專利名稱:反射基材、背光源單元及反射基材的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及尤其在液晶電視等的背光源單元所使用的反射基材中,在使用時(shí)不會(huì)產(chǎn)生亮度不均且能夠簡(jiǎn)便制造的反射基材,并涉及使用該反射基材的背光源單元及反射基材的制造方法。
背景技術(shù):
用于液晶電視的顯示器等的背光源單元,采用對(duì)導(dǎo)光板反射出光的薄片狀、膜狀、 板狀等的反射基材。在這種情況下,通過(guò)將反射基材配置在導(dǎo)光板的后方,采用例如邊緣發(fā)光方式從導(dǎo)光板側(cè)方照射光, 從而使導(dǎo)光板的整個(gè)表面(即顯示器的整個(gè)面)均勻地射出光。另一方面,若所使用的構(gòu)件(例如反射基材)存在問(wèn)題等,則有時(shí)會(huì)在顯示器上產(chǎn)生亮度不均。亮度不均是指,本來(lái)應(yīng)該在顯示器的整個(gè)面以均勻亮度進(jìn)行辨認(rèn)時(shí),卻產(chǎn)生局部亮度高或局部亮度低的部分。若產(chǎn)生這樣的亮度不均,則不能再現(xiàn)出正確的圖像,也給該顯示器的辨認(rèn)者帶來(lái)不愉快感。已有一種如下的顯示器的評(píng)價(jià)方法對(duì)于這樣的顯示器的亮度不均,通過(guò)取得顯示器的顯示畫面的亮度分布信息,并生成表示背景亮度與亮度變化量之比的對(duì)比度圖像, 所述亮度變化量是根據(jù)該亮度分布信息和該亮度分布信息的背景亮度之間的差分而求出的,將對(duì)比度圖像進(jìn)行二維傅立葉變換而成的二維傅立葉頻譜,乘以根據(jù)背景亮度或顯示畫面尺寸的至少任一項(xiàng)進(jìn)行設(shè)定的且依照人類視覺(jué)特性的對(duì)比度靈敏度函數(shù),并將其結(jié)果進(jìn)行二維傅立葉逆變換,從而生成在亮度信息中包含亮度不均成分的強(qiáng)度的評(píng)價(jià)用二維圖像,基于該評(píng)價(jià)用二維圖像的亮度信息,對(duì)亮度不均進(jìn)行定量評(píng)價(jià)(專利文獻(xiàn)I)?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)2009 - 180583號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題但是,專利文獻(xiàn)I的方法并沒(méi)有對(duì)反射基材自身的性狀進(jìn)行特定,而是在實(shí)際組裝后對(duì)亮度不均進(jìn)行定量評(píng)價(jià)。因此,沒(méi)有對(duì)什么樣性狀的反射基材對(duì)亮度不均有不良影響進(jìn)行特定。另一方面,若在反射基材的表面上形成褶皺等,則可能會(huì)由于該“褶皺”等的表面凹凸形狀而產(chǎn)生亮度不均。即,若使用在表面上具有一定程度以上的凹凸形狀的反射基材來(lái)組裝背光源單元,則可能會(huì)確認(rèn)出亮度不均。例如,圖7是表不現(xiàn)有的反射基材10和使用該反射基材10的顯不器13的圖。如圖7 (a)所示,反射基材10有時(shí)會(huì)在表面上形成在制造工序中所產(chǎn)生的凹凸11。尤其是在發(fā)泡體基材中,由于有加熱工序等,因此有時(shí)會(huì)在反射基材10的表面形成褶皺狀的凹凸11。例如在反射基材10的制造工序中,這樣的凹凸11多是沿著長(zhǎng)度方向而形成的。若這樣的凹凸11具有一定程度以上的大小,則認(rèn)為是導(dǎo)致亮度不均的主要原因。 例如,若使用這樣的反射基材10來(lái)構(gòu)成背光源單元,并對(duì)其照射光而從顯示器的前面進(jìn)行確認(rèn)時(shí),有時(shí)會(huì)在與凹凸11的形態(tài)相對(duì)應(yīng)的范圍內(nèi),產(chǎn)生亮度不均15。因此,可以考慮在組裝為背光源單元之前,通過(guò)測(cè)定出反射基材的表面凹凸量,進(jìn)行反射基材的評(píng)價(jià),并廢棄了具有規(guī)定值以上大小的凹凸的反射基材,從而能夠防止產(chǎn)生亮度不均。但是,實(shí)際上單純的凹凸量與亮度不均的產(chǎn)生并不完全對(duì)應(yīng)。因此,出現(xiàn)了在產(chǎn)品工序中發(fā)現(xiàn)亮度不均、需要進(jìn)行過(guò)多凹凸量管理等的問(wèn)題。本發(fā)明是鑒于上述的問(wèn)題而完成的,其目的在于,提供能夠可靠地防止產(chǎn)生亮度不均的反射基材、使用該反射基材的背光源單元及反射基材的制造方法。用于解決課題的手段用于達(dá)到上述目的的本發(fā)明是一種反射基材,其是用于背光源單元的反射基材, 其特征在于,對(duì)通過(guò)測(cè)定出反射基材寬度方向的多個(gè)點(diǎn)所得的表面凹凸數(shù)據(jù)進(jìn)行傅立葉變換,根據(jù)所得的頻率和強(qiáng)度的關(guān)系,在測(cè)定點(diǎn)數(shù)設(shè)為N點(diǎn)時(shí),則波長(zhǎng)為128_以下的波 成分的強(qiáng)度為O. 6N/128以下。所述反射基材優(yōu)選為,所述表面凹凸數(shù)據(jù)的最大凹凸量為50 μ m以下。優(yōu)選為,所述反射基材在內(nèi)部具有微細(xì)氣泡,厚度為O. 2mm以上,反射率為90%以上,結(jié)晶度為30%以上??梢栽谒龇瓷浠牡谋砻嫱糠笥熊涃|(zhì)球珠(soft beads)ο根據(jù)第一發(fā)明,可以獲得制造容易且能夠可靠地防止產(chǎn)生亮度不均的反射基材。 尤其是,不是僅根據(jù)單純的表面凹凸量進(jìn)行判斷,而是將凹凸形狀作為波進(jìn)行處理,由于特定出產(chǎn)生亮度不均的波,因此不會(huì)存在過(guò)度廢棄。此外,只要表面凹凸數(shù)據(jù)的最大凹凸量為50 μ m以下,就能夠更可靠地防止產(chǎn)生亮度不均。此外,作為本發(fā)明的反射基材,是在內(nèi)部具有微細(xì)氣泡的發(fā)泡性反射基材,其厚度為O. 2mm以上、反射率為90%以上、結(jié)晶度為30%以上的反射基材尤其有效。若均勻涂 敷了軟質(zhì)球珠,則能夠使反射基材與導(dǎo)光板之間的間隙保持恒定,進(jìn)而能有效地防止亮度不均。另外,作為軟質(zhì)球珠,可以使用例如硬質(zhì)的玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA )、軟質(zhì)的聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)。第二發(fā)明是一種背光源單元,其特征在于,包括第一發(fā)明的反射基材;設(shè)置于所述反射基材之上的導(dǎo)光板;設(shè)置于所述導(dǎo)光板側(cè)方的光源。根據(jù)第二發(fā)明,能夠獲得不會(huì)產(chǎn)生亮度不均且容易制造的背光源單元。第三發(fā)明是一種反射基材的制造方法,其是用于背光源單元的發(fā)泡性反射基材的制造方法,其特征在于,包括使基材發(fā)泡的工序;以拉伸度為I. I I. 8進(jìn)行拉伸并且以壓縮度為O. 6 O. 8進(jìn)行壓縮的工序,對(duì)所得基材的寬度方向的多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)定從而得到表面凹凸信息,對(duì)所得的表面凹凸信息進(jìn)行傅立葉變換從而得到頻率和強(qiáng)度的關(guān)系,在測(cè)定點(diǎn)數(shù)設(shè)為N點(diǎn)時(shí),將與波長(zhǎng)128mm以下相對(duì)應(yīng)頻率的強(qiáng)度全部是O. 6N / 128以下的判斷為合格。根據(jù)第三發(fā)明,能夠以容易且可靠地防止產(chǎn)生亮度不均的方式來(lái)制造反射基材。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明,可以提供能夠可靠地防止產(chǎn)生亮度不均的反射基材、使用該反射基材的背光源單元及反射基材的制造方法。
圖I是反射基材制造裝置I的結(jié)構(gòu)圖。圖2是表示反射基材的解析流程的流程圖。圖3是激光位移計(jì)3相對(duì)于反射基材7的測(cè)定部的圖。圖4是表示凹凸信息的圖。圖5是表不激光位移計(jì)相對(duì)于反射基材7的動(dòng)作的圖。圖6是表示波信息的圖。圖7是表不現(xiàn)有的反射基材與廣生売度不均的圖。附圖標(biāo)記的說(shuō)明I.........反射基材制造裝置3.........激光位移計(jì)5.........解析裝置7.........反射基材10.........反射基材11.........凹凸13.........顯示器15.........亮度不均
具體實(shí)施例方式以下,參照附圖,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖I是表示本發(fā)明的反射基材制造裝置I的結(jié)構(gòu)圖。反射基材制造裝置I主要由作為凹凸量檢測(cè)單元的激光位移計(jì)3、解析裝置5、拉伸壓縮生產(chǎn)線9等構(gòu)成。反射基材7優(yōu)選是例如發(fā)泡體等的樹(shù)脂基材,可形成為薄片狀、膜狀、板狀等。作為反射基材7的厚度優(yōu)選是O. 2mm以上。此外,結(jié)晶度優(yōu)選是30%以上。當(dāng)反射基材的厚度小于O. 2mm和結(jié)晶度小于30%時(shí),由于反射基材都是柔軟狀態(tài)因此容易產(chǎn)生波狀褶皺, 所以不優(yōu)選。此外,為了確保反射基材的性能,而優(yōu)選反射基材的全反射率為90%以上。更詳細(xì)而言,可以優(yōu)選使用在內(nèi)部具有氣泡平均直徑為50nm以上且50 μ m以下的微細(xì)氣泡或氣孔的熱塑性樹(shù)脂片材。作為這樣的片材有如下的泡沫塑料制的光反射片,例如在高壓下使聚對(duì)苯二甲酸乙二酯的擠壓片材浸潰于二氧化碳?xì)怏w之后,在進(jìn)行加熱而發(fā)泡的片材中,內(nèi)部的氣泡直徑為50 μ m以下的泡沫塑料制的光反射片(例如古河電氣工業(yè)制造的MCPET (注冊(cè)商標(biāo))等)。此外,作為反射基材7的其他優(yōu)選例包括含有填充劑的熱塑性樹(shù)脂膜,其是將以填充劑作為核而形成多個(gè)空隙的膜進(jìn)行多層層壓而成的;或者將該膜貼在聚對(duì)苯二甲酸乙二酯等樹(shù)脂片材上而成的反射基材。上述含有填充劑的熱塑性樹(shù)脂膜優(yōu)選是 如下的多孔性拉伸膜其是通過(guò)成形為含有填充劑的未拉伸膜,并對(duì)該未拉伸膜進(jìn)行拉伸,從而以填充劑作為核而形成多個(gè)空隙的多孔性拉伸膜。另外,當(dāng)反射基材7為發(fā)泡基材時(shí),在反射基材制造裝置I中,還設(shè)有未圖示的發(fā)泡加熱生產(chǎn)線。此外,在所述片材、膜所使用的樹(shù)脂中,也可以適當(dāng)添加抗氧化劑、防紫外線齊 、潤(rùn)滑劑、顏料、強(qiáng)化劑等添加劑。此外,可以將含有這些添加劑的涂敷層成形在片材、膜上。另外,在圖I所示的例子中,雖然表示了對(duì)卷成輥狀的長(zhǎng)條基材設(shè)置激光位移計(jì)3等的例子,但也可以在未圖示的切斷工序后,配置解析裝置5及激光位移計(jì)3,對(duì)切斷后的反射基材7利用激光位移計(jì)3進(jìn)行測(cè)量。在該情況下,包括切斷工序及利用該激光位移計(jì)的測(cè)量工序,并稱為反射基材制造裝置I。在拉伸壓縮生產(chǎn)線中,為了除去基材的褶皺等,而沿基材的長(zhǎng)度方向施加規(guī)定量的張力,同時(shí)利用多個(gè)輥在基材的厚度方向施加壓縮力。作為基材的壓縮度(壓縮后厚度/ 壓縮前厚度)優(yōu)選是O. 6 O. 8左右。若壓縮度小于O. 6,則因?yàn)閮?nèi)部氣泡破裂過(guò)多,內(nèi)部氣泡數(shù)變少,并且反射率降低,所以不優(yōu)選。若壓縮度為O. 8以上,則因?yàn)槔脡嚎s產(chǎn)生的波的褶皺抑制效果小,所以不優(yōu)選。此外,作為基材的拉伸度(拉伸后長(zhǎng)度/拉伸前長(zhǎng)度)優(yōu)選是I. I I. 8左右。若拉伸度小于I. 1,則因?yàn)槔美飚a(chǎn)生的波的褶皺抑制效果小,所以不優(yōu)選。若拉伸度為1.8 以上,則因?yàn)閮?nèi)部氣泡破裂過(guò)多,內(nèi)部氣泡數(shù)變少,并且反射率降低,所以不優(yōu)選。激光位移計(jì)3被配置在距反射基材7表面的規(guī)定距離處,激光位移計(jì)3相對(duì)于反射基材7的表面而保持一定的距離,并且能夠沿著與反射基材7的行進(jìn)方向垂直的方向(SP 反射基材7的寬度方向)移動(dòng)。因此,利用激光位移計(jì)3,能夠?qū)ψ鳛閷?duì)象的反射基材7的表面凹凸(包括“褶皺”及厚度變化等所有的反射基材整體的表面方向的凹凸量)進(jìn)行檢測(cè)。 另外,只要能夠檢測(cè)出反射基材7的凹凸信息,可以不使用激光位移計(jì)3,而使用其他的檢測(cè)單元。
解析裝置5能夠取得來(lái)自激光位移計(jì)3的信息,進(jìn)行各種解析及是否合格的判斷, 并且能控制激光位移計(jì)3的動(dòng)作。作為解析裝置,可以使用一般的計(jì)算機(jī)。例如,解析裝置5能夠控制激光位移計(jì)3的動(dòng)作,測(cè)定出反射基材7的凹凸量的同時(shí)進(jìn)行后述的運(yùn)算,并能夠進(jìn)行反射基材7是否合格的判斷以及信息的存儲(chǔ)、顯示等。接著,利用反射基材制造裝置1,對(duì)制造反射基材7的工序進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示反射基材7的制造流程的流程圖。首先,如上所述,將基材展開(kāi),同時(shí)在拉伸壓縮生產(chǎn)線9 進(jìn)行規(guī)定量的拉伸和壓縮(步驟100)。另外,根據(jù)需要,也可以適當(dāng)增加發(fā)泡、加熱工序。接著,如圖3所示,使激光位移計(jì)3向反射基材7的寬度方向移動(dòng),或者使激光位移計(jì)3相對(duì)于反射基材7的寬度方向進(jìn)行往復(fù)動(dòng)作,并檢測(cè)反射基材7的表面凹凸量(步驟 101)。另外,表面凹凸量是指,不僅是單純的反射基材7的厚度變化,還包括反射基材自身所產(chǎn)生的褶皺和變形等。另外,不僅對(duì)反射基材7的制造方向進(jìn)行檢查,也對(duì)寬度方向進(jìn)行檢查,這是由于因制造工序的關(guān)系,反射基材7的表面凹凸(褶皺等)在寬度方向上較大。具體而言,通過(guò)未圖示的驅(qū)動(dòng)部等來(lái)驅(qū)動(dòng)激光位移計(jì)3從而使其在反射基材7上移動(dòng),同時(shí)通過(guò)激光位移計(jì)3而獲得反射基材7的表面形狀信息(凹凸信息)。凹凸信息是通過(guò)對(duì)相對(duì)于反射基材7寬度方向的規(guī)定間隔的多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)定而獲得的。另外,根據(jù)反射基材7的制造速度等,對(duì)激光位移計(jì)3的移動(dòng)速度進(jìn)行設(shè)定并控制。接著,根據(jù)所得的凹凸信息計(jì)算出最大凹凸量,對(duì)其是否超過(guò)規(guī)定值進(jìn)行判斷(步驟102)。另外,作為規(guī)定值,可根據(jù)產(chǎn)品所要求的質(zhì)量而進(jìn)行適當(dāng)設(shè)定。圖4是表示所得的凹凸信息的示意圖。如圖4所示,根據(jù)在檢查范圍(例如在反射基材7寬度方向上的移動(dòng)范圍)中所得的凹凸信息,從而獲得最大值及最小值,將該差作為最大凹凸量(圖中的E)進(jìn)行計(jì)算。即、根據(jù)凹凸信息的最大值和最小值計(jì)算出最大凹凸量,與預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)值(例如50 μ m)相比,對(duì)最大凹凸量是否超過(guò)基準(zhǔn)值進(jìn)行判斷。另外,關(guān)于該最大凹凸量的基準(zhǔn)值,只要預(yù)先檢查每類對(duì)象產(chǎn)品的最大凹凸量和亮度不均的產(chǎn)生趨勢(shì),并將不會(huì)產(chǎn)生亮度不均的最大凹凸量的最大值設(shè)定為基準(zhǔn)值即可。若計(jì)算出的最大凹凸量是基準(zhǔn)值(例如50 μ m)以下,則進(jìn)行合格判斷,從而成為產(chǎn)品(步驟107)。在現(xiàn)有的僅利用凹凸量的判斷中,在該判斷結(jié)束后,大于基準(zhǔn)值的反射基材 7將被廢棄。在本發(fā)明中,關(guān)于在步驟102中最大凹凸量超過(guò)了基準(zhǔn)值的基材,將其凹凸信息進(jìn)行傅立葉變換,關(guān)于反射基材的表面凹凸形狀,可取得頻率和強(qiáng)度的關(guān)系(步驟103)。另夕卜,也可以省略上述步驟102,對(duì)所有被檢物進(jìn)行步驟103之后的評(píng)價(jià)。此外,如上所述,在進(jìn)行本工序之前,可以增加將反射基材7切斷為規(guī)定長(zhǎng)度(產(chǎn)品尺寸)的工序。
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在此,頻率不僅依賴于反射基材7的凹凸形狀,而且也依賴于激光位移計(jì)3相對(duì)于反射基材7的移動(dòng)速度(凹凸形狀的測(cè)定速度)。因此,要預(yù)先設(shè)定激光位移計(jì)3的移動(dòng)速度。作為激光位移計(jì)3的移動(dòng)速度,例如是200mm/s以下。在此,將所得的凹凸信息進(jìn)行傅立葉變換,從而獲得頻率和強(qiáng)度的關(guān)系,但所得的頻率,也可以加入激光位移計(jì)3的測(cè)定條件等從而換算為波長(zhǎng)進(jìn)行使用。另外,如圖5 (a)所示,若反射基材7 —邊沿行進(jìn)方向(圖中的箭頭B方向)移動(dòng)一邊使激光位移計(jì)沿反射基材7的寬度方向進(jìn)行往復(fù)移動(dòng),則激光位移計(jì)的測(cè)定部(測(cè)定方向),與反射基材7的寬度方向不一致,并導(dǎo)致根據(jù)反射基材7的移動(dòng)速度而以傾斜的方式進(jìn)行測(cè)定(圖中的C方向)。另一方面,如圖6 (b)所示,在固定了反射基材7a的狀態(tài)下,若進(jìn)行同樣的測(cè)定,則測(cè)定部與反射基材7a的寬度方向一致(圖中的D方向)。但是,在本發(fā)明中,如上所述,在反射基材7移動(dòng)的同時(shí)而使激光位移計(jì)3沿寬度方向進(jìn)行移動(dòng)時(shí),將實(shí)際上以傾斜的方式進(jìn)行測(cè)定所得的凹凸信息,也定義為反射基材7 的寬度方向的凹凸信息。即,檢測(cè)出的凹凸信息,不需要必須是與反射基材7寬度方向嚴(yán)格垂直的方向的信息,以相對(duì)于反射基材7的寬度方向稍微傾斜的方式進(jìn)行測(cè)定的凹凸信息,也作為反射基材7的寬度方向的凹凸信息進(jìn)行處理。接著,將計(jì)算出的頻率(波長(zhǎng))和強(qiáng)度的關(guān)系(波信息),與預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行比較(步驟104)。即,將規(guī)定范圍的頻率(波長(zhǎng))區(qū)域內(nèi)的強(qiáng)度,與基準(zhǔn)數(shù)據(jù)中的數(shù)值進(jìn)行比較?;鶞?zhǔn)數(shù)據(jù)雖然依賴于在寬度方向上的凹凸的測(cè)定點(diǎn)數(shù),但在取測(cè)定點(diǎn)為128點(diǎn)時(shí),將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)設(shè)為,例如,規(guī)定范圍的頻率(波長(zhǎng))的強(qiáng)度為O. 6以下。另外,測(cè)定點(diǎn)每次增加到 128、256、512、…時(shí),可以將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的數(shù)值(規(guī)定范圍的頻率(波長(zhǎng))的強(qiáng)度)設(shè)定得較大即設(shè)定為0.6、1.2、2.4···(例如,若測(cè)定點(diǎn)數(shù)為N,則基準(zhǔn)數(shù)據(jù)=O. 6N / 128)。該基準(zhǔn)數(shù)據(jù)可以是預(yù)先按每類對(duì)象產(chǎn)品來(lái)檢查基于測(cè)定條件的強(qiáng)度和亮度不均的發(fā)生趨勢(shì),從而求出在規(guī)定頻率中不會(huì)發(fā)生亮度不均的強(qiáng)度。另外,在以下的例子中,對(duì)于測(cè)定點(diǎn)為128點(diǎn)、基準(zhǔn)數(shù)據(jù)為強(qiáng)度O. 6的情況進(jìn)行說(shuō)明。接著,對(duì)作為該區(qū)域的強(qiáng)度是否存在超過(guò)O. 6 (基準(zhǔn)數(shù)據(jù))的數(shù)據(jù)進(jìn)行判斷(步驟 105)。當(dāng)強(qiáng)度超過(guò)O. 6(基準(zhǔn)數(shù)據(jù))時(shí),則判斷為不合格,從而廢棄了該反射基材(步驟106)。另一方面,若在該判斷區(qū)域的整個(gè)區(qū)域中沒(méi)有超過(guò)O. 6 (基準(zhǔn)數(shù)據(jù))的數(shù)據(jù)時(shí),則判斷為合格,從而成為產(chǎn)品(步驟107)。圖6是表示進(jìn)行是否合格判斷的波信息與基準(zhǔn)數(shù)據(jù)比較的示意圖。如上所述,用波長(zhǎng)(或頻率)和強(qiáng)度的關(guān)系來(lái)表示所得的波信息。是否合格的判斷是通過(guò)在作為評(píng)價(jià)對(duì)象的波長(zhǎng)范圍(頻率范圍)即評(píng)價(jià)范圍25中,是否存在超過(guò)基準(zhǔn)值(圖中的F)的數(shù)據(jù)而判斷的。S卩、在評(píng)價(jià)范圍25中,若存在超過(guò)基準(zhǔn)值的數(shù)據(jù)則為不合格,若不存在超過(guò)基準(zhǔn)值的數(shù)據(jù)則為合格。即,關(guān)于評(píng)價(jià)范圍25以外的范圍,則不需要對(duì)強(qiáng)度進(jìn)行判斷。另外,評(píng)價(jià)范圍25只要是預(yù)先檢查各波長(zhǎng)(頻率)和強(qiáng)度、以及亮度不均的發(fā)生趨勢(shì),來(lái)設(shè)定不會(huì)發(fā)生亮度不均的波長(zhǎng)(頻率)范圍即可。例如,只要設(shè)定作為評(píng)價(jià)范圍的規(guī)定波長(zhǎng),則由于規(guī)定波長(zhǎng)以上的長(zhǎng)波長(zhǎng)的凹凸形狀對(duì)亮度不均的影響較小,因此能夠排除在評(píng)價(jià)范圍之外。作為評(píng)價(jià)范圍,只要是例如波長(zhǎng)為128mm以下即可。另外,如上所述,預(yù)先對(duì)基準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行如下設(shè)定準(zhǔn)備具有各種周期、各種大小的凸凹形狀的反射基材的樣本,并組裝背光源單元,利用目視來(lái)確認(rèn)有無(wú)亮度不均的產(chǎn)生,并對(duì)產(chǎn)生亮度不均的頻率(波長(zhǎng))和基于測(cè)定點(diǎn)個(gè)數(shù)的強(qiáng)度進(jìn)行特定。另外,在將反射基材以線圈狀體進(jìn)行波信息的判斷時(shí),可以按規(guī)定間隔反復(fù)進(jìn)行判斷,也可以連續(xù)進(jìn)行判斷。此 外,在上述的實(shí)施方式中,根據(jù)由一個(gè)激光位移計(jì)3獲得的信息,進(jìn)行了最大凸凹量及產(chǎn)生亮度不均的特定波長(zhǎng)的判斷,但也可以在激光位移計(jì)3的上游側(cè),另外設(shè)置用于判斷最大凸凹量的的最大凸凹量測(cè)定器。根據(jù)本發(fā)明,能夠可靠地獲得不會(huì)產(chǎn)生亮度不均的反射基材7。尤其是在僅憑單純的最大凹凸量的評(píng)價(jià)而導(dǎo)致過(guò)多廢棄時(shí),通過(guò)判斷出易于對(duì)亮度不均有不良影響的頻率 (波長(zhǎng))區(qū)域的凹凸成分的強(qiáng)度,從而能夠?qū)⒗鐚?duì)亮度不均沒(méi)有影響的凹凸形狀作為合格品進(jìn)行處理。實(shí)施例然后,對(duì)通過(guò)由本發(fā)明的制造方法獲得的反射基材的評(píng)價(jià)例進(jìn)行說(shuō)明。作為被檢體的反射基材是以如下方式制造的。 首先,在100重量份的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(日本UNIPET株式會(huì)社制造,RT-553C) 中,添加2重量份的聚酯系彈性體(三菱化學(xué)株式會(huì)社制造,primalloy (注冊(cè)商標(biāo))B1942N) 并進(jìn)行混勻后,成形為厚度0.48mmX寬度540mmX長(zhǎng)度355m的片材。將該樹(shù)脂片材與烯烴系無(wú)紡布的分隔片進(jìn)行重疊,以不會(huì)產(chǎn)生樹(shù)脂片材表面彼此接觸的部分的方式卷繞成輥狀。然后,將上述輥放入到壓力容器內(nèi),用二氧化碳?xì)怏w加壓至5. 2MPa,并使樹(shù)脂片材浸透于二氧化碳?xì)怏w中。二氧化碳?xì)怏w對(duì)樹(shù)脂片材的浸透時(shí)間是35小時(shí)。接著,從壓力容器中取出輥,除去分隔片的同時(shí),僅將樹(shù)脂片材連續(xù)供給到設(shè)定為220°C的熱風(fēng)循環(huán)式發(fā)泡爐從而使其進(jìn)行了發(fā)泡。所得到的發(fā)泡體均勻發(fā)泡,平均氣泡直徑為O. 9 μ m且非常微細(xì), 發(fā)泡體的厚度為O. 7mm,發(fā)泡體片材的全反射率是99. 9%。另外,將發(fā)泡后的基材按壓縮度為O. 73進(jìn)行壓縮并制成厚度為O. 51mm,同時(shí)按拉伸度為I. 5進(jìn)行了拉伸。從進(jìn)行了壓縮拉伸后的反射基材中,取出按寬度520mm進(jìn)行切斷的多個(gè)樣本,使激光位移計(jì)在規(guī)定高度的位置沿寬度方向(與制造工序中的長(zhǎng)度方向垂直的方向)并以 50mm / s的速度、大約4mm的間距進(jìn)行移動(dòng),對(duì)測(cè)定點(diǎn)數(shù)為128點(diǎn)的反射基材的表面凹凸量進(jìn)行檢測(cè),用上述的方法分別進(jìn)行了評(píng)價(jià)。并且,對(duì)評(píng)價(jià)后的反射基材,試裝配為背光源單元,并評(píng)價(jià)了顯示器表面中的亮度。作為背光源單元的結(jié)構(gòu)是在反射基材上依次組裝了導(dǎo)光板、第一擴(kuò)散膜、棱鏡片、第二擴(kuò)散膜。在導(dǎo)光板的側(cè)方,設(shè)置了作為邊緣發(fā)光方式的LED (Light Emitting Diode (發(fā)光二極管))光源。另外,棱鏡片是厚度O. 30mm的PET材質(zhì),第一擴(kuò)散膜是厚度O. 31mm的PET 材質(zhì),第二擴(kuò)散膜是厚度O. 38mm的PET材質(zhì),導(dǎo)光板使用了厚度4. Omm的丙烯酸材質(zhì)。在導(dǎo)光板的表面?zhèn)?,并在與導(dǎo)光板垂直的方向上設(shè)置有二維色彩亮度計(jì)(Konica Minolta Sensing株式會(huì)社制造的CA2000),測(cè)定了導(dǎo)光板整個(gè)表面的亮度。對(duì)所得的亮度進(jìn)行色調(diào)圖像處理,基于圖像,通過(guò)目視評(píng)價(jià)了亮度不均的產(chǎn)生狀況。例如,通過(guò)目視對(duì)是否存在周圍和不連續(xù)的亮度變化、局部的亮度變化等進(jìn)行了評(píng)價(jià)。其結(jié)果如表I所示。表I
權(quán)利要求
1.一種反射基材,其用于背光源單元,其特征在于, 對(duì)通過(guò)測(cè)定出反射基材寬度方向的多個(gè)點(diǎn)所得的表面凹凸數(shù)據(jù)進(jìn)行傅立葉變換,根據(jù)所得的頻率和強(qiáng)度的關(guān)系,在測(cè)定點(diǎn)數(shù)設(shè)為N點(diǎn)時(shí),則波長(zhǎng)為128mm以下的波成分的強(qiáng)度為0. 6N / 128 以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的反射基材,其特征在于, 所述反射基材中,所述表面凹凸數(shù)據(jù)的最大凹凸量為50i!m以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的反射基材,其特征在于, 所述反射基材為,在其內(nèi)部具有微細(xì)氣泡,厚度是0. 2mm以上,反射率是90%以上,結(jié)晶度是30%以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的反射基材,其特征在于, 在所述反射基材的表面涂敷有軟質(zhì)球珠。
5.一種背光源單元,其特征在于,包括 權(quán)利要求I至權(quán)利要求4中任一項(xiàng)所述的反射基材; 設(shè)置于所述反射基材之上的導(dǎo)光板; 設(shè)置于所述導(dǎo)光板側(cè)方的光源。
6.一種反射基材的制造方法,其用于制造背光源單元所使用的發(fā)泡性反射基材,其特征在于, 包括使基材發(fā)泡的工序;以拉伸度為I. I I. 8進(jìn)行拉伸并且以壓縮度為0. 6 0. 8進(jìn)行壓縮的工序, 對(duì)所得基材的寬度方向的多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)定從而得到表面凹凸信息, 對(duì)所得的表面凹凸信息進(jìn)行傅立葉變換,從而得到頻率和強(qiáng)度的關(guān)系, 在測(cè)定點(diǎn)數(shù)設(shè)為N點(diǎn)時(shí),將與波長(zhǎng)128mm以下相對(duì)應(yīng)頻率的強(qiáng)度全部是0. 6N / 128以下的判斷為合格。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠可靠地防止產(chǎn)生亮度不均的反射基材、使用該反射基材的背光源單元及反射基材的制造方法。利用激光位移計(jì)(3)取得反射基材(7)的表面形狀信息。接著,將所得的凹凸信息進(jìn)行傅立葉變換,針對(duì)反射基材的表面凹凸形狀,可獲得頻率和強(qiáng)度的關(guān)系。然后,將計(jì)算出的頻率和強(qiáng)度的關(guān)系、與預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行比較。在規(guī)定范圍的頻率區(qū)域中,若強(qiáng)度超過(guò)0.6時(shí)則判斷為不合格,在該判斷區(qū)域中若不存在超過(guò)0.6的數(shù)據(jù),則判斷為合格。
文檔編號(hào)G02B5/08GK102713691SQ201180005259
公開(kāi)日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2011年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月27日
發(fā)明者佐藤佑輔, 山根基宏, 林大輔, 森田修幸, 河井功一, 石川明彥, 西脅利光 申請(qǐng)人:古河電氣工業(yè)株式會(huì)社