍍鎳層。但是，由于鍍錫層會因后述的感應(yīng)加熱而熔融變色，因此優(yōu)選的是在構(gòu)成透鏡驅(qū)動裝置1的外周面的覆蓋構(gòu)件10不形成鍍錫層。另外，與驅(qū)動用磁體13接合前的磁性構(gòu)件17由用于將4個磁性構(gòu)件17 —體化的連結(jié)構(gòu)件20連結(jié)，由連結(jié)構(gòu)件20連結(jié)的4個磁性構(gòu)件17成為磁性構(gòu)件原體21。連結(jié)構(gòu)件20包括形成為近似正方形的框狀的底部20a、以及從底部20a的4邊的各近似中心向外側(cè)突出的近似長方形的4個連結(jié)部20b，利用連結(jié)部20b將底部20a與4個磁性構(gòu)件17相連。在連結(jié)部20b與磁性構(gòu)件17的邊界部分的連結(jié)部20b的寬度方向的兩側(cè)，如圖7所示，形成從第二端面17b向磁性構(gòu)件17側(cè)凹下的近似半圓弧狀的切除部17c。另外，在底部20a的4角中的對角線上的2處，形成在覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合時等、用于處理磁性構(gòu)件原體21的摘取部20c。在將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合時，首先，向形成于接合用夾具的凹處中放置磁性構(gòu)件原體21，將磁性構(gòu)件原體21定位。之后，分別向形成于接合用夾具的4個引導(dǎo)構(gòu)件22 (參照圖4)分別按壓4個驅(qū)動用磁體13，將驅(qū)動用磁體13放置在磁性構(gòu)件17上。引導(dǎo)構(gòu)件22如圖4所示，形成為近似L形狀，若將驅(qū)動用磁體13的第一側(cè)面13a向引導(dǎo)構(gòu)件22的內(nèi)側(cè)面按壓，則在磁性構(gòu)件17上放置驅(qū)動用磁體13，使得第一側(cè)面13a配置為與磁性構(gòu)件17的第一端面17a處于同一平面狀，驅(qū)動用磁體13的第二側(cè)面1 配置為與磁性構(gòu)件17的第二端面17b處于同一平面狀。之后，放置與4個驅(qū)動用磁體13的第二側(cè)面1 抵接而形成的近似圓柱狀的嵌套23(參照圖4)，將驅(qū)動用磁體13定位。之后，將覆蓋構(gòu)件10覆蓋驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21，放置覆蓋構(gòu)件10，使得覆蓋構(gòu)件10的底部IOa的下表面與驅(qū)動用磁體13的上端面抵接。此時，覆蓋構(gòu)件10的筒部IOb的內(nèi)周面由引導(dǎo)構(gòu)件22的外側(cè)面引導(dǎo)，將覆蓋構(gòu)件10定位。之后，將覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21配置在感應(yīng)線圈中。另外，邊加壓保持以使覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13緊貼，且使驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21緊貼，邊對感應(yīng)線圈供給電流。若對感應(yīng)線圈供給電流，則由于在覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21中產(chǎn)生的渦流的作用，覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21被加熱，驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層熔融。即，驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層利用感應(yīng)加熱而熔融。另外，若停止向感應(yīng)線圈供給電流，則熔融的錫類金屬固化，形成接合層15、18，覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21由接合層15、18接合。此外，在感應(yīng)加熱時，覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21被加熱至約230°C 300°C。之后，去除磁性構(gòu)件原體21的連結(jié)構(gòu)件20。具體而言，將連結(jié)部20b與磁性構(gòu)件17的邊界部分切斷，去除連結(jié)構(gòu)件20。連結(jié)部20b與磁性構(gòu)件17的邊界部分例如由機械切斷或者激光切斷等來切斷。若去除連結(jié)構(gòu)件20，則在磁性構(gòu)件17如圖4所示形成有去除痕跡17d。此時，由于在連結(jié)部20b與磁性構(gòu)件17的邊界部分的連結(jié)部20b的寬度方向的兩側(cè)，形成從第二端面17b向磁性構(gòu)件17側(cè)凹下的近似半圓弧狀的切除部17c，因此在將連結(jié)部20b與磁性構(gòu)件17的邊界部分切斷時，能夠進行切斷，使得去除痕跡17d的部分不從第二端面17b向內(nèi)側(cè)(可動體2側(cè))突出。去除痕跡17d形成于其底端部與磁性構(gòu)件17相連的凸部17e的前端。此外，在本形態(tài)中，在覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合后，同時將4個驅(qū)動用磁體13磁化。(本方式的主要效果)如以上說明那樣，在本形態(tài)中，利用與覆蓋構(gòu)件10及磁性構(gòu)件17接合之前的驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層熔融、固化而形成的接合層18，將驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合。因此，接合層18不會從驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17之間漏出。所以，在本形態(tài)中，即使在為了防止因驅(qū)動用磁體13和驅(qū)動用線圈14的小型化所引起的驅(qū)動力的下降、而使驅(qū)動用磁體13與驅(qū)動用線圈14的間隙變窄的情況下，也能夠高精度地形成驅(qū)動用磁體13、磁性構(gòu)件17及接合層18與驅(qū)動用線圈14的間隙，其結(jié)果是，能夠防止可動體2側(cè)與固定體3側(cè)的干擾。即，在本形態(tài)中，即使在通過將驅(qū)動用磁體13和驅(qū)動用線圈14小型化并且使驅(qū)動用磁體13與驅(qū)動用線圈14的間隙變窄、而將透鏡驅(qū)動裝置1小型化的情況下，也能夠防止可動體2側(cè)與固定體3側(cè)的干擾，使可動體2適當(dāng)移動。另外，在本形態(tài)中，由于接合層18不從驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17之間漏出，因此能夠高精度地形成驅(qū)動用磁體13、磁性構(gòu)件17及接合層18與套筒8的外周面的間隙。所以，即使在驅(qū)動用磁體13的內(nèi)周側(cè)，也能夠防止可動體2側(cè)與固定體3側(cè)的干擾。在本形態(tài)中，在與覆蓋構(gòu)件10及磁性構(gòu)件17接合形前的驅(qū)動用磁體13的表面形成的鍍錫層利用感應(yīng)加熱而熔融。即，在本形態(tài)中，通過將覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21配置在感應(yīng)線圈中，對感應(yīng)線圈供給電流，將鍍錫層熔融。因此，能夠使鍍錫層熔融時的覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21的溫度均勻，能夠防止覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13的接合強度的偏差、以及驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21的接合強度的偏差。另外，在本形態(tài)中，由于能夠不使覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件原體21接觸感應(yīng)線圈，就使鍍錫層熔融，因此能夠防止在使鍍錫層熔融時產(chǎn)生的覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21的相對位置的偏離。在本形態(tài)中，通過在覆蓋構(gòu)件10的底部IOa與磁性構(gòu)件原體21之間夾著驅(qū)動用磁體13的狀態(tài)下，使驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層熔融、固化，形成接合層15、18。因此，能以一次操作將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21固定。所以，在本形態(tài)中， 容易進行覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21的固定操作。在本形態(tài)中，與驅(qū)動用磁體13接合前的4個磁性構(gòu)件17由連結(jié)構(gòu)件20連結(jié)并一體化。因此，能夠提高與驅(qū)動用磁體13接合時的4個磁性構(gòu)件17間的相對位置精度，其結(jié)果是，在組裝后的透鏡驅(qū)動裝置1中，能夠提高4個磁性構(gòu)件17間的相對位置精度。在本形態(tài)中，利用由錫類金屬構(gòu)成的接合層15、18，將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體 13與磁性構(gòu)件17接合。因此，相比于覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17由粘接劑接合的情況，能夠降低通過覆蓋構(gòu)件10、驅(qū)動用磁體13及磁性構(gòu)件17的磁通的損耗。所以，在本形態(tài)中，能夠形成效率較佳的磁路。另外，相比于覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17由粘接劑接合的情況，在本形態(tài)中，能夠縮短接合時間。(連結(jié)構(gòu)件的變形例)圖8是示出本發(fā)明的其他實施方式所涉及的磁性構(gòu)件原體31、33、35、37的俯視圖。在上述的形態(tài)中，利用包括形成為近似正方形的框狀的底部20a、從底部20a的4 邊的各近似中心向外側(cè)突出的近似長方形的4個連結(jié)部20b的連結(jié)構(gòu)件20，將4個磁性構(gòu)件17—體化，構(gòu)成磁性構(gòu)件原體21。此外，例如如圖8(A)所示，也可以利用包括形成為近似V形的2個第一底部30a、將2個第一底部30a相連的2個第二底部30b、從第一底部30a 向外側(cè)突出的連結(jié)部30c的連結(jié)構(gòu)件30，將4個磁性構(gòu)件17 —體化，構(gòu)成磁性構(gòu)件原體31。 另外，如圖8 (B)所示，也可以利用包括形成為近似V形的2個第一底部32a、將2個第一底部3 相連的2個第二底部32b、從第一底部32a向外側(cè)突出的連結(jié)部32c的連結(jié)構(gòu)件32， 將4個磁性構(gòu)件17 —體化，構(gòu)成磁性構(gòu)件原體33。在連結(jié)構(gòu)件30、32中，在1個第一底部30a、3^i形成2個連結(jié)部30c、32c，利用連結(jié)部30c、32c，將1個第一底部3013 與2個磁性構(gòu)件17相連。在連結(jié)部30c與磁性構(gòu)件17之間形成成為切斷部的邊界部30d，在第一底部30a與第二底部30b之間形成成為切斷部的邊界部30e。在連結(jié)部32c與磁性構(gòu)件17之間形成有邊界部32d，在第一底部3 與第二底部32b之間形成有邊界部32e。邊界部30d、30e、32d、3&形成為向其中心其寬度變窄、并且其厚度變薄。在磁性構(gòu)件原體31、33的情況下，在將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體31、33接合后，通過將邊界部30d、30e、32d、3&例如反復(fù)彎曲、切斷，從而去除連結(jié)構(gòu)件30、32。具體而言，首先，通過切斷邊界部30e、32e，去除第二底部30b、32b，之后，通過切斷邊界部30d、32d，去除第一底部30a、32a。在此時，在寬度較窄且厚度較薄的邊界部30d、 30e、32d、32e的中心位置，切斷邊界部30d、30e、32d、32e。在去除連結(jié)構(gòu)件30、32后的磁性構(gòu)件17，形成構(gòu)成邊界部30d、32d的一部分的凸部17g。此時，由于凸部17g形成于在磁性構(gòu)件17的側(cè)面所形成的凹部，因此凸部17g不會從磁性構(gòu)件17的側(cè)面向可動體2側(cè)突出。凸部17g的前端成為在去除連結(jié)構(gòu)件30、32時形成的去除痕跡17h，去除痕跡17h的寬度比凸部17g的底端的寬度要窄，且去除痕跡Hh 的厚度比凸部17g的底端的厚度要薄。此外，根據(jù)去除連結(jié)構(gòu)件30、32時的狀況，去除痕跡 17h的厚度也有時會比凸部17g的底端的厚度要厚。另外，如圖8(C)所示，也可以利用包括形成為近似V形的2個第一底部34a、將2個第一底部3 相連的1個第二底部34b的連結(jié)構(gòu)件34，將4個磁性構(gòu)件17 —體化，構(gòu)成磁性構(gòu)件原體35。另外，如圖8(D)所示，也可以利用包括形成為近似V形的2個第一底部 36a、將2個第一底部36a相連的1個第二底部36b的連結(jié)構(gòu)件36，將4個磁性構(gòu)件17 —體化，構(gòu)成磁性構(gòu)件原體37。在連結(jié)構(gòu)件34、36中，2個磁性構(gòu)件17與1個第一底部34a、36a相連。在第一底部3 與磁性構(gòu)件17之間形成邊界部34d，在第一底部3 與第二底部34b之間形成邊界部34e。在第一底部36a與磁性構(gòu)件17之間形成邊界部36d，在第一底部36a與第二底部 36b之間形成邊界部36e。另外，在第二底部36b形成用于將第二底部36b彎曲的彎曲部 36f。邊界部34d、34e、36d形成為向其中心其寬度變窄、并且其厚度變薄。邊界部36e及彎曲部36f形成為向其中心其厚度變薄。在磁性構(gòu)件原體35的情況下，在將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體 35接合后，通過將邊界部34d例如反復(fù)彎曲、切斷，從而去除連結(jié)構(gòu)件34。具體而言，首先， 通過將邊界部3 彎曲，邊抓住第二底部34b，邊反復(fù)將邊界部34d彎曲切斷，從而去除連結(jié)構(gòu)件34。在此時，在寬度較窄且厚度較薄的邊界部34d的中心位置，切斷邊界部34d。另外，在磁性構(gòu)件原體37的情況下，在將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體37接合后，通過將邊界部36d例如反復(fù)彎曲切斷，從而去除連結(jié)構(gòu)件36。具體而言， 首先，通過將彎曲部36f彎曲，邊抓住第二底部36b，邊反復(fù)將邊界部36d彎曲切斷，從而去除連結(jié)構(gòu)件36。在此時，在寬度較窄且厚度較薄的邊界部36d的中心位置，切斷邊界部36d。在去除連結(jié)構(gòu)件34、36后的磁性構(gòu)件17，與去除連結(jié)構(gòu)件30、32后的磁性構(gòu)件17 同樣，形成構(gòu)成邊界部34d、36d的一部分的凸部17g。凸部17g的前端成為在去除連結(jié)構(gòu)件 34,36時形成的去除痕跡17h，去除痕跡17h的寬度比凸部17g的底端的寬度要窄，且去除痕跡17h的厚度比凸部17g的底端的厚度要薄。此外，根據(jù)去除連結(jié)構(gòu)件30、32時的狀況， 去除痕跡17h的厚度也有時會比凸部17g的底端的厚度要厚。在磁性構(gòu)件原體31、33、35、37中，由于邊界部30d、32d、;34d、36d形成為向其中心其寬度變窄、并且其厚度變薄，因此容易從磁性構(gòu)件原體31、33、35、37去除連結(jié)構(gòu)件30、 32、34、36。所以，在從磁性構(gòu)件原體31、33、35、37去除連結(jié)構(gòu)件30、32、34、36時，能夠防止固定在驅(qū)動用磁體13的磁性構(gòu)件17的固定位置偏離。此外，在邊界部30d、32d、34d、36d 形成為其厚度一定、且向其中心其寬度變窄的情況；或者邊界部30d、32d、34d、36d形成為其寬度一定、且向其中心其厚度變薄的情況下，也能夠得到該效果。(實施方式1的變形例)在實施方式1中，與驅(qū)動用磁體13接合前的磁性構(gòu)件17由連結(jié)構(gòu)件20連結(jié)，但與驅(qū)動用磁體13接合前的磁性構(gòu)件17也可以不由連結(jié)構(gòu)件20連結(jié)。即，在將覆蓋構(gòu)件10 與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合時，也可以將分離的4個磁性構(gòu)件17放置在接合用夾具中。在實施方式1中，驅(qū)動機構(gòu)4包括沿著覆蓋構(gòu)件10的筒部IOb的內(nèi)周面配置的1 個驅(qū)動用線圈14，但驅(qū)動機構(gòu)4也可以包括卷繞為近似三角筒狀、其內(nèi)周側(cè)與驅(qū)動用磁體 13的側(cè)面隔著預(yù)定的間隙對置配置的4個驅(qū)動用線圈，以代替驅(qū)動用線圈14。在這種情況下，該驅(qū)動用線圈卷繞為從上下方向觀察時的形狀成為近似直角等腰三角形，驅(qū)動用線圈的內(nèi)周面與驅(qū)動用磁體13的側(cè)面隔著預(yù)定的間隙近似平行地固定在套筒8。
在實施方式1中，驅(qū)動用磁體13形成為近似三角柱狀，但驅(qū)動用磁體13也可以形成為近似三角柱狀以外的近似多棱柱狀、近似圓柱狀或者近似橢圓柱狀。另外，在實施方式 1中，透鏡驅(qū)動裝置1形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似四邊形，但透鏡驅(qū)動裝置1 也可以形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似四邊形以外的近似多邊形，也可以形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似圓形或者近似橢圓形。在實施方式1中，從上下方向觀察時的驅(qū)動用磁體13的形狀與磁性構(gòu)件17的形狀成為近似相同形狀，但從上下方向觀察時的驅(qū)動用磁體13的形狀與磁性構(gòu)件17的形狀也可以不同。另外，在實施方式1中，在透鏡驅(qū)動裝置1的四角配置驅(qū)動用磁體13，但只要能得到可動體2的驅(qū)動力，也可以僅在透鏡驅(qū)動裝置1的四角的3處、2處或者1處配置驅(qū)動用磁體13。實施方式2(光學(xué)裝置的結(jié)構(gòu))圖9是本發(fā)明的實施方式2所涉及的光學(xué)裝置51的立體圖。圖10是圖9的H-H 剖面的剖視圖。圖11是圖10所示的驅(qū)動用線圈67、驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75 等的分解立體圖。圖12是示出在圖11所示的驅(qū)動用磁體68固定磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的狀態(tài)的立體圖。圖13是圖12所示的驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的側(cè)視圖。圖 14是從被拍攝物體相反側(cè)示出圖10所示的殼體62、驅(qū)動用線圈67、驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74等的圖。此外，在實施方式2中，如圖9所示，設(shè)互相垂直的3個方向分別為X 方向、Y方向及Z方向，設(shè)X方向為左右方向，Y方向為前后方向，Z方向為上下方向。另外， 設(shè)Zl方向側(cè)為“上”側(cè)，Z2方向側(cè)為“下”側(cè)。本形態(tài)的光學(xué)裝置51是裝載于移動電話等便攜式設(shè)備、行駛記錄器或者監(jiān)視照相機系統(tǒng)等小型且薄型的照相機，包括自動聚焦功能和振動校正功能。該光學(xué)裝置51作為整體形成為近似四方柱狀。在本形態(tài)中，光學(xué)裝置51形成為從拍攝用的透鏡的光軸L的方向(光軸方向)觀察時的形狀成為近似正方形，光學(xué)裝置51的4個側(cè)面與左右方向或者前后方向近似平行。光學(xué)裝置51如圖9、圖10所示，包括作為保持透鏡及拍攝元件的可動體的照相機模塊52 ；保持照相機模塊52使其光軸L可傾斜而可擺動的固定體53 ；將照相機模塊52 與固定體53相連的板簧M ；用于對在拍攝元件上成像的光學(xué)像的振動進行校正而使照相機模塊52相對于固定體53擺動的擺動驅(qū)動機構(gòu)55。在本形態(tài)中，上下方向與照相機模塊 52不擺動時的照相機模塊52的光軸方向大致一致。另外，在本形態(tài)中，在照相機模塊52的下端裝載拍攝元件，對配置在上側(cè)的被拍攝物體進行拍攝。即，在本形態(tài)中，上側(cè)(Zl方向側(cè))是被拍攝物體側(cè)(物體側(cè))，下側(cè)(Z2方向側(cè))是被拍攝物體相反側(cè)(拍攝元件側(cè)、像側(cè))。照相機模塊52作為整體形成為近似四方柱狀。在本形態(tài)中，照相機模塊52形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似正方形。該照相機模塊52包括保持透鏡并且可向光軸方向移動的可動體；將可動體可向光軸方向移動地保持的保持體；用于將可動體相對于保持體向光軸方向驅(qū)動的透鏡驅(qū)動機構(gòu)。透鏡驅(qū)動機構(gòu)例如由驅(qū)動用線圈和驅(qū)動用磁體構(gòu)成。此外，透鏡驅(qū)動機構(gòu)也可以由壓電元件或者形狀記憶合金等構(gòu)成。在照相機模塊52的下表面固定有基板57。在基板57安裝有拍攝元件。另外，在基板57安裝有用于檢測照相機模塊52的傾斜度的變化的陀螺儀。與基板57連接有FPC(柔性印制電路基板)58，F(xiàn)PC58在光學(xué)裝置51的下端側(cè)走線，從光學(xué)裝置51的側(cè)面引出。另外，在基板57的下表面，如圖10所示，固定后述的球狀構(gòu)件64抵接的抵接板59。固定體53包括構(gòu)成光學(xué)裝置51的前后左右的4個側(cè)面(外周面)的殼體62 ；構(gòu)成光學(xué)裝置51的下表面?zhèn)鹊南職んw63。殼體62形成為近似四方筒狀，將照相機模塊52從外周側(cè)包圍而配置。下殼體63形成為具有底部63a和筒部6 的帶底的近似四方筒狀(近似有底四方筒狀)。下殼體63的底部63a配置在下側(cè)，構(gòu)成光學(xué)裝置51的下表面。另外，在底部63a 的中心形成配置孔63c，以配置成為照相機模塊52的擺動的支點的球狀構(gòu)件64的下端側(cè)。 在本形態(tài)中，由球狀構(gòu)件64和配置孔63c構(gòu)成成為照相機模塊52的擺動中心的支點部65。 支點部65配置在照相機模塊52的下側(cè)，球狀構(gòu)件64的上端抵接在抵接板59的下表面。擺動驅(qū)動機構(gòu)55包括4個驅(qū)動用線圈67、與4個驅(qū)動用線圈67分別對置配置的 4個驅(qū)動用磁體68。4個驅(qū)動用線圈67如圖11所示，是形成于FPC69自身的圖案線圈。另外，驅(qū)動用線圈67卷繞形成為近似長方形，包括互相近似平行的2個長邊部67a。FPC69沿著殼體62 的內(nèi)周面配置，使得4個驅(qū)動用線圈67分別配置在構(gòu)成殼體62的內(nèi)周面的4個內(nèi)側(cè)面。 另外，F(xiàn)PC69固定在殼體62的內(nèi)周面，使得長邊部67a與前后方向或者左右方向近似平行。 FPC69隔著轉(zhuǎn)接用的FPC70與FPC58連接。此外，驅(qū)動用線圈67也可以是卷繞為空心狀的空心線圈。在這種情況下，驅(qū)動用線圈67也可以分別固定在殼體62的4個內(nèi)側(cè)面，4個驅(qū)動用線圈67也可以安裝在FPC69。驅(qū)動用磁體68是以釹、鐵及硼為主成分的釹磁體。該驅(qū)動用磁體68形成為近似長方形的平板狀。另外，驅(qū)動用磁體68由形成為近似長方形的平板狀的磁體片72和磁體片73這2個磁體片構(gòu)成。具體而言，通過在磁體片72的下表面與磁體片73的上表面抵接的狀態(tài)下，磁體片72與磁體片73互相粘接固定，從而形成驅(qū)動用磁體68。在驅(qū)動用磁體 68的表面形成由以鎳為主的鎳合金、或者鎳構(gòu)成的鍍鎳層。在4個驅(qū)動用磁體68的上表面固定形成為近似正方形的框狀的磁體連結(jié)構(gòu)件74， 在4個驅(qū)動用磁體68的下表面固定形成為近似正方形的框狀的磁體連結(jié)構(gòu)件75。磁體連結(jié)構(gòu)件74、75由不銹鋼板形成。在磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的表面形成由以鎳為主的鎳合金、 或者鎳構(gòu)成的鍍鎳層。在本形態(tài)中，驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74利用由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成的接合層76接合。同樣，驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件75利用由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成的接合層77接合。即，如圖10、圖13所示，利用配置在磁體連結(jié)構(gòu)件74的下表面與驅(qū)動用磁體68的上表面之間的接合層76，將磁體連結(jié)構(gòu)件74與驅(qū)動用磁體68接合；利用配置在磁體連結(jié)構(gòu)件75的上表面與驅(qū)動用磁體68的下表面之間的接合層77，將磁體連結(jié)構(gòu)件75與驅(qū)動用磁體68接合。接合層76、77由錫、包含銅的錫合金、包含金的錫合金、包含銀的錫合金、或者包含鉍的錫合金等構(gòu)成。此外，本形態(tài)的磁體連結(jié)構(gòu)件74、75是固定在驅(qū)動用磁體68的金屬構(gòu)件。另外， 磁體連結(jié)構(gòu)件74、75中的一個是第一金屬構(gòu)件，磁體連結(jié)構(gòu)件74、75中的另一個是第二金屬構(gòu)件。
4個驅(qū)動用磁體68分別固定在構(gòu)成照相機模塊52的外周面的4個外側(cè)面，與驅(qū)動用線圈67相比配置在殼體62的內(nèi)周側(cè)。在本形態(tài)中，在4個驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合、4個驅(qū)動用磁體68由磁體連結(jié)構(gòu)件74、75相連后，在照相機模塊52的外側(cè)面固定4個驅(qū)動用磁體68。磁體片72被磁化，使得形成于一個側(cè)面的磁極與形成于另一個側(cè)面的磁極不同。 即，磁體片72被磁化，使得在固定在照相機模塊52的前后左右的內(nèi)側(cè)面所形成的磁極、與在對置于驅(qū)動用線圈67的前后左右的外側(cè)面所形成的磁極成為不同的磁極。同樣，磁體片 73被磁化，使得在固定在照相機模塊52的前后左右的內(nèi)側(cè)面所形成的磁極、與在對置于驅(qū)動用線圈67的前后左右的外側(cè)面所形成的磁極成為不同的磁極。另外，磁體片72、73被磁化，使得磁體片72的內(nèi)側(cè)面的磁極與磁體片73的內(nèi)側(cè)面的磁極成為不同的磁極。即，磁體片72、73被磁化，使得磁體片72的外側(cè)面的磁極與磁體片73的外側(cè)面的磁極成為不同的磁極。如上所述，驅(qū)動用線圈67沿著殼體62的內(nèi)周面配置，如圖14所示，配置在固定于照相機模塊52的外側(cè)面的驅(qū)動用磁體68、與殼體62的內(nèi)周面的間隙。即，驅(qū)動用線圈67 在前后方向或者左右方向，與驅(qū)動用磁體68隔著預(yù)定的間隙對置。另外，驅(qū)動用線圈67在前后方向或者左右方向，與接合層76、77也隔著預(yù)定的間隙對置(參照圖10)。板簧M包括固定在磁體連結(jié)構(gòu)件75的可動側(cè)固定部、固定在固定體53的固定側(cè)固定部、將可動側(cè)固定部與固定側(cè)固定部相連的多個彈簧部。在本形態(tài)中，通過彈簧部相對于固定側(cè)固定部彎曲，從而隔著磁體連結(jié)構(gòu)件75及驅(qū)動用磁體68等固定在可動側(cè)固定部的照相機模塊52能夠進行擺動動作。另外，板簧M以彎曲的狀態(tài)固定，以產(chǎn)生用于使球狀構(gòu)件64的上端與抵接板59可靠地抵接、并且使球狀構(gòu)件64的下端側(cè)與下殼體63的配置孔63c的邊緣可靠地抵接的加壓(即，產(chǎn)生將照相機模塊52向下方作用的作用力)。在如上所述構(gòu)成的光學(xué)裝置51中，若由安裝在基板57的陀螺儀檢測出照相機模塊52的傾斜度的變化，則基于陀螺儀的檢測結(jié)果，對驅(qū)動用線圈67供給電流。若對驅(qū)動用線圈67供給電流，則以支點部65為中心，以左右方向和/或前后方向為軸向，搖動照相機模塊52以使光軸L傾斜，來校正振動。(驅(qū)動用磁體與磁體連結(jié)構(gòu)件的接合方法)在與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合前的驅(qū)動用磁體68的表面，形成在接合后成為接合層76、77的鍍錫層以覆蓋鍍鎳層。另外，與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合前的驅(qū)動用磁體68不磁化。此外，在本形態(tài)中，在與驅(qū)動用磁體68接合前的磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的表面未形成鍍錫層以覆蓋鍍鎳層，但也可以形成鍍錫層以覆蓋鍍鎳層。在將驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合時，首先，在磁體連結(jié)構(gòu)件74與磁體連結(jié)構(gòu)件75之間夾著4個驅(qū)動用磁體68的狀態(tài)下，在接合用夾具中放置驅(qū)動用磁體68 及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75。之后，將驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75配置在感應(yīng)線圈中。 另外，邊加壓以使驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74緊貼，且驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件75緊貼，邊對感應(yīng)線圈供給電流。若對感應(yīng)線圈供給電流，則由于在驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75中產(chǎn)生的渦流的作用，驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75被加熱，驅(qū)動用磁體68的表面的鍍錫層熔融。另外，若停止向感應(yīng)線圈供給電流，則熔融的錫類金屬固化，形成接合層76、77，驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75由接合層76、77接合。此外，在本形態(tài)中，在驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合后，同時將4個驅(qū)動用磁體 68磁化。另外，在感應(yīng)加熱時，驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75被加熱至約230°C 300 "C。(本方式的主要效果)如以上說明那樣，在本形態(tài)中，利用與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合前的驅(qū)動用磁體 68的表面的鍍錫層熔融、固化而形成的接合層76、77，將驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、 75接合。因此，接合層76、77不會從驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75之間漏出。所以，在本形態(tài)中，即使在為了防止因驅(qū)動用磁體68和驅(qū)動用線圈67的小型化所引起的驅(qū)動力的下降、而使驅(qū)動用磁體68與驅(qū)動用線圈67的間隙變窄的情況下，也能夠高精度地形成驅(qū)動用磁體68及接合層76、77與驅(qū)動用線圈67的間隙，其結(jié)果是，能夠防止照相機模塊52 側(cè)與固定體53側(cè)的干擾。即，在本形態(tài)中，即使在通過將驅(qū)動用磁體68和驅(qū)動用線圈67 小型化并且使驅(qū)動用磁體68與驅(qū)動用線圈67的間隙變窄、而將光學(xué)裝置51小型化的情況下，也能夠防止照相機模塊52側(cè)與固定體53側(cè)的干擾，使照相機模塊52適當(dāng)擺動。在本形態(tài)中，在與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合前的驅(qū)動用磁體68的表面形成的鍍錫層利用感應(yīng)加熱而熔融。即，在本形態(tài)中，通過將驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75配置在感應(yīng)線圈中，對感應(yīng)線圈供給電流，將鍍錫層熔融。因此，能夠使鍍錫層熔融時的驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的溫度均勻，能夠防止驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74 的接合強度的偏差、以及驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件75的接合強度的偏差。另外，在本形態(tài)中，由于不使驅(qū)動用磁體68及磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接觸感應(yīng)線圈，就能夠使鍍錫層熔融，因此能夠防止在使鍍錫層熔融時產(chǎn)生的驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的相對位置的偏離。在本形態(tài)中，通過在磁體連結(jié)構(gòu)件74與磁體連結(jié)構(gòu)件75之間夾著驅(qū)動用磁體68 的狀態(tài)下，使驅(qū)動用磁體68的表面的鍍錫層熔融、固化，形成接合層76、77。因此，能以一次操作將驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75固定。所以，在本形態(tài)中，容易進行驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75的固定操作。(實施方式2的變形例)在實施方式2中，磁體連結(jié)構(gòu)件74及磁體連結(jié)構(gòu)件75固定在驅(qū)動用磁體68。此外，例如也可以是磁體連結(jié)構(gòu)件74或者磁體連結(jié)構(gòu)件75的僅一方固定在驅(qū)動用磁體68。在實施方式2中，光學(xué)裝置51具有自動聚焦功能，但光學(xué)裝置51也可以不具有自動聚焦功能。即，照相機模塊52也可以不包括透鏡驅(qū)動機構(gòu)。在實施方式2中，光學(xué)裝置51形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似正方形， 但光學(xué)裝置51也可以形成為從光軸方向觀察時的形狀成為近似長方形。另外，光學(xué)裝置51 可以形成為從光軸方向觀察時的形狀成為其他多邊形，也可以形成為從光軸方向觀察時的形狀成為圓形或橢圓形。其他實施方式上述的方式是本發(fā)明優(yōu)選方式的一個例子，但不限于此，在不脫離本發(fā)明要點的范圍內(nèi)，可以進行各種變形實施。在實施方式1中，通過在覆蓋構(gòu)件10與磁性構(gòu)件原體21之間夾著驅(qū)動用磁體13 的狀態(tài)下，使驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層熔融、固化，一次將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21接合。此外，例如也可以首先將覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13接合， 之后，將驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件原體21接合。同樣，在實施方式2中，通過在磁體連結(jié)構(gòu)件74與磁體連結(jié)構(gòu)件75之間夾著驅(qū)動用磁體68的狀態(tài)下，使驅(qū)動用磁體68的表面的鍍錫層熔融、固化，一次將驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合，但也可以首先將驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74接合，之后將驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件75接合。在實施方式1中，在覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合時，利用感應(yīng)加熱使形成于驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層熔融。此外，例如也可以在覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17接合時，使加熱器尖端部接觸覆蓋構(gòu)件10或磁性構(gòu)件17等， 使形成于驅(qū)動用磁體13的表面的鍍錫層熔融，也可以通過對覆蓋構(gòu)件10與驅(qū)動用磁體13 的邊界部、以及驅(qū)動用磁體13與磁性構(gòu)件17的邊界部照射激光，使形成于驅(qū)動用磁體13 的表面的鍍錫層熔融。同樣，在實施方式2中，在驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件74、75接合時，利用感應(yīng)加熱使形成于驅(qū)動用磁體68的表面的鍍錫層熔融，但也可以使加熱器尖端部接觸磁體連結(jié)構(gòu)件74、75等，使形成于驅(qū)動用磁體68的表面的鍍錫層熔融，也可以通過對驅(qū)動用磁體 68與磁體連結(jié)構(gòu)件74的邊界部、以及驅(qū)動用磁體68與磁體連結(jié)構(gòu)件75的邊界部照射激光，使形成于驅(qū)動用磁體68的表面的鍍錫層熔融。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)裝置，其特征在于，包括保持拍攝用的透鏡的可動體、將所述可動體保持成可移動的固定體、用于使所述可動體相對于所述固定體相對移動的驅(qū)動用磁體及驅(qū)動用線圈、以及固定在所述驅(qū)動用磁體的金屬構(gòu)件，所述驅(qū)動用磁體固定在所述可動體和所述固定體的一方，所述驅(qū)動用線圈固定在所述可動體和所述固定體的另一方，所述驅(qū)動用磁體與所述驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置，在所述驅(qū)動用磁體的表面及所述金屬構(gòu)件的表面形成至少包含鎳的鍍鎳層，所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件利用由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成的、配置在所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件之間的接合層接合。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，在與所述金屬構(gòu)件接合前的所述驅(qū)動用磁體的表面形成覆蓋所述鍍鎳層的鍍錫層，通過在所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件接合時使所述鍍錫層熔融、固化來形成所述接I=I te ο
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述鍍錫層在所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件接合時，利用感應(yīng)加熱而熔融。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述金屬構(gòu)件固定在所述透鏡的光軸方向的所述驅(qū)動用磁體的端面，所述驅(qū)動用磁體與所述驅(qū)動用線圈在與所述透鏡的光軸方向垂直的方向，隔著預(yù)定的間隙對置配置。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述接合層的至少一部分與所述驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置。
6.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)裝置，其特征在于，作為所述金屬構(gòu)件，包括在將所述驅(qū)動用磁體夾在其間的狀態(tài)下固定在所述驅(qū)動用磁體的第一金屬構(gòu)件和第二金屬構(gòu)件。
7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)裝置，其特征在于，包括1個所述第一金屬構(gòu)件、多個所述第二金屬構(gòu)件、以及多個所述驅(qū)動用磁體，多個所述第二金屬構(gòu)件分別固定在多個所述驅(qū)動用磁體中的各個驅(qū)動用磁體，多個所述第二金屬構(gòu)件分別通過去除用于將多個所述第二金屬構(gòu)件一體化的連結(jié)構(gòu)件來形成。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述金屬構(gòu)件固定在所述透鏡的光軸方向的所述驅(qū)動用磁體的端面，所述驅(qū)動用磁體與所述驅(qū)動用線圈在與所述透鏡的光軸方向垂直的方向，隔著預(yù)定的間隙對置配置。
9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述接合層的至少一部分與所述驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置。
10.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)裝置，其特征在于，作為所述金屬構(gòu)件，包括在將所述驅(qū)動用磁體夾在其間的狀態(tài)下固定在所述驅(qū)動用磁體的第一金屬構(gòu)件和第二金屬構(gòu)件。
11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)裝置，其特征在于，包括1個所述第一金屬構(gòu)件、多個所述第二金屬構(gòu)件、以及多個所述驅(qū)動用磁體，多個所述第二金屬構(gòu)件分別固定在多個所述驅(qū)動用磁體中的各個驅(qū)動用磁體，多個所述第二金屬構(gòu)件分別形成有去除痕跡，該去除痕跡是在去除用于將多個所述第二金屬構(gòu)件一體化的連結(jié)構(gòu)件時形成的。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述去除痕跡形成于底端部與所述第二金屬構(gòu)件相連的凸部的前端，所述去除痕跡的寬度比所述凸部的底端的寬度要窄，以及/或者所述去除痕跡的厚度比所述凸部的底端的厚度要薄。
13.如權(quán)利要求1至12中任一項所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述可動體保持在所述固定體，并且能夠向所述透鏡的光軸方向移動，所述驅(qū)動用線圈固定在所述可動體，所述驅(qū)動用磁體固定在所述固定體，所述驅(qū)動用線圈及所述驅(qū)動用磁體使所述可動體相對于所述固定體向所述光軸方向相對移動。
14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述驅(qū)動用磁體形成為近似柱狀或者近似平板狀，并且被磁化，使得所述光軸方向的一個面的磁極與另一個面的磁極不同，所述驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置，以覆蓋與所述光軸方向垂直的方向的所述驅(qū)動用磁體的側(cè)面的一部分，所述金屬構(gòu)件分別固定在所述光軸方向的所述驅(qū)動用磁體的兩面。
15.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)裝置，其特征在于，固定在所述光軸方向的所述驅(qū)動用磁體的一個面的所述金屬構(gòu)件是構(gòu)成所述光學(xué)裝置的外周面的覆蓋構(gòu)件，以覆蓋固定在所述光軸方向的所述驅(qū)動用磁體的另一個面的所述金屬構(gòu)件的方式形成所述覆蓋構(gòu)件。
16.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述可動體以可擺動的方式保持在所述固定體，以使得所述透鏡的光軸傾斜，所述驅(qū)動用線圈固定在所述固定體，所述驅(qū)動用磁體固定在所述可動體，所述驅(qū)動用線圈及所述驅(qū)動用磁體使所述可動體相對于所述固定體擺動。
17.如權(quán)利要求16所述的光學(xué)裝置，其特征在于，所述驅(qū)動用磁體形成為近似平板狀，并且被磁化，使得垂直于所述光軸方向的方向的一個側(cè)面的磁極與另一個側(cè)面的磁極不同，所述驅(qū)動用線圈與垂直于所述光軸方向的方向的所述驅(qū)動用磁體的側(cè)面隔著預(yù)定的間隙對置配置，所述金屬構(gòu)件分別固定在所述光軸方向的所述驅(qū)動用磁體的兩端面。
18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)裝置，其特征在于，包括多個所述驅(qū)動用磁體、以及多個所述驅(qū)動用線圈，多個所述驅(qū)動用磁體固定在所述可動體的外周面，所述固定體包括形成為近似筒狀并且構(gòu)成所述光學(xué)裝置的外周面的殼體，多個所述驅(qū)動用線圈以與所述驅(qū)動用磁體對置的方式固定在所述殼體的內(nèi)周面，多個所述驅(qū)動用磁體由所述金屬構(gòu)件相連。
19.一種光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，所述光學(xué)裝置包括保持拍攝用的透鏡的可動體、將所述可動體保持成可移動的固定體、用于使所述可動體相對于所述固定體相對移動的驅(qū)動用磁體及驅(qū)動用線圈、以及固定在所述驅(qū)動用磁體的金屬構(gòu)件，所述驅(qū)動用磁體固定在所述可動體和所述固定體的一方，所述驅(qū)動用線圈固定在所述可動體和所述固定體的另一方，所述驅(qū)動用磁體與所述驅(qū)動用線圈隔著預(yù)定的間隙對置配置，在所述光學(xué)裝置的制造方法中，在所述驅(qū)動用磁體的表面及所述金屬構(gòu)件的表面形成至少包含鎳的鍍鎳層，在與所述金屬構(gòu)件接合前的所述驅(qū)動用磁體的表面形成由至少包含錫的錫類金屬構(gòu)成并覆蓋所述鍍鎳層的鍍錫層，通過在所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件接合時使所述鍍錫層熔融、固化，將所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件接合。
20.如權(quán)利要求19所述的光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在將所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件加壓保持的狀態(tài)下，對所述鍍錫層進行加熱而使其熔融。
21.如權(quán)利要求20所述的光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，在所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件接合時，對所述鍍錫層進行感應(yīng)加熱而使其熔融。
22.如權(quán)利要求20所述的光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，與所述金屬構(gòu)件接合前的所述驅(qū)動用磁體是未磁化的狀態(tài)，在將所述驅(qū)動用磁體與所述金屬構(gòu)件接合后對所述驅(qū)動用磁體進行磁化。
23.如權(quán)利要求19所述的光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，所述驅(qū)動用磁體由多個驅(qū)動用磁體構(gòu)成，所述金屬構(gòu)件是分別固定在所述多個驅(qū)動用磁體的多個金屬構(gòu)件，所述多個金屬構(gòu)件分別是通過在借助用于將所述多個金屬構(gòu)件一體化的連結(jié)構(gòu)件而保持為一體的狀態(tài)下將所述多個驅(qū)動用磁體與所述多個金屬構(gòu)件接合后、去除所述連結(jié)構(gòu)件而形成的。
24.如權(quán)利要求23所述的光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，所述連結(jié)構(gòu)件利用連結(jié)部與所述多個金屬構(gòu)件分別相連，在所述連結(jié)部設(shè)有至少其寬度形成得較窄、或者其厚度形成得較薄的切斷部，在將所述多個驅(qū)動用磁體與所述多個金屬構(gòu)件接合后，通過將所述切斷部切斷來去除所述連結(jié)構(gòu)件。
25.如權(quán)利要求M所述的光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于，所述切斷部形成得其寬度較窄且其厚度較薄，通過反復(fù)彎曲而切斷。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)裝置，包括保持拍攝用的透鏡的可動體、將可動體保持成可移動的固定體，即使在將裝置小型化的情況下，也能使可動體適當(dāng)移動。光學(xué)裝置(1)包括保持拍攝用的透鏡的可動體(2)；將可動體(2)保持成可移動的固定體(3)；用于使可動體(2)相對于固定體(3)相對移動的驅(qū)動用磁體(13)及驅(qū)動用線圈(14)；固定在驅(qū)動用磁體(13)的金屬構(gòu)件(10)、(17)。在驅(qū)動用磁體(13)的表面及金屬構(gòu)件(10)、(17)的表面形成有鍍鎳層。另外，驅(qū)動用磁體(13)與金屬構(gòu)件(10)、(17)利用由錫類金屬構(gòu)成的、配置在驅(qū)動用磁體(13)與金屬構(gòu)件(10)、(17)之間的接合層(15)、(18)接合。
文檔編號G02B7/04GK102565994SQ20111040784
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月30日
發(fā)明者丹羽伸一, 森亮, 武井宏光, 竹村政夫 申請人:日本電產(chǎn)三協(xié)株式會社