專利名稱：遮光膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及包含聚酰胺酰亞胺樹脂與黑色填料、無機顆粒的遮光膜。更詳細而言，涉及耐熱性、尺寸穩(wěn)定性、低光澤性、遮光性等優(yōu)異的、能夠適宜地用作數(shù)碼攝像機、手機、車載照像機等的鏡頭單元上搭載的光圈、快門葉片、或投影儀的光圈、光量調(diào)整用光圈裝置的光圈葉片、光學(xué)設(shè)備部件、絕緣基板用的防反射層等的遮光膜。
背景技術(shù)：
近年來，市場上大量涌現(xiàn)了能夠移動到任何地方隨時使用的便攜性優(yōu)異的袖珍相機(compact camera)、數(shù)碼攝像機。與之相伴地,要求袖珍相機、數(shù)碼攝像機的進一步輕量化、小型化、高性能化。由此，由于光學(xué)設(shè)備，尤其是袖珍相機或數(shù)字照相機的輕量化、小型化和高性能化，因而需要構(gòu)成它們的部件也輕量化、小型化、和高性能化。尤其是光學(xué)設(shè)備中使用的快門葉片或光圈葉片，由于快門速度的高速化，因而需 要輕量化。另外，由于必須覆蓋CCD等攝像元件的前表面而遮蔽光，因而從根本上需要遮光性。進而，為了防止各葉片之間的漏光，期望表面的反射率低。另外，因使用環(huán)境而導(dǎo)致照相機內(nèi)部變得高溫，因此快門葉片、光圈葉片需要耐熱性、尺寸穩(wěn)定性。以往，前述遮光膜通常使用金屬薄板(SUS、A1等)。例如，照相機的鏡頭快門(lensshutter)中，在使用金屬薄板的遮光膜作為快門葉片、光圈葉片的情況下，開合葉片材時，金屬板之間相互摩擦，產(chǎn)生大的噪音。投影儀中也會發(fā)出同樣的噪音，為了降低該噪音而使葉片以低速工作，此時，存在光量調(diào)整趕不上圖像的變化，圖像變得不穩(wěn)定的問題。從前述問題、輕量化的觀點來看，將使用合成樹脂的薄膜而非金屬薄板用作基材正成為主流。但是，使用絕緣性的合成樹脂薄膜時，產(chǎn)生因靜電的帶電而造成灰塵附著的問題，因此，對于遮光膜，還要求導(dǎo)電性。根據(jù)上述內(nèi)容，遮光膜的必需特性為高遮光性、耐熱性、尺寸穩(wěn)定性、低光澤性、導(dǎo)電性等。為了滿足這種遮光膜的特性，一直以來提出了使用各種材料、薄膜結(jié)構(gòu)的遮光膜。例如專利文獻I中記載了通過對在聚酯薄膜中配混有炭黑的薄膜進行噴砂而使薄膜表面粗糙化并涂布導(dǎo)電劑，從而制造遮光膜的方法。另外，專利文獻2中提出了一種遮光膜，其在基材薄膜的至少一個面上設(shè)置有由粘結(jié)劑樹脂、平均粒徑I μ m以下的黑色微細粉末、平均粒徑O. 5^10 μ m的有機填料、平均粒徑O. ΓΙΟ μ m的潤滑劑構(gòu)成的遮光層；專利文獻3中提出了一種遮光膜，其在基材薄膜的至少一個面上設(shè)置有由Tg40°C以上、軟化點80°C以上的熱固性樹脂、平均粒徑I μ m以下的黑色微細粉末、平均粒徑O. 5^10 μ m的有機填料、平均粒徑O. f 10 μ m的潤滑劑構(gòu)成的遮光層的遮光膜。進而，專利文獻4中提出了一種柔性印刷基板，其通過在柔性印刷基板上涂布由平均粒徑21 μ m的二氧化硅微粒、芳香族聚酰胺酰亞胺形成的遮光性墨而具有遮光性?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :日本特開平1-120503號公報
專利文獻2 :日本特開平7-319004號公報專利文獻3 :日本特開2003-29314號公報專利文獻4 :日本特開2008-251877號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題然而，專利文獻I的方法中，由于將聚酯薄膜作為基底，因而存在耐熱性、尺寸穩(wěn)定性差的問題點。另外，專利文獻2、專利文獻3的方法中，耐熱性、尺寸穩(wěn)定性也差，存在薄膜的表面和背面上遮光性、光澤性存在差異的大問題點。另外，專利文獻2、專利文獻3中，即使在基材薄膜的兩面設(shè)置遮光層，也存在聚酯基底膜截面上的光澤感變高，厚度方向上的光澤性產(chǎn)生偏差，得不到充分的低光澤度的問題點。 專利文獻4中，由于二氧化硅的添加量少，存在厚度方向上的分散性有偏差、光澤感不均勻的問題點，存在從截面觀察薄膜時的光澤度也變高的問題。本發(fā)明是以解決上述的課題為目的而作出的。即，本發(fā)明的目的在于，提供耐熱性、尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異，且具有高遮光性、低光澤性，薄膜的表面和背面以及截面上的光澤性的偏差少的遮光膜。用于解決問題的方案為了解決上述課題，本發(fā)明提供以下的遮光膜。(I) 一種遮光膜，其特征在于，其為包含聚酰胺酰亞胺樹脂、平均粒徑O. Oflym的黑色填料、平均粒徑O. f 10 μ m的無機顆粒的遮光膜，遮光膜中的聚酰胺酰亞胺樹脂的含有率為55、1重量％、黑色填料的含有率為f 10重量％、無機顆粒的含有率為8 35重量％。(2)根據(jù)⑴所述的遮光膜，其中，前述黑色填料為炭黑。(3)根據(jù)(I)或(2)所述的遮光膜，其中，前述無機顆粒為二氧化硅。(4)根據(jù)(1) (3)中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，前述無機顆粒為用硅油和/或硅烷偶聯(lián)劑進行過表面處理的二氧化硅。(5)根據(jù)(1) (4)中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，除了含有前述聚酰胺酰亞胺樹脂、前述黑色填料、前述無機顆粒以外，還含有前述黑色填料和/或前述無機顆粒的分散劑。(6)根據(jù)(5)所述的遮光膜，其中，相對于100重量份的黑色填料或/和無機顆粒，前述分散劑的含量為1 50重量份。(7)根據(jù)(1) (6)中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，前述聚酰胺酰亞胺樹脂包含偏苯三酸酐作為酸成分，包含3，3’ - 二甲基-4，4’ -二氨基聯(lián)苯或與其對應(yīng)的二異氰酸酯作為胺成分。(8)根據(jù)(1Γ(7)中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，前述聚酰胺酰亞胺樹脂包含偏苯三酸酐、二苯甲酮四羧酸二酐和聯(lián)苯四羧酸二酐作為酸成分，包含3，3’ - 二甲基_4，4’ - 二氨基聯(lián)苯或與其對應(yīng)的二異氰酸酯作為胺成分。(9)根據(jù)(1) (8)中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，遮光膜的厚度為5 100 μ m。(10)根據(jù)(1) (9)中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，根據(jù)JIS Ζ8741-1997中記載的鏡面光澤度測定方法測定的遮光膜的兩面的光澤度為40以下。(11) 一種遮光膜，其特征在于，其分別按照以下的所示的含有率包含聚酰胺酰亞胺樹脂、平均粒徑O. ΟΓ μπι的黑色填料、和平均粒徑O. ΓΙΟ μ m的無機顆粒，且該遮光膜為單層結(jié)構(gòu)。(i)聚酰胺酰亞胺樹脂的含有率為55 91重量％ ；(ii)平均粒徑(λ ΟΓ μ m的黑色填料的含有率為f 10重量％ ；(iii)平均粒徑O. ΓΙΟ μ m的無機顆粒的含有率為8 35重量％。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明的遮光膜，提供一種偏光膜，其為包含聚酰胺酰亞胺樹脂、平均粒徑O. Oflym的黑色填料、平均粒徑O. f 10 μ m的無機顆粒的遮光膜；遮光膜中的聚酰胺酰亞 胺樹脂的含有率為55 91重量％、黑色填料的含有率為f 10重量％、無機顆粒的含有率為8^35重量％，因而耐熱性、尺寸穩(wěn)定性、高遮光性、低光澤性的各種性能的平衡優(yōu)異。即，本發(fā)明的遮光膜由于含有聚酰胺酰亞胺樹脂，因而耐熱性、尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異。另外，由于包含8 35重量％的平均粒徑O. ΓΙΟ μ m的無機顆粒，因而低光澤性優(yōu)異，能夠抑制表面和背面、截面、厚度方向上的偏差。另外，由于包含廣10重量％的平均粒徑O. Oflym的黑色填料，因而遮光性優(yōu)異。使用本發(fā)明的遮光膜時，能夠容易地制造需要遮光特性的光學(xué)材料用途尤其是數(shù)碼攝像機、手機、車載照像機等的鏡頭單元上搭載的光圈、快門葉片、投影儀的光圈、光量調(diào)整用光圈裝置的光圈葉片、光學(xué)設(shè)備部件、絕緣基板用的防反射層
坐寸ο
具體實施例方式本發(fā)明的遮光膜包含聚酰胺酰亞胺樹脂、平均粒徑O. ΟΓ μ m的黑色填料、平均粒徑O. f IOym的無機顆粒；遮光膜中的聚酰胺酰亞胺樹脂的含有率為55、1重量％，黑色填料的含有率為廣10重量％，無機顆粒的含有率為8 35重量％。本說明書中，聚酰胺酰亞胺樹脂的含有率、黑色填料的含有率以及無機顆粒的含有率是指，以聚酰胺酰亞胺樹脂、黑色填料以及無機顆粒的質(zhì)量的總和作為100重量％時的各自的含有率(重量％)。本發(fā)明的遮光膜的遮光是指，用GretagMacbeth公司制造的光學(xué)濃度計TD-904測定遮光膜的光學(xué)濃度，光學(xué)濃度為5以上時判斷為良好(遮光性)，光學(xué)濃度小于5時判斷為不良(非遮光性)。定性而言是指，例如將1000勒克斯的光源的熒光燈放在距薄膜50cm的位置，通過目視判斷該熒光燈的光是否透過時，光不透過的程度的遮光性。本發(fā)明的“遮光膜”是使用包含“聚酰胺酰亞胺樹脂”、“黑色填料”、和“無機顆?！钡暮谏珮渲M合物而形成的。另外，本發(fā)明的黑色樹脂組合物中可以根據(jù)需要添加“黑色填料和/或無機顆粒的分散劑”。以下分別進行說明。<聚酰胺酰亞胺樹脂>本發(fā)明的遮光膜含有55、I重量％的聚酰胺酰亞胺樹脂。更優(yōu)選為65重量9Γ87
重量％。本發(fā)明中使用的聚酰胺酰亞胺樹脂可以通過現(xiàn)有公知的方法來合成。例如有異氰酸酯法、胺法(酰氯法、低溫溶液聚合法、室溫溶液聚合法等)等，本發(fā)明中使用的聚酰胺酰亞胺樹脂優(yōu)選可溶于有機溶劑，并且優(yōu)選工業(yè)上也能直接涂敷聚合時的溶液的異氰酸酯法。在異氰酸酯法的情況下，可以通過在有機溶劑中使三羧酸酐、二元羧酸、四羧酸酐等酸成分與二異氰酸酯加熱縮聚來合成。作為聚合中使用的溶劑，可以使用N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N’ - 二甲基乙酰胺、四甲基脲、1，3- 二甲基-2-咪唑烷酮(I, 3-dimethyl-2-imidazolidinone)、γ-丁內(nèi)酯等酰胺系溶劑、酯系溶劑等。本發(fā)明中，可以使用現(xiàn)有公知的聚酰胺酰亞胺樹脂，優(yōu)選的實施方式為包含通式
(1)的聚酰胺酰亞胺樹脂。作為包含通式(I)的聚酰胺酰亞胺樹脂，優(yōu)選包含偏苯三酸酐作為酸成分、包含3，3’ - 二甲基-4，4’ - 二氨基聯(lián)苯或與其對應(yīng)的二異氰酸酯(鄰聯(lián)甲苯胺二異氰酸酯)作為胺成分的聚酰胺酰亞胺樹脂。進而，從尺寸穩(wěn)定性的觀點來看，優(yōu)選包含由通式(I)、通式(2)、通式(3)形 成的重復(fù)單元的聚酰胺酰亞胺樹脂，優(yōu)選其共聚比為{通式(1)}/{通式(2)}/{通式
(3)}=49、8/廣50/1飛0(摩爾比)的聚酰胺酰亞胺樹脂。進一步優(yōu)選為{通式(1)}/{通式
(2)}/{通式(3)}=55 90/5 40/5 30(摩爾比)，最優(yōu)選為{通式(1)}/{通式(2)}/{通式
(3)}=65 85/10 30/5 20 (摩爾比)。通式(I)多于98摩爾％，且通式(2)、通式(3)分別低于其下限時，無法達成本發(fā)明的目的，存在耐熱性、尺寸穩(wěn)定性降低的傾向。另外，不含通式(I)或通式(I)少于49摩爾％，且通式(2)、通式(3)分別高于其上限時，存在對有機溶劑的溶解性變差，分散加工性降低的傾向。另外，存在光澤性、遮光性變差，表面和背面、厚度方向上的偏差也變大的傾向。特別優(yōu)選的組合是使用二甲基二氨基聯(lián)苯等具有二取代體的亞聯(lián)苯基的單體的情況，酸成分為偏苯三酸酐、3，3’，4，4’ - 二苯甲酮四羧酸二酐以及3，3’，4，4’ -聯(lián)苯四羧酸二酐的組合，且胺成分為3，3’- 二甲基-4，4’- 二氨基聯(lián)苯或與其對應(yīng)的二異氰酸酯(鄰聯(lián)甲苯胺二異氰酸酯)的情況。
O0
剛⑴
O(式中，R5和R6可以相同也可以不同，分別表示氫或碳數(shù)f4的烷基、或烷氧基。)
οfο
I , I if Ru通式⑵
OO(式中，R3和R4可以相同也可以不同，分別表示氫或碳數(shù)Γ4的烷基、或烷氧基。)
權(quán)利要求
1. 一種遮光膜，其特征在于，其分別按照以下的araii)所示的含有率包含聚酰胺酰亞胺樹脂、平均粒徑O. ΟΓ μπι的黑色填料、和平均粒徑O. Γιο μ m的無機顆粒，且該遮光月吳為單層結(jié)構(gòu)； (i)聚酰胺酰亞胺樹脂的含有率為55 91重量％； (ii)平均粒徑O.ΟΓ μ m的黑色填料的含有率為f 10重量％ ； (iii)平均粒徑O.ΓΙΟ μ m的無機顆粒的含有率為8 35重量％。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的遮光膜，其中，所述黑色填料為炭黑。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的遮光膜，其中，所述無機顆粒為二氧化硅。
4.根據(jù)權(quán)利要求Γ3中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，所述無機顆粒為用硅油或/和硅烷偶聯(lián)劑進行過表面處理的二氧化硅。
5.根據(jù)權(quán)利要求Γ4中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，除了含有所述聚酰胺酰亞胺樹脂、所述黑色填料、所述無機顆粒以外，還含有所述黑色填料和/或所述無機顆粒的分散劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的遮光膜，其中，相對于100重量份的黑色填料或/和無機顆粒，所述分散劑的含量為廣50重量份。
7.根據(jù)權(quán)利要求1飛中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，所述聚酰胺酰亞胺樹脂包含偏苯三酸酐作為酸成分，包含3，3’ - 二甲基-4，4’ -二氨基聯(lián)苯或與其對應(yīng)的二異氰酸酯作為胺成分。
8.根據(jù)權(quán)利要求廣7中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，所述聚酰胺酰亞胺樹脂包含偏苯三酸酐、二苯甲酮四羧酸二酐和聯(lián)苯四羧酸二酐作為酸成分，包含3，3’ - 二甲基_4，4’ - 二氨基聯(lián)苯或與其對應(yīng)的二異氰酸酯作為胺成分。
9.根據(jù)權(quán)利要求廣8中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，遮光膜的厚度為5 100 μ m。
10.根據(jù)權(quán)利要求I、中的任一項所述的遮光膜，其特征在于，根據(jù)JISZ8741-1997中記載的鏡面光澤度測定方法測定的遮光膜的兩面的光澤度為40以下。
全文摘要
本發(fā)明的課題在于廉價地制造耐熱性、尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異、且具有高遮光性、低光澤性、而且其偏差少的遮光膜。提供一種遮光膜，其特征在于，其為包含聚酰胺酰亞胺樹脂、平均粒徑0.01~1μm的黑色填料、平均粒徑0.1~10μm的無機顆粒的遮光膜，遮光膜中的聚酰胺酰亞胺樹脂的含有率為55~91重量%、黑色填料的含有率為1~10重量%、無機顆粒的含有率為8~35重量%。
文檔編號G02B5/00GK102906603SQ20118002508
公開日2013年1月30日 申請日期2011年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月20日
發(fā)明者多田謙太, 久保繪美, 山本佑 申請人:東洋紡株式會社